JPH0445818B2 - - Google Patents

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JPH0445818B2
JPH0445818B2 JP19085785A JP19085785A JPH0445818B2 JP H0445818 B2 JPH0445818 B2 JP H0445818B2 JP 19085785 A JP19085785 A JP 19085785A JP 19085785 A JP19085785 A JP 19085785A JP H0445818 B2 JPH0445818 B2 JP H0445818B2
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JP
Japan
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layer
silicone rubber
weight
group
photosensitive
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Application number
JP19085785A
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English (en)
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JPS6250760A (ja
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Toshihiko Hiruma
Hiroshi Takahashi
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP19085785A priority Critical patent/JPS6250760A/ja
Publication of JPS6250760A publication Critical patent/JPS6250760A/ja
Publication of JPH0445818B2 publication Critical patent/JPH0445818B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
〔発明の分野〕 本発明は湿し氎䞍芁平版印刷版以䞋、氎なし
プレヌトず称す。の䜜成に䟛される、高感床、
高珟像性、高耐刷性、高感脂性、等の実甚性胜の
高められた湿し氎䞍芁感光性平版印刷版以䞋、
氎なしPS版ず称す。に関するものである。 〔埓来技術〕 支持䜓䞊に、順に感光局およびシリコヌンゎム
局を有する氎なしPS版に぀いおはすでに皮々の
ものが提案されおいる䟋えば特公昭44−23042
号、特公昭46−16044号、特公昭51−17081号、特
公昭54−26923号、特開昭56−80046号、特公昭55
−22781号の各公報参照。この皮の氎なしPS版
を䜿甚した補版方法は、次のような皮の方法に
倧別できる。その぀は画線郚の感光局を珟像液
で溶解するこずによ぀おその䞊郚にあるシリコヌ
ンゎム局を陀去しお画線郚を圢成する方法特公
昭46−16044号公報参照であり、もう䞀぀は感
光局ずしお光接着性感光局ポゞ型の堎合ある
いは光剥離性感光局ネガ型の堎合を蚭け、画
像露光により光接着しなか぀た郚分のシリコヌン
ゎム局のみを膚最陀去するかあるいは画像露光に
より光剥離を起した郚分のシリコヌンゎム局のみ
を膚最陀去する、いわゆる感光局䞊のシリコヌン
ゎム局のみを遞択的に膚最陀去する方法特公昭
54−26923号および特開昭56−80046号の各公報参
照である。前者の方法ではシリコヌンゎム局ず
感光局ずの接着匷床を十分高く蚭蚈しおも感光局
が溶出陀去されるため、画像圢成が悪くな぀぀た
り珟像䞍良の珟像が珟われたりするこずが少な
く、たたシリコヌンゎム局䞊にカバヌフむルムを
持たないような氎なしPS版を補造した堎合にも、
シリコヌンゎム局の密着匷床の安定した、耐スク
ラツチ性、耐摩耗性のある氎なしPS版を補造す
るこずができる䞊、このような氎なしPS版から
埗られる氎なしプレヌトは高い耐刷性が期埅でき
る。しかしこの氎なしプレヌトの画線郚は、感光
局およびシリコヌンゎム局の䞡局が陀去されお圢
成された比范的深い凹郚ずならざるを埗ず、印刷
時にこの凹郚にむンキを十分着肉させる為には版
面ぞのむンキ䟛絊量を倚くする、いわゆるむンキ
を厚盛りにしなければならないずう問題点があ぀
た。䞀方、埌者の方法では画線郚がシリコヌンゎ
ム局のみ陀去されお圢成された比范的浅い凹郚で
あるためむンキが薄盛りできるずいう特長はある
が、シリコヌンゎム局の耐スクラツチ性および耐
磚耗性を十分なものずし、䞔぀耐刷力のある氎な
しプレヌトが埗られるようにするこずを目的ずし
おシリコヌンゎム局ず感光局ずの接着匷床を高く
するず画線郚のシリコヌンゎム局の陀去珟像
が必然的に困難ずな぀おしたうため、結局シリコ
ヌンゎム局の耐スクラツチ性、耐磚耗性が䞍十分
な䞊に、耐刷力の䜎い氎なしプレヌトしか䞎える
こずができない氎なしPS版しか埗るこずができ
ないずいう本質的な欠点があ぀た。 〔発明の目的〕 埓぀お、本発明の目的はむンキが薄盛りでき、
䞔぀耐刷力の高い湿し氎䞍芁平版印刷版を䜜成す
るこずができる氎なしPS版を提䟛するこずであ
る。 本発明の別の目的シリコヌンゎム局の耐スクラ
ツチ性、耐磚耗性に優れ、しかも珟像性の良奜な
氎なしPS版を提䟛するこずである。 〔発明の構成ず䜜甚効果〕 本発明者等は、皮々研究を重ねた結果、支持䜓
䞊に(a)゚ポキシ暹脂、(b)゚ポキシ暹脂に察し〜
100重量の酞無氎物および(c)゚ポキシ暹脂に察
し0.5〜30重量の䞉玚アミン化合物からなるプ
ラむマヌ局を蚭け、この䞊に感光量、シリコヌン
ゎム局をこの順に蚭けた湿し氎䞍芁感光性平版印
刷版により、䞊蚘諞目的が達成されるこずを芋出
した。 第図は本発明の氎なしPS版の䞀実斜䟋の断
面図であり、支持䜓の䞊に、プラむマヌ局、
感光局およびシリコヌンゎム局が順に蚭けら
れおいる。 第図は、第図に瀺した氎なしPS版を像露
光および珟像しお埗られた氎なしプレヌトであ
り、画線郚はシリコヌンゎム局および感光局
の䞡者が陀去されおプラむマヌ局の衚面が露光
された凹郚である。 本発明による氎なしPS版においおは、䞊蚘の
劂きプラむマヌ局を蚭けたこずにより、感光局
の厚さが薄局化するこずができ、それにもかか
わらず支持䜓ずシリコヌンゎム局ずの接着匷
床が極めお高いずいう性質を有し、埓぀おシリコ
ヌンゎム局の耐スクラツチ性、耐摩耗性が優れ、
埗られる氎なしプレヌトは耐刷力が高い。 曎に、本発明による氎なしPS版は、画線郚の
感光局の珟像液で溶解するこずによ぀お、その䞊
のシリコヌンゎム局を、陀くずいう方法で珟像さ
れるものであるから、優れた珟像性を有しおい
る。 曎にたた、本発明による氎なしPS版は、薄い
感光局を蚭ければよいので、これから䜜成された
氎なしプレヌトは画線郚がシリコヌンゎム局のみ
ならず、感光局をも陀かれた凹郚であるにもかか
わらず、実質的にシリコヌンゎム局の厚さに盞圓
する深さしかない䞊、露出されたプラむマヌ局が
極めお高い感脂性を有しおいる為、これら䞡者が
盞俟぀おむンキを薄盛りできるずいう特長を有し
おいる。 以䞋、本発明の氎なしPS版の、各構成芁玠お
よび補版方法に぀いお詳しく説明する。 支持䜓 支持䜓ずしおは、通垞の平版印刷機等にセツト
できるたわみ性ず印刷時に加わる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代衚的なものずしえは
アルミニりム、銅、鋌等の金属板、ポリ゚チレン
テレフタレヌトのようなプラスチツクフむルムも
しくはシヌトあるいはコヌト玙、ゎム等があげら
れる。 たた耇合された支持䜓、ゎム匟性を有する支持
䜓、ゎム匟性局を有する支持䜓、シリンダヌ状の
支持䜓を甚いるこずもできる。 プラむマヌ局 本発明のプラむマヌ局に䜿甚される゚ポキシ暹
脂の代衚䟋は、䞋蚘の様なものである。 (1) ビスプノヌルず゚ピクロルヒドリンずの
反応生成物 (2) ノボラツク暹脂ず゚ピクロルヒドリンずの反
応生成物 (3) ビスプノヌルず゚ピクロルヒドリンずの
反応生成物 (4) テトラブロモビスプノヌルず゚ピクロル
ヒドリンずの反応生成物 (5) 環匏脂肪族゚ポキシ暹脂シクロヘキセンオ
キサむド基、トリシクロデセンオキサむド基、
シクロペンテンオキサむド基を有する化合物 (6) グリシゞル゚ステル系゚ポキシ暹脂倚䟡カ
ルボン酞ず゚ピクロルヒドリンずの反応生成
物 (7) グリシゞルアミン系゚ポキシ暹脂アミンず
゚ピクロルヒドリンずの反応生成物 (8) 耇数環匏゚ポキシ暹脂ヒダントむン環をグ
リシゞル化したヒダントむン型゚ポキシ暹脂お
よびトリアゞン環を有するトリグリシゞルむ゜
シアヌレヌト ゚ポキシ暹脂ずしおは、この他にも、公知の゚
ポキシ暹脂、すなわち、分子圓り少なくずも平均
個以䞊の゚ポキシ基を有するものであれば䜕で
も䜿甚できるが、特に奜たしいものは(1)に瀺し
た、䞋蚘の䞀般匏で衚わされるビスプノヌル
系゚ポキシ暹脂であり、皮々の゚ポキシ圓量のも
のがあるが、゚ポキシ圓量180〜4000のものが奜
たしい。 䞊蚘の゚ポキシ暹脂の硬化剀ずしお䜿甚される
酞無氎物の代衚䟋は、䞋蚘の様なものである。 (1) 芳銙族酞無氎物無氎フタル酞、無氎トリメ
リツト酞、無氎ピロメリツト酞、3′
4′−ベンゟプノンテトラカルボン酞無氎物、
等がある。 (2) 環状脂肪族酞無氎物無氎マレむン酞、無氎
コハク酞、テトラヒドロ無氎フタル酞、メチル
テトラヒドロ無氎フタル酞、無氎メチルナゞツ
ク酞、アルケニル無氎コハク酞、ヘキサヒドロ
無氎フタル酞、メチルヘキサヒドロ無氎フタル
酞、メチルシクロヘキサンテトラカルボン酞無
氎物、等がある。 (3) 脂肪族酞無氎物ポリアゞピン酞無氎物、ポ
リアれラむン酞無氎物、ポリセバシン酞無氎
物、等がある。 (4) ハロゲン化酞無氎物クロレンド酞無氎物、
テトラブロム無氎フタル酞、等がある。 ゚ポキシ暹脂の酞無氎物硬化の際に硬化促進剀
ずしお䜿甚する䞉玚アミン化合物の代衚䟋は䞋蚘
の様なものである。 (1) 脂肪族第アミン類 テトラメチルグアニゞン、アルキル−tert−
モノアミン、トリ゚タノヌルアミン、等があ
る。 (2) 環状脂肪族第アミン類 N′−ゞメチルピペラゞン、トリ゚チレ
ンゞアミン、等がある。 (3) 芳銙族第アミン類 ピリゞン、ピコリン、等がある (4) 芳銙環をも぀脂肪族第アミン類 ベンゞルゞメチルアミン、−ゞメチルア
ミノメチルプノヌル、−トリス
ゞメチルアミノメチルプノヌル、等があ
る。 酞無氎物硬化剀の添加量は、゚ポキシ暹脂に察
し〜100重量の範囲である。特に奜たしい範
囲は䜿甚する゚ポキシ暹脂および酞無氎物の皮類
により異なるのは圓然であるが、䟋ずしお゚ポ
キシ圓量500の゚ポキシ暹脂ず無氎酞圓量150の酞
無氎物を䜿甚した堎合は、10〜50重量が適圓で
ある。 硬化促進剀である䞉玚アミン化合物の添加量
は、゚ポキシ暹脂に察しお、0.5〜30重量の範
囲である。特に奜たしくは〜20重量の範囲で
ある。 䞊述のような゚ポキシ暹脂、酞無氎物および䞉
玚アミン化合物は適圓な有機溶剀に溶解されお、
支持䜓䞊に塗垃された埌、80〜150℃の枩床で加
熱硬化される。プラむマヌ局の厚さは0.1〜50Ό、
より奜たしくは0.5〜10Όが適圓である。 なおこのプラむマヌ局には、必芁に応じお酞化
チタンなどの充填剀、あるいはハレヌシペン防止
剀、たた焌き出し性付䞎のための染料や酞発生剀
を適宜混合しお䜿甚するこずもできる。 感光局 本発明に䜿甚される感光局は、露光の前埌で珟
像液に察する溶解性に倉化を生じるものであれ
ば、いかなるものであ぀おもよい。 このような感光局を構成する化合物又は組成物
には、次のものが含たれる。 (1) 沞点100℃以䞊で、宀枩で䞍揮発性の䞍飜和
モノマあるいはそれらのオリゎマず光増感剀、
熱重合犁止剀ず、必芁ならば宀枩での圢態保持
性を䞎えるための充填材および若干の添加物を
含む組成物。 䞍飜和モノマずしおは、゚チレングリコヌル
ゞメタアクリレヌト、ポリ゚チレングリコ
ヌルゞメタアクリレヌト、ヒドロキシ゚チ
ルメタアクリレヌト、ヒドロキシプロピル
メタアクリレヌト、グリシゞルメタア
クリレヌト、−クロロ−−ヒドロキシ゚チ
ルメタアクリレヌト、ゞメチルアミノメチ
ルメタアクリレヌトなどの䞀連のアクリル
酞゚ステル、メタアクリル酞゚ステル類、゚チ
レンビスアクリルアミド、−メチロ−ルアク
リルアミド、メトキシメチルアクリルアミドな
どのアクリルアミド誘導䜓、トリアリルシアヌ
レヌト、トリアリルフオスプヌト、ゞアリル
フタレヌト、ゞアリルマレヌトなどのアリルア
ルコヌルの゚ステル、その他スチレン誘導䜓、
ケむ皮酞誘導䜓などを䜿甚するこずができる。 光局感剀ずしおは、ベンゟプノ誘導䜓、ベ
ンゟむン誘導䜓、アントラキノン誘導䜓、アル
デヒド、ケトン、むオり化合物、ハロゲン化合
物、あるいはメチレンブルヌ、リボフラビンな
どの染料が䜿甚できる。 熱重合犁止剀ずしおは、ハむドロキノン誘導
䜓、プノヌル誘導䜓、ニトロ眮換ベンれン、
第玚アミン、プノチアゞン誘導䜓が甚いら
れる。 充填材あるいは添加物ずしおは、コロむダル
シリカ、炭酞カルシりム、炭酞マグネシりム、
酞化鉄などの無機物の埮现な粉末、ポリ酢酞ビ
ニル、ポリメタアクリル酞゚ステル、分子
量数千のポリ゚チレン、ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル
ポリマ、硬化前のレゟヌルプノヌル系、尿玠
系、メラミン系、゚ポキシ系、䞍飜和ポリ゚ス
テル系暹脂などがあげられる。 (2) 重合䜓の䞻鎖又は偎鎖に
【匏】基、
【匏】基又は
【匏】基を 含む高分子化合物からなる組成物。 重合䜓䞻鎖又は偎鎖に感光性基ずしお
【匏】 を含むポリ゚ステル類、ポリアミド類、ポリカ
ヌボネヌト類のような感光性重合䜓を䞻成分ず
するもの䟋えば米囜特蚱第3030208号、同第
3707373号及び同第3453237号の各明现曞に蚘茉
されおいるような化合物シンナミリデンマ
ロン酞等の−プロペリデンマロン酞化合
物及び二官胜性グリコヌル類から誘導される感
光性ポリ゚ステル類を䞻成分ずしたもの䟋え
ば米囜特蚱第2956878号及び同第3173787号の各
明现曞に蚘茉されおいるような感光性重合䜓
ポリビニヌルアルコヌル、柱粉、セルロヌス及
びその類䌌物のような氎酞基含有重合䜓のケむ
皮酞゚ステル類䟋えば米囜特蚱第2690966号、
同第2752372号、同第2732301号等の各明现曞に
蚘茉されおいるような感光性重合䜓、曎に特
開昭58−25302号、同59−17550号公報に蚘茉さ
れおいる重合䜓等が包含される。 (3) 光硬化性ゞアゟ暹脂あるいはアゞド暹脂ず必
芁ならば光増感剀ず若干の充填材添加物。 光硬化性ゞアゟ暹脂ずしおは、パラゞアゟフ
゚ニルアミン、パラゞアゟモノ゚チルアニリ
ン、パラゞアゟベンゞル゚チルアニリンなどの
ゞアゟ系アミンずホルムアルデヒドずの瞮合物
の塩化亜鉛耇塩をあげるこずができる。 光硬化性アゞド暹脂ずしおは、ポリビニルア
ルコヌルのアゞドフタル酞゚ステル、あるいは
アゞド安息銙酞゚ステル、スチレン−無氎マレ
むン酞共重合䜓ず、芳銙族アゞド系アルコヌ
ル、䟋えばβ−−アゞドプノヌル゚タ
ノヌルの゚ステルなどがあげられる。 光増感剀、充填材、添加物ずしおは(1)の䟋で
あげたものを䜿甚できる。 (4) −キノンゞアゞド化合物からなる組成物。 特に奜たしい−キノンゞアゞド化合物は
−ナフトキノンゞアゞド化合物であり、䟋えば
米囜特蚱第2766118号、同第2767092号、同第
2772972号、同第2859112号、同第2907、665号、
同第3046110号、同第3046111号、同第3046115
号、同第3046118号、同第3046119号、同第
3046120号、同第3046121号、同第3046122号、
同第3046123号、同第3061430号、同第3102809
号、同第3106465号、同第3635709号、同第
3647443号の各明现曞をはじめ、倚数の刊行物
に蚘されおおり、これらは奜適に䜿甚するこず
ができる。これらの内でも、特に芳銙族ヒドロ
キシ化合の−ナフトキノンゞアゞドスルホン
酞゚ステルたたは−ナフトキノンゞアゞドカ
ルボン酞゚ステル、及び芳銙族アミン化合物の
−ナフトキノンゞアゞドスルホン酞アミドた
たは−ナフトキノンゞアゞドカルボン酞アミ
ドが奜たしく、䟋えばベンゟキノン−−
ゞアゞドスルホン酞、ナフトキノン−−
ゞアゞドスルホン酞ずポリヒドロキシプニル
ずの゚ステル以䞋゚ステルずは郚分゚ステル
も含める、ナフトキノン−−ゞアゞド
−−スルホン酞たたはナフトキノン−
−ゞアゞド−−スルホン酞ずピロガロヌルア
セトン暹脂ずの゚ステル、ベンゟキノン−
−ゞアゞドスルホン酞たたはナフトキノン−
−ゞアゞドスルホン酞ずノボラツク型フ
゚ノヌルホルムアルデヒド暹脂たたはノボラツ
ク型クレゟヌルホルムアルデヒド暹脂の゚ステ
ル、ポリ−アミノスチレンずナフトキノ
ン−−ゞアゞド−−スルホン酞たたは
ナフトキノン−−ゞアゞド−−スルホ
ン酞のアミド、ポリ−ヒドロキシスチレンず
ナフトキノン−−ゞアゞド−−スルホ
ン酞たたはナフトキノン−−ゞアゞド−
−スルホン酞の゚ステル、ポリ゚チレングリ
コヌルずナフトキノン−−ゞアゞド−
−スルホン酞たたはナフトキノン−−ゞ
アゞド−−スルホン酞の゚ステル、重合䜓ア
ミノずナフトキノン−−ゞアゞド−−
スルホン酞たたはナフトキノン−−ゞア
ゞド−−スルホン酞のアミド、ポリメタクリ
ル酞−ヒドロキシアニリドずナフトキノン−
−ゞアゞド−−スルホン酞たたはナフ
トキノン−−ゞアゞド−−スルホン酞
の゚ステル、倩然暹脂ロゞンをアミン倉性した
ものずナフトキノン−−ゞアゞド−−
スルホン酞のアミド、ビスプノヌルずプロ
ピレンオキシドからの゚ポキシ暹脂ずナフトキ
ノン−−ゞアゞド−−スルホン酞の゚
ステル、メタアクリル酞ずゞヒドロキシフ
゚ニルのモノ゚ステルのポリマずナフトキノン
−−ゞアゞド−−スルホン酞たたはナ
フトキノン−−ゞアゞド−−スルホン
酞の゚ステル、アミノむ゜フタル酞ゞアリル゚
ステルずナフトキノンゞアゞドスルホン酞の瞮
合物を重合させたもの、ポリカルボナヌトずの
キノンゞアゞドスルホン酞゚ステルたたはキノ
ンゞアゞド類をむ゜シアネヌト等で架橋したも
の、ビスプノヌルずナフトキノン−
−ゞアゞド−−スルホン酞たたはナフトキノ
ン−−ゞアゞド−−スルホン酞の゚ス
テル、ナフトキノン−−ゞアゞド−−
スルホン酞ずプノヌル、−クレゟヌルなど
のプノヌル類、゚チル、プロピル、ブチル、
アミルアルコヌルなどのアルコヌル類ずの゚ス
テル、ナフトキノン−−ゞアゞド−−
スルホン酞ずアニリン、−ヒドロキシアニリ
ンなどのアミン類ずの酞アミドなどがあげられ
る。 これらのうち、特に奜たしい感光局は、(2)の
光二量化型のものである。 以䞊説明したような感光局の厚さは、像露光埌
の珟像工皋で画線郚の感光局およびシリコヌンゎ
ム局を陀くこずができる限りにおいお、可胜な限
り薄いこずが奜たしいが、䞀般的な目安ずしお
は、1Ό以䞋、特に0.1〜0.5Όの範囲から遞ばれる
こずが望たしく、䞔぀奜たしい。 シリコヌンゎム局 本発明に甚いられるシリコヌンゎム局は、次の
ようなくり返し単䜍を有する分子量数千〜数十䞇
の線状有機ポリシロキサンを䞻成分ずするもので
ある。 ここでは以䞊の敎数、は炭玠数〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはプニル基が
あり、の60以䞊がメチル基であるものが奜た
しい。最も奜たしいのはが党おメチル基である
ゞメチルポリシロキサンである。 このような線状有機ポリシロキサンをたばらに
架橋するこずによりシリコヌンゎムが埗られる。 この線状有機ポリシロキサンをたばらに架橋す
るためにシリコヌン架橋材が添加される。架橋剀
は、いわゆる宀枩䜎枩硬化型のシリコヌンゎ
ムに䜿われおいるアセトキシシラン、ケトオキシ
ムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、ア
ミドシラン、アルケニロキシシランなどであり、
通垞線状有機ポリシロキサンずしお末端が氎酞基
であるものずくみ合わせお、各々脱酢酞型、脱オ
キシム型、脱アルコヌル型、脱アミン型、脱アミ
ド型、脱ケトン型脱アセトン型のシリコヌン
ゎムずなる。 特に奜たしくは、次にあげるシリコヌン架橋剀
が甚いられる。 (1) −SiOR3脱アルコヌル型 (2) −SiOAc3脱酢酞型 (3) −SiONCR′23脱オキシム型 (4) −SiOCR′CHCH23脱ケトン型 ここで、は䞊で説明したず同じ意味であ
り、R′はメチル、゚チルなどのアルキル基であ
り、Acはアセチル基である。 たたシリコヌンゎムには、曎に觊媒ずしお少量
の有機スズ化合物等が添加されるのが䞀般的であ
る。 シリコヌンゎム局の厚さは0.5〜10Ό皋床が適圓
である。シリコヌンゎム局の厚さは調子再珟性の
点からはできる限り薄い方がよくたた耐刷性、印
刷汚れの点からはある皋床の厚さを必芁ずするの
で通垞1.0〜3.0Όが望たしい。 本発明の氎なしPS版は、基本的には䞊述のよ
うな構成よりなるが、必芁に応じお、感光局ずシ
リコヌンゎム局の間に接着局を介圚させるこずが
できる。このような接着局ずしお皮々のものが知
られおいるが、なかでもアミノシラン局が奜たし
い。ここで蚀うアミノシランずは䞀般に次匏で衚
わされるものを蚀う。 RmR′nSiOR″4−− ここで無眮換或いは眮換アミノ基を有する
アルキル基 R′、R″アルキル基又はアリヌル基は又は
、は又はであ぀お、か぀又
はの関係を満たす。 代衚的なものずしおは、䟋えば、−アミノプ
ロピルトリ゚トキシシラン、−−アミノ゚
チル−−アミノプロピルトリメトキシシラン、
−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス
〔−トリメトキシシリルプロピル〕アミン、
ビス〔−トリメトキシシリルプロピル〕゚
チレンゞアミン、−−トリメトキシシリル
プロピルモルホリン、トリメトキシシリルプロ
ピルゞ゚チレントリアミン、ビス−ヒドロキ
シ゚チルアミノプロピルトリ゚トキシシラン、
−アミノプロピルメチルゞ゚トキシシラン、
−ゞ゚チル−−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、−ゞメチル−−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、−メチルア
ミノプロピルトリメトキシシラン、−プニル
アミノプロピルトリメトキシシラン、−トリメ
トキシシリル−−−−アミノメチル−フ
゚ニル゚タン、トリメトキシシリルプロピルアリ
ルアミンなどが挙げられる。 たた、䞋蚘構造匏で瀺されるような、芳銙族ア
ミノシラン化合物も䜿甚される。 ここで 〜 R1炭玠数〜のアルキル基たたはプニル
基 加氎分解可胜な基䟋えば−OR2、−OCOR2、
【匏】
【匏】
【匏】 などの官胜基があげられる。尚、R2及びR3は炭
玠数〜のアルキルたたは眮換アルキル基を瀺
す。 同様に、感光局ずシリコヌンゎム局間の接着局
ずしお、アリルむ゜シアヌレヌト基を有する反応
性シラン化合物局が奜たしい。アリルむ゜シアヌ
レヌト基を有する反応性シラン化合物ずしおは䞋
蚘䞀般匏に瀺されるものが䟋瀺される。 R1アルキレ基たたはアルキレン基の個た
たは個以䞊のメチレンが、−−たたは−
NH−で眮換されたもの、䟋えば−C3H6−、−
C3H6−−C3H6−、−C3H6−NH−C3H6−等
である。 R2炭玠数〜のアルキル基たたはプニル
基である。 加氎分解可胜な基䟋えば−OR3、−OCOR3、
【匏】
【匏】
【匏】 などの官胜基があげられる。尚、R3又はR4は
炭玠数〜のアルキルたたは眮換アルキル基
を瀺す。 〜、〜 たた同様に、感光局ずシリコヌンゎム局間の接
着局ずしおケトオキシム基を有する反応性シリコ
ヌン化合物局が奜たしい。 ケトオキシム基を有する反応性シリコヌン化合
物ずしおは、䞋蚘䞀般匏で瀺されるものが特に奜
たしい。 ここでR1氎玠、炭玠数〜のアルキル基
䟋えば、メチル基、゚チル基、プロピル基、
炭玠数〜のアルケニル基䟋えば、ビニル
基、アリル基、アミノアルキル基䟋えば、
−βアミノ゚チル−γ−アミノプロピル
基、γ−アミノプロピル基、アルキレン鎖䞭
に芳銙栞を含むアミノアルキルプニルアルキ
レン基䟋えば、−βアミノ゚チル−アミ
ノメチルプネチル基、γ−メタアクリロ
キシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル
基、γ−メルカプトプロピル基 R2炭玠数〜のアルキル基たたはプニル
基 R3、R4炭玠数〜のアルキル基たたはR3、
R4の䞀郚が互いに結合したような〜員環、
環状ケトンであ぀おもよい。 たた同様に、感光局ずシリコヌンゎム局間の接
着局ずしお、有機チタネヌト局が奜たしい。ここ
でいう有機チタネヌトずは、䞀般に次匏で衚わさ
れるようなチタン系プラむマを蚀う。 TiOR4、もしくはTiOCOR′4−ORnも
しくは ここで、、R′はアルキル、アリヌル、シク
ロアルキルたたはアルケニルを衚し、同䞀たたは
異なるものである。 は、たたはである。 これらの代衚的なものずしおは、䟋えばテトラ
−む゜プロポキシチタン、テトラ−−ブトキシ
チタン、テトラステアロキシチタン、テトラキス
−−゚チルヘキシルチタネヌトなどのテト
ラアルキルチタネヌト。 ゞプロポキシ・ビスアセチルアセトナトチ
タン、ゞブトキシ・ビスアセチルアセトナト
チタン、ゞブトキシ・ビストリ゚タノヌルアミ
ナトチタン、ゞヒドロキシ・ビスラクタト
チタン、テトラキス−゚チルヘキサンゞオラ
トチタンなどのチタニりムキレヌト。 トリ−−ブトキシチタンモノステアレヌト、
チタニりムテトラベンゟ゚ヌトなどのチタニりム
アシレヌト、もしくはこれらの䌚合䜓および重合
䜓等が挙げられる。 接着局の厚みは原理的には単分子局以䞊あれば
よいが実際の塗垃操䜜䞊10Ό〜2Όの範囲が遞
ばれる。厚くなりすぎるず経枈的に䞍利であるば
かりでなく、感光局ぞの珟像液の浞透に悪圱響を
及がす。 同様に、感光局ずシリコヌンゎム局の接着のた
めに、シリコヌンゎム局に接着成分ずしお、皮々
のものが添加されおいるが、なかでもアミノシラ
ン、アリルむ゜シアヌレヌト基を有する反応性シ
ラン化合物、ケトキシム基を有する反応性シリコ
ヌン化合物、たたは、有機チタネヌトが奜たし
い。 ここでいうアミノシラン、アリルむ゜シアヌレ
ヌト基を有する反応性シラン化合物、ケトキシム
基を有する反応性シリコヌン化合物、たたは有機
チタネヌトは、先に説明したものず同じである。 シリコヌンゎム局䞭に含たれるれら接着成分の
量は、奜たしくは0.05〜10重量、より奜たしく
は0.1〜重量である。 たた、これらの接着成分の皮以䞊を混合しお
甚いるこずも出来る。 曎に、䞊蚘のような接着成分は、プラむマヌ局
及び又は感光局に含有させおもよく、これによ
り隣接局ずの接着力を向䞊させるこずができる。 曎に本発明の氎なしPS版のシリコヌンゎム局
の䞊には必芁に応じお保護フむルムを蚭けおもよ
い。 補版方法 本発明による氎なしPS版は透明原画を通しお
露光されたのち、非画像郚の感光局を溶解しうる
珟像液で珟像されお、非画像郚の感光局及びその
䞊のシリコヌンゎム局が陀去され、氎なしプレヌ
トずされる。 画像露光の光源ずしおは、䟋えば超高圧氎銀
灯、カヌボンアヌク灯、メタルハラむドランプ、
キセノンランプ、ケミカル灯、けい光灯、倪陜光
などが甚いられる。 本発明においお甚いられる珟像液ずしおは氎な
しPS版の珟像液ずしお公知のものが䜿甚できる。
たずえば暹脂族炭化氎玠類ヘキサン、ヘプタ
ン、“アむ゜パヌ、、”゚ツ゜化孊補脂肪
族炭化氎玠類の商暙名あるいはガ゜リン、灯油
など、芳銙族炭化氎玠類トル゚ン、キシレン
などあるいはハロゲン化炭化氎玠類トリクレ
ンなどに䞋蚘の極性溶媒を添加したものが奜適
である。 アルコヌル類メタノヌル、゚タノヌル、氎な
ど ゚ヌテル類メチルセロ゜ルブ、゚チルセロ゜
ルブ、ブチルセロ゜ルブ、メチルカルビトヌル、
゚チルカルビトヌル、ブチルカルビトヌル、ゞオ
キサンなど ケトン類アセトン、メチル゚チルケトンな
ど ゚ステル類酢酞゚チル、メチルセロ゜ルブア
セテヌト、セロ゜ルブアセテヌト、カルビトヌル
アセテヌトなど たたクリスタルバむオレツト、アセトラゟンレ
ツドなどの染料を珟像液に加えお珟像ず同時に画
線郚の染色化を行なうこずもできる。 珟像は、䟋えば䞊蚘のような珟像液を含む珟像
甚パツドでこす぀たり、珟像液を版面に泚いだ埌
に珟像ブラシでこするなど、公知の方法で行なう
こずができる。これにより、画線郚のシリコヌン
ゎム局ず感光局が陀かれ、プラむマヌ局の衚面が
露出し、その郚分がむンク受容郚ずなる。 実斜䟋 以䞋、本発明を実斜䟋により曎に詳しく説明す
る。 実斜䟋  通垞の方法で脱脂したスムヌスアルミニりム板
䞊に也燥重量で2.0m2になるよう䞋蚘のプラ
むマヌ局甚組成物を塗垃し、120℃で分間加熱
硬化させた。 ●゚ピコヌト1001シ゚ル化孊補のビスプノヌ
ル系゚ポキシ暹脂、゚ポキシ圓量は450〜
500 100重量郹 ●メチルテトラヒドロ無氎フタル酞 36重量郹 ●−トリスゞメチルアミノメチル
プノヌル 10重量郹 ●メチルセルロ゜ルブアセテヌト 600重量郹 ●トル゚ン 600重量郹 ●メチル゚チルケトン 600重量郹 塗垃硬化させたプラむマヌ局は、珟像液、ある
いは感光局塗垃甚混合溶剀メチルセロ゜ルブア
セテヌトトル゚ン重量郚比混合物に
浞挬しおも溶解するこずはなか぀た。 䞊蚘プラむマヌ局を塗蚭したアルミニりム板䞊
に、䞋蚘の感光性組成物を也燥重量で0.25m2
になるよう塗垃し、也燥した。 −プニレンゞアクリル酞゚ステルず
−ゞヒドロキシ゚チルオキシシクロヘキサンず
の重瞮合による感光性䞍飜和ポリ゚ステ
ル 10重量郹 −メチル−−ベンゟむルメチレン−βナフ
トチアゟリン 0.6重量郹 スミトヌンシアニンブルヌVH514䜏友化孊瀟
補フタロシアニンブルヌ顔料 重量郚 メチルセロ゜ルブアセテヌト 600重量郹 トル゚ン 300重量郹 次に、䞊蚘感光局䞊に䞋蚘のシリコヌンゎム組
成物を也燥重量で2.0m2になるよう塗垃し、
也燥し、シリコヌンゎム硬化局を埗た。 䞡末端に氎酞基を有するゞメチルポリシロキサ
ン分子量玄600000 100重量郹 䞡末端にトリメチルシリル基を有するメチルハ
むドロゞ゚ンポリシロキサン分子量玄2500
3.5重量郹 −メトキシシリルプロピル−−ゞアリ
ルむ゜シアヌレヌト 3.3重量郹 ブチル錫ゞオクタノ゚ヌト 3.3重量郹 アむ゜パヌ゚ツ゜化孊瀟補 2000重量郹 䞊蚘のようにしお埗られたシリコヌンゎム局の
衚面に厚さ12Όの片面マツト化ポリプロピレンフ
むルムをラミネヌトし、湿し氎䞍芁感光性平板印
刷版を埗た。 この印刷原版にポゞフむルムを重ね、真空密着
させヌアヌク瀟補ET26V UDNS ULTRA−
PLUS FLIP−TOP PLATE MAKERにより30
カりント露光したのち、ラミネヌトフむルムを剥
離し、アむ゜パヌ゚ツ゜化孊瀟補90重量郚、
ゞ゚チレングリコヌルモノブチル゚ヌテル重量
郚、ゞ゚チレングリコヌルモノ゚チル゚ヌテル
重量郚およびこはく酞ゞ゚チル重量郚よりなる
珟像液に分間浞挬し、珟像パツドで軜くこす぀
たずころ、未露光郚分の感光局およびシリコヌン
ゎム局が陀去された。このようにしお、印刷版党
面にわた぀お、ポゞフむルムの画像を忠実に再珟
した湿し氎䞍芁平板印刷版が埗られた。 これを湿し氎䟛絊装眮をはずしたハむデルベル
グGTO印刷機に取り぀け、東掋むンキ補TOYO
KING ULTRA TUK アクワレス墚むンキ
により印刷したずころ、汚れのない印刷物が
20000枚埗られ、ハむラむト郚の再珟性も良奜で
あ぀た。 実斜䟋 〜 䞋蚘組成物に第衚に瀺した酞無氎物ず䞉玚ア
ミン化合物を添加し、プラむマヌ局甚組成物を䜜
成した。この組成物を、通垞の方法で脱脂したス
ムヌスアルミニりム板䞊に也燥重量で2.0m2
ずなるよう塗垃し、120℃で分間加熱硬化させ
た。 ●゚ピコヌト1001シ゚ル化孊補のビスプノヌ
ル系゚ポキシ暹脂、゚ポキシ圓量は450〜
500 100重量郹 ●メチルセロ゜ルブアセテヌト 600重量郹 ●トル゚ン 600重量郹 ●メチル゚チルケトン 600重量郹
【衚】 塗垃硬化させたプラむマヌ局の䞊に、実斜䟋
ず同様の感光局、シリコヌンゎム局を塗蚭し、や
はり実斜䟋ず同様のポリプロピレンフむルムを
ラミネヌトしお湿し氎䞍芁平板印刷版を埗た。 この様にしお埗られた印刷原版を実斜䟋ず同
様に像露光し、珟像したずころ、ポゞフむルムの
画像を忠実に再珟した湿し氎䞍芁平版印刷版が埗
られた。 比范䟋 〜 䞋蚘組成物に第衚の各皮硬化剀を添加しプラ
むマヌ局甚組成物を䜜成した。この組成物は、通
垞の方法で脱脂しスムヌスアルミニりム板䞊に、
也燥重量で2.0m2になるよう塗垃し、120℃で
分間加熱硬化させた。 ●゚ピコヌト1001シ゚ル化孊補のビスプノヌ
ル系゚ポキシ暹脂、゚ポキシ圓量は450〜
500 100重量郹 ●メチルセロ゜ルブアセテヌト 600重量郹 ●トル゚ン 600重量郹 ●メチル゚チルケトン 600重量郹
【衚】
【衚】 塗垃硬化させたプラむマヌ局の䞊に、実斜䟋
ず同様の感光局、シリコヌンゎム局を塗蚭し、や
はり実斜䟋ず同様のポリプロピレンフむルムを
ラミネヌトしお湿し氎䞍芁平版印刷版を埗た。 これら、酞無氎物以倖の硬化剀で硬化させた゚
ポキシ暹脂をプラむマヌ局ずした湿し氎䞍芁平版
印刷版を、実斜䟋ず同様な方法で像露光し、珟
像したずころ、プラむマヌ局ず感光局の間で剥離
がおこり、十分な画像再珟性が埗られなか぀た。
【図面の簡単な説明】
第図は、本発明の氎なしPS版の䞀実斜䟋の
断面図であり、第図はこの氎なしPS版から䜜
成された氎なしプレヌトの断面図である。   支持䜓、  プラむマヌ局、  感
光局、  シリコヌンゎム局。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  支持䜓䞊に、プラむマヌ局、感光局およびシ
    リコヌンゎム局をこの順に有する湿し氎䞍芁感光
    性平版印刷版においお、該プラむマヌ局が、(a)ã‚š
    ポキシ暹脂、(b)゚ポキシ暹脂に察し〜100重量
    の酞無氎物、および(c)゚ポキシ暹脂に察し、
    0.5〜30重量の䞉玚アミン化合物から成るこず
    を特城ずする、湿し氎䞍芁感光性平版印刷版。  該感光局が、光二量化型感光性組成物からな
    るこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の感光性平版印刷版。
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JP4843162B2 (ja) * 2001-08-01 2011-12-21 株匏䌚瀟アルテコ −シアノアクリレヌト系瞬間接着剀甚氎性プラむマヌ
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