JP3414065B2 - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents
水なし平版印刷版原版Info
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Description
関するものであり、更に詳しくは、基板上にインキを受
容しうる感光層、インキを反発しうるシリコ−ンゴム層
を、この順に設けてなる水なし平版印刷用原版に関する
ものである。
発層とする水なし平版印刷版原版が知られており、代表
的な例として感光層、およびシリコ−ンゴム層をこの順
に設けた水なし平版印刷版原版が知られている。水なし
平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的にほぼ同一
平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線部をイ
ンキ反撥性として、インキの付着性の差異を利用して、
画線部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体に
インキを転写して印刷をする平版印刷方法において、非
画線部がシリコ−ンゴム、含フッ素化合物などのインキ
反撥性を有する物質からなり、湿し水を用いずに印刷可
能であるような印刷方法を意味する。
型の水なし平版印刷版原版としては、例えば感光層に光
重合型感光層を用いるタイプとして特公昭54−269
23号、特公昭56−23150号公報等が提案されて
いる。また特開平5−281714号公報では特定のア
ミノ基含有モノマを用いることによって高感度の水なし
平版印刷版原版が提案されている。光二量化型感光層を
用いるタイプとしては特公昭55−2278版原版が開
示されている。ネガティブワーキング用に用いられるネ
ガ型水なし平版印刷版原版としては、例えば支持体であ
るアルミ基板を画線部とした特公昭46−16044号
公報、露光部のシリコーン層のみが選択的に除去され、
感光層が画線部となる特公昭61−54222号公報等
が知られている。 これらの水なし平版印刷版原版は、
通常ポジティブフィルムもしくはネガティブフィルムを
通して、活性光線により露光される。そして、その後、
現像処理されることにより、画線部に対応したシリコ−
ンゴム層のみが剥ぎ取られ、感光層が露出し、インキ着
肉性の画線部となる。該シリコーンゴム層の架橋硬化方
法としては通常下記の2通りの架橋方法が用いられる。
リオルガノシロキサンを、ケイ素原子に直接結合した加
水分解性官能基を有するシランまたはシロキサンによっ
て縮合架橋し、シリコーンゴムとする方法。
するポリシロキサンと−CH=CH−基を有するポリシ
ロキサンを付加反応させることにより架橋し、シリコー
ンゴムとする方法。
ゴムはインキ反撥性に優れ、感光層との接着力を発現し
やすい実用上優れた性能を示すシリコーンゴムとして水
なし平版印刷版原版に好ましく用いられてきた。縮合反
応架橋性のシリコーンガム組成物は一般的にポリオルガ
ノシロキサン、縮合反応架橋剤、縮合触媒、溶剤、充填
剤から構成される。
平版印刷版原版においては、感光層がシリコーンゴム層
と直接または、中間層を介して接しており、両者が混ざ
り合った境界層を形成し、経時が進むにつれてこの境界
層でのシリコーンゴムの硬化が徐々に進み、シリコーン
ゴム層と感光層の界面接着力が経時的に著しく増大する
ことがあった。従って、シリコーンゴム層が感光層の上
層にあるポジ型水なし平版印刷版原版においては、未露
光部のシリコーンゴム層を選択的に除去することが出来
なくなり、現像不良を引き起こすことがあった。また、
ポジ型水なし平版印刷版原版においては焼き出し性を付
与するため塩基性染料を使用していることから、経時的
に染料が退色して感度が暴走してしまうこともあり、こ
れらの現象は版材の保存安定性を損なう原因となってい
る。上記問題を解決するため、特公昭61−615にお
いては感光層に有機酸を添加する方法が公示されてい
る。しかしながら、この方法は低湿度下での保存安定性
のみを考慮しており、高湿度下における保存安定性、す
なわち水との接触を想定した場合の保存安定性は考慮さ
れていない。すなわち、水に対する溶解度が高い酸の場
合、高湿度下において水に溶解し、更に蒸発してしまう
ことから本来の役割を果たさなくなる。従って冬場等の
低湿度下における保存安定性は良好であるが、夏場等の
高湿度下における保存安定性は悪く、ユーザーが満足し
得る十分な保存安定性は得られていない。
の水なし平版印刷版原版の長所を損なうことなく、優れ
た画像再現性とインキ反発性を有すると同時に経時的に
も安定な水なし平版印刷版原版を提供することである。
題点の解決策について鋭意研究を進めた結果、特定の有
機カルボン酸を含有することで上述の欠点がなく、良好
な画像再現性とインキ反発性に優れ、且つ経時的に安定
な水なし平版印刷版原版を得ることを見出し本発明に到
達した。
基板上に感光層およびシリコ−ンゴム層をこの順に設け
てなる水なし平版印刷版原版において、該感光層中に、
20℃の水に対する溶解度が1g以下である有機カルボ
ン酸を0.01〜0.4mg当量/g含有することを特
徴とする水なし平版印刷版原版によって達成される。
刷機に取り付けられるたわみ性と印刷時に加わる荷重に
耐えうるものである必要がある。代表的なものとして
は、アルミ、銅、鉄、などの金属板、ポリエステルフィ
ルムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチックフィ
ルムあるいはコート紙、ゴムシートなどが挙げられる。
また、該基板は上記の素材が複合されたものであっても
よいし、これらの基板上にはハレーション防止、画像の
染色や印刷特性向上のために水なし平版印刷版に好まし
く積層される。
向上などを目的としてプライマー層を設けることができ
る。
0−22903号公報に提案されている種々の感光性ポ
リマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめたも
の、特開平4−322181号公報に提案されているメ
タクリル系含リンモノマを感光層を積層する前に露光し
て硬化せしめたもの、特開平2−7049号公報に提案
されているメタクリル系エポキシ化合物を感光層を積層
する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62−50
760号公報に提案されているエポキシ樹脂を熱硬化せ
しめたもの、特開昭63−133151号公報に提案さ
れているゼラチンを硬膜せしめたもの、特開平1−28
2270号公報や特開平2−21072号公報に提案さ
れているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることが
できる。この他にもカゼインを硬膜させたものも有効で
ある。さらにプライマー層を柔軟化させる目的で、前記
プライマー層にガラス転移温度が室温以下であるポリウ
レタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、カル
ボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニトリ
ル/ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロニトリル
/ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アクリレート
ゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン、などのポリマーを添加してもよい。その添
加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範囲であ
れば、添加剤だけでプライマー層形成してもよい。ま
た、これらのプライマー層には前記の目的に沿って、染
料、pH指示薬、露光焼出し剤、フォトクロ化合物、光
重合開始剤、接着助剤(例えば、重合性モノマ、ジアゾ
樹脂、シランカップリング剤、チタネートカップリング
剤、アルミニウムカップリング剤、ジルコニアカップリ
ング剤、ボロンカップリング剤など)、白色顔料やシリ
カ粒子などの添加剤を含有させることができる。
乾燥重量で0.1〜20g/m2 の範囲が好ましく、1
〜10g/m2 の範囲が更に好ましい。
明する。
現像液に対する溶解性に変化を生じるものであればいか
なるものであっても良いが、該感光層とシリコーンゴム
層間で適度な剥離接着力を保持する感光層が好ましい。
特に剥離接着力が5〜100g/cmとなる感光層が好
ましく、より好ましくは20〜70g/cmとなる感光
層である。剥離接着力が5g/cm未満では、露光後の
水なし平版印刷版原版の耐刷力が不十分となり、100
g/cmをこえると著しく現像性が劣る。ここで感光層
とシリコーンゴム層間の剥離接着力は以下の方法により
測定されるものをいう。
ィルム”ルミラー”(東レ(株)製)に”プライマー
T”(信越化学(株)製)/3−アミノプロピルトリメ
トキシシラン(チッソ(株)製)=9/1(重量比)の
接着剤をコーティングし、120℃で2分間乾燥し、接
着層を形成する。この接着層は後の工程で感光層とシリ
コーンゴム層が剥離するように、感光層とシリコーンゴ
ム層間の剥離接着力よりも大きい接着力を有するよう形
成しなくてはいけない。一方、水なし平版印刷版原版か
ら保護フィルムを剥ぎ、印刷版原版のシリコーンゴム層
と上記接着層とが接するようにラミネートし、5日間室
温で放置する。このようにして得られたサンプルを幅4
cm、長さ20cmに切り取り試験片とする。この試験
片を治具に貼り、テンシロンRTM−100(オリエン
テック(株)製)に取り付け、剥離角度160°、引っ
張り速度20cm/minで平均剥離接着力を測定し、
これを剥離接着力とした。
ワーキング用の感光層としては、主に光硬化性層が用い
られる。光硬化性層としては、光重合性層と光架橋性層
とが挙げられるが、本発明においては光重合性層を用い
ることが好ましい。光重合性層としては以下に示すよう
な組成の光重合性接着層が挙げられる。
具体例を下記に示す。
ては、下記一般式(VI)で表わされるモノマーが挙げ
られる。
換の環式または非環式のアルキレン、置換または無置換
のフェニレン、置換または無置換のアラルキレンから選
ばれる2価の連結基を表わす。X2 は、 -OE1 - 、-S-E
2 - 、 -NH-E3 -、 -CO-O-E4 - 、 -SO2-NH-E5 - で、
E1 、E2 、E3 、E4 、E5 は、上記のX1 、X2 と
同様の2価の連結基を表わす。pは1以上の整数、qは
0または1以上の整数を表わす。R1 、R2 、R3 、R
4 は、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換の
アルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換また
は無置換のアラルキル基、下式(VII)、(VII
I)、(IX)から選ばれる官能基を意味し、同一でも
異なってもよい。ただし化合物(VI)の1分子中に少
なくとも1個以上のエチレン性不飽和基を含む。R5 、
R6 、R7 は、水素原子、炭素数1〜20の置換または
無置換のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、
置換または無置換のアラルキル基、CH2 =CH-基、CH2 =C
CH3 - 基を表わす。Yは-CO-O-、-CO-NH- 、置換または
無置換フェニレン基を表わす。X3 、X4、X5 は上記
X1 、X2 と同様である。m、nは0または1を表わ
す。以上において、置換基としては、炭素数1〜6のア
ルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基等が挙げ
られる。)
リシジル(メタ)アクリレ−ト及び、光重合可能な基を
もたないモノグリシジルエーテル化合物を付加反応させ
たものが好ましく用いられる。
レン性不飽和化合物の他にも、公知のモノマー、オリゴ
マーや、少量のポリジメチルシロキサン、シリコーンレ
ジン、公知の各種変性ポリジメチルシロキサン、ポリエ
ーテル変性ポリジメチルシロキサン、シリコーン(メ
タ)アクリレートなどのシリコーン化合物を添加するこ
とも可能である。公知のモノマー、オリゴマーの具体例
を下記に示す。
ル、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、イソアミルアルコール、ラウリルアルコー
ル、ステアリルアルコール、ブトキシエチルアルコー
ル、エトキシエチレングリコール、メトキシエチレング
リコール、メチキシプロピレングリコールフェノキシエ
タノール、フェノキシジエチレングリコール、テトラヒ
ドロフルフリルアルコールなど)の(メタ)アクリル酸
エステル等。
香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイン
酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸等)と(メタ)アクリ
ル酸グリシジルまたはテトラグリシジル−m−キシリレ
ンジアミンまたはテトラグリシジル−m−テトラヒドロ
キシリレンジアミンとの付加反応物。
ルアミド、n−メチロールアクリルアミド、メチレンビ
スアクリルアミド等)。
付加反応物等を挙げることができる。更に具体的には、
特公昭48−41708号公報、特公昭50−6034
号公報、特開昭51−37193号公報に記載されてい
るウレタンアクリレート、特開昭48−64183号公
報、特公昭49−43191号公報、特公昭52−30
490号公報に記載されているポリエステルアクリレー
ト、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させた多
官能エポキシ(メタ)アクリレート、米国特許4540
649号公報に記載されているN−メチロールアクリル
アミド誘導体などを挙げることができる。更に日本接着
協会誌VOL.20,No.7,p300〜308 に紹介されている光硬化
性モノマー及びオリゴマーも用いることができる。な
お、エチレン性飽和モノマ合成の原料として遊離の酸が
用いられた場合には、その反応混合物が未反応の遊離酸
を有する場合があるが、その場合にはこれを本発明にし
ようする酸の一部または全部として機能せしめることが
できる。
を少なくとも1つ有し、かつアミノ基構造を有しない重
合可能な化合物を用いることも可能である。
00の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
ミル基、カルボキシル基、炭素数2〜100の置換ある
いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
数4〜100の置換あるいは非置換のアリール基、アリ
ールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
R12は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜100の
置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミ
ド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、
カルボキシル基、炭素数2〜100の置換あるいは非置
換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜1
00の置換あるいは非置換のアリール基、アリールオキ
シ基の群から選ばれる少なくとも一種である。L1、及
びL2は連結基である。a及びbは連結基の有無を示
し、0または1であり、同一でも異なっていてもよ
い。) とりわけ、下記一般式下記一般式(V)で示される構造
を少なくとも一つ有し、かつアミノ基構造を有しない重
合可能な化合物を含んでいることが好ましい。
と同じである。L3は連結基であり、エステル結合、ア
ミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結
合、エーテル結合、ネオエーテル結合、置換あるいは非
置換のホウ素原子、置換あるいは非置換の炭素原子、置
換あるいは非置換のリン原子、置換あるいは非置換のケ
イ素原子の群から選ばれる少なくとも一種である。L4
は連結基である。cは連結基の有無を示しており、0ま
たは1である。) 一般式(IV)及び一般式(V)中の連結基は、分子骨
格内にアミノ基が存在しなければ、どのような連結基で
もよい。a、b、cは0または1であることから、場合
によってはこれらの連結基の一部は存在しなくてもよ
い。L1、L2、L3の具体例としては、置換あるいは
非置換のホウ素、酸素原子、ハロゲン原子、アルカリ土
類金属、置換、非置換のアルミニウム原子、置換あるい
は非置換のケイ素原子、置換あるいは非置換のリン原
子、イオウ原子、遷移金属の群から選ばれる少なくとも
一種、あるいはアルキル基、アルケニル基、アリール基
等が、挙げられ、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。またこれらの基はエステル結合、ウレタン結合、ウ
レア結合、アミド結合、カーボネート結合などの各種結
合を持っていてもよい。例えば、エステル結合を含んだ
アルキル基、エステル結合と芳香環を含んだアルキル
基、エーテル結合と芳香環を含んだアルキル基、アミド
結合と芳香環を含んだアルキル基、ウレタン結合と芳香
環を含んだアルキル基などが挙げられるが、これらに限
定されない。より具体的な例を挙げると、例えばエーテ
ル結合を含んだアルキル基としては、エチレンオキシド
鎖やプロピレンオキシド鎖等が挙げられ、エーテル結合
と芳香環を含んだアルキル基としては、フェニレンオキ
シド鎖等が挙げられる。
としては、1,3−ビス(3−メタクリロキシプロピ
ル)−1,1,3,3,−テトラメチルジシロキサン、
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
1−(3−メタクリロキシプロピル)1,1,3,3,
3−ペンタメチルジシロキサン、3−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピ
ルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、α,ω−メタ
クリロキシプロピルポリジメチルシロキサン、ポリ(メ
タクリロキシプロピルメチル−co−ジメチル)シロキ
サン等が挙げられる。また下記ジアミンシリコーン化合
物に光重合可能な基を有するグリシジル(メタ)アクリ
レ−トまたは、(メタ)アクリル酸クロライド及び光重
合可能な基をもたないモノグリシジルエ−テル化合物、
酸クロライド等を付加反応させたものも挙げられる。
ン性不飽和化合物を含有することが好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、光重合性層の場合に
は光重合性のエチレン性不飽和化合物を、光架橋性層の
場合には光架橋性のエチレン性不飽和化合物を用いるこ
とが好ましい。本発明にいう有機シリル基は、大別して
加水分解性の活性シリル基と非加水分解性のシリル基の
二つに分類できる。
分解によりシラノール基などの高反応性基が再生するア
ルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシムシリ
ル基などのシリル基とトリメチルシロキシ基、トリエチ
ルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等のように加水
分解によってアルコール性水酸基が再生するものが挙げ
られる。
メトキシシリル基、トリエトキシシリル基メチルジメト
キシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニルジメ
トキシシリル基、ビニルエトキシシリル基、アリルジメ
トキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、3−メタ
クリロキシプロピルジメトキシシリル基、3−メタクリ
ロキシプロピルジエトキシシリル基、ジメチルメトキシ
シリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニルメトキ
シシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジアニルメト
キシシリル基、ジアニルエトキシシリル基、3−メタク
リロキシプロピルメトキシシリル基、3−メタクリロキ
シプロピルメチルエトキシシリル基等が挙げられる。
は、トリアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリ
ル基、エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセト
キシシリル基、ジエチルアセトキシシリル基等が挙げら
れる。
トリオキシムシリル基、メチルジケトオキシムシリル
基、エチルケトオキシムシリル基等が挙げられる。
るエチレン性不飽和化合物としては、上記の活性シリル
基及び光重合性または光架橋性のエチレン性不飽和基と
が同一分子内に存在すれば、その分子構造にはなんら制
限を受けないが、合成や入手の容易さから下記の様な化
合物が一般的である。
数30以下の多価アルコール、多価酸や酸無水物あるい
は多価アミンから誘導される(メタ)アクリルアミドな
ど、またエポキシエステルやアリルエステル、(メタ)
アクリルアミド等、またエポキシエステルの付加反応物
等のエチレン性不飽和化合物等で、これらを合成する段
階の途中もしくは最後において、上記に定義された有機
シリル基を有する化合物を反応させて同一分子内に有機
シリル基を取り込む方法が一般的である。
しては、クロロシリル化合物、エポキシアルキルシリル
基、アミノアルキルシリル化合物、メルカプトアルキル
シリル化合物、イソシアナートアルキルシリル化合物等
があり、これらのクロロシリル基、エポキシ基、アミノ
基、メルカプト基、イソシアナート基等を利用して反応
させる。
るものではない。
ものに準ずる。具体例としては、ポリビニルアルコー
ル、デンプン、セルロースなどのような水酸基含有ポリ
マのケイ皮酸エステルなどにおいて、水酸基の一部をト
リメトキシクロロシランなどで有機シリル化したものな
どがある。
のシリル基を意味し、アルキルシリル基やアリルシリル
基などが挙げられる。これらの非加水分解性のシリル基
を有するエチレン性不飽和基化合物としては、上記の非
反応性シリル基及び光重合性または光架橋性のエチレン
性不飽和基とが同一分子内に存在すれば、その分子構造
にはなんら制限を受けないが、合成や入手の容易さから
下記の様な化合物が一般的である。下記に具体例を示す
が、これらに限定されない。
にくいことから、有機シリル基を有するエチレン性不飽
和化合物と組み合わせることによって反応を促進し、適
度な感光層とシリコーンゴム層間との接着性を発現させ
る。
て加水分解性の活性シリル基を用いたエチレン性不飽和
化合物を用いることが好ましく、本発明の酸との組み合
わせにより、適度で安定した接着性を発現する。
に示す。各種のベンゾフェノン系化合物、置換チオキサ
ントン系化合物、置換アクリドン系化合物、米国特許2
367660号公報に提案されているビシナールポリケ
タルドニル化合物、米国特許2367661号公報およ
び米国特許2367670号公報に提案されているα−
カルボニル化合物、米国特許2448828号公報に提
案されているアシロインエーテル、米国特許27225
12号公報に提案されているα位が炭化水素で置換され
芳香族アシロイン化合物、米国特許3046127号公
報および米国特許2951758号公報に提案されてい
る多核キノン化合物、米国特許3549367号公報に
提案されているトリアリールイミダゾールダイマー/p
−アミノフェニルケトンの組合わせ、米国特許3870
524号公報に提案されているベンゾチアゾール系化合
物、米国特許4239850号公報に提案されているベ
ンゾチアゾール/トリハロメチル−s−トリアジン系化
合物、米国特許3751259号公報に提案されている
アクリジンおよびフェナジン化合物、米国特許4219
70号公報に提案されているオキサジアゾール化合物、
米国特許3954475号公報、米国特許418932
3号公報、特開昭53−133428号公報、特開昭6
0−105667号公報、特開昭62−58241号公
報、特開昭63−153542号公報に提案されている
発色団基を有するトリハロメチル−s−トリアジン系化
合物、特開昭59−197401号公報、特開昭60−
76503号公報に提案されているベンゾフェノン基含
有ペルオキシエステル化合物などを挙げることができ
る。特に本発明において好ましく用いられる光重合開始
剤としては、ミヒラーケトンに代表されるベンゾフェノ
ン系化合物、2,4−ジエチルチオキサントンに代表さ
れる置換チオキサントン系化合物の組合わせがある。ま
た更にN−アルキルアクリドンに代表される置換アクリ
ドン系化合物を組合わせることが感度および画像再現性
特にハイライト再現性向上の観点から好ましい。また本
発明に用いられる感光層には、染料や顔料、pH指示
薬、ロイコ染料、界面活性剤、重合禁止剤、光酸発生剤
などの各種添加剤を加えることも可能である。
いて説明する。
℃の水に対する溶解度が1g以下であることが特徴的で
あり、溶解度が1gをこえると本発明の効果が得られな
い。好ましくは、0.7g以下、より好ましくは0.1
g以下である。
光層中の塩基性染料の退色を防止すると共に、アミンモ
ノマー、非アミンモノマーの経時変化による重合を制御
抑制する。また、有機シリル基を有するエチレン性不飽
和化合物と組み合わせることで、これらの反応を促進さ
せ、適度な感光層とシリコーンゴム層との接着力を発現
させる。更に従来の、水に対する溶解度の高い酸と比べ
て、本発明の酸は水分の影響を受けにくいことから、長
時間において上記効果を得ることができる。
水に対する溶解度が1g以下である遊離のカルボキシル
基を有する飽和または不飽和の脂肪酸または芳香族の一
価または多価カルボン酸が挙げられる。
は、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン
酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレ
イン酸、リノール酸、リノレイン酸、シクロヘキサンカ
ルボン酸等の脂肪族モノカルボン酸、フマル酸等の脂肪
族ジカルボン酸、オルトフタルアルデヒド酸、フタルア
ミド酸、タンニン酸、o−トロイル酸、m−トロイル
酸、p−トロイル酸、安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、o−ブロモ安息香酸、m−ブロモ安息香酸、p−ブ
ロモ安息香酸、o−ニトロ安息香酸、m−ニトロ安息香
酸、p−ニトロ安息香酸、アントラニル酸、m−アミノ
安息香酸、p−アミノ安息香酸、o−メトキシ安息香
酸、m−メトキシ安息香酸、p−メトキシ安息香酸サリ
チル酸等の芳香族モノカルボン酸、o−フタル酸、m−
フタル酸、p−フタル酸等の芳香族ジカルボン酸などが
挙げられる。
効であり、特に芳香族ジカルボン酸類が有効である。
組成物中の酸濃度が0.01〜1ミリグラム当量/gに
なるように単独、もしくは混合して添加することができ
る。酸濃度の下限については、より好ましくは0.02
ミリグラム当量/g以上、さらに好ましくは0.06ミ
リグラム当量/g以上であり、上限については、より好
ましくは0.4ミリグラム当量/g以下、さらに好まし
くは0.12ミリグラム当量/g以下、さらに好ましく
は0.1ミリグラム当量/g以下である。酸濃度が0.
01ミリグラム当量/g未満だと保存安定性に対する効
果が薄く、1.0ミリグラム当量/gをこえると光重合
を阻害してしまう。
を制御する点から、感光層にジブチル錫ジアセテート、
ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエートな
どに代表される公知の有機金属触媒などを微量添加する
ことも可能である。重合禁止剤としては、例えばハイド
ロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチルク
レゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4,4´−チオビス(3−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2,2´−メチレンビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベ
ンゾイミダゾール、フェノチアジン、テンポール等が有
用である。また感光層組成物の塗工性を向上させる目的
から、フッ素系界面活性剤を添加することも好ましい。
あるいは無機粉末)の具体例を下記に示す。(メタ)ア
クリル酸系化合物共重合体、クロトン酸化合物共重合
体、マレイン酸系化合物共重合体、ロジン変性等の部分
エステル化マレイン酸系化合物共重合体、酸性セルロー
ス誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサ
イド、アルコール可溶性ナイロン、ポリエステル樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリスチレ
ン、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリ塩化ビニル、ポリビ
ニルアルコール、部分アセタール化ポリビニルアルコー
ル、水溶性ナイロン、水溶性ウレタン、ゼラチン、水溶
性セルロース誘導体等を単体もしくは二種類以上混合し
て用いることが可能である。更に側鎖に光重合可能また
は光架橋可能なオレフィン性不飽和二重結合基を有する
高分子化合物も単体もしくは上記のポリマに加えて二種
類以上混合して用いることが可能である。具体的には、
特開昭59−53836号公報に提案されているアリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマ共重合体、及びそ
のアルカリ金属塩またはアミン塩、特公昭59−459
79号公報に提案されているヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート/ (メタ)アクリル酸/アルキル(メ
タ)アクリレート共重合体、及びそのアルカリ金属塩ま
たはアミン塩に(メタ)アクリル酸クロライドを反応さ
せたもの、特開昭59−71048号公報に提案されて
いる無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリトールト
リアクリレートをハーフエステル化で付加させたもの、
及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、スチレン/無
水マレイン酸共重合体にモノヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレー及びまたはポリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート及びまたはポリプロピレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレートをハーフエステル化で付
加させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはアミン
塩、(メタ)アクリル酸共重合体やクロトン酸共重合体
のカルボン酸の一部にグリシジル(メタ)アクリレート
を反応させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはアミ
ン塩、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート共重合
体、ポリビニルホルマール及びまたはポリビニルブチラ
ールに無水マレイン酸や無水イタコン酸を反応させたも
の、及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ヒドロキ
シアルキル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸
共重合体に2,4−トリレンジイソシアネート/ヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレート=1:1付加反応物
をさらに反応させたもの、及びそのアルカリ金属塩また
はアミン塩、特開昭59−53836号公報に提案され
ている(メタ)アクリル酸共重合体の一部をアリルグリ
シジルエーテルで反応させたもの及びそのアルカリ金属
塩またはアミン塩、(メタ)アリルアクリレート/スチ
レンスルホン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アクリル
酸ビニル/スチレンスルフォン酸ナトリウム共重合体、
(メタ)アリルアクリレート/アクリルアミド/1,1
−ジメチルエチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、
(メタ)アクリル酸ビニル/アクリルアミド/1,1−
ジメチルエチレンンスルフォン酸ナトリウム共重合体、
2−アリロキシエチル(メタ)アクリレート/メタクリ
ル酸共重合体、2−アリロキシエチル(メタ)アクリレ
ート/2−メタクリロキシエチル水素サクシネート共重
合体等を挙げることができる。
ては次の縮合架橋型、付加架橋型のような構成のも
のが挙げられるが、これらに限定されない。
オルガノシロキサンを縮合することから得られるシリコ
ーンゴム層であり、本発明で言うポリオルガノシロキサ
ンとは、下記の一般式(1)で示される線状ポリオルガ
ノシロキサンを意味する。また、本発明に言うシリコ−
ンガム組成物とは、該ポリオルガノシロキサンを適当な
溶媒に溶かして溶液としたのち、架橋剤や触媒などとと
もに混合した未硬化(未ゴム化)の溶液組成物を意味
し、一方、シリコ−ンゴムとは該シリコ−ンガム組成物
を適当な硬化条件の下で架橋反応させ、ゴム化した硬化
生成物を意味する。
〜10のアルキル基、アルコキシ基、アミノアルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数2
〜10のカルボキシアルキル基、シアノアルキル基また
は炭素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、
アリロキシ基、アラルキル基、または水素原子、水酸基
の内から選ばれる基であり、同一であっても異なっても
よい。また、鎖末端もしくは側鎖のかたちで分子鎖中に
少なくとも一つ以上の水酸基を有する。) 縮合反応架橋性シリコ−ンガム組成物としては、上記の
一般式(X)で示される線状ポリオルガノシロキサンの
有機溶剤溶液に、架橋剤および必要に応じて触媒が添加
された、いわゆる室温(低温)湿気硬化型の形態をと
る。該シリコーンガム組成物を構成する上で用いられる
縮合反応架橋剤としては、下記の一般式(2)で示され
るような、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン等が好ま
しく用いられ、通常、分子鎖中に少なくとも一つ以上の
水酸基を有する線状ポリオルガノシロキサンと反応し
て、それぞれ脱酢酸、脱オキシム、脱アルコール、脱ア
ミン、脱アミドなどの形式で縮合反応で架橋する架橋剤
が、単一または混合された形、もしくは縮合体の形で用
いられる。特に本発明においては、アセトキシシラン、
ケトオキシムシラン、アルコキシシラン等が好ましく用
いられる。
足する整数を意味する。Rは置換もしくは非置換の炭素
数1〜20のアルキル基、アミノアルキル基、アミノア
ルキレンアミノアルキル基、アミノアルキレンアミノメ
チルフェネチル基、置換もしくは非置換の炭素数6〜2
0のアリール基を示し、Xは−OR1 、−OCOR2 、
−O−N=CR3 −R4 、−O−C=CR5 H であ
る。R1 〜R5 は炭素数1〜4の置換もしくは非置換の
アルキル基を意味する) 縮合反応架橋剤の単体もしくはその縮合物の具体例とし
ては、次のようなものがある。 テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジエチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、テトラアセトキシ
シラン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセ
トキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、N−(βアミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−
(βアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−クロロプロピルトリエトキシシラン、N−(βアミノ
エチル)アミノメチルフェネチルトリメトキシシラン、
N−(βアミノエチル)アミノメチルフェネチルトリエ
トキシシラン、トリス(メチルエチルケトオキシム)メ
チルシラン、トリス(メチルエチルケトオキシム)エチ
ルシラン、トリス(メチルエチルケトオキシム)ビニル
シラン、テトラキス(メチルエチルケトオキシム)シラ
ン等。
ン化合物、有機アルミニウム化合物、有機鉛化合物、有
機硼素化合物、有機ジルコニウム化合物群から選ばれる
化合物等を用いることができる。特に有機錫化合物、有
機チタン化合物、有機アルミニウム化合物の群から選ば
れる化合物は縮合触媒効果を効率良く発現する上で好ま
しく、更に好ましくは有機錫化合物の群から選ばれる化
合物である。有機錫化合物の具体例としては次のような
ものが挙げられる。
式]を表わす。
n]、アリルトリメチル錫[C6 H14Sn]、アリルト
リフェニル錫[C21H20Sn]、ビス(2−エチルヘキ
サノエート)錫[C16H30O4 Sn]、ビス(2,4−
ペンタンジオネート)ジクロロ錫[C10H14O4 Cl2
Sn]、ビス(トリフェニル錫)オキサイド[C36H30
OSn2 ]、ビス(トリフェニル錫)サルファイド[C
36H30SSn2 ]、ポリ(n−ブチル錫ヒドキサイド)
オキサイド [(C4 H10O2 Sn)n ]、n−ブチル
トリクロロ錫[C4 H9 Cl3 Sn]、n−ブチルトリ
ス(2−エチルヘキサノエート)錫[C28H54O6 S
n]、シクロペンタジエニルトリ−n−ブチル錫[C17
H32Sn]、1,3−ジアセトキシ−1,1,3,3−
テトラブチル錫オキサイド[C20H42O5 Sn2 ]、酢
酸錫(II)[C4 H6 O4 Sn]、ジ−n−ブチル錫ジ
ラウリルメルカプタイド[C32H68S2 Sn]、ジ−n
−ブチル錫ジオクトエート[C28H48O4 Sn]、ジ−
n−ブチルビス(2,4−ペンタンジオネート)錫[C
18H32O4 Sn]、ジ−n−ブチル錫ジアセテート[C
12H24O4 Sn]、ジ−n−ブチルジクロロ錫[C8 H
18Cl2 Sn]、ジ−t−ブチルジクロロ錫[C8 H18
Cl2 Sn]、ジ−n−ブチルジフルオロ錫[C8 H18
F2 Sn]、ジ−n−ブチルジラウリル錫[C32H64O
4 Sn]、ジ−n−ブチルジメトキシ錫[C10H24O2
Sn]、ポリ(ジ−n−ブチル(アレエート)錫)
[(C12H20O4 Sn)n ]、ジ−n−ブチル−S,S
´−ビス(イソオクチルメルカプトアセテート)錫[C
28H56O4 S2 Sn]、ポリ(ジ−n−ブチル錫オキサ
イド)[(C8 H18OSn)n ]、ポリ(ジ−n−ブチ
ル錫サルファイド)[(C8 H18SSn)n ]、ジメチ
ルアミノトリ−n−ブチル錫[C14H33NSn]、ジメ
チル−S,S´−ビス(イソオクチルメルカプトアセテ
ート)錫[C22H44O4 S2 Sn]、ジメチルジクロロ
錫[C2 H6 Cl2 Sn]、ジメチルジネオデカノエー
ト錫[C22H44O4 Sn]、ジメチルヒドロキシ(オレ
エート)錫[C20H40O3 Sn]、ジオクチルクロロ錫
[C16H34Cl2 Sn]、ジオクチル錫ジラウレート
[C40H80O4 Sn]、ポリ(ジオクチル錫オキサイ
ド)[(C16H34OSn)n ]、ジフェニルジクロロ錫
[C12H10Cl2Sn]、エチニルトリ−n−ブチル錫
[C14H28Sn]、ヘキサ−n−ブチルジ錫[C24H54
Sn2 ]、ヘキサメチルジ錫[C6 H18Sn2 ]、メタ
クリルオキシトリ−n−ブチル錫[C17H32O2 S
n]、メチルトリクロロ錫[CH3 Cl3 Sn]、オク
チルトリクロロ錫[C8 H17Cl3 Sn]、フェニルト
リ−n−ブチル錫[C18H32Sn]、フェニルトリクロ
ロ錫[C6 H5 Cl3 Sn]、ナトリウム錫エトキサイ
ド[C18H45O9 NaSn2 ]、テトラアリル錫[C12
H20Sn]、テトラ−t−ブトキシ錫[C16H36O4 S
n]、テトラ−n−ブチル錫[C16H36Sn]、テトラ
エチル錫[C8 H20Sn]、テトライソプロピル錫[C
12H28Sn]、テトラメチル錫[C4 H12Sn]、テト
ラ−n−オクチル錫[C32H68Sn]、テトラフェニル
錫[C24H20Sn]、錫(II)エトキサイド[C4 H10
O2 Sn]、錫(II)メトキサイド[C2 H6 O2 S
n]、シュウ酸錫(II) [C2 O4 Sn]、錫(II)
2,4−ペンタンジオネート[C10H14O4 Sn]、ト
リ−n−ブチルアセトキシ錫[C14H30O2 Sn]、ト
リ−n−ブチルベンゾイルオキシ錫[C19H32O2 S
n]、トリ−n−ブチルブロモ錫[C12H27BrS
n]、トリ−n−ブチルクロロ錫[C12H27ClS
n]、トリ−n−ブチルエトキシ錫[C14H32OS
n]、トリ−n−ブチルフルオロ錫[C12H27FS
n]、トリ−n−ブチルヨウド錫[C12H27ISn]、
トリ−n−ブチルメトキソ錫 [C13H30OSn]、ト
リ−n−ブチル錫ハライド[C12H28Sn]、トリ−n
−ブチル(トリフルオロメタンスルフォネート)錫[C
13H27F3 O3 SSn]、トリエチルブロモ錫[C6 H
15BrSn]、(トリイソプロポキシチタノキシ)トリ
−n−ブチル錫[C21H48O4 TiSn]、トリメチル
クロロ錫[C3 H9 ClSn]、トリメチルシリルトリ
−n−ブチル錫[C15H36SiSn]、トリフェニルア
セトキシ錫[C20H18O2 Sn]、トリフェニルクロロ
錫[C18H15ClSn]、トリフェニルフルオロ錫[C
18H15FSn]、トリフェニルヒドキシ錫[C18H16O
Sn]、トリフェニル錫ハライド[C18H16Sn]、ビ
ニルトリ−n−ブチル錫[C14H30Sn]、アクリルオ
キシドトリ−n−ブチル錫[C15H30O2 Sn]、アク
リルオキシドトリフェニル錫[C21H18O2 Sn]、ジ
アリルジブロモ錫[C6 H10Br2 Sn]、ジアリルジ
−n−ブチル錫[C14H28Sn]、ジ−n−ブチルビス
(2−エチルヘキシルマレエート)錫[C32H56O8 S
n]、ジ−n−ブチルビス(メチルマレエート)錫[C
18H28O8 Sn]、ジ−n−ブチルアクリル酸錫[C14
H24O4 Sn]、ジ−n−ブチルメタクリル酸錫[C16
H28O4 Sn]、ポリ(ジオクチル(マレエート)錫)
[(C20H36O4 Sn)n ]、ジビニルジ−n−ブチル
錫[C12H24Sn]、1−エトキシビニルトリ−n−ブ
チル錫[C16H34OSn]、テトラビニル錫[C8 H12
Sn]等。
されないが、ポリオルガノシロキサン100重量部に対
して上記の縮合反応架橋剤を3〜20重量部、縮合触媒
を0.001〜0.05重量部加えた組成が好ましい。
不飽和基、例えばビニル基に架橋剤中の水酸基が付加し
て架橋することから得られるシリコーンゴム層で、具体
的には、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンと水素化
ポリオルガノシロキサンとの組み合わせ等に白金系触
媒、例えば塩化白金等を混合させたものが挙げられる。
反撥性層を適度に補強する目的で、公知のフィラーや無
機粒子、ケイ酸ゾルなどを添加したり、架橋性官能基を
有さない公知の変性シリコーンオイルを少量添加するこ
とも可能である。これらのシリコーンガム組成物を希
釈、溶解する溶媒としては、パラフィン系炭化水素、イ
ソパラフィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素
および芳香族炭化水素が単一または混合された形で用い
られる。これらの炭化水素系溶媒の代表的なものとして
は、石油の分留品およびその改質品などがある。本発明
のインキ反撥性層として用いられるシリコーンゴム層の
膜厚は耐刷性およびインキ反撥性を保ち、かつ良好な画
像再現性を維持する点から、乾燥重量で、0.5〜10
g/m2 の範囲が好ましく、1〜3g/m2 の範囲が更
に好ましい。
のインキ反発性層の表面には、該インキ反発性層を保護
する目的で適当な保護層をコーティングにより該インキ
反発性層上に形成したり、保護フィルムをラミネートす
ることも可能である。また、該保護層中には感光層を曝
光(露光光源以外の光で、本来非照射部分に光が照射さ
れることを意味する)から保護する目的で、光退色性物
質を含有させることもできる。保護フィルムの具体例と
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリ
エチレンテレフタレート、セロファンなどが挙げられ
る。また、これらの保護フィルムは画像露光時の焼枠に
おける真空密着性を改良するために、表面をマット処理
したり、シリカ粒子などを含むプラスチック層を上記保
護フィルムの表面に塗布積層することも好ましく行なわ
れる。
造方法について説明する。基板上にリバースロールコー
ター、エアーナイフコーター、メーヤバーコーター等の
通常のコータ、あるいはホエラーのような回転塗布装置
を用い、必要に応じてプライマ層組成物を塗布し100
〜300℃数分間硬化した後、感光層組成物塗液を塗
布、50〜150℃で数分間乾燥および必要に応じて熱
キュアし、その上にシリコーンガム組成物を塗布し、5
0〜150℃で数分間熱処理してゴム硬化させて形成す
る。しかる後に、必要に応じて保護フィルムをラミネー
トする。
現像工程について説明する。本発明で言う水なし平版印
刷版は、該版材は真空密着されたポジフィルムまたはネ
ガフィルムを通じて、通常の露光光源により画像露光す
る。この露光工程で用いられる光源としては、例えば高
圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハラ
イド灯、蛍光灯などが挙げられる。このような通常の露
光を行なった後、版面を下記に説明する現像液を含んだ
現像パッドやブラシでこすると、ポジティブワーキング
用の場合、未露光部のシリコーンゴム層が除去されて感
光層が露出し、インキ受容部(画線部)が露出しポジ刷
版となる。ネガティブワーイング用の場合、露光部のシ
リコーンゴム層が除去されて感光層が露出し、インキ受
容部(画線部)が露出しネガ刷版となる。
のものが使用でき、感光層を適当に溶解もしくは膨潤さ
せるものが好ましい。例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキ
サン、ヘプタン、「アイソパーE、H、G」(ESSO
製イソパラフィン系炭化水素の商品名)、ガソリン、灯
油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン
等)、ハロゲン化炭化水素類(トリクレン等)などの少
なくとも1種類以上の混合溶媒に下記の極性溶媒を少な
くとも1種類添加したものが好ましく用いられる。
プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、1、3−ブチレングリコール、2、3−ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、2−エチル−1、3
−ヘキサンジオール等) エーテル類(エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコール、モノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−
2−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコール
モノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリールモノメチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコール等) エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアエテート等) カルボン酸(2−エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、2−エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸等) また、上記の有機溶剤系現像液組成には水を添加した
り、公知の界面活性剤を添加することも自由に行なわれ
る。また、更にアルカリ剤、例えば炭酸ナトリウム、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸
化カリウム、ホウ酸ナトリウム等を添加することもでき
る。
レット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッド
等の公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加し
て現像と同時に画像部の染色化を行なうことができる。
版を現像する際には、例えば東レ(株) にて市販されて
いるような自動現像機を用い、上記の現像液で版面を前
処理した後に水道水などでシャワーしながら回転ブラシ
で版面を擦ることによって、好適に現像することができ
る。また、上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版面
に噴霧することによっても現像が可能である。
するが、本発明はこれらに限定されない。
1に示す。
友軽金属(株)製)に下記組成よりなるプライマ−液を
塗布した後230℃、1分間加熱乾燥し、厚さ3g/m
2 のプライマ−層を設けた。
性感光液を塗布した後100℃、1分間加熱乾燥し、厚
さ4g/m2 の塗膜を設けた。
るように、上記感光組成に表2に示す有機カルボン酸を
添加した。
るシリコ−ンゴム液を塗布した後120℃、2分間加熱
乾燥し、厚さ2g/m2 シリコ−ンゴム層を設けた。
化二軸延伸ポリプロピレンフィルムをマット化されてい
ない面がシリコーンゴム層と接するようにしてカレンダ
ーローラーを用いてラミネ−トして、保護フィルムとし
ポジ型の水なし平版印刷版原版を得た。この印刷版原板
を作製した後、60℃、RH80%の雰囲気下で4週
間、強制保存したものを経時後の平版印刷版原版とし、
作成後室温保存1年経過後の版に関しても経時後の平版
印刷版現版とした。これらの水なし平版印刷版原版を3
Kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)を用い、150
線/インチで2%から98%の網点を有するグラデーシ
ョンポジフィルムと光学濃度差0.15であるグレース
ケール(G/S)を90秒間密着露光後、版から保護フ
ィルムを剥離し、自動現像機(TWL−1160、東レ
(株)製)で搬送速度60cm/minで現像を行い刷
版とした。このようにして得られた刷版をオフセット印
刷機 (小森スプリント4色機)に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業(株)製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、
黄インキを用いて上質紙(62.5Kg/菊)にて印刷し、印
刷物の画像を目視評価した。結果は表2に示す。
た他は実施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を
作成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行っ
た。また実施例1と同様に強制保存後の版及び室温保存
1年後の版についても画像評価を行った。結果は表2に
示す。
0:50に混合した他は実施例1と同様の方法で水なし
平版印刷版原版を作成し、同様の方法で露光、現像して
画像評価を行った。また実施例1と同様に強制保存後の
版及び室温保存1年後の版についても画像評価を行っ
た。結果は表2に示す。
更しシリコーンゴム層を形成した他は実施例1と同様の
方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同様の方法で露
光、現像して画像評価を行った。また実施例1と同様に
強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても画像
評価を行った。結果は表2に示す。
ゴム液を塗布した後135℃、2分間加熱乾燥し、厚さ
2g/m2 シリコ−ンゴム層を設けた。
ピルトリメトキシシランを5部添加した他は実施例1と
同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同様の方
法で露光、現像して画像評価を行った。また実施例1と
同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版について
も画像評価を行った。結果は表2に示す。
g,水酸化ナトリウム40.0g、水200.0gとを
混合し、メカニカルスタラーで撹拌しながら、加熱環流
温度で14時間反応させた。反応後、減圧乾燥により水
分除去し、生成物である粘性液体と塩化ナトリウムを得
た。減圧濾過により塩化ナトリウムを除去し多官能エポ
キシ化合物を得た。この多官能エポキシ化合物90.0
gにアクリル酸79.5g、トリエチルベンジルアンモ
ニウムクロリド2.3g、ジオキサン200mlを混合
し、メカニカルスタラーで撹拌しながら70℃で6時間
反応させた。反応後、水600mlとジエチルエーテル
600mlとを加えて分液した後、有機層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濾過により硫酸ナトリウムを除去し
た。その後減圧乾燥にてジエチルエーテル及びジオキサ
ンを除去し、下記一般式(XII)を得た。この化合物
は一般式(IV)、及び一般式(V)で示される構造を
有し、かつアミノ基構造を有しない重合可能な化合物で
ある。
層を形成した他は実施例1と同様の方法で水なし平版印
刷版原版を作成し、同様の方法で露光、現像して画像評
価を行った。また実施例1と同様に強制保存後の版及び
室温保存1年後の版についても画像評価を行った。結果
は表4に示す。
重合性感光液を塗布した後100℃、1分間加熱乾燥
し、厚さ4g/m2 の塗膜を設けた。
るように、上記感光組成に表4に示す有機カルボン酸を
添加した。
1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同様
の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同様に
強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても画像
評価を行った。結果は表2に示す。
た他は実施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を
作成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行っ
た。また同様に強制保存した版及び室温保存1年後の版
の版についても画像評価を行った。結果は表2に示す。
した他は実施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版
を作成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行っ
た。また同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版
についても画像評価を行った。結果は表2に示す。
1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同様
の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同様に
強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても画像
評価を行った。結果は表2に示す。
した他は実施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版
を作成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行っ
た。また同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版
についても画像評価を行った。結果は表2に示す。
対する溶解度が1g以下である有機カルボン酸あるいは
有機ジカルボン酸を含有している版は、酸成分が水分の
影響を受けないため、強制保存4週間でも、また室温で
1年間保存した場合でも初期と変わらないGS感度及び
画像特性を示す(実施例1〜6)。
用いた場合においても強制保存4週間、室温で1年間保
存した場合でも初期と変わらないGS感度及び画像特性
を示し、実施例1と同様な効果が得られた(実施例
7)。
性不飽和化合物を含有した場合、反応を促進し、感光層
とシリコーンゴム層の適度な接着性を発現する。実施例
1と同様に良好な効果が得られた(実施例8)。また感
光層のモノマーを変更した場合においても良好な結果が
得られた(実施例9)。
は、強制保存4週間及び室温で1年間保存した場合、初
期と同等のGS感度、画像特性は得られず、極めて劣る
印刷版であった(比較例1)。また、感光層中に20℃
の水に対する溶解度が1g以上である有機カルボン酸あ
るいは有機ジカルボン酸を含有している版は(比較例2
〜9)、経時により酸成分が水分の影響を受けることか
ら、酸成分本来の役割を果たしておらず、実施例のもの
に比べ劣る。
においても実施例のもの比較して劣る結果が得られた
(比較例11、12)。
ル基を有するエチレン性の不飽和化合物と組み合わせた
場合、反応を促進せず、適度な接着性も発現しない。従
って、経時変化により極めて劣る版が得られた(比較例
10)。
グラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実
施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、
同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同
様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても
画像評価を行った。結果は表3に示す。
グラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実
施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、
同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同
様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても
画像評価を行った。結果は表3に示す。
グラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実
施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、
同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同
様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても
画像評価を行った。結果は表3に示す。
ラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実施
例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同
様の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同様
に強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても画
像評価を行った。結果は表3に示す。
リグラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は
実施例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成
し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。ま
た同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版につい
ても画像評価を行った。結果は表3に示す。
ラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実施
例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同
様の方法で露光、現像して画像評価を行った。また実施
例1と同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版に
ついても画像評価を行った。結果は表3に示す。
1ミリグラム当量/gから1.0ミリグラム当量/gに
変化させても保存安定性に及ぼす効果はほぼ同等であ
り、GS感度及び画像再現性も良好である(実施例10
〜13)。しかし、酸濃度が0.01ミリグラム当量/
g以下だと保存安定性に及ぼす効果は薄く(比較例1
3)、酸濃度が1ミリグラム当量/g以上だと保存安定
性は良好であるが、光重合を阻害することからGS感
度、画像再現性が実施例に比べ劣っていることがわかる
(比較例14)。
層を形成した他は実施例1と同様の方法で水なし平版印
刷版原版を作成し、同様の方法で露光、現像して画像評
価を行った。また実施例1と同様に強制保存後の版及び
室温保存1年後の版についても画像評価を行った。結果
は表4に示す。
重合性感光液を塗布した後100℃、1分間加熱乾燥
し、厚さ4g/m2 の塗膜を設けた。
るように、上記感光組成に表4に示す有機カルボン酸を
添加した。
した他は実施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原
版を作成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行
った。また同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の
版についても画像評価を行った。結果は表4に示す。
50:50に混合した他は実施例13と同様の方法で水
なし平版印刷版原版を作成し、同様の方法で露光、現像
して画像評価を行った。また実施例13と同様に強制保
存後の版及び室温保存1年後の版についても画像評価を
行った。結果は表4に示す。
変更しシリコーンゴム層を形成した他は実施例13と同
様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同様の方法
で露光、現像して画像評価を行った。また同様に強制保
存後の版及び室温保存1年後の版についても画像評価を
行った。結果は表4に示す。
ゴム液を塗布した後135℃、2分間加熱乾燥し、厚さ
2g/m2 シリコ−ンゴム層を設けた。
ロピルトリメトキシシランを5部添加した他は実施例1
4と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、同様
の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同様に
強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても画像
評価を行った。結果は表4に示す。
例14と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し、
同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。また同
様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版についても
画像評価を行った。結果は表4に示す。
した他は実施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原
版を作成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行
った。また同様に強制保存した版及び室温保存1年後の
版の版についても画像評価を行った。結果は表4に示
す。
更した他は実施例21と同様の方法で水なし平版印刷版
原版を作成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を
行った。また同様に強制保存後の版及び室温保存1年後
の版についても画像評価を行った。結果は表4に示す。
比較すると保存安定性における効果は若干劣るが、感光
層を変更した場合においても、本発明の酸を含有してい
る版は保存安定性が良好であることがわかる(実施例1
4〜21)。また、付加架橋反応型シリコーンゴム層を
用いても上記効果が認められ(実施例20)、感光層中
に有機シリル基を有するエチレン性不飽和化合物を含有
した場合においても良好な結果が得られた(実施例2
1)。
加しない場合や、水に対する溶解度が1g以上の有機カ
ルボン酸を用いた場合、保存安定性を向上させる効果は
なく、実施例に比べ極めて劣る結果が得られた(比較例
15〜23)。
溶解度が1g以上の酸は、有機シリル基を有するエチレ
ン性の不飽和化合物と組み合わせた場合、反応を促進せ
ず、適度な接着性も発現しない。従って、経時変化によ
り極めて劣る版が得られた(比較例24)。
リグラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は
実施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成
し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。ま
た同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版につい
ても画像評価を行った。結果は表5に示す。
グラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実
施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成
し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。ま
た同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版につい
ても画像評価を行った。結果は表5に示す。
リグラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は
実施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成
し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。ま
た同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版につい
ても画像評価を行った。結果は表5に示す。
グラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実
施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成
し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。ま
た同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版につい
ても画像評価を行った。結果は表5に示す。
ミリグラム当量/gになるように酸添加量を変更した他
は実施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作
成し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。
また同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版につ
いても画像評価を行った。結果は表5に示す。
グラム当量/gになるように酸添加量を変更した他は実
施例14と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成
し、同様の方法で露光、現像して画像評価を行った。ま
た同様に強制保存後の版及び室温保存1年後の版につい
ても画像評価を行った。結果は表5に示す。
リグラム当量/gから1.0ミリグラム当量/gに変化
させてた場合、保存安定性に及ぼす効果は特定のモノマ
ーを含む場合と比較して若干劣るものの、ほぼ同等であ
り、GS感度及び画像再現性も良好であることがわかる
(実施例22〜25)。すなわち、感光層に特定のモノ
マーを含む場合(実施例10〜13)と同様な傾向を示
す。
1ミリグラム当量/g以下だと保存安定性に及ぼす効果
は薄く(比較例25)、酸濃度が1ミリグラム当量/g
以上だと保存安定性は良好であるが光重合を阻害すると
いった傾向は改善されない。従ってGS感度、画像再現
性が実施例に比べ劣っていることがわかる(比較例2
6)。
版原版の長所を損なうことなく優れた画像再現性とイン
キ反発性を有すると同時に経時的にも安定な水なし平版
印刷版原版を提供することができる。
Claims (8)
- 【請求項1】 基板上に感光層およびシリコ−ンゴム層
をこの順に設けてなる水なし平版印刷版原版において、
該感光層中に、20℃の水に対する溶解度が1g以下で
ある有機カルボン酸を0.01〜1mg当量/g含有す
ることを特徴とする水なし平版印刷版原版。 - 【請求項2】 該感光層に有機シリル基を有するエチレ
ン性不飽和化合物を含有することを特徴とする請求項1
記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項3】 該感光層が下記一般式(VI)で表され
る化合物を含有することを特徴とする請求項1記載の水
なし平版印刷版原版 R1 R2 N−(X1 )p −(X2 )q −NR3 R4 (VI) (式中X1 、X2 は、炭素数1〜20の置換または無置
換の環式または非環式のアルキレン、置換または無置換
のフェニレン、置換または無置換のアラルキレンから選
ばれる2価の連結基を表わす。X2 は、 -OE1 - 、-S-E
2 - 、 -NH-E3 -、 -CO-O-E4 - 、 -SO2-NH-E5 - で、
E1 、E2 、E3 、E4 、E5 は、上記のX1 、X2 と
同様の2価の連結基を表わす。pは1以上の整数、qは
0または1以上の整数を表わす。R1 、R2 、R3 、R
4 は、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換の
アルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換また
は無置換のアラルキル基、下式(VII)、(VII
I)、(IX)から選ばれる官能基を意味し、同一でも
異なってもよい。ただし化合物(VI)の1分子中に少
なくとも1個以上のエチレン性不飽和基を含む。R5 、
R6 、R7 は、水素原子、炭素数1〜20の置換または
無置換のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、
置換または無置換のアラルキル基、CH2 =CH-基、CH2 =C
CH3 - 基を表わす。Yは-CO-O-、-CO-NH- 、置換または
無置換フェニレン基を表わす。X3 、X4、X5 は上記
X1 、X2 と同様である。m、nは0または1を表わ
す。) 【化1】 - 【請求項4】 該感光層がバインダポリマを含んだ光重
合型感光層であり、下記一般式(IV)で示される構造
を少なくとも1つ有し、かつアミノ基構造を有しない重
合可能な化合物を含んでおり、更に該重合可能な化合物
が感光層中の重合可能成分の内60重量%を越えている
ことを特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷版原
版。 【化2】 (式中R11は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜1
00の置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ
基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホル
ミル基、カルボキシル基、炭素数2〜100の置換ある
いは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素
数4〜100の置換あるいは非置換のアリール基、アリ
ールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一種である。
R12は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜100の
置換あるいは非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミ
ド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、
カルボキシル基、炭素数2〜100の置換あるいは非置
換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜1
00の置換あるいは非置換のアリール基、アリールオキ
シ基の群から選ばれる少なくとも一種である。L1、及
びL2は連結基である。a及びbは連結基の有無を示
し、0または1であり、同一でも異なっていてもよ
い。) - 【請求項5】 該重合可能な化合物が感光層中の重合可
能成分の内30重量%を越えていることを特徴とする請
求項4記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項6】 該重合可能な化合物が、下記一般式
(V)で示される構造を少なくとも1つ有しかつアミノ
基構造を有しない重合可能な化合物であることを特徴と
する請求項4記載の水なし平版印刷版原版。 【化3】 (式中、R11、R12、L2及びbは一般式(IV)
と同じである。L3は連結基であり、エステル結合、ア
ミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結
合、エーテル結合、ネオエーテル結合、置換あるいは非
置換のホウ素原子、置換あるいは非置換の炭素原子、置
換あるいは非置換のリン原子、置換あるいは非置換のケ
イ素原子の群から選ばれる少なくとも一種である。L4
は連結基である。cは連結基の有無を示しており、0ま
たは1である。) - 【請求項7】 該シリコーンゴム層が縮合反応架橋性の
シリコーンガム組成物を加熱硬化せしめたものであるこ
とを特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項8】 該シリコーンゴム層が付加反応架橋性の
シリコーンガム組成物を加熱硬化せしめたものであるこ
とを特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷版原版。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20352995A JP3414065B2 (ja) | 1995-08-09 | 1995-08-09 | 水なし平版印刷版原版 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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