JPH0342198B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0342198B2 JPH0342198B2 JP19202581A JP19202581A JPH0342198B2 JP H0342198 B2 JPH0342198 B2 JP H0342198B2 JP 19202581 A JP19202581 A JP 19202581A JP 19202581 A JP19202581 A JP 19202581A JP H0342198 B2 JPH0342198 B2 JP H0342198B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polysiloxane
- ink
- water
- printing
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 30
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 29
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 9
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 7
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 7
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 description 6
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- NWTFAHUFNCOOMA-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine;2,2,2-trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F.CN(C)C(=N)N(C)C NWTFAHUFNCOOMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(Cl)Cl QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQKNGBRWKGEOJ-UHFFFAOYSA-N [amino(dimethylamino)methylidene]-dimethylazanium;2-ethylhexanoate Chemical compound CN(C)C(=N)[NH+](C)C.CCCCC(CC)C([O-])=O IRQKNGBRWKGEOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/003—Printing plates or foils; Materials therefor with ink abhesive means or abhesive forming means, such as abhesive siloxane or fluoro compounds, e.g. for dry lithographic printing
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
本発明は乾式平版印刷用刷版に用いるインキ反
撥材料に関する。 従来、乾式平版印刷用刷版において露光および
現像により非画線部を形成するインキ反撥層にポ
リジメチルシロキサン（以下PDMSと略す）を
主成分とする重合体を用いるという提案が数多く
なされてきた。例えばジアゾ感光層と接着剤層と
PDMSを主成分とする重合体層を形成したアル
ミニウム基版にネガフイルムを密着露光し現像す
ることにより、非露光部分である非画線部が
PDMS重合体を主成分とする被膜であり、画線
部が基板のアルミ板となる乾式平版印刷用刷版
（特公昭46−16044号）、光重合性シリコーン組成
物をアルミニウム板などの基板に塗布し、該組成
物による被膜層の上にポジフイルムを密着露光し
現像定着処理を行ない、露光部分にあたる非画線
部にPDMSを主成分とする重合体被膜を形成し
た刷版（特開昭48−33910号）などが公知である。
しかしながらPDMSを主成分とする重合体被膜
は柔らかく且つ引張強度及び引裂強度が小さいと
いう欠点を有し、乾式平版印刷用刷版として該重
合体被膜を用いる場合には刷版にキズがつきやす
く、また刷版が部分的に欠落しやすい等の不利が
生じ、耐刷力も低く実用上大きな問題となる。 上記のような問題点を改良するものとして
PDMS重合体被膜の表面硬度を高くして刷版の
キズや欠落を防止しようとする試みも提案されて
いる。例えば表面硬度を上げるためにメチルフエ
ニルシロキサンをジメチルシロキサンと共縮合し
た重合体被膜を用いた刷版（特公昭52−5884号）
などであるが、このようなメチルフエニルシロキ
サンを共縮合したものでは耐刷性は改良されるが
インキ反撥性が低下する欠点がある。 更にインキ反撥性は一般に使用温度に左右さ
れ、例えば温度が高くなるほどインキ反撥性は劣
る傾向にあるが、上記のような従来のシリコン系
インキ反撥材料は夏場において、インキの種類を
変えるか、マスタードラム内で水を冷却しなけれ
ばならないという欠点を有していた。 本発明の目的は撥インキ性及び耐刷性のいずれ
にも優れた乾式平版印刷用インキ反撥材料を提供
することにある。 本発明の目的は更に広い作業温度範囲において
常に優れたインキ反撥性を示し、従つてインキの
交換や冷却等の繁雑な操作を必要としない乾式平
版印刷用インキ反撥材料を提供することにある。 本発明は一般式(1) （式中ｎは１〜10の整数、ｌは０又は１、ｍは０
又は１〜14の整数である。ただしｌ＝１のときｍ
≠０とする。）で表わされる繰り返し単位を有す
るポリシロキサンを主成分とする重合体からなる
乾式平版印刷用インキ反撥材料に係る。 本発明においてポリシロキサン縮合体は上記一
般式(1)で表わされるポリシロキサン単独縮合体、
一般式(1)で表わされるポリシロキサン相互の共縮
合体、一般式(1)で表わされるポリシロキサンを主
成分とし、これに他のシロキサンを共縮合したも
のなどを包含する。上記他のシロキサンとしては
例えばジメチルジクロルシラン、γ−メタアクリ
ロキシプロピルメチルジクロルシラン、メチルビ
ニルジクロルシラン、γ−アクリロキシメチルト
リメトキシシラン等が挙げられる。この場合一般
式(1)のポリシロキサンの割合は好ましくは70モル
％以上、特に好ましくは90モル％以上であり、こ
の範囲内ではインキ反撥性及び耐刷性が特に優れ
ている。 本発明のポリシロキサン縮合体の合成方法とし
ては例えば一般式(2) で表わされるジクロルシランに、必要により他の
ジクロルシランを加え共加水分解し水洗中和した
のち脱水縮合反応を行ない所望の重合度の縮合体
もしくは共縮合体を得る方法、或いは一般式(2)で
表わされるジクロルシランを加水分解し水洗中和
したのち一部脱水縮合反応を行ない一般式(1)で表
わされる繰り返し単位を有するポリシロキサンの
低分子量体を合成し、次いで他のジクロルシラン
を加えて該ポリシロキサンのOH末端基と反応さ
せCl末端のポリシロキサンを得、これを加水分解
し水洗中和したのち脱水縮合反応を行ない所望の
重合度の共縮合体を得る方法等を挙げることがで
きる。 一般式(2)で表わされるジクロルシランは公知化
合物であり、例えば次の方法により合成される。 上記加水分解反応は約０〜80℃の温度の水の中
へ一般式(2)のジクロルシランを直接あるいは溶媒
に溶解させたのち、撹拌下滴下することにより行
なわれる。溶媒としてはジエチルエーテル
（Et2O）、メチルイソブチルケトン（MIBK）、ト
ルエン、キシレン、トリクロロトリフルオロエタ
ン、メタキシレンヘキサクロライドなどが挙げら
れるが、特にEt2Oが好ましい。またた加水分解
の際に副生するHClを捕捉するためアルカリ性物
質の存在下に加水分解するのが好ましい。アルカ
リ性物質としてはNaHCO3、Na2CO3、NaOH、
ピリジンなどを例示できるが特にNaHCO3が好
ましい。 脱水縮合反応は無溶媒で減圧下加熱し生成する
水を逐次除去していく方法、あるいはトルエンな
どの溶媒を加え加熱還流させて生成する水を共沸
脱水する方法等により行なわれる。縮合反応の触
媒としてはｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸−テトラメチルグアニジン塩、２−エチル
ヘキサン酸−テトラメチルグアニジン塩などが用
いられる。 本発明のインキ反撥材料を用いて乾式平版印刷
刷版を製造する方法としては公知の各種の方法を
採用することができる。 例えば親油性基板上に全面塗布された本発明ポ
リシロキサン層を電子線やレーザービームあるい
は放電破壊などを利用して局部的に破壊して基板
面を露出させ、その部分にインキを付着させ画線
部にする方法（特公昭42−21879号）、ポリシロキ
サン層に親油性物質、例えばトナー粒子を転写接
着させて画線部とする方法（特開昭50−904号）、
基板上に感光層、接着剤層、ポリシロキサン層を
形成してパターン露光をすることにより露光部分
の感光層を分解し、次いで現像で溶解除去し上部
の接着剤層及びポリシロキサン層の露光部分を物
理的に剥離して基板面を露出させ、この露出した
基板面を画線部とする方法（特公昭46−16044
号）、あるいはポリシロキサンにアクリル系不飽
和基を有するオルガノポリシロキサンを共重合さ
せ光重合性シリコーンとなし、これと増感剤を基
板に塗布後、露光、現像を行なうと、露光部分は
不溶性の被膜となり非露光部分は基板が露出する
ので、この部分を画線部とする方法（特開昭48−
33910号）等が挙げられる。 上記のような本発明のポリシロキサン重合体を
用いた乾式平版印刷用インキ反撥材料は次のよう
な優れた利点がある。 １ ポリシロキサン重合体の造膜性が良く、平滑
な膜を作ることができる。 ２ 重合体被膜を強固な膜とすることができ、刷
版にキズがつきにくく且つ刷版の部分的欠落も
生じにくいため耐刷性が向上する。 ３ 冬場など広い作業温度範囲に於て優れたイン
キ反撥性を示し、従つてインキの交換やマスタ
ードラム内を水で冷却する等の繁雑な工程を必
要としない。 次に合成例、実施例に基づいて本発明を詳細に
説明する。なお部とあるは重量部を示すものとす
る。 合成例 １ 撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた４ツ口の
500mlフラスコにNaHCO3（60ｇ）、水（270ml）、
Et2O（30ｇ）を入れ、これに ClSi（CH3）2CH2CH2（CF2）6CH2CH2Si（CH3）2Cl
（0.08モル、44ｇ）をEt2O（60ｇ）に溶解させた溶
液を室温（20〜25℃）で撹拌下、滴下ロートから
滴下する。滴下終了後さらに５時間撹拌を続け、
有機層を分液し水洗乾燥する。 次いでCH2＝Ｃ（CH3）CO2CH2CH2CH2Si
（Cl）2CH3（１ｇ）及びハイドロキノン（0.01ｇ）
を加え室温にて１時間撹拌を行ない、Et2Oに溶
解させた後NaHCO3（30ｇ）を水（270ml）に溶
解した水溶液を加えてHClを中和し水洗乾燥す
る。 次にトリフルオロ酢酸−テトラメチルグアニジ
ン塩を１滴、ハイドロキノン（0.01ｇ）を再び加
え120℃で10分間、約20mmHgの減圧下で加熱し縮
合を行なわせた後、再びEt2Oに溶解させ
NaHCO3（30ｇ）／水（270ml）で洗浄し水洗乾
燥する。得られたゴム状ポリマー38ｇをMIBKに
溶解して10％液とした。 合成例 ２〜８ 合成例１と同様にして第１表に記載のポリシロ
キサンを合成した。 実施例 １〜８ 表面処理を施した厚み0.3mmのアルミニウム板
に合成例１〜８で製造したポリマー溶液に４，
4′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフエノンをポ
リマー固形分100部に対し３部加えた液をバーコ
ーターにて乾燥仕上り厚みが10〜20μになるよう
に均一に塗布し乾燥した。その後ポジ画像を密着
し超高圧水銀灯（365nｍ／10W／m2）で２分間
露光した後、これをMIBKで現像したのち更に前
記超高圧水銀灯で５分間全面露光し平版印刷版を
得た。 上記印刷版をトーコーオフセツト印刷機810型
（東京航空計器(株)製）のマスターシリンダーにセ
ツト後、水供給を止め印刷機を回転させて印刷を
行ない耐刷性を調べた。また撥インキ性試験は所
定の印刷枚数の印刷物の画像のない空白の部分に
ついて反射率計RM−50型（村上色彩技術研究所
製）で地汚れを反射率として測定した。結果を同
様第１表に示す。尚表において用いたインキは大
阪インキ(株)製のWLP−黒Ｓである。
撥材料に関する。 従来、乾式平版印刷用刷版において露光および
現像により非画線部を形成するインキ反撥層にポ
リジメチルシロキサン（以下PDMSと略す）を
主成分とする重合体を用いるという提案が数多く
なされてきた。例えばジアゾ感光層と接着剤層と
PDMSを主成分とする重合体層を形成したアル
ミニウム基版にネガフイルムを密着露光し現像す
ることにより、非露光部分である非画線部が
PDMS重合体を主成分とする被膜であり、画線
部が基板のアルミ板となる乾式平版印刷用刷版
（特公昭46−16044号）、光重合性シリコーン組成
物をアルミニウム板などの基板に塗布し、該組成
物による被膜層の上にポジフイルムを密着露光し
現像定着処理を行ない、露光部分にあたる非画線
部にPDMSを主成分とする重合体被膜を形成し
た刷版（特開昭48−33910号）などが公知である。
しかしながらPDMSを主成分とする重合体被膜
は柔らかく且つ引張強度及び引裂強度が小さいと
いう欠点を有し、乾式平版印刷用刷版として該重
合体被膜を用いる場合には刷版にキズがつきやす
く、また刷版が部分的に欠落しやすい等の不利が
生じ、耐刷力も低く実用上大きな問題となる。 上記のような問題点を改良するものとして
PDMS重合体被膜の表面硬度を高くして刷版の
キズや欠落を防止しようとする試みも提案されて
いる。例えば表面硬度を上げるためにメチルフエ
ニルシロキサンをジメチルシロキサンと共縮合し
た重合体被膜を用いた刷版（特公昭52−5884号）
などであるが、このようなメチルフエニルシロキ
サンを共縮合したものでは耐刷性は改良されるが
インキ反撥性が低下する欠点がある。 更にインキ反撥性は一般に使用温度に左右さ
れ、例えば温度が高くなるほどインキ反撥性は劣
る傾向にあるが、上記のような従来のシリコン系
インキ反撥材料は夏場において、インキの種類を
変えるか、マスタードラム内で水を冷却しなけれ
ばならないという欠点を有していた。 本発明の目的は撥インキ性及び耐刷性のいずれ
にも優れた乾式平版印刷用インキ反撥材料を提供
することにある。 本発明の目的は更に広い作業温度範囲において
常に優れたインキ反撥性を示し、従つてインキの
交換や冷却等の繁雑な操作を必要としない乾式平
版印刷用インキ反撥材料を提供することにある。 本発明は一般式(1) （式中ｎは１〜10の整数、ｌは０又は１、ｍは０
又は１〜14の整数である。ただしｌ＝１のときｍ
≠０とする。）で表わされる繰り返し単位を有す
るポリシロキサンを主成分とする重合体からなる
乾式平版印刷用インキ反撥材料に係る。 本発明においてポリシロキサン縮合体は上記一
般式(1)で表わされるポリシロキサン単独縮合体、
一般式(1)で表わされるポリシロキサン相互の共縮
合体、一般式(1)で表わされるポリシロキサンを主
成分とし、これに他のシロキサンを共縮合したも
のなどを包含する。上記他のシロキサンとしては
例えばジメチルジクロルシラン、γ−メタアクリ
ロキシプロピルメチルジクロルシラン、メチルビ
ニルジクロルシラン、γ−アクリロキシメチルト
リメトキシシラン等が挙げられる。この場合一般
式(1)のポリシロキサンの割合は好ましくは70モル
％以上、特に好ましくは90モル％以上であり、こ
の範囲内ではインキ反撥性及び耐刷性が特に優れ
ている。 本発明のポリシロキサン縮合体の合成方法とし
ては例えば一般式(2) で表わされるジクロルシランに、必要により他の
ジクロルシランを加え共加水分解し水洗中和した
のち脱水縮合反応を行ない所望の重合度の縮合体
もしくは共縮合体を得る方法、或いは一般式(2)で
表わされるジクロルシランを加水分解し水洗中和
したのち一部脱水縮合反応を行ない一般式(1)で表
わされる繰り返し単位を有するポリシロキサンの
低分子量体を合成し、次いで他のジクロルシラン
を加えて該ポリシロキサンのOH末端基と反応さ
せCl末端のポリシロキサンを得、これを加水分解
し水洗中和したのち脱水縮合反応を行ない所望の
重合度の共縮合体を得る方法等を挙げることがで
きる。 一般式(2)で表わされるジクロルシランは公知化
合物であり、例えば次の方法により合成される。 上記加水分解反応は約０〜80℃の温度の水の中
へ一般式(2)のジクロルシランを直接あるいは溶媒
に溶解させたのち、撹拌下滴下することにより行
なわれる。溶媒としてはジエチルエーテル
（Et2O）、メチルイソブチルケトン（MIBK）、ト
ルエン、キシレン、トリクロロトリフルオロエタ
ン、メタキシレンヘキサクロライドなどが挙げら
れるが、特にEt2Oが好ましい。またた加水分解
の際に副生するHClを捕捉するためアルカリ性物
質の存在下に加水分解するのが好ましい。アルカ
リ性物質としてはNaHCO3、Na2CO3、NaOH、
ピリジンなどを例示できるが特にNaHCO3が好
ましい。 脱水縮合反応は無溶媒で減圧下加熱し生成する
水を逐次除去していく方法、あるいはトルエンな
どの溶媒を加え加熱還流させて生成する水を共沸
脱水する方法等により行なわれる。縮合反応の触
媒としてはｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸−テトラメチルグアニジン塩、２−エチル
ヘキサン酸−テトラメチルグアニジン塩などが用
いられる。 本発明のインキ反撥材料を用いて乾式平版印刷
刷版を製造する方法としては公知の各種の方法を
採用することができる。 例えば親油性基板上に全面塗布された本発明ポ
リシロキサン層を電子線やレーザービームあるい
は放電破壊などを利用して局部的に破壊して基板
面を露出させ、その部分にインキを付着させ画線
部にする方法（特公昭42−21879号）、ポリシロキ
サン層に親油性物質、例えばトナー粒子を転写接
着させて画線部とする方法（特開昭50−904号）、
基板上に感光層、接着剤層、ポリシロキサン層を
形成してパターン露光をすることにより露光部分
の感光層を分解し、次いで現像で溶解除去し上部
の接着剤層及びポリシロキサン層の露光部分を物
理的に剥離して基板面を露出させ、この露出した
基板面を画線部とする方法（特公昭46−16044
号）、あるいはポリシロキサンにアクリル系不飽
和基を有するオルガノポリシロキサンを共重合さ
せ光重合性シリコーンとなし、これと増感剤を基
板に塗布後、露光、現像を行なうと、露光部分は
不溶性の被膜となり非露光部分は基板が露出する
ので、この部分を画線部とする方法（特開昭48−
33910号）等が挙げられる。 上記のような本発明のポリシロキサン重合体を
用いた乾式平版印刷用インキ反撥材料は次のよう
な優れた利点がある。 １ ポリシロキサン重合体の造膜性が良く、平滑
な膜を作ることができる。 ２ 重合体被膜を強固な膜とすることができ、刷
版にキズがつきにくく且つ刷版の部分的欠落も
生じにくいため耐刷性が向上する。 ３ 冬場など広い作業温度範囲に於て優れたイン
キ反撥性を示し、従つてインキの交換やマスタ
ードラム内を水で冷却する等の繁雑な工程を必
要としない。 次に合成例、実施例に基づいて本発明を詳細に
説明する。なお部とあるは重量部を示すものとす
る。 合成例 １ 撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた４ツ口の
500mlフラスコにNaHCO3（60ｇ）、水（270ml）、
Et2O（30ｇ）を入れ、これに ClSi（CH3）2CH2CH2（CF2）6CH2CH2Si（CH3）2Cl
（0.08モル、44ｇ）をEt2O（60ｇ）に溶解させた溶
液を室温（20〜25℃）で撹拌下、滴下ロートから
滴下する。滴下終了後さらに５時間撹拌を続け、
有機層を分液し水洗乾燥する。 次いでCH2＝Ｃ（CH3）CO2CH2CH2CH2Si
（Cl）2CH3（１ｇ）及びハイドロキノン（0.01ｇ）
を加え室温にて１時間撹拌を行ない、Et2Oに溶
解させた後NaHCO3（30ｇ）を水（270ml）に溶
解した水溶液を加えてHClを中和し水洗乾燥す
る。 次にトリフルオロ酢酸−テトラメチルグアニジ
ン塩を１滴、ハイドロキノン（0.01ｇ）を再び加
え120℃で10分間、約20mmHgの減圧下で加熱し縮
合を行なわせた後、再びEt2Oに溶解させ
NaHCO3（30ｇ）／水（270ml）で洗浄し水洗乾
燥する。得られたゴム状ポリマー38ｇをMIBKに
溶解して10％液とした。 合成例 ２〜８ 合成例１と同様にして第１表に記載のポリシロ
キサンを合成した。 実施例 １〜８ 表面処理を施した厚み0.3mmのアルミニウム板
に合成例１〜８で製造したポリマー溶液に４，
4′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフエノンをポ
リマー固形分100部に対し３部加えた液をバーコ
ーターにて乾燥仕上り厚みが10〜20μになるよう
に均一に塗布し乾燥した。その後ポジ画像を密着
し超高圧水銀灯（365nｍ／10W／m2）で２分間
露光した後、これをMIBKで現像したのち更に前
記超高圧水銀灯で５分間全面露光し平版印刷版を
得た。 上記印刷版をトーコーオフセツト印刷機810型
（東京航空計器(株)製）のマスターシリンダーにセ
ツト後、水供給を止め印刷機を回転させて印刷を
行ない耐刷性を調べた。また撥インキ性試験は所
定の印刷枚数の印刷物の画像のない空白の部分に
ついて反射率計RM−50型（村上色彩技術研究所
製）で地汚れを反射率として測定した。結果を同
様第１表に示す。尚表において用いたインキは大
阪インキ(株)製のWLP−黒Ｓである。
【表】
実施例 ９〜12
合成例１において反応成分として更にSi
（CH3）2Cl2を加えて他は同様にして第２表記載の
ポリシロキサンを合成し、得られたポリシロキサ
ンを用いて実施例１と同様の撥インキ性及び耐刷
性を求めた。用いたインキは同じWLP−黒Ｓで
ある。結果を第２表に示す。尚比較例も併記し
た。比較品Ａはジメチルシロキサン−ビニルメチ
ルシロキサンのモル比（97：３）の共縮合ポリシ
ロキサンを用いた平板を示す。
（CH3）2Cl2を加えて他は同様にして第２表記載の
ポリシロキサンを合成し、得られたポリシロキサ
ンを用いて実施例１と同様の撥インキ性及び耐刷
性を求めた。用いたインキは同じWLP−黒Ｓで
ある。結果を第２表に示す。尚比較例も併記し
た。比較品Ａはジメチルシロキサン−ビニルメチ
ルシロキサンのモル比（97：３）の共縮合ポリシ
ロキサンを用いた平板を示す。
【表】
実施例 13
のMIBK溶液（濃度10％）にベンゾイルパーオキ
サイドを５％加え、0.3mm厚みの表面処理したア
ルミニウム板に塗布し130℃で５時間加熱した。
その後放電破壊により表面を局部的に破壊し印刷
版を作つた。このものを用いWLP−黒Ｓインキ
を使用して印刷を行なつたところ、鮮明な印刷物
が得られ10000枚目でも初期の印刷物と変りのな
いものが印刷できた。
サイドを５％加え、0.3mm厚みの表面処理したア
ルミニウム板に塗布し130℃で５時間加熱した。
その後放電破壊により表面を局部的に破壊し印刷
版を作つた。このものを用いWLP−黒Ｓインキ
を使用して印刷を行なつたところ、鮮明な印刷物
が得られ10000枚目でも初期の印刷物と変りのな
いものが印刷できた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中ｎは１〜10の整数、ｌは０又は１、ｍは０
又は１〜14の整数である。ただしｌ＝１のときｍ
≠０とする。）で表わされる繰り返し単位を有す
るポリシロキサンを主成分とする重合体からなる
乾式平版印刷用インキ反撥材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19202581A JPS5892594A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 乾式平版印刷用インキ反撥材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19202581A JPS5892594A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 乾式平版印刷用インキ反撥材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5892594A JPS5892594A (ja) | 1983-06-01 |
| JPH0342198B2 true JPH0342198B2 (ja) | 1991-06-26 |
Family
ID=16284339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19202581A Granted JPS5892594A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 乾式平版印刷用インキ反撥材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5892594A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0662773B2 (ja) * | 1990-07-06 | 1994-08-17 | 信越化学工業株式会社 | ポリシルエチレンシロキサン |
| JPH0751583B2 (ja) * | 1991-05-15 | 1995-06-05 | 信越化学工業株式会社 | 有機けい素化合物 |
| JPH0692482B2 (ja) * | 1991-06-27 | 1994-11-16 | 信越化学工業株式会社 | 有機けい素化合物 |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP19202581A patent/JPS5892594A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5892594A (ja) | 1983-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3865588A (en) | Planographic plate with a polymerizable organopolysiloxane compound | |
| US3886865A (en) | Planographic printing plates comprising organic polysiloxanes | |
| US4019904A (en) | Planographic printing plates and a method of preparing them using photopolymerizable organopolysiloxanes with maleimido groups | |
| US4042613A (en) | Benzophenone derivatives and their preparation and application | |
| JPH02236550A (ja) | 湿し水不要感光性平版印刷版 | |
| JPH0342198B2 (ja) | ||
| US4169731A (en) | Method for the preparation of a planographic printing plate | |
| JPS6158822B2 (ja) | ||
| JPH01101555A (ja) | 水分のない平版印刷用の感光性印刷板及びその製造法 | |
| JP2577658B2 (ja) | 湿し水不要感光性平版印刷版 | |
| JPS61123847A (ja) | 水なし平版印刷用原板 | |
| JPS6158033B2 (ja) | ||
| JPH0682213B2 (ja) | 水なし平版印刷用原版 | |
| JPH0882922A (ja) | 水なし平版印刷版原版 | |
| JP2577616B2 (ja) | 湿し水不要平版印刷版用版面修正液 | |
| JPH01100551A (ja) | 水なし平版印刷用のプレセンシタイズド印刷版およびその製造法 | |
| JP2739392B2 (ja) | 湿し水不要感光性平版印刷版 | |
| JP2577659B2 (ja) | 湿し水不要感光性平版印刷版 | |
| JP2910257B2 (ja) | 水なし平版印刷版用現像液 | |
| JPS61177459A (ja) | 水なし平版印刷用原板 | |
| JPS6322305B2 (ja) | ||
| JPS5811458B2 (ja) | アジド化ポリオルガノシロキサンおよびその製造法 | |
| JPS6037457B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JP3203822B2 (ja) | 水なし平版印刷版用現像液 | |
| GB2074503A (en) | Printing Plates for Dry Planographic and Method for Preparing Same |