JPH0682213B2 - 水なし平版印刷用原版 - Google Patents
水なし平版印刷用原版Info
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- JPH0682213B2 JPH0682213B2 JP61138215A JP13821586A JPH0682213B2 JP H0682213 B2 JPH0682213 B2 JP H0682213B2 JP 61138215 A JP61138215 A JP 61138215A JP 13821586 A JP13821586 A JP 13821586A JP H0682213 B2 JPH0682213 B2 JP H0682213B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicone rubber
- rubber layer
- parts
- printing plate
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は湿し水を用いずに印刷可能な、水なし平版印刷
用原版に関する。
用原版に関する。
従来架橋したオルガノポリシロキサンを主成分とするシ
リコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし平版印刷版
が、数多く提案されている。
リコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし平版印刷版
が、数多く提案されている。
例えば、特公昭56−23150号公報に示されるように、基
板、感光層、シリコーンゴム層の順に積層されて構成さ
れるもの、また特公昭56−14976号公報に示されるよう
に、基板、シリコーンゴム層、感光層の順に積層されて
構成されるもの、特公昭56-772号公報に示されるよう
に、基板、感光性のシリコーンゴム層から構成されるも
の、特開昭56-62253号公報、特開昭56-130752号公報に
示されるように、基板、シリコーンゴム層から構成さ
れ、電子写真処理、プラズマ処理などによって画像形成
されるものなどが挙げられる。
板、感光層、シリコーンゴム層の順に積層されて構成さ
れるもの、また特公昭56−14976号公報に示されるよう
に、基板、シリコーンゴム層、感光層の順に積層されて
構成されるもの、特公昭56-772号公報に示されるよう
に、基板、感光性のシリコーンゴム層から構成されるも
の、特開昭56-62253号公報、特開昭56-130752号公報に
示されるように、基板、シリコーンゴム層から構成さ
れ、電子写真処理、プラズマ処理などによって画像形成
されるものなどが挙げられる。
しかしながらこれまでに提案されている。線状オルガノ
ポリシロキサンを架橋して得られるシリコーンゴムをイ
ンキ反撥層とした場合には、版面強度とインキ反撥性の
バランスをとるのが難しかった。
ポリシロキサンを架橋して得られるシリコーンゴムをイ
ンキ反撥層とした場合には、版面強度とインキ反撥性の
バランスをとるのが難しかった。
本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑み創案されたもの
で、反面強度を低下させずに、高いインキ反撥性能を有
するインキ反撥層を得ることを目的としたものである。
で、反面強度を低下させずに、高いインキ反撥性能を有
するインキ反撥層を得ることを目的としたものである。
すなわち、本発明者らは、上記の性能を満足するシリコ
ーンゴム層組成について検討を行なった結果、特性構造
を有する化合物を添加した場合には上記目的が良好に達
成されることを見出し、本発明に到達したものである。
ーンゴム層組成について検討を行なった結果、特性構造
を有する化合物を添加した場合には上記目的が良好に達
成されることを見出し、本発明に到達したものである。
本発明はシリコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし
平版印刷用原版において、シリコーンゴム層が式（Ｉ）
で示される化合物を、0.1〜25重量％含有していること
を特徴とする水なし平版印刷用原版に関する。
平版印刷用原版において、シリコーンゴム層が式（Ｉ）
で示される化合物を、0.1〜25重量％含有していること
を特徴とする水なし平版印刷用原版に関する。
（式中ｎは５以上の整数、R1、R2は水素、もしくは、置
換もしくは非置換の炭素数１から20の１価炭化水素基） 本発明におけるインキ反撥層となるシリコーンゴム層
は、次式（II）もしくは（III）に示される構造単位を
主成分（望ましくは80％以上）とする架橋オルガノポリ
シロキサンを含有するシリコーンゴムからなるのが一般
的である。
換もしくは非置換の炭素数１から20の１価炭化水素基） 本発明におけるインキ反撥層となるシリコーンゴム層
は、次式（II）もしくは（III）に示される構造単位を
主成分（望ましくは80％以上）とする架橋オルガノポリ
シロキサンを含有するシリコーンゴムからなるのが一般
的である。
ここでR3、R4、R5、R6、R7、R8は水素もしくは非置換もしく
は置換（例えばハロゲン原子、シアノ基、アミノ基によ
る）の炭素数１〜10の１価炭化水素基、さらにこの炭化
水素基としてアルキル基、アルケニル基、フェニル基で
あることが好ましく、特にR1、R4、R5、R6、R7、R8の総和の5
0％以上がメチル基であることが望ましく、R9は置換も
しくは非置換の炭素数２から20の２価炭化水素基であ
る。
は置換（例えばハロゲン原子、シアノ基、アミノ基によ
る）の炭素数１〜10の１価炭化水素基、さらにこの炭化
水素基としてアルキル基、アルケニル基、フェニル基で
あることが好ましく、特にR1、R4、R5、R6、R7、R8の総和の5
0％以上がメチル基であることが望ましく、R9は置換も
しくは非置換の炭素数２から20の２価炭化水素基であ
る。
オルガノポリシロキサンからシリコーンゴムとするため
の架橋方法としては、シラノール基を有するオルガノポ
リシロキサンと加水分解性基（例えばアシルオキシ基、
アルコキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミノオ
キシ基、ハロゲン原子）がケイ素子原子に二個以上（さ
らに望ましくは三個以上）結合したシラン化合物もしく
はシロキサン化合物などの架橋剤とを縮合反応させる方
法が望ましい。この場合オルガノポリシロキサンのシラ
ノール基数と架橋剤の加水分解性基数とをほぼ同じにす
ることによって架橋することも、また加水分解性基数を
過剰な状態として、加水分解縮合させて架橋することも
可能である。このシリコーンゴムの硬化前の組成として
望ましいものは、 （イ）平均して1.5個以上のシラノール基を有する線状
オルガノポリシロキサン 100重量部 （ロ）加水分解性基を有する架橋剤 0.5〜20重量部 （ハ）（Ｉ）式で示される化合物 である。
の架橋方法としては、シラノール基を有するオルガノポ
リシロキサンと加水分解性基（例えばアシルオキシ基、
アルコキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミノオ
キシ基、ハロゲン原子）がケイ素子原子に二個以上（さ
らに望ましくは三個以上）結合したシラン化合物もしく
はシロキサン化合物などの架橋剤とを縮合反応させる方
法が望ましい。この場合オルガノポリシロキサンのシラ
ノール基数と架橋剤の加水分解性基数とをほぼ同じにす
ることによって架橋することも、また加水分解性基数を
過剰な状態として、加水分解縮合させて架橋することも
可能である。このシリコーンゴムの硬化前の組成として
望ましいものは、 （イ）平均して1.5個以上のシラノール基を有する線状
オルガノポリシロキサン 100重量部 （ロ）加水分解性基を有する架橋剤 0.5〜20重量部 （ハ）（Ｉ）式で示される化合物 である。
（ハ）の量、すなわち（Ｉ）式で示される化合物の量と
しては、シリコーンゴムの硬化後、シリコーンゴム層中
に0.1〜25重量％含有するようにすることが必要であ
る。添加物（ハ）は架橋構造にほとんど取込まれること
なく、シリコーンゴム層中に遊離して存在している。こ
れらの他に例えば以下のようなものを添加してシリコー
ンゴム層とすることができるが、以下の例示に限られる
ものではない。
しては、シリコーンゴムの硬化後、シリコーンゴム層中
に0.1〜25重量％含有するようにすることが必要であ
る。添加物（ハ）は架橋構造にほとんど取込まれること
なく、シリコーンゴム層中に遊離して存在している。こ
れらの他に例えば以下のようなものを添加してシリコー
ンゴム層とすることができるが、以下の例示に限られる
ものではない。
（ニ）シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの補強
用充填材 ０〜300重量部 （ホ）シランカップリング剤、チタンカップリング剤な
どの、公知の接着付与剤 ０〜20重量部 （ヘ）スズ塩、鉄塩、ニッケル塩、チタン塩などの公知
のシリコーンの硬化触媒 ０〜10重量部 （ト）４量体以下のオルガノシクロポリシロキサン０〜
20重量部 （Ｉ）式で示される化合物は、シリコーンゴム層中に含
有されてインキ反撥性を向上させる効果をもとものであ
る。ｎが４以下の環状オリゴマーであると、印刷初期に
はインキ反撥性の向上効果があるものの、印刷を続ける
とオリゴマーが揮発してインキ反撥性が低下してくるこ
とから、ｎが５以上であることが必要である。
用充填材 ０〜300重量部 （ホ）シランカップリング剤、チタンカップリング剤な
どの、公知の接着付与剤 ０〜20重量部 （ヘ）スズ塩、鉄塩、ニッケル塩、チタン塩などの公知
のシリコーンの硬化触媒 ０〜10重量部 （ト）４量体以下のオルガノシクロポリシロキサン０〜
20重量部 （Ｉ）式で示される化合物は、シリコーンゴム層中に含
有されてインキ反撥性を向上させる効果をもとものであ
る。ｎが４以下の環状オリゴマーであると、印刷初期に
はインキ反撥性の向上効果があるものの、印刷を続ける
とオリゴマーが揮発してインキ反撥性が低下してくるこ
とから、ｎが５以上であることが必要である。
シリコーンゴム層中に含有される（Ｉ）式で示される化
合物の量としては、少なすぎると、インキ反撥性の向上
効果が低く、また多すぎると、シリコーンゴム層の表面
に傷がつきやすくなることから、0.1重量％〜25重量％
であることが必要であり、さらに.0.5重量％〜15重量％
であることが望ましく、１〜10重量％が最も望ましい。
また、分子量300〜100,000のものであることが望まし
い。さらに、R1、R2としては、R3、R4と同様のものが選ば
れるが、特に60％以上がメチル基であることが望まし
い。
合物の量としては、少なすぎると、インキ反撥性の向上
効果が低く、また多すぎると、シリコーンゴム層の表面
に傷がつきやすくなることから、0.1重量％〜25重量％
であることが必要であり、さらに.0.5重量％〜15重量％
であることが望ましく、１〜10重量％が最も望ましい。
また、分子量300〜100,000のものであることが望まし
い。さらに、R1、R2としては、R3、R4と同様のものが選ば
れるが、特に60％以上がメチル基であることが望まし
い。
（Ｉ）式で示される化合物は例えば以下のように合成す
ることができるが、なんらこの合成方法に限定されるも
のではない。
ることができるが、なんらこの合成方法に限定されるも
のではない。
すなわちジアルキルジクロロシランを大過剰の溶剤に希
釈して（例えば濃度１％以下）、水を徐々に滴下して、
加水分解および縮合重合を行なう。反応終了後、溶剤を
蒸溜したのち、ｎが４以下の環状オルガノポリシロキサ
ンを減圧蒸溜によって除去する。加水分解性の基を複数
有するシランもしくはシロキサンを大過剰に用いて表面
処理したシリカのカラムに、蒸溜残渣を通して、シラノ
ール基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンを除去
して、化合物（Ｉ）を得ることができる。
釈して（例えば濃度１％以下）、水を徐々に滴下して、
加水分解および縮合重合を行なう。反応終了後、溶剤を
蒸溜したのち、ｎが４以下の環状オルガノポリシロキサ
ンを減圧蒸溜によって除去する。加水分解性の基を複数
有するシランもしくはシロキサンを大過剰に用いて表面
処理したシリカのカラムに、蒸溜残渣を通して、シラノ
ール基を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンを除去
して、化合物（Ｉ）を得ることができる。
本発明の特徴を有するシリコーンゴム層が使われるもの
としては以下のような水なし平版印刷用原版が例示され
る。
としては以下のような水なし平版印刷用原版が例示され
る。
（１）基板、感光層、シリコーンゴム層の順に積層され
る印刷用原版、 （２）基板、シリコーンゴム層、感光層の順に積層され
る印刷用原版、 （３）基板、感光性基を有するシリコーンゴム層に順に
構成される印刷用原版、 （４）基板、シリコーンゴム層からなる原版であり、例
えば電子写真処理、プラズマ、電磁波処理して印刷版と
なるもの、 （５）湿し水が必要な平版原版を通常の方法で、露光、
現像して画像形成した後、非画線部にシリコーンゴム層
を設けた印刷版。
る印刷用原版、 （２）基板、シリコーンゴム層、感光層の順に積層され
る印刷用原版、 （３）基板、感光性基を有するシリコーンゴム層に順に
構成される印刷用原版、 （４）基板、シリコーンゴム層からなる原版であり、例
えば電子写真処理、プラズマ、電磁波処理して印刷版と
なるもの、 （５）湿し水が必要な平版原版を通常の方法で、露光、
現像して画像形成した後、非画線部にシリコーンゴム層
を設けた印刷版。
などである。これらのほかに、画像形成ずみの水なし平
版印刷版の不要の画像部に塗布して画像を修正するため
の塗布液にも適用することができる。
版印刷版の不要の画像部に塗布して画像を修正するため
の塗布液にも適用することができる。
上記の感光層に含有される基、および感光性基として
は、エチレン性不飽和結合、光によって環化二量化しう
る基、アジド基、キノンジアジド基、ジアゾ基などが例
示される。特に（１）のように構成される原版の感光層
としては、以下のようなものが例示される。
は、エチレン性不飽和結合、光によって環化二量化しう
る基、アジド基、キノンジアジド基、ジアゾ基などが例
示される。特に（１）のように構成される原版の感光層
としては、以下のようなものが例示される。
（イ）エチレン性不飽和結合を有する重合性の化合物、
光開始剤、および支持ポリマーを含有するもの、 （ロ）環化二量化しうる不飽和結合を複数有する化合物
を含有するもの、 （ハ）（ナフト）キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体を含有するもの、 （ニ）（ナフト）キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体と、フェノール基と反応しうる基を複数有する
化合物（例えばイソシアネート化合物）を含有するも
の。
光開始剤、および支持ポリマーを含有するもの、 （ロ）環化二量化しうる不飽和結合を複数有する化合物
を含有するもの、 （ハ）（ナフト）キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体を含有するもの、 （ニ）（ナフト）キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体と、フェノール基と反応しうる基を複数有する
化合物（例えばイソシアネート化合物）を含有するも
の。
シリコーンゴム層の厚みとしては任意であるが、厚すぎ
ると不経済であり、また薄すぎるとインキ反撥性が悪く
なることから、0.5ミクロンから1mm、さらに１ミクロン
から100ミクロンであることが好ましい。さらに上記
（１）のように構成される印刷用原版においては、厚い
場合には原版の現像性が悪くなることから、シリコーン
ゴム層の厚みは、50ミクロン以下であることが望まし
い。
ると不経済であり、また薄すぎるとインキ反撥性が悪く
なることから、0.5ミクロンから1mm、さらに１ミクロン
から100ミクロンであることが好ましい。さらに上記
（１）のように構成される印刷用原版においては、厚い
場合には原版の現像性が悪くなることから、シリコーン
ゴム層の厚みは、50ミクロン以下であることが望まし
い。
以下に実施例を示す。例中に記載の部数は重量部であ
る。またインキ反撥性のデータにおける地汚れ発生指数
とは次の方法によって測定したものであり、地汚れ発生
指数が高いシリコーンゴム層ほど実用印刷において高い
インキ反撥性を有することを意味する。
る。またインキ反撥性のデータにおける地汚れ発生指数
とは次の方法によって測定したものであり、地汚れ発生
指数が高いシリコーンゴム層ほど実用印刷において高い
インキ反撥性を有することを意味する。
版胴に温水を通じて版面を昇温できるように改造した印
刷機に、印刷版を取りつけ、特定のインキを用いて、版
面を昇温しながら印刷し、一定のベタ濃度において印刷
物に地汚れが発生した際の版面温度を地汚れ発生指数と
する。
刷機に、印刷版を取りつけ、特定のインキを用いて、版
面を昇温しながら印刷し、一定のベタ濃度において印刷
物に地汚れが発生した際の版面温度を地汚れ発生指数と
する。
実施例１ 砂目立て加工したアルミ板の上に、数平均重合度4.8の
フェノールノボラック樹脂と1,2−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸クロリドとの45％部分エステル化物
のエチルセロソルブ溶液を塗布して、120℃で30秒間加
熱して感光層とした（厚さ２ミクロン）。
フェノールノボラック樹脂と1,2−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸クロリドとの45％部分エステル化物
のエチルセロソルブ溶液を塗布して、120℃で30秒間加
熱して感光層とした（厚さ２ミクロン）。
ついで該感光層上にγ−アミノプロピルトリメトキシシ
ランのｎ−ヘキサン溶液を塗布して、120℃で30秒間加
熱して、接着層とした（厚さ0.3ミクロン）。
ランのｎ−ヘキサン溶液を塗布して、120℃で30秒間加
熱して、接着層とした（厚さ0.3ミクロン）。
ついで該接着層上に以下の組成を有するシリコーンゴム
の“アイソパーE"（脂肪族炭化水素、エクソン化学
（株）製）溶液を塗布して、120℃で３分間加熱、乾
燥、硬化させてシリコーンゴム層とした（厚さ２ミクロ
ン）。
の“アイソパーE"（脂肪族炭化水素、エクソン化学
（株）製）溶液を塗布して、120℃で３分間加熱、乾
燥、硬化させてシリコーンゴム層とした（厚さ２ミクロ
ン）。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロキサ
ン（数平均分子量25,000）100部 （２）シクロポリジメチルシロキサン（数平均分子量7,
000、４量体以下はなし） 10部 （３）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.2部 該シリコーンゴム層上に、カバーフィルムとして厚さ10
ミクロンの“トレファン”（ポリプロピレンフィルム、
東レ（株）製）をラミネートして、原版とした。
ン（数平均分子量25,000）100部 （２）シクロポリジメチルシロキサン（数平均分子量7,
000、４量体以下はなし） 10部 （３）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.2部 該シリコーンゴム層上に、カバーフィルムとして厚さ10
ミクロンの“トレファン”（ポリプロピレンフィルム、
東レ（株）製）をラミネートして、原版とした。
得られた原版を、岩崎電気（株）製メタルハライドラン
プ“アイドルフィン"2000を用いて、光源から1mの距離
で４秒間全面フラシュ露光した、原画ネガフィルムを真
空密着して、１分間露光した。露光済みの原版のカバー
フィルムを剥離したのち、40℃のジエチレングリコール
／モノエタノールアミン（95/5重量比）に２分間浸漬し
た後、水の浸漬下で、ナイロンブラシを用いて現像した
ところ、露光部はシリコーンゴム層、接着層、感光層が
剥離して、基板が露出してインキ着肉性の画像部とな
り、非露光部はシリコーンゴム層が残存して、インキ反
撥性で非画像部となっている印刷版を得た。
プ“アイドルフィン"2000を用いて、光源から1mの距離
で４秒間全面フラシュ露光した、原画ネガフィルムを真
空密着して、１分間露光した。露光済みの原版のカバー
フィルムを剥離したのち、40℃のジエチレングリコール
／モノエタノールアミン（95/5重量比）に２分間浸漬し
た後、水の浸漬下で、ナイロンブラシを用いて現像した
ところ、露光部はシリコーンゴム層、接着層、感光層が
剥離して、基板が露出してインキ着肉性の画像部とな
り、非露光部はシリコーンゴム層が残存して、インキ反
撥性で非画像部となっている印刷版を得た。
得られた印刷版をオフセット印刷機に取り付けて、湿し
水を与えずに印刷したところ、優れた画像再現性を有す
る印刷物を得た。またこの印刷版の地汚れ発生指数は32
であり、比較例１とは比較して版面強度の低下は認めら
れなかった。
水を与えずに印刷したところ、優れた画像再現性を有す
る印刷物を得た。またこの印刷版の地汚れ発生指数は32
であり、比較例１とは比較して版面強度の低下は認めら
れなかった。
実施例２ シリコーンゴムの組成を以下のものとした他は実施例１
と同様にして原版を得た。
と同様にして原版を得た。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロキサ
ン（数平均分子量25,000） 100部 （２）デカメチルシクロペンタシロキサン 10部 （３）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.2部 得られた原版を実施例１と同様に露光、現像したとこ
ろ、実施例１と同様に印刷版を得た。
ン（数平均分子量25,000） 100部 （２）デカメチルシクロペンタシロキサン 10部 （３）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.2部 得られた原版を実施例１と同様に露光、現像したとこ
ろ、実施例１と同様に印刷版を得た。
得られた印刷版を、実施例１と同様に印刷したところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。またこの印刷
版の地汚れ発生指数は31であった。
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。またこの印刷
版の地汚れ発生指数は31であった。
実施例３ シリコーンゴムの組成を以下のものとした他は実施例１
と同様にして原版を得た。
と同様にして原版を得た。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロキサ
ン（数平均分子量25,000） 100部 （２）シクロポリジメチルサシロキサン（数平均分子量
8,000、４量体以下はなし） ２部 （３）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.2部 得られた原版を実施例１と同様に露光、現像したとこ
ろ、実施例１と同様の印刷版を得た。
ン（数平均分子量25,000） 100部 （２）シクロポリジメチルサシロキサン（数平均分子量
8,000、４量体以下はなし） ２部 （３）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.2部 得られた原版を実施例１と同様に露光、現像したとこ
ろ、実施例１と同様の印刷版を得た。
得られた印刷版を、実施例１と同様に印刷したところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。またこの印刷
版の地汚れ発生指数31であった。
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。またこの印刷
版の地汚れ発生指数31であった。
比較例１ シリコーンゴムの組成を以下のものとした他は実施例１
と同様にして原版を得た。
と同様にして原版を得た。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロキサ
ン（数平均分子量25,000）100部 （２）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （３）ジブチルスズジアセテート 0.2部 得られた原版を実施例１と同様に露光、現像したとこ
ろ、実施例１と同様の印刷版を得た。
ン（数平均分子量25,000）100部 （２）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン ８部 （３）ジブチルスズジアセテート 0.2部 得られた原版を実施例１と同様に露光、現像したとこ
ろ、実施例１と同様の印刷版を得た。
得られた印刷版を、実施例１と同様に印刷したところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。しかしながら
地汚れ発生指数は28であり、本比較例に比べて実施例１
から３のシリコーンゴム層がインキ反撥性において優れ
ていることがわかる。
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。しかしながら
地汚れ発生指数は28であり、本比較例に比べて実施例１
から３のシリコーンゴム層がインキ反撥性において優れ
ていることがわかる。
実施例４ 砂目立て加工したアルミ板の上に、以下の組成の“アイ
ソパーE"溶液を塗布して、120℃で２分間加熱乾燥し
て、シリコーンゴム層を設けた（厚さ10ミクロン）。
ソパーE"溶液を塗布して、120℃で２分間加熱乾燥し
て、シリコーンゴム層を設けた（厚さ10ミクロン）。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン
（数平均分子量40,000） 100部 （２）シクロポリジメチルシロキサン（数平均分子量1
8,000、４量体以下は含まない） ３部 （３）メチルトリアセトキシシラン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.1部 一方、厚さ10ミクロンの“トリファン”上に （１）グリシジルメタクリレートとキシリレンジアミン
の４モル/1モル付加反応物 95部 （２）ベンゾインメチルエーテル ５部 からなる組成のエチルセロソルブ溶液を塗布し、50℃で
乾燥し、厚さ２ミクロンの感光層を設けた。
（数平均分子量40,000） 100部 （２）シクロポリジメチルシロキサン（数平均分子量1
8,000、４量体以下は含まない） ３部 （３）メチルトリアセトキシシラン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.1部 一方、厚さ10ミクロンの“トリファン”上に （１）グリシジルメタクリレートとキシリレンジアミン
の４モル/1モル付加反応物 95部 （２）ベンゾインメチルエーテル ５部 からなる組成のエチルセロソルブ溶液を塗布し、50℃で
乾燥し、厚さ２ミクロンの感光層を設けた。
次に２種の積層体を、シリコーンゴム層と感光層が密着
するように、カレンダーローラーを用いて圧着し原版を
得た。
するように、カレンダーローラーを用いて圧着し原版を
得た。
この原版のポリプロピレンフィルム上に、ネガフィルム
を密着し、実施例１と同様の露光方法で３分間露光し
た。
を密着し、実施例１と同様の露光方法で３分間露光し
た。
トレファンを剥離し、イソプロパノール50％水溶液に浸
漬して、“ハイゼガーゼ”（不織布、旭化成（株）製）
で軽くこすると、非露光部分の感光層は容易に除去さ
れ、シリコーン層が露出して、インキ反撥性の非画像部
となり、一方露光部分の感光層は残っており、インキ受
容性の画像部となっている印刷版を得た。
漬して、“ハイゼガーゼ”（不織布、旭化成（株）製）
で軽くこすると、非露光部分の感光層は容易に除去さ
れ、シリコーン層が露出して、インキ反撥性の非画像部
となり、一方露光部分の感光層は残っており、インキ受
容性の画像部となっている印刷版を得た。
実施例１と同様に印刷したところ、優れた画像再現性を
有する印刷物を得た。また地汚れ発生指数は33であっ
た。
有する印刷物を得た。また地汚れ発生指数は33であっ
た。
比較例２ シリコーンゴム層の組成を以下のものとする他は、実施
例４と同様に原版を得た。
例４と同様に原版を得た。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン
（数平均分子量40,000） 100部 （２）メチルトリアセトキシシラン ８部 （３）ジブチルスズジアセテート 0.1部 得られた原版を実施例４と同様に、露光、現像して印刷
版を作製して、印刷したところ、実施例４と同様の印刷
物が得られた。しかしながら地汚れ発生指数は30であ
り、本比較例に比べて、実施例４に示したシリコーンゴ
ム層のインキ反撥性が優れていることがわかる。
（数平均分子量40,000） 100部 （２）メチルトリアセトキシシラン ８部 （３）ジブチルスズジアセテート 0.1部 得られた原版を実施例４と同様に、露光、現像して印刷
版を作製して、印刷したところ、実施例４と同様の印刷
物が得られた。しかしながら地汚れ発生指数は30であ
り、本比較例に比べて、実施例４に示したシリコーンゴ
ム層のインキ反撥性が優れていることがわかる。
実施例５ 砂目立て加工したアルミ板上に、以下の組成を有する
“アイソパーE"溶液を塗布して、120℃で３分間加熱乾
燥してシリコーンゴム層を設けて印刷用原版とした（厚
さ10ミクロン）。
“アイソパーE"溶液を塗布して、120℃で３分間加熱乾
燥してシリコーンゴム層を設けて印刷用原版とした（厚
さ10ミクロン）。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン
（数平均分子量12,000） 100部 （２）シクロポリジメチルシロキサン（数平均分子量4,
000） ３部 （３）メチルトリアセトキシシラン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.1部 得られた印刷用原版を大気中で部分的にプラズマ放電処
理して、処理したところが画像部となる印刷版を得た。
得られた印刷版の地汚れ発生指数は34であった。
（数平均分子量12,000） 100部 （２）シクロポリジメチルシロキサン（数平均分子量4,
000） ３部 （３）メチルトリアセトキシシラン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.1部 得られた印刷用原版を大気中で部分的にプラズマ放電処
理して、処理したところが画像部となる印刷版を得た。
得られた印刷版の地汚れ発生指数は34であった。
比較例３ シリコーンゴム層の組成を以下のものとする他は実施例
５と同様に印刷用原版、印刷版を得た。
５と同様に印刷用原版、印刷版を得た。
（１）α，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン
（数平均分子量12,000） 100部 （２）メチルトリアセトキシシラン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.1部 得られた印刷版の地汚れ発生指数は、31であり、本比較
例に比べて、実施例５のシリコーンゴム層のインキ反撥
性が優れていることがわかる。
（数平均分子量12,000） 100部 （２）メチルトリアセトキシシラン ８部 （４）ジブチルスズジアセテート 0.1部 得られた印刷版の地汚れ発生指数は、31であり、本比較
例に比べて、実施例５のシリコーンゴム層のインキ反撥
性が優れていることがわかる。
本発明の特徴である環状のオルガノポリシロキサンをシ
リコーンゴム層が含有することによって、従来のものに
比べて、版面の強度を下げることなく、インキ反撥性が
向上する。
リコーンゴム層が含有することによって、従来のものに
比べて、版面の強度を下げることなく、インキ反撥性が
向上する。
Claims (1)
- 【請求項１】シリコーンゴム層をインキ反撥層とする水
なし平版印刷用原版において、シリコーンゴム層が式
（Ｉ）で示される化合物を、0.1〜25重量％含有してい
ることを特徴とする水なし平版印刷用原版。 （式中ｎは５以上の整数、R1、R2は水素、もしくは、置
換もしくは非置換の炭素数１から20の１価炭化水素基）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61138215A JPH0682213B2 (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 水なし平版印刷用原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61138215A JPH0682213B2 (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 水なし平版印刷用原版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62295054A JPS62295054A (ja) | 1987-12-22 |
| JPH0682213B2 true JPH0682213B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=15216773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61138215A Expired - Lifetime JPH0682213B2 (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 水なし平版印刷用原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682213B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140060358A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Xerox Corporation | Printing plates doped with release oil |
| US20140060364A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Xerox Corporation | Variable lithographic printing process |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100910556B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2009-08-03 | 삼성전자주식회사 | 컬러포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5137786A (en) * | 1974-09-27 | 1976-03-30 | Nippon Steel Corp | Shibori shigokikakokanno seizoho |
| JPS564908A (en) * | 1979-06-15 | 1981-01-19 | Siemens Ag | Monolithic integrated transistor amplifier |
| JPS61103931A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | シリコ−ンゴム成形体の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-16 JP JP61138215A patent/JPH0682213B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5137786A (en) * | 1974-09-27 | 1976-03-30 | Nippon Steel Corp | Shibori shigokikakokanno seizoho |
| JPS564908A (en) * | 1979-06-15 | 1981-01-19 | Siemens Ag | Monolithic integrated transistor amplifier |
| JPS61103931A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | シリコ−ンゴム成形体の製造方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140060358A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Xerox Corporation | Printing plates doped with release oil |
| US20140060364A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Xerox Corporation | Variable lithographic printing process |
| CN103660666A (zh) * | 2012-08-31 | 2014-03-26 | 施乐公司 | 可变平版印刷方法 |
| US9327487B2 (en) * | 2012-08-31 | 2016-05-03 | Xerox Corporation | Variable lithographic printing process |
| US9956801B2 (en) * | 2012-08-31 | 2018-05-01 | Xerox Corporation | Printing plates doped with release oil |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62295054A (ja) | 1987-12-22 |
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