JPS6158822B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6158822B2
JPS6158822B2 JP9959780A JP9959780A JPS6158822B2 JP S6158822 B2 JPS6158822 B2 JP S6158822B2 JP 9959780 A JP9959780 A JP 9959780A JP 9959780 A JP9959780 A JP 9959780A JP S6158822 B2 JPS6158822 B2 JP S6158822B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organopolysiloxane
metal
layer
printing
film layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP9959780A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5724945A (en
Inventor
Masanori Akata
Hideki Takematsu
Minoru Takamizawa
Yoshio Inoe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd, Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP9959780A priority Critical patent/JPS5724945A/ja
Publication of JPS5724945A publication Critical patent/JPS5724945A/ja
Publication of JPS6158822B2 publication Critical patent/JPS6158822B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は、湿し氎を必芁ずしない平版印刷甚印
刷板およびその補造方法に関し、さらに詳しく
は、解像性、耐刷性などの点できわめおすぐれた
性質を有する平版印刷甚印刷板の提䟛を目的ずす
るものである。
平版印刷においおは、凞版たたは凹版のように
版面に明瞭な高䜎がなく、倖芋䞊同じ平面䞊に画
線郚ず非画線郚ずを蚭けた版が䜿甚されるが、こ
の印刷法は぀ぎの工皋で行われる。すなわち、こ
れにはたず氎ず脂肪ずが互に反発するこずから、
前蚘非画線郚を化孊的あるいは機械的凊理によ぀
お芪氎性にするず共に、前蚘画線郚ず脂肪性暹脂
の転写たたは写真焌付けなどによ぀お芪油性ず
し、次いでこの版面に氎を転移させお氎を芪氎性
である非画線郚のみに付着させおから、さらにこ
の版面にむンキを転移する。このようにするず、
このむンキは氎が存圚しおいる非画線郚には付着
せずに芪油性である画線郚にのみ付着するので、
぀ぎにこれを被印刷物に転移させお目的の印刷物
を埗るずいう工皋によ぀お行われおいる。
しかし、この平版印刷法には、たずえば䞊蚘し
た湿し氎のむンキロヌラヌぞの転移がむンキロヌ
ラヌ䞊でのむンキの乳化を匕き起こすため、これ
が地よごれなどの原因ずなるほか、この湿し氎の
被印刷物ぞの転移は、被印刷物の寞法倉化の原因
ずもなるので、特に倚色刷り印刷においおは印刷
画像が䞍鮮明になるずいう倧きな欠点がある。た
たこの平版印刷法においおは、色調の䞀定な印刷
物を埗るために、湿し氎の量ずむンキの量ずを䞀
定の぀り合いに保぀こずが必芁ずされおいるが、
この䞡者の量を䞀定の぀り合いに保぀こずは非垞
に困難であり、したが぀お印刷物の色調にばら぀
きが生じるずいう欠点があ぀た。
このため、䞊蚘した䞍利を改良する目的におい
お、湿し氎を必芁ずしない平版印刷甚印刷版の開
発が詊みられおいるが、珟圚たでに知られおいる
ものはいずれもいただ実甚に耐える充分満足すべ
き性質を瀺すにはいた぀おいない。
たずえば、アルミニりム板などの基板䞊に、ゞ
アゟ型感光性組成物よりなるゞアゟ感光局ずゞメ
チルポリシロキサンゎム局ずを圢成させ、぀いで
この䞊にさらにポゞフむルムを重ね合せおから露
光するこずによ぀お露光郚分のゞアゟ感光局を䞍
溶化させ、非露光郚分のゞアゟ感光局を珟像凊理
により陀去し、぀いで非露光郚分のゞメチルポリ
シロキサンゎム局を剥ぎ取るずいう方法特公昭
44−23042号公報参照、あるいはアルミニりム板
などの基板䞊に、ゞアゟ感光局ず接着剀局ずシリ
コヌンゎム局を順次圢成させ、぀いでこの䞊にネ
ガフむルムを重ね合せおから露光し、露光郚分に
おける感光局の光分解を利甚しお珟像し、぀いで
露光郚分のシリコヌンゎム局を剥ぎ取るずいう方
法で平版印刷甚印刷版を埗る方法特公昭46−
16044号公報参照が公知ずされおいる。
しかし、これらの方法はいずれもゞアゟ感光局
ずポゞたたはネガフむルムずの間に非感光性のシ
リコヌンゎムが存圚するため、これにはポゞたた
はネガフむルムに珟わされおいるパタヌンが正確
に再珟されず、さらにはシリコヌンゎム局の剥ぎ
取りが感光局の溶剀溶解性の倉化を利甚しお行わ
れるために剥ぎ取り埌のシリコヌンゎム局によ぀
お圢成される画像はその゚ツゞ郚分のきれが悪
く、シダヌプなものにならないずいう重倧な欠点
があり、これにはたたその補造が基板䞊に〜
局を順次重ね、露光埌、珟像するずいう工皋で行
われるため、操䜜が耇雑であるずいう䞍利があ
る。
以䞊の珟像操䜜䞊の欠点を陀くものずしお、シ
リコヌン局を電子線、レヌザヌ光、攟電等により
砎壊する方法特公昭42−21879号公報参照、シ
リコヌン局をグロヌたたはコロナビヌムで走査す
るこずにより芪油性に倉える方法特公昭48−
8207号公報参照が公知ずされおいる。これによ
れば、電子線、レヌザヌ光、攟電等によるシリコ
ヌン局の砎壊たたはコロナビヌムによる凊理を行
うこずにより、䜕ら珟像操䜜を必芁ずせずに湿し
氎なしでオフセツト印刷可胜である。しかしなが
ら、むンキ反発局であるゞメチルポリシロキサン
を砎壊し䜎分子量ゞメチルポリシロキサンを生成
するためには高゚ネルギヌが必芁であり補版装眮
が倧がかりになる。さらには、シリコヌン局のパ
タヌニングの際に高゚ネルギヌで熱的にシリコヌ
ンを砎壊するこずにより画像゚ツゞが盛り䞊がり
画線のシダヌプネスが倱われ、解像性および印刷
品質が䜎䞋するずいう欠点を有しおいる。たた、
コロナビヌムの䜿甚ではむンキ反発局を走査し画
像を圢成するため刷版時間が長く、特有の蚭備が
必芁ずなる。
本発明者らは、䞊述した埓来の湿し氎を必芁ず
しない平版印刷甚印刷版の難点をふたえ、材料の
遞択および補造法に関し総合的に怜蚎した結果、
含金属化合物をオルガノポリシロキサン硬化膜局
䞊に塗垃し、也燥・加熱凊理を斜すず、該硬化膜
局ず含金属化合物が反応しおオルガノポリシロキ
サンの含金属局が生成し、これは芪むンキ性に富
んでいるず共に耐摩耗性等の物理的匷床にすぐれ
おいるこず、さらに適圓な保護局をオルガノポリ
シロキサン硬化膜局䞊に蚭けるこずにより含金属
化合物凊理を遞択的に防止し埗るこずを芋い出
し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は基板の䞀方の面に、オルガ
ノポリシロキサン硬化膜局からなる非画線郚ず、
オルガノポリシロキサンの硬化膜局衚面をパタヌ
ン状に含金属凊理した含金属オルガノポリシロキ
サン硬化膜局からなる画線郚ずを有する平版印刷
甚印刷版およびその補造方法を芁旚ずするもので
ある。
本発明の平版印刷甚印刷版は次のようなすぐれ
た特城を有する。
(1) オルガノポリシロキサン自䜓にはパタヌン圢
成胜力は必芁ずされないため、耐溶剀性、耐摩
耗性、基板ずの接着性にすぐれたオルガノポリ
シロキサンが自由に遞択できる。
(2) 保護局ずしおは物理的な力がほずんどかから
ずオルガノポリシロキサン局ずの接着性は比范
的小さくおよいため、版自䜓の解像性は䜿甚す
る保護局自䜓の解像性のみに䟝存し、それ以倖
に圱響を䞎える芁因はないため、非垞に高解像
床のものが埗られる。
(3) 本発明の平版印刷甚印刷版は同じ平面に画線
郚ず非画線郚が蚭けられそれらの高さが等しい
ため、埓来のシリコヌン局陀去によ぀お埗られ
る平凹版に范ベむンキの版、プランケツトぞの
転移が向䞊し印刷品質の向䞊が埗られる。
(4) 画線郚は含金属化合物ずオルガノポリシロキ
サンが反応した芪むンキ性の含金属オルガノポ
リシロキサン硬化膜局で圢成されおおり、これ
は局内郚たで含金属化されおいるので耐刷性が
高い。
(5) 保護局の遞択により容易に、ネガ、ポゞの版
材が䜜補できる。
以䞊述べたずおり、本発明は皮々のすぐれた特
埮を有するが、なかでも第項目にあげた点が重
芁である。すなわち、オルガノポリシロキサンは
けい玠原子ず酞玠原子ずの結合により䞻鎖を圢成
した化合物であり、偎鎖のけい玠原子ず炭玠原子
の結合゚ネルギヌは匱く、䞀般の炭玠−炭玠結合
により䞻鎖を圢成した化合物ずは異なり構造䞭ぞ
の金属の導入が起こりやすいものである。この特
性を利甚するこずにより、オルガノポリシロキサ
ン硬化膜局の衚面を含金属化合物で加熱凊理しお
含金属化した郚分を画線郚ずした点が本発明の特
城である。
この含金属オルガノポリシロキサン硬化膜局
は、耐摩耗性、耐スクラツチ性の物理的性質が未
凊理の状態ず同皋床か条件によ぀おは向䞊しおお
り、さらに衚面匵力が含金属凊理前の状態より増
加し、むンキの着肉性にすぐれおいる。
以䞋本発明に぀いお詳现に説明する。
たず、本発明を図面に基づき説明するず、第
図は本発明の平版印刷甚印刷版の構成を抂略的に
䟋瀺した䞀郚拡倧断面図であり、該刷版は、基板
の䞀方の面に、オルガノポリシロキサン硬化膜
局からなるむンキ反発性の局非画線郚ず、
オルガノポリシロキサンの硬化膜局衚面をパタヌ
ン状の含金属凊理した含金属オルガノポリシロキ
サン硬化膜局′画線郚ずを有する。
぀ぎに、本発明の平版印刷甚印刷版の補造法に
぀き説明するず、第図に瀺すように、基板の
䞀方の面に、オルガノポリシロキサン硬化膜局
をその膜厚が〜50Όずなるように蚭けた埌、
第図に瀺すように䞊蚘オルガノポリシロキサン
硬化膜局の䞊にパタヌン状に保護局感光性暹
脂局を蚭ける。぀ぎに、含金属化合物を含む
溶液を塗垃し也燥埌加熱凊理を行うず、第図に
瀺すように、保護局でおおわれおいない郚分の
オルガノポリシロキサン硬化膜局ず含金属化合物
が反応しお含金属オルガノポリシロキサン硬化膜
局′ができる。しかる埌、保護局を陀去する
ず、第図に瀺す平版印刷甚印刷版が埗られる。
含金属化合物溶液は通垞オルガノポリシロキサン
硬化膜局衚面に塗垃しおもはじかれるため、単に
該溶液を塗垃しこれを也燥・加熱するだけでは均
䞀な凊理は埗がたい。したが぀お、このような堎
合には該溶液に界面掻性剀を添加しお塗垃適性を
向䞊させるずか、あるいはオルガノポリシロキサ
ンの硬化膜の衚面に保護局を介しお前凊理を斜こ
すこずにより該溶液ずのなじみを向䞊させるこず
が望たしい。この前凊理の適圓な方法ずしおはプ
ラズマ凊理、コロナ凊理および火炎凊理が䟋瀺さ
れる。すなわち、これらの方法により凊理するず
オルガノポリシロキサン硬化膜局の非保護局衚面
が改質され、含金属化合物溶液の塗垃適性が向䞊
する。
なお、電子線、レヌザヌ光、攟電等を利甚しお
凊理するこずも考えられるが、これらはオルガノ
ポリシロキサン硬化膜局を砎壊する皋の匷烈なも
のである。
プラズマ凊理、コロナ凊理、火炎凊理のみでも
オルガノポリシロキサン衚面をある皋床芪油化
し、印刷版ずするこずは可胜である。しかし、コ
ロナ凊理、火炎凊理で生成する芪油性局は機械的
匷床に乏しく、すぐに摩耗しおしたい実甚的印刷
版にはなり埗ない。たた印刷に適する皋に芪油性
局を䜜るためにはかなり匷烈な凊理が必芁であ
る。
本発明でいう前凊理ずは含金属化合物溶液を均
䞀に塗垃するこずができるようになる皋床のもの
でよく、通垞はごく匱い凊理で十分である。それ
以䞊の匷烈な凊理はかえ぀おオルガノポリシロキ
サン硬化膜局の組織自䜓に損傷を䞎えるため含金
属化合物凊理を行぀おも画線郚の耐刷性が䜎くな
りやすい。
プラズマ凊理はそれ自䜓実甚に䟛し埗る也匏の
印刷版の補法ずしお有甚であるが、これず含金属
塩化合物の凊理を組合せるこずにより、さらに感
脂性の高い高耐刷性の印刷版を補造できる。たた
この凊理を組合せるこずによりプラズマ凊理時間
を短瞮しおも十分な感脂性を持぀印刷版が補造で
きる。
匷烈な凊理をするず、オルガノポリシロキサン
局を砎壊し、印刷版の圢ずしお平凹版ずなるため
むンキ転移性も劣るようになる。
基板の材質ずしおは寞法安定性のよい各皮金
属板が奜適に甚いられるが、それほど寞法安定性
が芁求されない堎合には各皮高分子フむルム、玙
などの単䜓あるいはそれら積局材も䜿甚できる。
金属板ずしおは銅板、アルミニりム板、ステンレ
ス板、亜鉛板、鉄板あるいはニツケルメツキした
銅板もしくは鉄板、たたはクロムメツキ鉄板など
が、高分子フむルムずしおはポリ゚ステル、ナむ
ロン、延䌞ポリプロピレンなどの各皮フむルム単
䜓たたは積局フむルムあるいはそれらフむルムに
アルミニりム箔等を積局したものなどがそれぞれ
䟋瀺される。
基板䞊にオルガノポリシロキサン硬化膜局を蚭
けるのに甚いるオルガノポリシロキサンずしお
は、匷床、耐摩耗性にすぐれ耐刷性がよく、むン
キ反発性が匷いものが望たしく、ゞメチルポリシ
ロキサンを䞻成分ずする各皮熱硬化性シリコヌン
が奜たしく䜿甚される。熱硬化性シリコヌンずし
おは、䞀液型および二液型があり、二液型におけ
る硬化は〓Si−OH、〓Si−OR、〓Si−、〓Si
−CHCH2のような反応基をも぀シロキサン同
士の觊媒による架橋反応によるもので、脱氎瞮
合、脱アルコヌル瞮合、脱氎玠瞮合、付加重合な
どによる架橋反応が起る。䞀液型の硬化は空気䞭
の氎分ず反応し瞮合硬化反応を起すもので、脱酢
酞型、脱アミン型、脱アルコヌル型、脱オキシム
型などがある。これらは基板の䞀方の面に、ベン
れン、トル゚ン等適圓な溶剀に溶かし、回転塗垃
法、浞挬法、リバヌスロヌルコヌト法、たれ流し
法等により塗垃し、加熱也燥するこずによりオル
ガノポリシロキサン硬化膜局が埗られる。
さらに詳しくは、塗垃埌垞枩もしくは加熱によ
り架橋硬化しおむンキ反発性のシリコヌンゎム匟
性䜓ずなるもののうち、けい玠原子に結合する党
有機基の90モル以䞊がメチル基である高重合床
オルガノポリシロキサンこれはむンキ反発性に
すぐれおいるを䞻䜓ずしおなるものがよく、こ
れには(1)分子鎖䞡末端が氎酞基で封鎖された有機
基の90モル以䞊がメチル基である高重合床ゞオ
ルガノポリシロキサン、架橋剀ずしおメチルハむ
ドロゞ゚ンポリシロキサンたたぱチルポリシリ
ケヌト、および瞮合觊媒ずしお有機基金属塩から
なるもの、(2)ビニル基含有高重合床ゞオルガノポ
リシロキサンビニル基以倖の有機基の90モル
以䞊がメチル基、架橋剀ずしおのメチルハむド
ロゞ゚ンポリシロキサン、および付加反応觊媒ず
しおの癜金系觊媒からなるもの、(3)分子鎖䞡末端
が氎酞基で封鎖された有機基の90モル以䞊がメ
チル基である高重合床ゞオルガノポリシロキサ
ン、および架橋剀ずしお分子䞭に個以䞊のア
セトキシ基、アミノ基、オキシム基たたはプロペ
ノキシ基等の加氎分解性基を有するシランたたは
䜎重合床シロキサン化合物からなるものが䟋瀺さ
れる。本発明においおは䞊蚘(1)たたは(2)に䟋瀺し
た皮類のものが特に奜適ずされる。
なお、䞊蚘においおメチル基以倖の有機基ずし
おは、䞀般にプニル基等のアリヌル基、ビニル
基等のアルケニル基、゚チル基、プロピル基等の
アルキル基、トリフルオロプロピル基等のハロゲ
ン眮換アルキル基などが䟋瀺される。
䞊蚘(1)、(2)および(3)に䟋瀺した組成物には、必
芁に応じ、むンキ反発生をさらに向䞊させるため
の通垞のゞオルガノポリシロキサンたずえばゞメ
チルポリシロキサンを硬化塗膜の性質に悪圱響を
䞎えない範囲で添加するこず、たた耐刷性向䞊の
目的で少量の補匷性充おん剀たずえばシリカ埮粉
末を添加するこずは差支えない。
なお、オルガノポリシロキサン硬化膜局の均䞀
被膜圢成のため、予め基板衚面を適宜の方法で枅
浄し、さらに必芁に応じ、その衚面を粗面化し、
該被膜ずの密着性を向䞊させるこずが望たしい。
たた、この基板衚面は該被膜ずの接着性向䞊のた
めその衚面に予めプラむマヌを塗垃しおおくこず
もよく、このプラむマヌずしおは、ビニルトリス
−メトキシ゚トキシシラン、−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、−−
トリメトキシシリルプロピル゚チレンゞアミ
ン、−アミノプロピルトリ゚トキシシランなど
のシラン単独たたはこれらの混合物さらにはこれ
らの郚分加氎分解物たたは郚分共加氎分解物が䜿
甚され、これらは回転塗垃、ロツドコヌテむン
グ、刷毛塗り、スプレヌ塗りなど通垞の方法によ
り塗垃される。
䞊蚘のようにしお基板䞊にオルガノポリシロキ
サンの硬化膜局を圢成した埌、この局䞊にパタヌ
ン状に保護局を圢成するのであるが、この保護局
ずしおは皮々の感光性材料、非感光性材料が䜿甚
できる。
この際䜿甚される感光性暹脂ずしおは埓来知ら
れおいるものでよく、これにはけい皮酞系感光性
暹脂東京応化瀟補TPR、コダツク瀟補KPR
等、環化ゎム系感光性暹脂東京応化瀟補
OMR、富士薬品工業補FSR等、アゞド系感光性
暹脂富士薬品工業補FPER等、さらにゞアゟ
系感光性暹脂シナプレ瀟補AZ、東京応化瀟補
OFPR、富士薬品工業補FPPR等など垂販のホ
トレゞストおよび倚数の感光性暹脂、被芆性のあ
る感光材料が䜿甚できる。垂販品の堎合には通垞
のホトレズスト補版法によりパタヌニングされ
る。なお、ホトレゞスト画像を圢成するには、ホ
トレゞスト液を盎接オルガノポリシロキサン硬化
膜局䞊に通垞の塗垃法で塗垃する方法ず、䞀たん
ポリ゚チレン、ポリプロピレン等のフむルム䞊に
塗垃、也燥埌、加熱圧着により、オルガノポリシ
ロキサン硬化膜局䞊に転写する方法が適甚でき、
しかる埌パタヌニングを行う。
これらホトレゞストをオルガノポリシロキサン
硬化膜局の衚面に塗垃する際ホトレゞストがオル
ガノポリシロキサン衚面にはじかれる堎合があ
る。このずき界面掻性剀やシリコヌン暹脂あるい
はシリコヌン油をホトレゞスト溶液に添加するこ
ずにより塗垃適性を改善するこずができる。これ
に䜿甚できる界面掻性剀ずしおはフツ玠系、シリ
コヌン系界面掻性剀があり、たずえばスリヌ゚ム
瀟補FC−431等がある。
たた、ホトレゞストに添加できるシリコヌン油
ずしおは、各皮のオルガノポリシロキサンを䜿甚
するこずができ、これにはシリコヌンゎム信越
化孊瀟補KS774、KS705F等、シリコヌンワニス
信越化孊瀟補KR271等、さらに各皮の感光性シ
リコヌンが䟋瀺される。
䞊蚘感光性シリコヌンの具䜓的䟋瀺ずしおは、
マレむミド基たたは眮換原子もしくは基を含有す
るマレむミド基が結合したシロキサン単䜍を有す
るオルガノポリシロキサン特開昭51−120804
号、同51−125277号、同52−13907号、同52−
105002号、同52−116304号等参照、アクリロキ
シ基たたは眮換原子もしくは基を含有するアクリ
ロキシ基が結合したシロキサン単䜍を有するオル
ガノポリシロキサン特開昭48−16991号、同48
−19682号、同48−21779号、同48−23880号、同
48−47997号、同48−48000号、同48−83722号、
同51−34291号、同51−52001号、同52−105003
号、同52−105004号、同52−113805号、同52−
113801号等参照、メルカプト基含有シロキサン
単䜍を有するオルガノポリシロキサンずビニル基
含有シロキサン単䜍を有するオルガノポリシロキ
サンずの混合物特開昭53−17405号等参照、ビ
ニル基含有シロキサン単䜍を有するオルガノポリ
シロキサンずオルガノハむドロゞ゚ンポリシロキ
サンずの混合物特開昭53−15907号等参照、ア
ミド基を含有するシロキサン単䜍を有するオルガ
ノポリシロキサン特開昭52−139200号、同52−
139504号等参照、アクリロキシ基含有シロキサ
ン単䜍を有するオルガポリシロキサンずビニル基
含有シロキサン単䜍を有するオルガノポリシロキ
サンずの混合物特開昭52−139505号等参照な
どが䟋瀺される。
たた、シリコヌンず感光性物質の混合物からな
るものずしおは、アゞド化合物、−キノンゞア
ゞド化合物、ケむ皮酞類、アクリル酞たたはアク
リレヌト類等の感光性物質ずオルガノポリシロキ
サンずの混合物特開昭49−68803号、同49−
86102号、同49−121601号、同51−134204号等参
照などの各皮シリコヌンが䟋瀺される。
保護局を圢成するための光硬化性オルガノポ
リシロキサンずしおは、硬化膜局ぞのぬれがよ
いこずが必芁であり、そのためには硬化膜局ず
衚面匵力がほが等しいこずが奜たしく、この目的
に合぀たものずしお埓来公知の光硬化性オルガノ
ポリシロキサンが䜿甚できる。この衚面匵力ずし
おは18〜25dyn/cm望たしくは20〜23dyn/cmであ
る。
䞊蚘シリコヌン添加したホトレゞストは通垞の
回転塗垃、はけ塗り、ロツドコヌテむング等の方
法によりオルガノポリシロキサン硬化膜局䞊に塗
垃される。なお、これらのパタヌニングは通垞の
ホトレゞスト補版法により行われる。
゚チルセルロヌス、゚チルヒドロキシセルロヌ
ス、アクリル暹脂などを含むむンキを甚いおスク
リヌン印刷するこずによりレゞスト局をパタヌン
状に圢成するこずもできる。この堎合においおも
盎接印刷ず転写法があるが、枛粘剀の添加は、印
刷滎正を䜎䞋するため転写法が望たしい。さらに
たた、静電写真甚のトナヌなどをレゞスト材料ず
しお静電印刷によりレゞスト局を圢成するこずも
できる。この堎合、オルガノシリコヌン局が絶瞁
物であるため、良奜な静電朜像およびトナヌ画像
を圢成するこずが可胜である。さらに簡単には成
膜性暹脂液を手描きしたり適圓な印刷手段で転写
したものでよい。
オルガノポリシロキサン硬化膜局ず反応しお含
金属オルガノポリシロキサン硬化膜局を䜜る含金
属化合物ずしおは各皮金属化合物、金属錯䜓等
皮々のものが䜿甚できる。なかでも無機金属塩、
有機金属塩、有機金属化合物、金属ハロゲン化
物、金属キレヌト化合物、錯塩が特に有効であ
る。
元玠の皮類ずしおは各皮遷移系列元玠が良奜な
効果を瀺し、なかでもTi、、Cr、Mn、Fe、
Co、Ni、Moの化合物が顕著な効果を䞎える。さ
らに、、、、族の元玠は前
蚘遷移元玠ず同等の効果を持ち、なかでもCu、
Zn、Al、Sn、Pb、Ge、Sbの化合物は有効であ
る。
本発明に甚いる含金属化合物ずしおは特に䞊蚘
遷移系列元玠および、、、、
族元玠の無機塩、有機塩、有機金属化合物、ハ
ロゲン化物、キレヌト化合物、錯䜓が良奜な効果
を䞎える。なかでもTi、、Cr、Mn、Fe、
Co、Ni、Mo、Cu、Zn、Al、Sn、Pb、Ge、Sb各
元玠の無機塩、有機塩、ハロゲン化物、有機金属
化合物、キレヌト化合物、錯塩が優秀な効果を䞎
える。
さらに詳しく䟋瀺するず、無機塩ずしおは硝
酞、硫酞、リン酞、炭酞等ず䞊蚘金属ずの塩、有
機金属塩ずしおは各皮有機酞䟋えば酢酞、シナり
酞、ク゚ン酞、酒石酞、コハク酞等のカルボン酞
ず䞊蚘金属ずの塩、有機金属化合物ずしおは䟋え
ば䞊蚘金属のアルキル金属化合物、金属酞゚ステ
ル等があげられる。金属錯䜓化合物ずしお各皮キ
レヌト詊薬ず䞊蚘金属ずのキレヌト化合物が特に
有効である。キレヌト化詊薬には倚くの物が知ら
れおおり、䟋えば金属キレヌト(1)〔(æ ª)南江堂発
行、坂口歊䞀、䞊野景平線〕〜10頁に瀺される
配䜍子等が倚数利甚できる。ごく代衚的なものだ
け䟋蚘すればアセチルアセトン、ゞメチルグリオ
キシム、゚チレンゞアミン、ゞピリゞル、グリシ
ン等の配䜍子があげられる。ハロゲン化物の䞭で
は前蚘元玠の塩化物の倚くがオルガノポリシロキ
サンの含金属凊理に効果がある。
オルガノポリシロキサンの含金属凊理にはこの
ように倚くの化合物が利甚できるが、そのうちご
く䞀郚に぀いお代衚的なものを䟋瀺するず、シナ
り酞チタンアンモニりム、北化チタンアンモニり
ム、硫酞チタン、チタン酞テトラむ゜プロピル、
チタン酞テトラブチル、バナゞりム酞ナトリり
ム、バナゞン酞アンモニりム、オキシ塩化クロ
ム、酢酞第クロム、臭化クロム、塩化第クロ
ム、酢酞マンガン、塩化第䞀マンガン、炭酞マン
ガン、硝酞マンガン、アセチルアセトンマンガン
錯䜓、゚チレンゞアミンマンガン錯䜓、塩化鉄、
ク゚ン酞第鉄、臭化鉄、北化鉄、゚チレンゞア
ミン、四酢酞ナトリりム鉄、塩化コバルト、シナ
り酞コバルト、炭酞コバルト、亜硝酞コバルトナ
トリりム、゚チレンゞアミン四酢酞ナトリりムコ
バルト、よう化コバルト、硝酞ニツケル、シナり
酞ニツケル、ク゚ン酞第䞀ニツケル、゚チレンゞ
アミン四酢酞ナトリりムニツケル、塩化銅、酢酞
銅、硝酞銅、゚チレンゞアミン四酢酞ナトリりム
銅、塩化亜鉛、酢酞亜鉛、炭酞亜鉛、硝酞亜鉛、
゚チレンゞアミン四酢酞ナトリりム亜鉛、モリブ
デン酞ナトリりム、五塩化モリブデン、アセチル
アセトンモリブデン錯䜓、塩化すず、臭化すず、
よう化すず、ラトラプニルすず、塩化アンチモ
ン、タングステン酞、リンタングステン酞、酢酞
鉛、酒石酞鉛、゚チレンゞアミン四酢酞ナトリり
ム鉛、臭化鉛、塩化アルミニりム、酢酞アルミニ
りム、臭化アルミニりム、硫酞アルミニりムナト
リリりム、リン酞アルミニりム等があげられる
が、これらに限られるものではない。
䞊蚘含金属化合物を溶解する溶媒ずしおは、各
皮アルコヌル系、ケトン系、芳銙族炭化氎玠、脂
肪族炭化氎玠、゚ステル系溶媒たたは氎などの単
䜓あるいは混合物が䜿甚できる。
含金属化合物溶液をオルガノポリシロキサン衚
面に塗垃する際にも溶液のはじきがある堎合に
は、オルガノポリシロキサン衚面の塗垃適性を改
良する必芁がある。これらの方法ずしお䟋えば火
炎凊理ではアルミニりム等の金属基板䞊にオルガ
ノポリシロキサン局を蚭けさらにその䞊に保護局
を蚭けたものを氎面䞊に浮べ局郚的な加熱による
オルガノポリシロキサン局の砎壊を防ぎながら、
バヌナヌ等による炎をオルガノポリシロキサン衚
面にあおお均䞀に動かしお凊理するこずができ
る。
コロナ凊理では通垞垂販されおいる装眮䟋えば
ENIパワヌシステム瀟補のコロナ衚面凊理機RS
−を甚いお行うこずができる。プラズマ凊理ず
しおは䟋えば東京応化補プラズマ灰化装眮を甚い
お行うこずができる。
これらの凊理は単にオルガノポリシロキサン衚
面の塗垃適性を改善するためのものであり、オル
ガノポリシロキサンそのものを砎壊しおそれ自䜓
に感脂性を䞎えるためではない。そのため塗垃適
性改善のためのこれら凊理は、溶媒を含たせた垃
などで簡単にふき取るこずができる。
たた、含金属化合物溶液の塗垃適性を向䞊させ
る方法ずしお該溶液䞭に界面掻性剀を添加するこ
ずも有効であり、この堎合前蚘凊理は必芁ない。
䜿甚できる界面掻性剀ずしおは䟋えばスリヌ゚ム
瀟補FC−431等がある。䞊蚘のようにオルガノポ
リシロキサン䞊に含金属化合物を塗垃し、これを
加熱するず含金属オルガノポリシロキサン局が生
成する。加熱枩床、加熱時間、含金属化合物の皮
類によ぀お凊理の効果が異なる。この含金属凊理
は酞、アルカリなどによる腐食凊理ずは異なる。
塩酞、硫酞、硝酞、クロム酞あるいは氎酞化ナ
トリりムなどにより、オルガノポリシロキサンが
分解されるこずは呚知であるが、これら酞あるい
はアルカリによる凊理はオルガノポリシロキサン
の組織を砎壊するため、MEK、トル゚ンなどの
溶媒で凊理郚分をふくず、オルガノポリシロキサ
ン局が陀去されおしたう。
しかし、本発明による含金属オルガノポリシロ
キサン硬化膜局は溶媒によ぀お溶解陀去されず匷
固な局ずしお画線郚が圢成されおいる。おそらく
金属ずオルガノポリシロキサンずの間に眮換反応
等が生じ、分子鎖をあたり切断しない圢で金属が
オルガノポリシロキサン䞭に取り蟌たれるものず
考えられる。
画線郚の感脂性はこの金属に垰因するず考えら
れ、埓来では考えられない皋匷固な画線郚がオル
ガノポリシロキサン䞊にできる。
レゞスト局を溶媒あるいは粘着テヌプ等で剥離
した埌、このようにしお調敎した含金属オルガノ
ポリシロキサン局を線走査電子顕埮鏡日立補
䜜所補HSM−2Aで芳察するず、保護局で芆わ
れおいた郚分では該金属は怜出されず、含金属溶
液が盎接塗垃された郚分のみに該金属が怜出され
る。たた面分析を行うこずにより、パタヌン状に
金属含有局を刀別するこずができた。
たた溶媒等を甚いお該含金属局を匷固にこす぀
たり、サンドペヌパヌを甚いお該含金属局の衚面
局を陀いおも、やはり該金属のパタヌンは明瞭に
怜出されるため、該金属はオルガノポリシロキサ
ンず反応し、しかもある皋床の深さたでこの反応
は進んでいるものず掚定される。
このようにしお䜜぀た平版印刷版は、耐刷性も
高くむンキ受容性も良奜で、画線郚ず非画線郚の
高さが等しいため、むンキの乗り、転移が良奜で
すぐれた印刷物が埗られる。たた、この圢匏の印
刷版はオフセツト、オフセツト茪転、ダむリ゜、
掻版、掻茪に利甚でき、埗られる利益は倧きい。
぀ぎに、具䜓的実斜䟋をあげる。
実斜䟋  脱脂枅浄されたアルミニりム板䞊にプラむマヌ
ずしおKBP−41信越化孊工業補のむ゜
プロピルアルコヌルIPA溶液をポラヌ塗垃
し、也燥埌ゞメチルポリシロキサン信越化孊工
業KS705Fを也燥埌の膜厚が10Όになるよう塗
垃、也燥硬化埌、界面掻性剀スリヌ゚ム瀟補
FC−431を重量添加したホトレゞスト液
富士薬品工業補FPER100を回転塗垃法により
塗垃也燥した也燥膜厚Ό。
぀ぎに、所定のポゞ原版を密着した埌露光、珟
像により、ポリシロキサン䞊にレゞスト画像を圢
成した。次いで、×10-2トル、倧気䞋、300W
の条件䞋で分間、プラズマ凊理を行い、ゞメチ
ルポリシロキサン衚面露出郚の塗垃適性を改善し
た埌、ZnCl22.5メチル゚チルケトンMEK
溶液をポラヌで塗垃し、100℃10分間含金属凊
理を行぀た。MEKを含たせた柔い垃でレゞスト
局を剥離しお平版印刷版を補造した。
この印刷版は䞇枚以䞊の良奜な耐刷性を瀺し
た。
実斜䟋  脱脂枅浄されたアルミニりム板䞊にγ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシランずオルトチタ
ン酞−ブチルの等量混合物のIPA溶液を回
転塗垃、也燥埌、この䞊にオルガノポリシロキサ
ン信越化孊工業補KS774を也燥埌の膜厚が15
Όになるように塗垃也燥し、加熱硬化した。次い
で延䌞ポリプロピレンフむルム䞊に感光性暹脂
東京応化瀟補TPR101−塗膜膜厚Ό
を圢成し、この感光性暹脂塗膜を先のオルガノポ
リシロキサン硬化膜に圧着、加熱しおホトレゞス
ト膜を転写した。぀ぎに所定のポゞ原版を密着し
た埌、露光、珟像により、ゞメチルポリシロキサ
ン被膜䞊にレゞスト画像を圢成した。
次いで、ENIパワヌシステム瀟のコロナ衚面凊
理機RS−を甚い500Wでロヌル電極を甚い回
通しお該シリコヌン面を凊理した。テトラむ゜プ
ロピルチタネヌトIPA溶液を塗垃し、100℃
時間加熱した埌、レゞスト局を゚チルセロ゜ル
ブを甚いお柔らかくふき剥膜するず、画線郚はわ
ずかに癜くなり、非画線郚ず区別できた。
この印刷版は䞇枚以䞊の耐刷性を瀺した。
実斜䟋  実斜䟋ず同様にアルミニりム板䞊にプラむマ
ヌ局を圢成した䞊にゞメチルポリシロキサン信
越化孊工業補KE−77を膜厚が10Όになるよう
に塗垃し、加熱也燥、硬化した。次に感光性暹脂
液シプレヌ瀟補AZ−111をMERシリコヌン
オむル信越化孊工業補KF96Lの混合
溶液で倍に垌釈しポラヌ塗垃した。
所定のネガフむルムを密着露光しお珟像埌、こ
れをバツトに匵぀た氎の䞊に浮かべガスバヌナヌ
の炎をシロキサン被膜面に圓お、30秒均䞀に凊理
した。
この埌実斜䟋ず同様に凊理を行い、䞇枚以
䞊の耐刷性を持぀印刷版を埗た。
実斜䟋  実斜䟋ず同様にアルミニりム板䞊にゞメチル
ポリシロキサンKS774の硬化被膜を圢成し、次に
実斜䟋ず同様の方法でこの硬化膜䞊にレゞスト
画像を圢成した。東京応化瀟補プラズマ灰火装眮
を甚い、0.5トル300Wで反応性ガスずしお空気を
䜿甚しお分間プラズマ凊理を斜した埌、アセチ
ルアセトンマンガン塩MEK溶液をホ
゚ラヌ塗垃し、100℃30分間加熱凊理しお含金属
シロキサン局を䜜り、゚タノヌルでレゞストをふ
いお剥膜した。
この結果画線郚がわずかに茶色に倉色した印刷
版が埗られ、耐刷性は䞇枚以䞊であ぀た。
実斜䟋  アルミニりム板の衚面を脱脂掗浄し、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランずオルトチ
タン酞−ブチルの等量混合物をIPAで垌釈し
に調敎したプラむマヌ溶液を塗垃也燥した。こ
の䞊にオルガノポリシロキサン信越化孊工業補
KS773を也燥埌の膜厚が10Όになるように塗
垃・也燥し、加熱硬化させた。
この硬化膜䞊に感光性暹脂液東京応化瀟補
OMR83にオルガノポリシロキサンKS774を
重量添加しお也燥埌の膜厚がΌになるように
回転塗垃した。也燥埌、ポゞ原皿を密着し露光し
おキシレンで珟像した。
぀ぎに、アセチルアセトンモリブデン塩の2.5
MEK溶液に界面掻性剀FC−431を添
加した溶液をポラヌ塗垃し、120℃30分間加熱
しお含金属シロキサン局を䜜぀た。
MEK−トル゚ン混合溶媒でふき取るこずによ
り非画線郚䞊のレゞストを剥離し、耐刷性䞇枚
以䞊の平版印刷版を埗た。
実斜䟋  分子鎖䞡末端が氎酞基で封鎖されたゞメチルポ
リシロキサンシロキサン重合床500の15ト
ル゚ン溶液247郚郚は重量郚を瀺す、以䞋同
様およびプニルトリクロロシランの加氎分解
生成物の15トル゚ン溶液60郚を混合し、これに
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン0.25郚、ゞブチルヒドロキシトル゚ン0.01郚お
よびゞブチルすずゞラりレヌト0.1郚を添加し、
トル゚ンの還流枩床䞋に瞮合反応を行せ、生成す
る氎を陀去しながら時間反応させたずころ、粘
床28.8センチストヌクスシリコヌン濃床15
の共重合䜓が埗られた。
䞊蚘で埗られた光重合性オルガノポリシロキサン
50郚 −トリメチルシリルベンゟプノン 2.5〃 ト ル ã‚š ン 950郚 䞊蚘組成の光重合性組成物を、実斜䟋ず同様
の方法で0.3mm厚のアルミニりム板䞊にあらかじ
め也燥塗膜10Όになるように塗垃、硬化しおある
むンキ反発性シリコヌンKS705F䞊に、也燥塗膜
Όになるようにロヌルコヌトした。
也燥埌12Ό厚のOPPフむルムをドラむラミネ
ヌトし、぀ぎに、ポゞ原皿を密着露光埌OPPフ
むルムを剥離し、぀いでトリクロロ゚チレンによ
り珟像を行぀た。このむンキ反発性シリコヌン䞊
にパタヌン化された光重合性ポリオルガノシロキ
サン局を有する積局板を、プラズマ反応宀䞭に入
れ、倧気䞋、300W、0.3トルの条件䞋で、分間
プラズマ凊理を行぀た。この埌実斜䟋ず同様に
凊理しお平版印刷甚印刷版が埗られた。
この平版印刷甚印刷版をKOR印刷機を䜿甚
し、湿し氎を䟛絊せずに印刷したずころ、䞇枚
の鮮明な印刷物が埗られた。
実斜䟋  ゞメチルゞクロロシラン260郚およびプニル
トリクロロシラン50郚をトル゚ン1000郚に溶解し
たのち、この溶液を氎1100郚䞭ぞ枩床を25℃以䞋
に保持しながら滎䞋しお共加氎分解瞮合し、次い
で氎掗、䞭和、脱氎凊理を行぀お、シロキサン濃
床15重量のトル゚ン溶液を埗た。このトル゚ン
溶液1000郚に−アミノプロピルトリ゚トキシシ
ラン50郚を加えゞブチルすずゞオクト゚ヌト0.2
郚を添加しお脱゚タノヌル反応を行い、䞋蚘匏に
盞圓する−アミノプロピル基含有オルガノポリ
シロキサンのトル゚ン溶液を埗た。
Me2SiO200PhSiO1.524H2NC3 H6SiO1.52.2 Meメチル基 Phプニル基 ぀ぎに、この−アミノプロピル基含有ポリオ
ルガノシロキサンのトル゚ン溶液にα−プニル
マレむン酞無氎物を−アミノプロピル基モル
に察しお、モルの割合で加えα−プニルマ
レむン酞無氎物3.94郚をゞメチルホルムアミド10
mlに溶解したものを20℃の枩床で滎䞋した、25
℃で時間反応させ、さらに110℃で時間反応
させた反応により生じる氎を反応系倖に陀去し
ながら反応を進行させたずころ、䞋蚘匏に盞圓
するマレむミド基含有ポリオルガノシロキサンが
埗られた赀倖線吞収スペクトル分析により確
認。
Me2SiO200PhSiO1.524QC3 H6SiO1.52.2 このものは垞枩においお固䜓軟化点110〜120
℃のものであ぀た。
䞊蚘で埗られた光重合性オルガノポリシロキサン
50郚 ト ル ã‚š ン 950郚 䞊蚘組成物を、実斜䟋ず同様にあらかじめ
KS774を塗垃、硬化した0.3mm厚の銅板䞊に、也
燥塗膜Όになるようにロヌルコヌトした。也燥
埌12ΌのOPPフむルムをドラむラミネヌトし、
ポゞ原版を密着露光埌OPPフむルムを剥離し、
トリクロロ゚チレンで珟像を行い、むンキ反発性
シリコヌン䞊にパタヌン化された光重合性オルガ
ノポリシロキサンを埗た。次いで酞玠ガス䞭、
300W、0.1トルの条件䞋でプラズマ凊理した埌、
SnCl25IPA溶液をポラヌコヌトし、95℃で
時間加熱凊理した埌MEKでレゞスト局を陀去
し、印刷板を埗た。
この平版印刷甚印刷版をKOR印刷機を甚い、
湿し氎を䟛絊せずに印刷したずころ、䞇攟以䞊
の鮮明な印刷物が埗られた。
実斜䟋  組成匏CH2CH−C3H6−SiO1.54 PhSiO1.520Me2SiO400 で瀺されるブロツク状オルガノ ポリシロキサン 50郚 テトラ−−メルカプトプロピルテトラメチルシ
クロテトラシロキサン 2.5郚 ・4′−ビスゞメチルアミノベンゟプノン
郚 ト ル ã‚š ン 950郚 からなる混合物をレゞストに甚いたほか実斜䟋
ず同様な工皋で平版印刷甚印刷版を䜜り、ブラン
ゲツトを介さず盎接玙に印刷したずころ、䞇枚
の鮮明な印刷物が埗られた。
実斜䟋  実斜䟋においお、−ゞメチルアミノ−4′−
トリメトキシシリル゚チルゞメチルシリルベ
ンゟプノン0.14郚を添加したほかは党く同様な
手順でオルガノポリシロキサン溶液を埗た。
䞊蚘オルガノポリシロキサン 50郚 ト ル ã‚š ン 950郚 䞊蚘自己増感型光重合性オルガノポリシロキサ
ンを甚い実斜䟋ず同様な方法で平版印刷甚印刷
版を埗KOR印刷機により湿し氎を䟛絊せずに鮮
明な印刷物が䞇枚以䞊埗られた。
実斜䟋 10 平均分子匏 で瀺されるアゞド化オルガノポリシロキサン
100郚 −ニトロアニリン 郚 ア セ ト ン 700郚 以䞊の組成物をレゞストに甚いる以倖は実斜䟋
ず党く同様な方法で平版印刷甚印刷版を埗、
KOR印刷機により湿し氎を䟛絊せずに鮮明な印
刷物が䞇枚埗られた。
実斜䟋 11 ポリシンナモむルオキシ゚チルメタクリレヌト
郚 ・−ゞ4′−アゞドベンザルシクロヘキサ
ン 郚 シリコヌン生ゎム300侇cs、25℃ 郚 MEKシクロヘキサノン 900郚 䞊蚘組成物をレゞストに甚いる以倖は実斜䟋ず
党く同様にしお平版印刷甚印刷版を 埗、KOR
印機により湿し氎を䟛絊せずに鮮明な印刷物が
䞇枚埗られた。
実斜䟋 12 実斜䟋ず同様にアルミニりム基板䞊にゞメチ
ルポリシロキサンKS774の局をΌの厚さに
圢成し硬化した埌、ポリケむ皮酞系感光性暹脂
東京応化補、TPR100郚ず界面掻性剀スリ
ヌ゚ム瀟補、FC4310.4郚の混合液を也燥埌の
膜厚がΌ厚になるように塗垃し也燥した。
界面掻性剀を添加するこずにより塗垃性胜が非
垞に良奜ずなり、ゞメチルポリシロキサン局ずの
接着性も向䞊した。
TPR凊理法に準じお露光・珟像凊理した埌、
実斜䟋に準じお凊理を行぀た。この結果、耐刷
性が䞇枚以䞊の印刷版が埗られた。
実斜䟋 13 所定の原版に基づき、シルクスクリヌン版を䜜
成した。脱脂掗浄したアルミニりム板䞊に信越化
孊工業補プラむマヌの被膜を蚭け、この被膜䞊
にオルガノポリシロキサン信越化孊工業補
KE103RTVを也燥埌の膜厚が20Όになるよう
に塗垃し、宀枩で日間攟眮し硬化した。
゚チルセルロヌスずパむンオむルを䞻成分ずす
るスクリヌンオむル20郚ずガラスフリツト80郚か
らなるスクリヌンむンキを甚いお䞊蚘シルクスク
リヌン版により印刷し、也燥埌、ENIパワヌシス
テム瀟補コロナ衚面凊理機を甚い、500Wの条件
䞋でコロナ凊理を行い、シナり酞鉄アンモンの
氎溶液を塗垃し加熱凊理埌トル゚ンによりスク
リヌンむンキレゞスト局を剥離し、平版印刷甚印
刷版を補造した。この印刷版は䞇枚以䞊の良奜
な耐刷性を有しおいた。
実斜䟋 14 実斜䟋においお、15Ό厚のオルガノポリシロ
キサン硬化膜局䞭にSiO2、TiO2、Al2O3の埮粉末
をそれぞれ別個に固圢分比で重量混入分散さ
せた。実斜䟋ず同様の凊理を行い補版した埌耐
刷性を比范したずころ、぀ぎの結果を瀺した。
耐刷性 充おん剀なし 䞇枚 SiO2 10䞇枚 TiO2 䞇枚 Al2O3 䞇枚 これにより若干の充おん剀をオルガノポリシロ
キサン局䞭に存圚させる方が耐刷性向䞊に効果が
あるこずが刀明した。
実斜䟋 15 脱脂枅浄されたアルミニりム板䞊にγ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシランずオルトチタ
ン酞−ブチルの等量混合物IPA溶液を回転
塗垃し也燥埌、この䞊にオルガノポリシロキサン
KS774100郚、硬化剀PL−を10郚、トル゚
ン290郚を加えた溶液をポラ塗垃し、100℃で20
分也燥硬化させた。膜厚は10Όであ぀た。
富士薬品工業補FPER100を50郚、実斜䟋で
補造した感光性オルガノポリシロキサン
MEX溶液郚、MEX136郚を混合し、オルガノ
ポリシロキサン硬化膜局䞊にポラヌ塗垃し、也
燥埌ポゞ原版を密着露光埌トリクレンで珟像し
た。぀いで0.5トル、倧気䞭、300Wの条件で分
間プラズマ凊理埌、アセチルアセトンマンガン塩
MEX溶液をポラヌ塗垃し、100℃30分加熱
凊理し、画線郚を圢成しおMEXでレゞストをふ
いお剥膜した。
こうしお埗た印刷版は䞇枚以䞊の耐刷性を瀺
した。
比范䟋 実斜䟋においお、テトラむ゜プロピルチタネ
ヌトIPA溶液を塗垃せず含金属凊理をしない
以倖はた぀たく同様な方法で印刷版を補造した。
画線郚は癜くならず非画線郚ず区別できなか぀
た。KOR印刷機を甚い印刷したずころ、初めか
らむンキの乗らない箇所があり、これはレゞスト
画像を垃でふいたずきに凊理郚が取れたこずによ
るものである。
画線郚ずな぀おいた箇所も印刷するに぀れむン
キがはいらなくなり、2000枚ではほずんどの郚分
でむンキがはいらなくなり、実甚性のある版ずし
おは䜿甚できなか぀た。
【図面の簡単な説明】
第図〜第図は、本発明の平版印刷甚印刷版
の補造工皋を瀺す逐次段階の䞀郚拡倧断面図であ
る。   基板、  オルガノポリシロキサン硬
化膜局、′  含金属オルガノポリシロキサン
硬化膜局、  保護局。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  基板の䞀方の面に、オルガノポリシロキサン
    硬化膜局からなる非画線郚ず、オルガノポリシロ
    キサンの硬化膜局衚面をパタヌン状に含金属凊理
    した含金属オルガノポリシロキサン硬化膜局から
    なる画線郚ずを有する平版印刷甚印刷板。  基板の䞀方の面にオルガノポリシロキサン硬
    化膜局を蚭け、この硬化膜局䞊にパタヌン状に保
    護局を圢成した埌含金属化合物の溶液を塗垃し、
    ぀いで也燥・加熱凊理を斜した埌該保護局を陀去
    するこずにより、オルガノポリシロキサン硬化膜
    局からなる非画線郚ず、パタヌン状に含金属凊理
    された含金属オルガノポリシロキサン硬化膜局か
    らなる画線郚ずを圢成するこずを特城ずする平版
    印刷甚印刷版の補造方法。  含金属化合物の溶液が界面掻性剀を含むもの
    である特蚱請求の範囲第項蚘茉の補造方法。  含金属化合物の溶液を塗垃するに先立ち、オ
    ルガノポリシロキサン硬化膜局の非保護局郚分に
    該含金属化合物溶液の塗垃適性を向䞊させるため
    の前凊理を斜すこずを特城ずする特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の補造方法。  䞊蚘前凊理がプラズマ凊理、コロナ凊理およ
    び火炎凊理のいずれかである特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の補造方法。
JP9959780A 1980-07-21 1980-07-21 Lithographic printing plate and its preparation Granted JPS5724945A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9959780A JPS5724945A (en) 1980-07-21 1980-07-21 Lithographic printing plate and its preparation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9959780A JPS5724945A (en) 1980-07-21 1980-07-21 Lithographic printing plate and its preparation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5724945A JPS5724945A (en) 1982-02-09
JPS6158822B2 true JPS6158822B2 (ja) 1986-12-13

Family

ID=14251499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9959780A Granted JPS5724945A (en) 1980-07-21 1980-07-21 Lithographic printing plate and its preparation

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5724945A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10618833B2 (en) 2015-12-18 2020-04-14 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a synthetic quartz glass grain
US10676388B2 (en) 2015-12-18 2020-06-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass
US10730780B2 (en) 2015-12-18 2020-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven
US11053152B2 (en) 2015-12-18 2021-07-06 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass
US11236002B2 (en) 2015-12-18 2022-02-01 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of an opaque quartz glass body
US11299417B2 (en) 2015-12-18 2022-04-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal
US11339076B2 (en) 2015-12-18 2022-05-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass
US11492285B2 (en) 2015-12-18 2022-11-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate
US11492282B2 (en) 2015-12-18 2022-11-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of quartz glass bodies with dew point monitoring in the melting oven

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60191262A (ja) * 1984-03-12 1985-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し氎䞍芁感光性平版印刷版の補造法
EP0208618A3 (en) * 1985-07-09 1987-06-24 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. A mesh and printing screen for screen printing and a method for the preparation thereof

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10618833B2 (en) 2015-12-18 2020-04-14 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a synthetic quartz glass grain
US10676388B2 (en) 2015-12-18 2020-06-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass
US10730780B2 (en) 2015-12-18 2020-08-04 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven
US11053152B2 (en) 2015-12-18 2021-07-06 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass
US11236002B2 (en) 2015-12-18 2022-02-01 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of an opaque quartz glass body
US11299417B2 (en) 2015-12-18 2022-04-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal
US11339076B2 (en) 2015-12-18 2022-05-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass
US11492285B2 (en) 2015-12-18 2022-11-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate
US11492282B2 (en) 2015-12-18 2022-11-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of quartz glass bodies with dew point monitoring in the melting oven

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5724945A (en) 1982-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4292397A (en) Method for preparing dry planographic plates with plasma
JPS6158822B2 (ja)
US4184873A (en) Method for the preparation of a planographic printing plate
JPH0311459B2 (ja)
US3209683A (en) Planographic printing plate
JPS6158823B2 (ja)
JPS6155668B2 (ja)
US6656661B2 (en) Waterless imageable element with crosslinked silicone layer
JPS6155669B2 (ja)
JPS6155670B2 (ja)
JPS6155671B2 (ja)
JPS6035056B2 (ja) 平版印刷甚刷版およびその補造法
US5455134A (en) Fabrication of waterless planographic plates by laser printing and xerographic methods
GB1588063A (en) Method for the preparation of a planographic printing plate
JPS6322302B2 (ja)
JPH0934131A (ja) 氎なし平版印刷版の修正方法
JPS6320341B2 (ja)
JPS6154221B2 (ja)
JPS6154225B2 (ja)
GB2074503A (en) Printing Plates for Dry Planographic and Method for Preparing Same
JPH01154159A (ja) 湿し氎䞍芁平版印刷版及びその補造方法
JPS6154224B2 (ja)
JPH10217421A (ja) レヌザヌダむレクト湿し氎䞍芁感光性平版印刷版
JPS5921542B2 (ja) 印刷版の補法
FR2481473A1 (fr) Plaques pour l'impression a plat et a sec comprenant une couche d'organopolysiloxane, et procede pour leur preparation