JPH0882921A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】基板上にプライマ−層、感光層およびシリコ−
ンゴム層をこの順に設けてなる水なし平版印刷用原版に
おいて、該インキ反撥層の縮合触媒の組成範囲がポリオ
ルガノシロキサン１００重量部に対して０．００１〜
０．０５重量部であることを特徴とする水なし平版印刷
版原版に関する。 【効果】本発明による水なし平版印刷版原版は、シリコ
ーンゴム層中に最適な縮合触媒量を含有するため、画像
再現性とインキ反発性に優れ、経時的にも安定した耐ス
クラッチ性、耐刷性を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版原版に
関するものであり、特に製造直後および保存経時後に安
定して優れた耐スクラッチ性、耐刷性を発現する水なし
平版印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】水なし平版印刷とは、画線部と非画線部
とを基本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ
受容性、非画線部をインキ反撥性として、インキの付着
性の差異を利用して、画線部のみにインキを着肉させた
後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷をする平版
印刷方法において、非画線部がシリコーンゴム、含フッ
素化合物などのインキ反撥性を有する物質からなり、湿
し水を用いずに印刷可能であるような印刷方法を意味す
る。

【０００３】ところで、この水なし平版印刷版原版とし
て実用上優れた性能を有しているものとしては、インキ
反撥性層としてシリコーンゴム層を用いたもの、例えば
ポジティブワーキング用としては、特公昭５４−２６９
２３号公報や特開昭６０−２１０５０号公報などが、ま
たネガティブワーキング用としては特公昭４６−１６０
４４号公報、特開昭５５−５９４６６号公報、特開昭５
６−８００４６号公報、特公昭６１−５４２２２号公報
などが挙げられる。

【０００４】これらの水なし平版印刷版原版は、通常ポ
ジティブフィルムもしくはネガティブフィルムを通し
て、活性光線により露光される。そして、その後、現像
処理されることにより、画線部に対応したシリコーンゴ
ム層のみが剥ぎ取られ、感光層が露出し、インキ着肉性
の画線部となる。

【０００５】これらの水なし平版印刷版原版に用いられ
るシリコーンゴム層としては通常ポリオルガノシロキサ
ンを主たる骨格とする高分子重合体を、架橋剤を用いて
架橋したものが用いられる。

【０００６】該シリコーンゴム層の架橋硬化方法として
は通常下記の２通りの架橋方法が用いられる。

【０００７】（１）縮合反応架橋型：両末端水酸基のポ
リオルガノシロキサンを、ケイ素原子に直接結合した加
水分解性官能基を有するシランまたはシロキサンによっ
て縮合架橋し、シリコーンゴムとする方法。

【０００８】（２）付加反応架橋型：ＳｉＨ基を有する
ポリオルガノシロキサンと−ＣＨ＝ＣＨ−基を有するポ
リオルガノシロキサンとを付加反応させることにより架
橋し、シリコーンゴムとする方法。

【０００９】特に（１）の縮合反応架橋性のシリコーン
ゴムはインキ反撥性に優れ、感光層との接着力を発現し
やすい実用上優れた性能を示すシリコーンゴムとして水
なし平版印刷版に好ましく用いられてきた。縮合反応架
橋性のシリコーンガム組成物は一般的にポリオルガノシ
ロキサン、縮合反応架橋剤、縮合触媒、溶剤、充填剤か
ら構成される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、水なし平版
印刷版原版における耐スクラッチ性や耐刷性は、シリコ
ーンゴム層の力学的性質に大きく依存する傾向にある。
すなわち、適度な架橋構造を有することが重要である。
過剰な架橋構造はシリコーンゴムの力学的性質を脆く
し、耐スクラッチ性や耐刷性が低下する傾向になる。一
方、過小な架橋構造はシリコーンゴムの溶剤に対する膨
潤性を増加し、シリコーンゴムの形態保持能力が低下す
るため、やはり耐スクラッチ性や耐刷性が低下してしま
う。シリコーンゴム架橋構造は、各成分の種類および添
加量、硬化温度や硬化時間を調整することによって制御
されるが、適度な架橋構造を有するシリコーンゴム層
は、現状では得られていない。そのため、従来の水なし
平版印刷版原版においては、耐スクラッチ性や耐刷性
は、製造直後から十分ではないか、あるいは保存経時後
には大きく低下するものであった。

【００１１】したがって、本発明の目的は、適度な架橋
構造を有することによって、製造直後および保存経時後
にも安定して優れた耐スクラッチ性、耐刷性を発現する
シリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版を提供
することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
基板上に少なくとも感光層およびインキ反撥層をこの順
に設けてなる水なし平版印刷用原版において、該インキ
反撥層がポリオルガノシロキサンと縮合触媒を含有し、
ポリオルガノシロキサン１００重量部に対して縮合触媒
が０．００１〜０．５重量部であるシリコーンガム組成
物を架橋硬化してなることを特徴とする水なし平版印刷
版原版により達成される。

【００１３】 （Ｉ） ポリオルガノシロキサン １００重量部 （II） 縮合反応架橋剤 ３〜２０重量部 （III ）縮合触媒 ０．００１〜０．０５重量部 （IV） 溶剤 １０〜４０００重量部

【００１４】すなわち、本発明者等は、シリコーンゴム
の架橋構造について鋭意検討を行った結果、特にシリコ
ーンガム組成物中の縮合触媒がシリコーンゴムの架橋速
度や力学的性質に大きな影響を与えることを見出した。
つまり、公知の水なし平版印刷版原版の実施例において
は、縮合触媒はポリジメチルシロキサン１００重量部に
対して０．１重量部以上が常識的に添加されているが、
この様な触媒添加量の範囲に於いては、縮合触媒の添加
量が過剰であるために架橋速度が向上する結果、過剰に
架橋構造が形成され力学的性質が脆くなる傾向にあり、
製造後直後および保存経時後における耐スクラッチ性や
耐刷性が低下してしまう傾向にある。

【００１５】一方、触媒未添加系では、シリコーンゴム
の架橋速度は若干低下するが、適度にルーズな架橋構造
の形成が可能となり、インキ反撥性や耐スクラッチ性に
優れたシリコーンゴム層が形成される傾向にあることを
見出した。

【００１６】しかしながら、触媒未添加系の場合、製造
直後に於いて架橋反応が完結せず、未反応の架橋剤がシ
リコーンゴム組成中に残留してしまうために架橋構造が
保存経時で変化し、初期に優れた耐スクラッチ性を示し
ていても経時的に低下してしまう問題点がある。

【００１７】本発明者らはこの様な従来技術の問題点に
ついて鋭意研究を進めた結果、シリコーンガム組成物に
縮合触媒を特定範囲で微量添加することにより、製造直
後および保存経時後に安定して優れた耐スクラッチ性、
耐刷性を発現するシリコーンゴム層を有する水なし平版
印刷版原版が得られることを見出し、本発明に到達した
ものである。

【００１８】以下、本発明の構成を順に説明する。

【００１９】本発明に用いられるインキ反撥性層につい
て説明する。

【００２０】本発明はインキ反撥性層として、ポリオル
ガノシロキサンに、特定の組成範囲の縮合反応架橋剤お
よび縮合触媒を添加したシリコーンガム組成物を適当な
溶媒で希釈したものを、感光層上に塗布し、加熱乾燥し
て架橋硬化させることによって形成する湿熱硬化型の縮
合反応架橋性のシリコーンゴム層を用いることを特徴と
する。

【００２１】本発明に用いられる湿熱硬化型の縮合反応
架橋性のシリコーンガム組成物について説明する。

【００２２】本発明で言うポリオルガノシロキサンと
は、下記の一般式（１）で示される線状ポリオルガノシ
ロキサンを意味する。また、本発明に言うシリコーンガ
ム組成物とは、該ポリオルガノシロキサンを適当な溶媒
に溶かして溶液としたのち、架橋剤や触媒などとともに
混合した未硬化（未ゴム化）の溶液組成物を意味し、一
方、シリコーンゴムとは該シリコーンガム組成物を適当
な硬化条件の下で架橋反応させ、ゴム化した硬化生成物
を意味する。

【００２３】

【化４】 （ここでｎは１以上の整数、Ｒ¹²、Ｒ¹³は炭素数１〜１
０のアルキル基、アルコキシ基、アミノアルキル基、ハ
ロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０
のカルボキシアルキル基、シアノアルキル基、炭素数６
〜２０の置換もしくは非置換のアリール基、アリロキシ
基、アラルキル基、または水素原子、水酸基の内から選
ばれる基であり、同一であっても異なってもよい。ま
た、鎖末端もしくは側鎖のかたちで分子鎖中に少なくと
も一つ以上の水酸基を有する。）特に本発明に好ましく
用いられる線状ポリオルガノシロキサンとしては、耐ス
クラッチ性、耐刷性、現像性、塗工性、入手の容易さ
や、特定の縮合反応架橋剤および縮合触媒との組成比の
点から、重量平均分子量が５００００以上５０００００
０以下の両末端水酸基含有ポリジメチルシロキサンを用
いることが好ましく、さらに重量平均分子量が５０００
０以上１５００００以下のものを用いることが特に好ま
しい。

【００２４】該線状ポリオルガノシロキサンの重量平均
分子量がこの範囲以下であると、両末端水酸基含有ポリ
ジメチルシロキサンを架橋するためには縮合反応架橋剤
が大量に必要となり、結果としてシリコーンゴム層の架
橋密度が過度に高くなりゴム的な性質が失われて脆くな
るため、耐スクラッチ性、耐刷性が低下し、インキ反撥
性も低下してしまう。従って、このような低分子量の線
状ポリオルガノシロキサンを用いた場合、特定の組成範
囲に縮合反応架橋剤および縮合触媒を添加してシリコー
ンガム組成物を構成しても充分に本発明の効果を発現す
ることは出来ない。一方、該線状ポリオルガノシロキサ
ンの重量平均分子量がこの範囲以上であると、該ポリジ
メチルシロキサンの粘度が極端に高くなり、過度の溶剤
で希釈する必要が生じ経済的に不利である。また、下層
に位置する感光層との間で接着力を発現するために必要
な該ポリオルガノシロキサンの官能基量が極端に少なく
なり、接着不良となる。また、該ポリオルガノシロキサ
ンを用いて形成されたシリコーンゴム層のゴム物性は過
剰に破断伸度が向上し、現像性が著しく低下してしま
う。

【００２５】本発明に用いられる縮合反応架橋性シリコ
ーンガム組成物としては、上記の一般式（１）で示され
る線状ポリオルガノシロキサンの有機溶剤溶液に、縮合
反応架橋剤および縮合触媒が添加された、いわゆる室温
（低温）湿気硬化型の形態をとるものが好ましい。

【００２６】該シリコーンガム組成物を構成する上で用
いられる縮合反応架橋剤としては、下記の一般式（２）
で示されるような、アセトキシシラン、ケトオキシムシ
ラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン
などが好ましく用いられ、通常、分子鎖中に少なくとも
一つ以上の水酸基を有する線状ポリオルガノシロキサン
と反応して、それぞれ脱酢酸型、脱オキシム型、脱アル
コール型、脱アミン型、脱アミド型などの形式で縮合反
応で架橋する架橋剤が、単一または混合された形、もし
くは縮合体の形で用いられる。

【００２７】特に本発明においては、硬化速度や生成す
るシリコーンゴム層の力学的特性の点から脱酢酸型、脱
オキシム型の架橋剤が縮合触媒との組合わせの上から好
ましく用いられる。

【００２８】 Ｒ_m ・Ｓｉ・Ｘ_n （２） （ただし、ｍ、ｎは ｍ≧０、ｎ≧１でｍ＋ｎ＝４を満
足する整数を意味する。Ｒは置換もしくは非置換の炭素
数１〜２０のアルキル基、アミノアルキル基、アミノア
ルキレンアミノアルキル基、アミノアルキレンアミノメ
チルフェネチル基、置換もしくは非置換の炭素数６〜２
０のアリール基を示し、Ｘは−ＯＲ¹ 、−ＯＣＯＲ² 、
−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ³ −Ｒ⁴ 、−Ｏ−Ｃ＝ＣＲ⁵ Ｈ であ
る。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ は炭素数１〜４の置換もしくは非置換の
アルキル基を意味する） 縮合反応架橋剤の単体もしくはその縮合物の具体例とし
ては、次のようなものがある。

【００２９】テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジメチル
ジアセトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−（βアミノエチル）−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチル）−γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−（βアミノエチル）アミノメチルフェネチ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチル）アミノ
メチルフェネチルトリエトキシシラン、トリス（メチル
エチルケトオキシム）メチルシラン、トリス（メチルエ
チルケトオキシム）エチルシラン、トリス（メチルエチ
ルケトオキシム）ビニルシラン、テトラキス（メチルエ
チルケトオキシム）シランなどが挙げられる。

【００３０】本発明の縮合触媒としては下記の化合物
（１）〜（６）が好ましく用いられる。以下＃＃＃＃
［＊＊＊＊＊］は、慣用名称［組成式］を表わす。

【００３１】（１）有機錫化合物、例えばアリルトリ−
ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₅Ｈ₃₂Ｓｎ］、アリルトリメチル錫
［Ｃ₆ Ｈ₁₄Ｓｎ］、アリルトリフェニル錫［Ｃ₂₁Ｈ₂₀Ｓ
ｎ］、ビス（２−エチルヘキサノエート）錫［Ｃ₁₆Ｈ₃₀
Ｏ₄ Ｓｎ］、ビス（２，４−ペンタンジオネート）ジク
ロロ錫［Ｃ₁₀Ｈ₁₄Ｏ₄ Ｃｌ₂ Ｓｎ］、ビス（トリフェニ
ル錫）オキサイド［Ｃ₃₆Ｈ₃₀ＯＳｎ₂ ］、ビス（トリフ
ェニル錫）サルファイド［Ｃ₃₆Ｈ₃₀ＳＳｎ₂ ］、ポリ
（ｎ−ブチル錫ヒドキサイド）オキサイド［（Ｃ₄ Ｈ₁₀
Ｏ₂ Ｓｎ）_n ］、ｎ−ブチルトリクロロ錫［Ｃ₄ Ｈ₉ Ｃ
ｌ₃ Ｓｎ］、ｎ−ブチルトリス（２−エチルヘキサノエ
ート）錫［Ｃ₂₈Ｈ₅₄Ｏ₆ Ｓｎ］、シクロペンタジエニル
トリ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₇Ｈ₃₂Ｓｎ］、１，３−ジアセ
トキシ−１，１，３，３−テトラブチル錫オキサイド
［Ｃ₂₀Ｈ₄₂Ｏ₅ Ｓｎ₂ ］、酢酸錫（II）［Ｃ₄ Ｈ₆ Ｏ₄
Ｓｎ］、ジ−ｎ−ブチル錫ジラウリルメルカプタイド
［Ｃ₃₂Ｈ₆₈Ｓ₂ Ｓｎ］、ジ−ｎ−ブチル錫ジオクトエー
ト［Ｃ₂₈Ｈ₄₈Ｏ₄ Ｓｎ］、ジ−ｎ−ブチルビス（２，４
−ペンタンジオネート）錫［Ｃ₁₈Ｈ₃₂Ｏ₄ Ｓｎ］、ジ−
ｎ−ブチル錫ジアセテート［Ｃ₁₂Ｈ₂₄Ｏ₄ Ｓｎ］、ジ−
ｎ−ブチルジクロロ錫［Ｃ₈ Ｈ₁₈Ｃｌ₂ Ｓｎ］、ジ−ｔ
−ブチルジクロロ錫［Ｃ₈ Ｈ₁₈Ｃｌ₂ Ｓｎ］、ジ−ｎ−
ブチルジフルオロ錫［Ｃ₈ Ｈ₁₈Ｆ₂ Ｓｎ］、ジ−ｎ−ブ
チルジラウリル錫［Ｃ₃₂Ｈ₆₄Ｏ₄ Ｓｎ］、ジ−ｎ−ブチ
ルジメトキシ錫［Ｃ₁₀Ｈ₂₄Ｏ₂ Ｓｎ］、ポリ（ジ−ｎ−
ブチル（アレエート）錫）［（Ｃ₁₂Ｈ₂₀Ｏ₄ Ｓ
ｎ）_n ］、ジ−ｎ−ブチル−Ｓ，Ｓ´−ビス（イソオク
チルメルカプトアセテート）錫［Ｃ₂₈Ｈ₅₆Ｏ₄ Ｓ₂Ｓ
ｎ］、ポリ（ジ−ｎ−ブチル錫オキサイド）［（Ｃ₈ Ｈ
₁₈ＯＳｎ）_n ］、ポリ（ジ−ｎ−ブチル錫サルファイ
ド）［（Ｃ₈ Ｈ₁₈ＳＳｎ）_n ］、ジメチルアミノトリ−
ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₄Ｈ₃₃ＮＳｎ］、ジメチル−Ｓ，Ｓ´
−ビス（イソオクチルメルカプトアセテート）錫［Ｃ₂₂
Ｈ₄₄Ｏ₄ Ｓ₂ Ｓｎ］、ジメチルジクロロ錫［Ｃ₂ Ｈ₆ Ｃ
ｌ₂ Ｓｎ］、ジメチルジネオデカノエート錫［Ｃ₂₂Ｈ₄₄
Ｏ₄ Ｓｎ］、ジメチルヒドロキシ（オレエート）錫
［Ｃ₂₀Ｈ₄₀Ｏ₃ Ｓｎ］、ジオクチルクロロ錫［Ｃ₁₆Ｈ₃₄
Ｃｌ₂ Ｓｎ］、ジオクチル錫ジラウレート［Ｃ₄₀Ｈ₈₀Ｏ
₄ Ｓｎ］、ポリ（ジオクチル錫オキサイド）［（Ｃ₁₆Ｈ
₃₄ＯＳｎ）_n ］、ジフェニルジクロロ錫［Ｃ₁₂Ｈ₁₀Ｃｌ
₂ Ｓｎ］、エチニルトリ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₄Ｈ₂₈Ｓ
ｎ］、ヘキサ−ｎ−ブチルジ錫［Ｃ₂₄Ｈ₅₄Ｓｎ₂ ］、ヘ
キサメチルジ錫［Ｃ₆ Ｈ₁₈Ｓｎ₂ ］、メタクリルオキシ
トリ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₇Ｈ₃₂Ｏ₂ Ｓｎ］、メチルトリ
クロロ錫［ＣＨ₃ Ｃｌ₃ Ｓｎ］、オクチルトリクロロ錫
［Ｃ₈ Ｈ₁₇Ｃｌ₃ Ｓｎ］、フェニルトリ−ｎ−ブチル錫
［Ｃ₁₈Ｈ₃₂Ｓｎ］、フェニルトリクロロ錫［Ｃ₆ Ｈ₅ Ｃ
ｌ₃ Ｓｎ］、ナトリウム錫エトキサイド［Ｃ₁₈Ｈ₄₅Ｏ₉
ＮａＳｎ₂ ］、テトラアリル錫［Ｃ₁₂Ｈ₂₀Ｓｎ］、テト
ラ−ｔ−ブトキシ錫［Ｃ₁₆Ｈ₃₆Ｏ₄ Ｓｎ］、テトラ−ｎ
−ブチル錫［Ｃ₁₆Ｈ₃₆Ｓｎ］、テトラエチル錫［Ｃ₈ Ｈ
₂₀Ｓｎ］、テトライソプロピル錫［Ｃ₁₂Ｈ₂₈Ｓｎ］、テ
トラメチル錫［Ｃ₄ Ｈ₁₂Ｓｎ］、テトラ−ｎ−オクチル
錫［Ｃ₃₂Ｈ₆₈Ｓｎ］、テトラフェニル錫［Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｓ
ｎ］、錫（II）エトキサイド［Ｃ₄ Ｈ₁₀Ｏ₂ Ｓｎ］、錫
（II）メトキサイド［Ｃ₂Ｈ₆ Ｏ₂ Ｓｎ］、シュウ酸錫
（II）［Ｃ₂ Ｏ₄ Ｓｎ］、錫（II）２，４−ペンタンジ
オネート［Ｃ₁₀Ｈ₁₄Ｏ₄ Ｓｎ］、トリ−ｎ−ブチルアセ
トキシ錫［Ｃ₁₄Ｈ₃₀Ｏ₂ Ｓｎ］、トリ−ｎ−ブチルベン
ゾイルオキシ錫［Ｃ₁₉Ｈ₃₂Ｏ₂ Ｓｎ］、トリ−ｎ−ブチ
ルブロモ錫［Ｃ₁₂Ｈ₂₇ＢｒＳｎ］、トリ−ｎ−ブチルク
ロロ錫［Ｃ₁₂Ｈ₂₇ＣｌＳｎ］、トリ−ｎ−ブチルエトキ
シ錫［Ｃ₁₄Ｈ₃₂ＯＳｎ］、トリ−ｎ−ブチルフルオロ錫
［Ｃ₁₂Ｈ₂₇ＦＳｎ］、トリ−ｎ−ブチルヨウド錫［Ｃ₁₂
Ｈ₂₇ＩＳｎ］、トリ−ｎ−ブチルメトキソ錫［Ｃ₁₃Ｈ₃₀
ＯＳｎ］、トリ−ｎ−ブチル錫ハライド［Ｃ₁₂Ｈ₂₈Ｓ
ｎ］、トリ−ｎ−ブチル（トリフルオロメタンスルフォ
ネート）錫［Ｃ₁₃Ｈ₂₇Ｆ₃ Ｏ₃ ＳＳｎ］、トリエチルブ
ロモ錫［Ｃ₆ Ｈ₁₅ＢｒＳｎ］、（トリイソプロポキシチ
タノキシ）トリ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₂₁Ｈ₄₈Ｏ₄ ＴｉＳ
ｎ］、トリメチルクロロ錫［Ｃ₃ Ｈ₉ ＣｌＳｎ］、トリ
メチルシリルトリ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₅Ｈ₃₆ＳｉＳ
ｎ］、トリフェニルアセトキシ錫［Ｃ₂₀Ｈ₁₈Ｏ₂ Ｓ
ｎ］、トリフェニルクロロ錫［Ｃ₁₈Ｈ₁₅ＣｌＳｎ］、ト
リフェニルフルオロ錫［Ｃ₁₈Ｈ₁₅ＦＳｎ］、トリフェニ
ルヒドキシ錫［Ｃ₁₈Ｈ₁₆ＯＳｎ］、トリフェニル錫ハラ
イド［Ｃ₁₈Ｈ₁₆Ｓｎ］、ビニルトリ−ｎ−ブチル錫［Ｃ
₁₄Ｈ₃₀Ｓｎ］、アクリルオキシドトリ−ｎ−ブチル錫
［Ｃ₁₅Ｈ₃₀Ｏ₂ Ｓｎ］、アクリルオキシドトリフェニル
錫［Ｃ₂₁Ｈ₁₈Ｏ₂ Ｓｎ］、ジアリルジブロモ錫［Ｃ₆ Ｈ
₁₀Ｂｒ₂ Ｓｎ］、ジアリルジ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₄Ｈ₂₈
Ｓｎ］、ジ−ｎ−ブチルビス（２−エチルヘキシルマレ
エート）錫［Ｃ₃₂Ｈ₅₆Ｏ₈ Ｓｎ］、ジ−ｎ−ブチルビス
（メチルマレエート）錫［Ｃ₁₈Ｈ₂₈Ｏ₈ Ｓｎ］、ジ−ｎ
−ブチルアクリル酸錫［Ｃ₁₄Ｈ₂₄Ｏ₄ Ｓｎ］、ジ−ｎ−
ブチルメタクリル酸錫［Ｃ₁₆Ｈ₂₈Ｏ₄ Ｓｎ］、ポリ（ジ
オクチル（マレエート）錫）［（Ｃ₂₀Ｈ₃₆Ｏ₄ Ｓ
ｎ）_n ］、ジビニルジ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₂Ｈ₂₄Ｓ
ｎ］、１−エトキシビニルトリ−ｎ−ブチル錫［Ｃ₁₆Ｈ
₃₄ＯＳｎ］、テトラビニル錫［Ｃ₈ Ｈ₁₂Ｓｎ］など。

【００３２】（２）有機チタン化合物、例えばテトラメ
チルチタネート［Ｃ₄ Ｈ₁₂Ｏ₄ Ｔｉ］、テトラエチルチ
タネート［Ｃ₈ Ｈ₂₀Ｏ₄ Ｔｉ］、テトライソプロピルチ
タネート［Ｃ₁₂Ｈ₂₈Ｏ₄ Ｔｉ］、テトラ−ｎ−ブチルチ
タネート［Ｃ₁₆Ｈ₃₆Ｏ₄ Ｔｉ］、テトライソブチルチタ
ネート［Ｃ₁₆Ｈ₃₆Ｏ₄ Ｔｉ］、テトラキス（２−エチル
ヘキソキシ）チタネート［Ｃ₃₂Ｈ₆₈Ｏ₄ Ｔｉ］、テトラ
ステアロイルチタネート［Ｃ₆₈Ｈ₁₄₀ Ｏ₄ Ｔｉ］、テト
ラキス（２−エチルヘキサンジオラト）チタン［Ｃ₃₂Ｈ
₆₈Ｏ₈ Ｔｉ］、テトラオクチレングリコールチタン［Ｃ
₃₂Ｈ₆₈Ｏ₈ Ｔｉ］、ジヒドロキシ−ビス（ラクテート）
チタン［Ｃ₆ Ｈ₁₂Ｏ₈ Ｔｉ］、チタンラクテートアンモ
ニウム塩［Ｃ₆ Ｈ₁₈Ｏ₈ Ｎ₂ Ｔｉ］、ジプロポキシ−ビ
ス（アセチルアセトナト）チタン［Ｃ₁₆Ｈ₂₈Ｏ₆ Ｔ
ｉ］、ジブトキシチタン−ビス（オクチレングリコレー
ト）［Ｃ₂₄Ｈ₅₀Ｏ₆ Ｔｉ］、ジプロポキシチタン−ビス
（エチルアセトアセテート）［Ｃ₁₈Ｈ₃₂Ｏ₆ Ｔｉ］、ジ
プロポキシチタン−ビス（ラクテート）［Ｃ₁₆Ｈ₃₂Ｏ₈
Ｔｉ］、ジプロポキシチタン−ビス（トリエタノールア
ミナート）［Ｃ₁₈Ｈ₄₀Ｏ₈ Ｎ₂ Ｔｉ］、ジ−ｎ−ブトキ
シチタン−ビス−（トリエタノールアミナート）［Ｃ₂₀
Ｈ₄₆Ｏ₈ Ｎ₂ Ｔｉ］、トリ−ｎ−ブトキシチタンモノス
テアレート［Ｃ₂₉Ｈ₆₂Ｏ₅ Ｔｉ］、ブチルチタネートダ
イマー［Ｃ₂₄Ｈ₅₄Ｏ₇ Ｔｉ₂ ］、ポリ（チタンアセチル
アセトナート） ［（Ｃ₁₀Ｈ₁₄Ｏ₅ Ｔｉ）_n］、ポリ
（トリプロポキシチタン）［（Ｃ₉ Ｈ₂₁Ｏ₃ Ｔ
ｉ）_n ］、ポリ（トリブトキシチタン）［（Ｃ₁₂Ｈ₂₇Ｏ
₃ Ｔｉ）_n ］、ポリ（ヒドロキシチタンステアレート）
［（Ｃ₃₅Ｈ₇₀Ｏ₅ Ｔｉ）_n ］など。

【００３３】（３）有機アルミニウム化合物、例えばト
リイソプロピルアルミニウム［Ｃ₉ Ｈ₂₁Ｏ₃ Ａｌ］、ア
ルミニウム−ｓｅｃ−ブチレート［Ｃ₁₂Ｈ₂₇Ｏ₃ Ａ
ｌ］、モノ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウムジイソプロ
ピレート［Ｃ₁₀Ｈ₂₃Ｏ₃ Ａｌ］、アルミニウムアセチル
アセトナート［Ｃ₁₅Ｈ₂₁Ｏ₆ Ａｌ］、アルミニウムオキ
シドイソプロピレート［Ｃ₉ Ｈ₂₁Ｏ₆ Ａｌ₃ ］、アルミ
ニウムオキシドオクテート［Ｃ₂₈Ｈ₄₅Ｏ₉ Ａｌ₃ ］、ア
ルミニウムオキシドステアレート［Ｃ₅₄Ｈ₁₀₅ Ｏ₉ Ａｌ
₃ ］、アルミニウムジイソプロポキシドモノエチルアセ
テート［Ｃ₁₂Ｈ₂₃Ｏ₅Ａｌ］、アルミニウムジ−ｎ−ブ
トキシドモノメチルアセトアセテート［Ｃ₁₃Ｈ₂₅Ｏ₅ Ａ
ｌ］、アルミニウムジ−イソブトキシドモノメチルアセ
トアセテート［Ｃ₁₃Ｈ₂₅Ｏ₅ Ａｌ］、アルミニウムジ−
ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテート［Ｃ₁₄Ｈ₂₇
Ｏ₅ Ａｌ］、アルミニウムジ−ｓｅｃ−ブトキシドモノ
エチルアセトアセテート［Ｃ₁₄Ｈ₂₇Ｏ₅ Ａｌ］、アルミ
ニウムトリス（アセチルアセトナート）［Ｃ₁₅Ｈ₂₁Ｏ₆
Ａｌ］、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテー
ト）［Ｃ₁₈Ｈ₂₇Ｏ₉ Ａｌ］、アルミニウムモノ−アセチ
ルアセトナートビス（エチルアセトアセテート）［Ｃ₁₇
Ｈ₂₅Ｏ₈ Ａｌ］、アクリル酸アルミニウム［Ｃ₉ Ｈ₉Ｏ
₆ Ａｌ］、メタクリル酸アルミニウム［Ｃ₁₂Ｈ₁₅Ｏ₆ Ａ
ｌ］など。

【００３４】（４）有機鉛化合物、例えばテトラメチル
鉛［Ｃ₄ Ｈ₁₂Ｐｂ］、テトラエチル鉛［Ｃ₈ Ｈ₂₀Ｐ
ｂ］、テトラ−ｎ−ブチル鉛［Ｃ₁₆Ｈ₃₆Ｐｂ］、テトラ
フェニル鉛［Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｐｂ］など。

【００３５】（５）有機硼素化合物、例えばトリメチル
硼素［Ｃ₃ Ｈ₉ Ｂ］、トリエチル硼素［Ｃ₆ Ｈ₁₅Ｂ］、
硼素ｎ−ブトキサイド［Ｃ₁₂Ｈ₂₇Ｏ₃ Ｂ］、硼素メトキ
サイド［Ｃ₃ Ｈ₉ Ｏ₃ Ｂ］など。

【００３６】（６）有機ジルコニウム化合物、例えばジ
ルコニルオクチレート［Ｃ₁₆Ｈ₃₀Ｏ₅Ｚｒ］、ジルコニ
ルステアレート［Ｃ₃₆Ｈ₇₀Ｏ₅ Ｚｒ］、ジルコニウム−
ｎ−プロピレート［Ｃ₁₂Ｈ₂₈Ｏ₄ Ｚｒ］、ジルコニウム
−ｎ−ブチレート［Ｃ₁₆Ｈ₃₆Ｏ₄ Ｚｒ］など。

【００３７】上記の（１）有機錫化合物、（２）有機チ
タン化合物、（３）有機アルミニウム化合物の群から選
ばれる化合物は本発明の縮合触媒効果を効率良く発現す
る上で好ましく、更に好ましくは上記（１）有機錫化合
物の群から選ばれる化合物である。

【００３８】本発明に用いられる縮合反応架橋性のシリ
コーンガム組成物は、ポリオルガノシロキサン１００重
量部に対して縮合触媒を０．００１〜０．０５重量部含
有するものである。好ましくは、下記組成範囲のものが
用いられる。

【００３９】 （Ｉ）一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサン １００重量部 （II）一般式（２）で表される縮合反応架橋剤 ３〜２０重量部 （III ）縮合触媒 ０．００１〜０．０５重量部 （IV）溶剤 １０〜４０００重量部 本発明の効果を発現するためには上記の組成範囲におい
て、（Ｉ）のポリオルガノシロキサン１００重量部に対
して（III ）縮合触媒の組成範囲は０．００１〜０．０
５重量部であるが、０．００１〜０．０１重量部である
ことが特に好ましい。

【００４０】上記範囲を越えて縮合触媒を添加すると、
シリコーンゴム層の架橋構造が過剰となり、耐スクラッ
チ性が極端に低下する傾向となり、上記範囲以下の場
合、触媒未添加系と同等となり、初期に優れた耐スクラ
ッチ性を示していても経時的に低下してしまう。

【００４１】（II）の縮合反応架橋剤は、ポリオルガノ
シロキサン１００重量部に対して３〜２０重量部添加さ
れることが好ましく、より好ましくは５〜１６重量部で
ある。架橋剤の添加量が多すぎると架橋反応が早くなる
が、反応に関与しない架橋剤が感光層のモノマと反応し
感光層とシリコーンゴム層との接着を強くすることから
現像不良の原因となる。また、添加量が少なすぎると、
架橋反応が遅くなり生産工程においてロールにシリコー
ンガム組成物が付着する等、生産性に支障をきたす。

【００４２】（IV）の溶剤は、ポリオルガノシロキサン
１００重量部に対して１０〜４０００重量部添加される
が好ましく、より好ましくは３０〜３０００重量部であ
る。溶剤の量が多すぎると粘度が低くなることから生産
工程においてコーティングに支障をきたす。また溶剤か
ら水分を持ち込む可能性が大きくなり好ましくない。逆
に溶剤の量が少なすぎると粘度が高くなりコーティング
に支障をきたす。

【００４３】また該シリコーンガム組成物には、インキ
反撥性層を適度に補強する目的で、公知のフィラーや無
機粒子、ケイ酸ゾルなどを添加したり、架橋性官能基を
有さない公知の変性シリコーンオイルを少量添加するこ
とも可能である。

【００４４】これらのシリコーンガム組成物を希釈、溶
解する溶剤としては、パラフィン系炭化水素、イソパラ
フィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素および
芳香族炭化水素が単一または混合された形で用いられ
る。これらの炭化水素系溶媒の代表的なものとしては、
石油の分留品およびその改質品などがある。

【００４５】本発明のインキ反撥性層として用いられる
シリコーンゴム層の膜厚は耐刷性およびインキ反撥性を
保ち、かつ良好な画像再現性を維持する点から、乾燥重
量で、０．５〜１０ｇ／ｍ² の範囲が好ましく、１〜３
ｇ／ｍ² の範囲がさらに好ましい。

【００４６】次に本発明に用いられる感光層について説
明する。

【００４７】本発明にいう感光層としては、大別してポ
ジティブワ−キング用のものとネガティブワ−キング用
のものに分類される。ポジティブワ−キング用の感光層
としては、主に光硬化性層が用いられ、該光硬化性層と
しては光重合性層と光架橋性層とがあげられる。まずは
じめに、ポジティブワーキング用の感光層について説明
する。

【００４８】光重合性層としては以下に示すような組成
の光重合性接着層があげられる。

【００４９】 （１）光重合性不飽和モノマーあるいはオリゴマー １．０〜１００重量部 （２）光重合開始剤 ０．１〜２０重量部 （３）必要に応じて添加される光重合性層の形態保持用充填剤 （ポリマーあるいは無機粉末） ０．０１〜１００重量部 （１）に言うモノマまたはオリゴマの具体例を下記に示
す。本発明に好ましく用いられるモノマとしては、下記
一般式（Ｉ）で表わされるモノマが挙げられる。 Ｒ¹ Ｒ² Ｎ−（Ｘ¹ ）p −（Ｘ² ）q −ＮＲ³ Ｒ⁴ （Ｉ） （式中Ｘ¹ は、炭素数１〜２０の置換または無置換の環
式または非環式のアルキレン、置換または無置換のフェ
ニレン、置換または無置換のアラルキレンから選ばれる
２価の連結基を表わす。置換基としては、炭素数１〜６
のアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基があ
げられる。

【００５０】Ｘ² は、-OE ¹ - 、-S-E ² - 、-NH-E ³
- 、-CO-O-E ⁴ - 、-SO ² -NH-E ⁵ -で、Ｅ¹ 、Ｅ² 、
Ｅ³ 、Ｅ⁴ 、Ｅ⁵ は、上記のＸ¹ と同様の２価の連結基
を表わす。ｐは１以上の整数、ｑは０または１以上の整
数を表わす。Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³、Ｒ⁴ は、水素原子、炭
素数１〜２０の置換または無置換のアルキル基、置換ま
たは無置換のフェニル基、置換または無置換のアラルキ
ル基、下式（II）、（III ）、（IV）から選ばれる官能
基を意味し、同一でも異なってもよい。置換基として
は、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アリール基があげられる。ただし化合物（Ｉ）の１
分子中に少なくとも１個以上のエチレン性不飽和基を含
む。Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ は、水素原子、炭素数１〜２０の
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のフ
ェニル基、置換または無置換のアラルキル基、CH2 =CH-
基、CH2 =CCH3 - 基を表わす。Ｙは-CO-O-、-CO-NH- 、
置換または無置換フェニレン基を表わす。Ｘ³ 、Ｘ⁴ 、
Ｘ⁵ は上記Ｘ¹ またはＸ² と同様の２価の連結基を表
す。ｍ、ｎは０または１を表わす。）

【化５】 特に、下記ジアミン化合物に光重合可能な基を有するグ
リシジル（メタ）アクリレ−トおよび光重合可能な基を
もたないモノグリシジルエ−テル化合物を付加反応させ
たものが好ましく用いられる。

【００５１】（ａ）ジアミン化合物（モノオキシエチレ
ンジアミン、ジオキシエチレンジアミン、トリオキシエ
チレンジアミン、テトラオキシエチレンジアミン、ペン
タオキシエチレンジアミン、ヘキサオキシエチレンジア
ミン、ヘプタオキシエチレンジアミン、オクタオキシエ
チレンジアミン、ノナオキシエチレンジアミン、デカオ
キシエチレンジアミン、トリトリアコンタオキシエチレ
ンジアミン、モノオキシプロピレンジアミン、ジオキシ
プロピレンジアミン、トリオキシプロピレンジアミン、
テトラオキシプロピレンジアミン、ペンタオキシプロピ
レンジアミン、ヘキサオキシプロピレンジアミン、ヘプ
タオキシプロピレンジアミン、オクタオキシプロピレン
ジアミン、ノナオキシプロピレンジアミン、デカオキシ
プロピレンジアミン、トリトリアコンタオキシプロピレ
ンジアミン、Ｎ−ヒドロキシエチルヘキサプロピレンジ
アミン、Ｎ−ヒドロキシイソプロピルヘキサプロピレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシエチルヘキサプロピ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシイソプロピルヘ
キサプロピレンジアミン、トリメチレンビス（４−アミ
ノベンゾエート）、（テトラメチレングリコールビス
（４−アミノベンゾエート）、ジブチレングリコールビ
ス（４−アミノベンゾエート）、ｏ−キシリレンジアミ
ン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミ
ン、Ｎ−ヒドロキシエチル−ｍ−キシリレンジアミン、
Ｎ−ヒドロキシイソプロピル−ｍ−キシリレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシエチル−ｍ−キシリレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシイソプロピル−ｍ−キ
シリレンジアミンなど）１ ｍｏｌ （ｂ）グリシジル（メタ）アクリレ−ト
４−ｎ ｍｏｌ （ｃ）モノグリシジルエ−テル化合物（メチルグリシジ
ルエ−テル、エチルグリシジルエ−テル、ｎ−プロピル
グリシジルエ−テル、イソプロピルグリシジルエ−テ
ル、ｎ−ブチルグリシジルエ−テル、イソブチルグリシ
ジルエ−テル、ｎ−ヘキシルグリシジルエ−テル、２エ
チルヘキシルグリシジルエ−テル、ｎ−デシルグリシジ
ルエ−テル、アリルグリシジルエ−テル、フエニ−ルグ
リシジルエ−テル、グリシド−ルなど）ｎ ｍｏｌ （ｎは０≦ｎ≦４の整数） の付加反応物が有用である。

【００５２】具体的には特に、下記に示す付加反応物が
有用である。

【００５３】（ａ）一般式（１）で表されるジアミン誘
導体または下記一般式（２）で表されるジアミン誘導体

【化６】

【化７】 ［ただしＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及
びＲ¹⁰は水素、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜
２０の置換アシル基、アクリロイル基またはメタアクリ
ロイル基を表す。Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は、水素または炭素数１
〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜５０の数を表す。
Ｒ¹ 〜Ｒ¹⁰はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘ
は、

【化８】 のいずれかを表す。ｍは１〜２０の数字を表す。］ （ｂ）一般式（１）、（２）においてＲ¹ 、Ｒ² 、
Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰の少なくとも１
つが、水素、アルキル基、アリール基、アクリロイル基
またはメタアクリロイル基である場合。

【００５４】（ｃ）一般式（１）においてＲ¹ 、Ｒ² 、
Ｒ³ 及びＲ⁴ のうち、１〜４個がアクリロイル基、また
はメタアクリロイル基である場合やＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及
びＲ⁴のうちアクリロイル基メタアクリロイル基以外の
ものが、水素、炭化水素基または置換炭化水素基である
場合。

【００５５】（ｄ）一般式（１）中、ｎが１〜１０であ
る場合。

【００５６】（ｅ）一般式（１）中、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ の少
なくとも１つが、水素またはメチル基である場合。

【００５７】（ｆ）一般式（２）中、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹
及びＲ¹⁰のうち、１〜３個がアクリロイル基またはメタ
アクリロイル基である場合。

【００５８】（ｇ）一般式（２）中、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹
及びＲ¹⁰のうち、１〜３個がアクリロイル基またはメタ
アクリロイル基以外のものが、水素、炭化水素基または
置換炭化水素基である場合。

【００５９】また上記に説明したびアミノ基を有するエ
チレン性不飽和化合物の他にも、公知のモノマ、オリゴ
マや、少量のポリジメチルシロキサン、シリコーンレジ
ン、公知の各種変性ポリジメチルシロキサン、ポリエー
テル変性ポリジメチルシロキサン、シリコーン（メタ）
アクリレートなどのシリコーン化合物を添加することも
可能である。公知のモノマ、オリゴマーの具体例を下記
に示す。

【００６０】アルコール類（エタノール、プロパノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、イソアミルアルコール、ラウリルアルコー
ル、ステアリルアルコール、ブトキシエチルアルコー
ル、エトキシエチレングリコール、メトキシエチレング
リコール、メチキシプロピレングリコール、フェノキシ
エタノール、フェノキシジエチレングリコール、テトラ
ヒドロフルフリルアルコールなど）の（メタ）アクリル
酸エステル。

【００６１】カルボン酸類（酢酸、プロピオン酸、安息
香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイン
酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸など）と（メタ）アク
リル酸グリシジルまたはテトラグリシジル−ｍ−キシリ
レンジアミンまたはテトラグリシジル−ｍ−テトラヒド
ロキシリレンジアミンとの付加反応物。

【００６２】アミド誘導体（アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、ｎ−メチロールアクリルアミド、メチレンビ
スアクリルアミドなど）。

【００６３】エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との
付加反応物などを挙げることができる。

【００６４】さらに具体的には、特公昭４８−４１７０
８号公報、特公昭５０−６０３４号公報、特開昭５１−
３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレー
ト、特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３
１９１号公報、特公昭５２−３０４９０号公報に記載さ
れているポリエステルアクリレート、エポキシ樹脂と
（メタ）アクリル酸を反応させた多官能エポキシ（メ
タ）アクリレート、米国特許４５４０６４９号公報に記
載されているＮ−メチロールアクリルアミド誘導体など
を挙げることができる。更に日本接着協会誌VOL.20,No.
7,p300〜308 に紹介されている光硬化性モノマおよびオ
リゴマも用いることができる。

【００６５】シリコーン（メタ）アクリレートの具体例
としては、１，３−ビス（３−メタクリロキシプロピ
ル）−１，１，３，３，−テトラメチルジシロキサン、
３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
１−（３−メタクリロキシプロピル）１，１，３，３，
３−ペンタメチルジシロキサン、３−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピ
ルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、α，ω−メタ
クリロキシプロピルポリジメチルシロキサン、ポリ（メ
タクリロキシプロピルメチル−ｃｏ−ジメチル）シロキ
サンなどが挙げられる。

【００６６】また下記ジアミンシリコーン化合物に光重
合可能な基を有するグリシジル（メタ）アクリレ−トま
たは（メタ）アクリル酸クロライドおよび光重合可能な
基をもたないモノグリシジルエ−テル化合物、酸クロラ
イドなどを付加反応させたものも挙げられる。

【００６７】（ａ）ジアミンシリコーン化合物 α，ω−ビス（３−アミノプロピル）ポリジメチルシロ
キサン、α，ω−ビス（３−アミノプロピル）ポリメチ
ルビニルシロキサン、α，ω−ビス（３−アミノプロピ
ル）ポリジフェニルシロキサン
１ ｍｏｌ （ｂ）グリシジル（メタ）アクリレ−ト、（メタ）アク
リル酸クロライド４−ｎ ｍｏｌ （ｃ）モノグリシジルエ−テル化合物（メチルグリシジ
ルエ−テル、エチルグリシジルエ−テル、ｎ−プロピル
グリシジルエ−テル、イソプロピルグリシジルエ−テ
ル、ｎ−ブチルグリシジルエ−テル、イソブチルグリシ
ジルエ−テル、ｎ−ヘキシルグリシジルエ−テル、２エ
チルヘキシルグリシジルエ−テル、ｎ−デシルグリシジ
ルエ−テル、アリルグリシジルエ−テル、フエニ−ルグ
リシジルエ−テル、グリシド−ルなど）、酢酸クロライ
ド、２−エチル酪酸クロライド、カプロン酸クロライ
ド、カプリル酸クロライド、２−エチルヘキサン酸クロ
ライド、カプリン酸クロライド、オレイン酸クロライ
ド、ラウリル酸クロライド、プロピオン酸クロライド、
安息香酸クロライド、コハク酸クロライド、マレイン酸
クロライド、フタル酸クロライド、酒石酸クロライド、
クエン酸クロライドなど）ｎ ｍｏｌ （ｎは０≦ｎ≦４の整数） の付加反応物が有用である。

【００６８】本発明の感光層には、有機シリル基を有す
るエチレン性不飽和化合物を含有することが好ましい。
そのような有機シリル基を有するエチレン性不飽和化合
物としては、光重合性層の場合には光重合性のエチレン
性不飽和化合物を、光架橋性層の場合には光架橋性のエ
チレン性不飽和化合物を用いることが好ましい。本発明
にいう有機シリル基は、大別して加水分解性の活性シリ
ル基と非加水分解性のシリル基の二つに分類できる。

【００６９】加水分解性の活性シリル基としては、加水
分解によりシラノール基などの高反応性基が再生するア
ルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシムシリ
ル基などのシリル基とトリメチルシロキシ基、トリエチ
ルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等のように加水
分解によってアルコール性水酸基が再生するものが挙げ
られる。

【００７０】アルコキシシリル基の具体例としてはトリ
メトキシシリル基、トリエトキシシリル基メチルジメト
キシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニルジメ
トキシシリル基、ビニルエトキシシリル基、アリルジメ
トキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、３−メタ
クリロキシプロピルジメトキシシリル基、３−メタクリ
ロキシプロピルジエトキシシリル基、ジメチルメトキシ
シリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニルメトキ
シシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジアニルメト
キシシリル基、ジアニルエトキシシリル基、３−メタク
リロキシプロピルメトキシシリル基、３−メタクリロキ
シプロピルメチルエトキシシリル基等が挙げられる。

【００７１】また、アセトキシシリル基の具体例として
は、トリアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリ
ル基、エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセト
キシシリル基、ジエチルアセトキシシリル基等が挙げら
れる。

【００７２】更にオキシムシリル基の具体例としては、
トリオキシムシリル基、メチルジケトオキシムシリル
基、エチルケトオキシムシリル基等が挙げられる。

【００７３】これらの加水分解性の活性シリル基を有す
るエチレン性不飽和化合物としては、上記の活性シリル
基及び光重合性または光架橋性のエチレン性不飽和基と
が同一分子内に存在すれば、その分子構造にはなんら制
限を受けないが、合成や入手の容易さから下記の様な化
合物が一般的である。

【００７４】すなわち、光重合性のものとしては、炭素
数３０以下の多価アルコール、多価酸や酸無水物あるい
は多価アミンから誘導される（メタ）アクリル酸エステ
ルなど、またエポキシエステルやアリルエステル、（メ
タ）アクリルアミド等、またエポキシエステルの付加反
応物等のエチレン性不飽和化合物等で、これらを合成す
る段階の途中もしくは最後において、上記に定義された
有機シリル基を有する化合物を反応させて同一分子内に
有機シリル基を取り込む方法が一般的である。

【００７５】反応に用いる上記の有機シリル基化合物と
しては、クロロシリル化合物、エポキシアルキルシリル
基、アミノアルキルシリル化合物、メルカプトアルキル
シリル化合物、イソシアナートアルキルシリル化合物等
があり、これらのクロロシリル基、エポキシ基、アミノ
基、メルカプト基、イソシアナート基等を利用して反応
させる。

【００７６】下記に具体例を示すが、これらに限定され
るものではない。

【００７７】 （ａ）３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン （ｂ）２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート １ ｍｏｌ トリエトキシクロロシラン １ ｍｏｌ （ｃ）ペンタエリスリトールトリアクリレート １ ｍｏｌ トリメトキシクロロシラン １ ｍｏｌ （ｄ）エチレングリコールジグリシジルエーテル／メタクリル酸付加反応物 １ ｍｏｌ ３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン ｎ ｍｏｌ （ｎは１≦ｎ≦２の整数） （ｅ）ジエチレントリアミン １ ｍｏｌ グリシジル（メタ）アクリレート ４−ｎｍｏｌ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ｎ ｍｏｌ （ｎは１≦ｎ≦３の整数） （ｆ）トリエチレンテトラアミン １ ｍｏｌ グリシジル（メタ）アクリレート ４−ｎｍｏｌ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ｎ ｍｏｌ （ｎは１≦ｎ≦４の整数） （ｇ）ジアミノジフェニルメタン １ ｍｏｌ グリシジル（メタ）クリレート ４−ｎｍｏｌ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ｎ ｍｏｌ （ｎは１≦ｎ≦４の整数） （ｈ）ｍ−キシレンジアミン １ ｍｏｌ グリシジル（メタ）クリレート ４−ｎｍｏｌ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ｎ ｍｏｌ （ｎは１≦ｎ≦４の整数） （ｉ）３−アミノプロピルトリメトキシシラン １ ｍｏｌ グリシジルメタクリレート ２ ｍｏｌ 光架橋性のものも有機シリル基の導入方法は光重合性の
ものに準ずる。

【００７８】具体例としては、ポリビニルアルコール、
デンプン、セルロースなどのような水酸基含有ポリマの
ケイ皮酸エステルなどにおいて、水酸基の一部をトリメ
トキシクロロシランなどで有機シリル化したものなどが
ある。

【００７９】非加水分解性のシリル基としては非反応性
のシリル基を意味し、アルキルシリル基やアリルシリル
基などが挙げられる。これらの非加水分解性のシリル基
を有するエチレン性不飽和基化合物としては、上記の非
反応性シリル基及び光重合性または光架橋性のエチレン
性不飽和基とが同一分子内に存在すれば、その分子構造
にはなんら制限を受けないが、合成や入手の容易さから
下記の様な化合物が一般的である。下記に具体例を示す
が、これらに限定されない。

【００８０】 （ａ）ｍ−キシレンジアミン １ ｍｏｌ グリシジル（メタ）アクリレート ４−ｎｍｏｌ アリルグリシジルエーテル ｎ ｍｏｌ （ｎは１≦ｎ≦４の整数） 以上の付加反応物と トリメトキシシラン ｎ ｍｏｌ （ｂ）２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート ３ ｍｏｌ メチルトリアセトキシシラン １ ｍｏｌ 本発明においては、有機シリル基を有するエチレン性不
飽和化合物を含有することにより、感光層とシリコーン
ゴム層との接着性がより良好となり、耐刷性が向上す
る。特に本発明においては、有機シリル基として加水分
解性の活性シリル基を用いたエチレン性不飽和化合物を
用いることが好ましく、本発明のシリコーンゴム組成と
の組み合わせにより、適度で安定した接着性を発現する
ことから、画像再現性も良好となる。

【００８１】光重合性接着層成分（２）に言う光重合開
始剤の具体例を下記に示す。各種のベンゾフェノン系化
合物、置換チオキサントン系化合物、置換アクリドン系
化合物、米国特許２３６７６６０号公報に提案されてい
るビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許２３６
７６６１号公報および米国特許２３６７６７０号公報に
提案されているα−カルボニル化合物、米国特許２４４
８８２８号公報に提案されているアシロインエーテル、
米国特許２７２２５１２号公報に提案されているα位が
炭化水素で置換され芳香族アシロイン化合物、米国特許
３０４６１２７号公報および米国特許２９５１７５８号
公報に提案されている多核キノン化合物、米国特許３５
４９３６７号公報に提案されているトリアリールイミダ
ゾールダイマー／ｐ−アミノフェニルケトンの組合わ
せ、米国特許３８７０５２４号公報に提案されているベ
ンゾチアゾール系化合物、米国特許４２３９８５０号公
報に提案されているベンゾチアゾール／トリハロメチル
−ｓ−トリアジン系化合物、米国特許３７５１２５９号
公報に提案されているアクリジンおよびフェナジン化合
物、米国特許４２１９７０号公報に提案されているオキ
サジアゾール化合物、米国特許３９５４４７５号公報、
米国特許４１８９３２３号公報、特開昭５３−１３３４
２８号公報、特開昭６０−１０５６６７号公報、特開昭
６２−５８２４１号公報、特開昭６３−１５３５４２号
公報に提案されている発色団基を有するトリハロメチル
−ｓ−トリアジン系化合物、特開昭５９−１９７４０１
号公報、特開昭６０−７６５０３号公報に提案されてい
るベンゾフェノン基含有ペルオキシエステル化合物など
を挙げることができる。

【００８２】特に本発明において好ましく用いられる光
重合開始剤としては、ミヒラーケトンに代表されるベン
ゾフェノン系化合物、２，４−ジエチルチオキサントン
に代表される置換チオキサントン系化合物、の組合わせ
がある。またさらにＮ−アルキルアクリドンに代表され
る置換アクリドン系化合物を組合わせることが感度およ
び画像再現性特にハイライト再現性向上の観点から好ま
しい。

【００８３】また本発明に用いられる感光層には、染料
や顔料、ｐＨ指示薬、ロイコ染料、界面活性剤、有機
酸、重合禁止剤、光酸発生剤などの各種添加剤を加える
ことも可能である。

【００８４】特に有機酸の添加は、光重合反応を制御す
る点から好ましく添加される。例えば、酢酸、プロピオ
ン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク
酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸など。ま
たジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、
ジブチル錫ジオクトエートなどに代表される公知の有機
金属触媒などを微量感光層中に添加することがシリコー
ンゴム層との接着反応を制御する点から好ましく添加さ
れる。

【００８５】重合禁止剤としては、例えばハイドロキノ
ン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチルクレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４´−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２´−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、フェノチアジン、テンポールなどが有用で
ある。

【００８６】また感光層組成物の塗工性を向上させる目
的から、フッ素系界面活性剤を添加することも好まし
い。

【００８７】光重合性接着層成分（３）に言う形態保持
用充填剤（ポリマ−あるいは無機粉末）の具体例を下記
に示す。

【００８８】（メタ）アクリル酸系化合物共重合体、ク
ロトン酸化合物共重合体、マレイン酸系化合物共重合
体、ロジン変性などの部分エステル化マレイン酸系化合
物共重合体、酸性セルロース誘導体、ポリビニルピロリ
ドン、ポリエチレンオキサイド、アルコール可溶性ナイ
ロン、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン、ポリスチレン、エポキシ樹脂、フェノキシ
樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、部分アセター
ル化ポリビニルアルコール、水溶性ナイロン、水溶性ウ
レタン、ゼラチン、水溶性セルロース誘導体などを単体
もしくは二種類以上混合して用いることが可能である。

【００８９】さらに側鎖に光重合可能または光架橋可能
なオレフィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物
も単体もしくは上記のポリマに加えて二種類以上混合し
て用いることが可能である。

【００９０】具体的には、特開昭５９−５３８３６号公
報に提案されているアリル（メタ）アクリレート／（メ
タ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニ
ルモノマ共重合体、及びそのアルカリ金属塩またはアミ
ン塩、特公昭５９−４５９７９号公報に提案されている
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／（メタ）アク
リル酸／アルキル（メタ）アクリレート共重合体、及び
そのアルカリ金属塩またはアミン塩に（メタ）アクリル
酸クロライドを反応させたもの、特開昭５９−７１０４
８号公報に提案されている無水マレイン酸共重合体にペ
ンタエリスリトールトリアクリレートをハーフエステル
化で付加させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはア
ミン塩、スチレン／無水マレイン酸共重合体にモノヒド
ロキシアルキル（メタ）アクリレー及びまたはポリエチ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート及びまたはポ
リプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートをハ
ーフエステル化で付加させたもの、及びそのアルカリ金
属塩またはアミン塩、（メタ）アクリル酸共重合体やク
ロトン酸共重合体のカルボン酸の一部にグリシジル（メ
タ）アクリレートを反応させたもの、及びそのアルカリ
金属塩またはアミン塩、ヒドロキシアルキル（メタ）ア
クリレート共重合体、ポリビニルホルマール及びまたは
ポリビニルブチラールに無水マレイン酸や無水イタコン
酸を反応させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはア
ミン塩、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート／
（メタ）アクリル酸共重合体に２，４−トリレンジイソ
シアネート／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
＝１：１付加反応物をさらに反応させたもの、、及びそ
のアルカリ金属塩またはアミン塩、特開昭５９−５３８
３６号公報に提案されている（メタ）アクリル酸共重合
体の一部をアリルグリシジルエーテルで反応させたもの
及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、（メタ）アリ
ルアクリレート／スチレンスルフォン酸ナトリウム共重
合体、（メタ）アクリル酸ビニル／スチレンスルフォン
酸ナトリウム共重合体、（メタ）アリルアクリレート／
アクリルアミド／１，１−ジメチルエチレンンスルフォ
ン酸ナトリウム共重合体、（メタ）アクリル酸ビニル／
アクリルアミド／１，１−ジメチルエチレンンスルフォ
ン酸ナトリウム共重合体、２−アリロキシエチル（メ
タ）アクリレート／メタクリル酸共重合体、２−アリロ
キシエチル（メタ）アクリレート／２−メタクリロキシ
エチル水素サクシネート共重合体などを挙げることがで
きる。

【００９１】本発明に用いられる光架橋性層としては以
下に示すようなものが挙げられる。

【００９２】（１）光二量化型の感光性樹脂、例えばポ
リ桂皮酸ビニルなどを含む感光層や重合体の主鎖や側鎖
に、下記の構造を含むポリエステル類、ポリカ−ボネ−
ト類、ポリアミド類、ポリ（メタ）アクリル酸エステル
類、ポリビニルアルコ−ル誘導体、エポキシ樹脂誘導体
など。

【００９３】

【化９】 （ＲおよびＲ' は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ''は
水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルキル基またはシ
アノ基である。）例えば、ｐ−フェニレンジアクリル酸
と１，４−ジヒドロキシエチルオキシシクロヘキサンの
１: １重縮合不飽和ポリエステルやシンナミリデンマロ
ン酸と２官能性グリコ−ル類とから誘導される感光性ポ
リエステル、ポリビニルアルコ−ル、デンプン、セルロ
−スなどのような水酸基含有ポリマのケイ皮酸エステル
など。

【００９４】（２）エポキシ基を有するモノマ、オリゴ
マまたはポリマとジアゾニウム塩との組合わせから成る
感光層。これは露光するとジアゾニウム塩の光分解によ
りルイス酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して架
橋する。ジアゾニウム塩としては、例えば２，５−ジエ
トキシ−４−（ｐ−トルイルチオ）ベンゼンジアゾニウ
ムヘキサフロロフォスフェ−トなどが用いられる。

【００９５】（３）アリル基を有するモノマ、オリゴマ
またはポリマとチオ−ル基を有するモノマ、オリゴマま
たはポリマとのくみあわせから成る感光層。これは露光
するとチオ−ル基がアリル基に付加して架橋する。

【００９６】（４）ジアゾニウム塩、本発明に用いられ
る好ましく用いられるジアゾ化合物としては、ｐ−ジア
ゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物で代
表される水不溶で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂などが挙
げられる。具体的には特公昭４７−１１６７号公報およ
び特公昭５７−４３８９０号公報に記載されているよう
なものが挙げられる。

【００９７】本発明には下記一般式（Ｖ）で示されるジ
アゾ樹脂が好ましく用いられる。

【００９８】

【化１０】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、およびＲ³ は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基を意味し、Ｒ⁴ は水素原子、アルキル
基またはフェニル基を意味する。また、Ｘは陰イオンで
あり、塩素イオンやトリクロロ亜鉛酸、四フッ化ホウ
素、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンスルフ
ォン酸、４，４´−ビフェニルスルフォン酸、２、５−
ジメチルベンゼンスルフォン酸、２−ニトロベンゼンス
ルフォン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベン
ゾイル−ベンゼンスルフォン酸などを意味する。Ｙは−
ＮＨ−、−Ｓ−、−Ｏ−を意味する。） 本発明に用いられるジアゾ樹脂におけるジアゾモノマー
としては、例えば４−ジアゾ−ジフェニルアミン、１−
ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゼン、１−ジ
アゾ−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゼン、１−ジア
ゾ−４−Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロキシエチルアミノベン
ゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエ
チルアミノベンゼン、１−ジアゾ−２，５−ジエトキシ
−４−ベンゾイルアミノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ
−ベンジルアミノベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノベンゼン、１−ジアゾ−４−モルフォリ
ノベンゼン、１−ジアゾ−２，５−ジメトキシ−４−ｐ
−トリルメルカプトベンゼン、１−ジアゾ−２−エトキ
シ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゼン、ｐ−ジアゾ
−ジメチルアニリン、１−ジアゾ−２，５−ジブトキシ
−４−モルフォリノベンゼン、１−ジアゾ−２，５−ジ
エトキシ−４−モルフォリノベンゼン、１−ジアゾ−
２，５−ジメトキシ−４−モルフォリノベンゼン、１−
ジアゾ−２，５−ジエトキシ−４−ｐ−トリルメルカプ
トベンゼン、１−ジアゾ−４−Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチルアミノベンゼン、１−ジアゾ−３−エトキシ
−４−Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノベンゼン、１−
ジアゾ−３−クロロ−４−ジエチルアミノベンゼン、１
−ジアゾ−３−メチル−４−ピロリジノベンゼン、１−
ジアゾ−２−クロロ−４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−５
−メトキシベンゼン、１−ジアゾ−３−メトキシ−４−
ピロリジノベンゼン、３−メトキシ−４−ジアゾジフェ
ニルアミン、３−エトキシ−４−ジアゾジフェニルアミ
ン、３−（ｎ−プロポキシ）−４−ジアゾジフェニルア
ミン、３−（イソプロポキシ）−４−ジアゾジフェニル
アミンなどが挙げられる。

【００９９】また、これらのジアゾモノマーとの縮合剤
として用いられるアルデヒドとしては、例えば、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒ
ド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ベンズ
アルデヒドなどが挙げられる。

【０１００】陰イオンとして、塩素イオンやトリクロロ
亜鉛酸などを用いることと、水溶性のジアゾ樹脂を得る
ことができ、また四フッ化ホウ素、六フッ化燐酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルフォン酸、４，４´−ビフ
ェニルスルフォン酸、２、５−ジメチルベンゼンスルフ
ォン酸、２−ニトロベンゼンスルフォン酸、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルフ
ォン酸などを用いると、有機溶剤可溶性のジアゾ樹脂を
得ることができる。これらの中で好ましいものは、四フ
ッ化ホウ素、六フッ化燐酸である。

【０１０１】またこれらのジアゾ樹脂は下記に説明する
ような水酸基を有する高分子化合物とともに混合して使
用することが好ましい。すなわち、水酸基を有する高分
子化合物としては、アルコール性水酸基を有するモノマ
ー、例えば ２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２、
３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、トリエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、１、３−プロパ
ンジオールモノ（メタ）アクリレート、１、４−ブタン
ジオールモノ（メタ）アクリレート、ジ（２−ヒドロキ
シエチル）マレエートなどの中から選ばれる少なくとも
１種類以上のモノマーと他の水酸基を有さないモノマー
との間での共重合体や、フェノール性水酸基を有するモ
ノマー、例えば Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）
マレイミド、ｏ−、ｍ−、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ
−、ｍ−、ｐ−ヒドロキフェニル（メタ）アクリレー
ト、などとの共重合体、また、ｐ−ヒドロキシ安息香酸
とグリシジル（メタ）アクリレートとの開環反応生成
物、サリチル酸と２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レートとの反応生成物などの水酸基含有モノマーなどと
の共重合体が挙げられる。また、ポリビニルアルコー
ル、セルロース、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールな
どやこれらのエポキシ付加反応物、その他の水酸基含有
天然高分子化合物なども用いることができる。

【０１０２】（５）アジド化合物と環化ゴムを主成分と
する感光層。

【０１０３】次に、ネガティブワ−キング用の感光層に
ついて説明する。本発明に好ましく用いられるネガティ
ブワーキング用の感光層としては、公知のキノンジアジ
ド構造を含む物質から構成されているものが挙げられ
る。

【０１０４】キノンジアジド構造を含む物質とは、通常
ポジ型ＰＳ版、ワイポン版、フォトレジストなどに用い
られているキノンジアジド類のことを意味する。

【０１０５】このようなキノンジアジド類としては、例
えばベンゾキノン−１，２−ジアジド−４−または−５
−スルホン酸とポリヒドロキシフェニルとのエステル、
ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−または−５−ス
ルホン酸とピロガロ−ルアセトン樹脂とのエステル、ナ
フトキノン−１，２−ジアジド−４−または−５−スル
ホン酸とフェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂と
のエステルなどが挙げられる。また低分子量のキノンジ
アジド化合物（例えば、ナフトキノン−１，２−ジアジ
ド−５−スルホン酸と、フェノ−ル、クレゾ−ル、キシ
レノ−ル、カテコ−ル、ピロガロ−ルおよびビスフェノ
−ルＡなどとのエステル化合物など）または上記のキノ
ンジアジド基を含む樹脂に感光性基を含まないノボラッ
ク樹脂（例えば、フェノ−ル、クレゾ−ル、キシレノ−
ル、カテコ−ルおよびピロガロ−ルなどのフェノ−ル類
とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮合させて
得られる可溶可融性樹脂など）を単に混合してもよい。
さらに特開昭５６−８００４６号公報で提案されている
ようなキノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめた
光剥離性感光層も挙げられる。この際用いられる架橋剤
としては、多官能イソシアナ−ト類、例えば、パラフェ
ニレンジイソシアナ−ト、２，４−または２，６−トリ
レンジイソシアナ−ト、４，４´−ジフェニルメタンジ
イソシアナ−ト、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、イ
ソホロンジイソシアナ−トもしくはこれらのアダクト体
など、あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエ
チレングリコ−ルジグリシジルエ−テル類、ポリプロピ
レングリコ−ルジグリシジルエ−テル類、ビスフェノ−
ルＡジグルシジルエ−テル、トリメチロ−ルプロパント
リグリシジルエ−テルなどがある。これらの熱硬化は感
光性物質の感光性を劣化させない範囲、通常１３０℃以
下で行なうことが好ましく、このため通常は触媒などが
併用される。

【０１０６】また、これらのキノンジアジド類に単官能
化合物を反応させて変性し、現像液に難溶もしくは不溶
にする方法としては、同様に該キノンジアジド類の活性
な基を、例えばエステル化、アミド化、ウレタン化する
ことなどが挙げられる。キノンジアジド類の活性な基と
反応させる化合物は、低分子であっても比較的高分子で
あってもよいし、キノンジアジド類をグラフト重合させ
てもよい。

【０１０７】また、下記に示す高分子化合物を添加する
ことも可能である。

【０１０８】（メタ）アクリル酸系化合物共重合体、ク
ロトン酸化合物共重合体、マレイン酸系化合物共重合
体、ロジン変性などの部分エステル化マレイン酸系化合
物共重合体、酸性セルロース誘導体、ポリビニルピロリ
ドン、ポリエチレンオキサイド、アルコール可溶性ナイ
ロン、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン、ポリスチレン、エポキシ樹脂、フェノキシ
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアル
コール、部分アセタール化ポリビニルアルコール、水溶
性ナイロン、水溶性ウレタン、ゼラチン、水溶性セルロ
ース誘導体などの単体もしくは二種類以上混合物など。

【０１０９】本発明に用いられる感光層の膜厚は乾燥重
量で、０．１〜１００ｇ／ｍ² の範囲が好ましく、０．
５〜１０ｇ／ｍ² の範囲がさらに好ましい。該膜厚が薄
すぎると塗工時にピンホールなどの欠点が生じ易くな
り、一方、厚すぎると塗膜乾燥や量など経済的見地から
不利である。

【０１１０】本発明に用いられる、水なし平版印刷版原
版の基板としては、通常の平版印刷機に取り付けられる
たわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるものである必
要がある。代表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、な
どの金属板、ポリエステルフィルムやポリプロピレンフ
ィルムなどのプラスチックフィルムあるいはコート紙、
ゴムシートなどが挙げられる。

【０１１１】また、該基板は上記の素材が複合されたも
のであってもよいし、これらの基板上にはハレーション
防止、画像の染色や印刷特性向上のために水なし平版印
刷版に好ましく積層される。

【０１１２】基板と感光層の間には、基板と感光層の接
着力を向上させる、基板と感光層の反応を防止し保存安
定性を向上させる、コントラストを向上させるなどの目
的のため、プライマー層を設けることができる。

【０１１３】プライマー層としては、例えば、特開昭６
０−２２９０３号公報に提案されている種々の感光性ポ
リマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめたも
の、特開平４−３２２１８１号公報に提案されているメ
タクリル系含リンモノマを感光層を積層する前に露光し
て硬化せしめたもの、特開平２−７０４９号公報に提案
されているメタクリル系エポキシ化合物を感光層を積層
する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭６２−５０
７６０号公報に提案されているエポキシ樹脂を熱硬化せ
しめたもの、特開昭６３−１３３１５１号公報に提案さ
れているゼラチンを硬膜せしめたもの、特開平１−２８
２２７０号公報や特開平２−２１０７２号公報に提案さ
れているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることが
できる。この他にもカゼインを硬膜させたものも有効で
ある。

【０１１４】さらにプライマー層を柔軟化させる目的
で、前記プライマー層にガラス転移温度が室温以下であ
るポリウレタン、ポリアミド、スチレン／ブタジエンゴ
ム、カルボキシ変性スチレン／ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル／ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロ
ニトリル／ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アク
リレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、などのポリマを添加してもよい。

【０１１５】その添加割合は任意であり、フィルム層を
形成できる範囲であれば、添加剤だけでプライマー層形
成してもよい。また、これらのプライマー層には前記の
目的に沿って、染料、ｐＨ指示薬、露光焼出し剤、フォ
トクロ化合物、光重合開始剤、接着助剤（例えば、重合
性モノマ、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタネ
ートカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、ジ
ルコニアカップリング剤、ボロンカップリング剤な
ど）、白色顔料やシリカ粒子などの添加剤を含有させる
ことができる。

【０１１６】本発明に用いられるプライマー層の膜厚は
乾燥重量で０．１〜２０ｇ／ｍ² の範囲が好ましく、１
〜１０ｇ／ｍ² の範囲がさらに好ましい。

【０１１７】以上に説明された構成の水なし平版印刷版
のインキ反発性層の表面には、該インキ反発性層を保護
する目的で適当な保護層をコーティングにより該インキ
反発性層上に形成したり、保護フィルムをラミネートす
ることも可能である。また、該保護層中には感光層を曝
光（露光光源以外の光で、本来非照射部分に光が照射さ
れることを意味する）から保護する目的で、光退色性物
質を含有させることもできる。

【０１１８】保護フィルムの具体例としては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタ
レート、セロファンなどが挙げられる。また、これらの
保護フィルムは画像露光時の焼枠における真空密着性を
改良するために、表面をマット処理したり、シリカ粒子
などを含むプラスチック層を上記保護フィルムの表面に
塗布積層することも好ましく行なわれる。

【０１１９】次に本発明における水なし平版印刷版原版
の製造方法について説明する。基板上にリバースロール
コーター、エアーナイフコーター、メーヤバーコーター
などの通常のコータ、あるいはホエラーのような回転塗
布装置を用い、必要に応じてプライマ層組成物を塗布し
１００〜３００℃数分間硬化したのち、感光層組成物塗
液を塗布、５０〜１５０℃で数分間乾燥および必要に応
じて熱キュアし、その上にシリコーンガム組成物を塗布
し、５０〜１５０℃で数分間熱処理してゴム硬化させて
形成する。しかるのちに、必要に応じて保護フィルムを
ラミネートする。

【０１２０】次に本発明でいう水なし平版印刷版の露光
現像工程について説明する。

【０１２１】本発明でいう水なし平版印刷版は、好まし
くはポジティブワーキンク用の版材として用いられる。
該版材は真空密着されたポジフィルムを通じて、通常の
露光光源により画像露光する。この露光工程で用いられ
る光源としては、例えば高圧水銀灯、カーボンアーク
灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯などが挙げ
られる。このような通常の露光を行なったのち版面を下
記に説明する現像液を含んだ現像パッドやブラシでこす
ると、未露光部のシリコーンゴム層が除去されて感光層
が露出し、インキ受容部（画線部）が露出し刷版とな
る。

【０１２２】本発明で用いられる現像液としては、公知
のものが使用でき、感光層を適当に溶解もしくは膨潤さ
せるものが好ましい。例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキ
サン、ヘプタン、“アイソパー”Ｅ，Ｈ，Ｇ（ＥＳＳＯ
製イソパラフィン系炭化水素の商品名）、ガソリン、灯
油など）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、な
ど）、ハロゲン化炭化水素類（トリクレンなど）などの
少なくとも１種類以上の混合溶媒に下記の極性溶媒を少
なくとも１種類添加したものが好ましく用いられる。

【０１２３】アルコール類（メタノール、エタノール、
プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、１、３−ブチレングリコール、２、３−ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、２−エチル−１、３
−ヘキサンジオール、など） エーテル類（エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコール、モノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−
２−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコール
モノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリールモノメチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフランなど） ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコールなど） エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアエテートなど） カルボン酸（２−エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸など）

【０１２４】また、上記の有機溶剤系現像液組成には水
を添加したり、公知の界面活性剤を添加することも自由
に行なわれる。また、さらにアルカリ剤、例えば炭酸ナ
トリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを添
加することもできる。

【０１２５】またこれらの現像液にはクリスタルバイオ
レット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行なうことができ
る。

【０１２６】また、本研究に用いられる水なし平版印刷
版原版を現像する際には、例えば東レ( 株) にて市販さ
れているような自動現像機を用い、上記の現像液で版面
を前処理した後に水道水などでシャワーしながら回転ブ
ラシで版面を擦ることによって、好適に現像することが
できる。また、上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を
版面に噴霧することによっても現像が可能である。

【０１２７】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されない。なお、以下の
実施例で使用するシリコーンゴム層中の有機金属化合物
を表１にまた架橋剤及びその添加量を表２に示す。

【０１２８】

【表１】

【表２】 実施例１ 厚さ０．２４ｍｍの脱脂処理されたアルミニウム板（住
友軽金属（株）製）に下記組成よりなるプライマ−液を
塗布した後２３０℃、１分間加熱乾燥し、厚さ３ｇ／ｍ
² のプライマ−層を設けた。

【０１２９】 （１）エポキシ／尿素系樹脂 １４重量部 （２）エチルセロソルブ ２０重量部 （３）エチルセロソルブアセテ−ト ２０重量部 （４）ジメルホルムアミド ４５重量部 次にこのプライマー層上に、下記の組成を有する光重合
性感光液を塗布した後１００℃、１分間加熱乾燥し、厚
さ４ｇ／ｍ² の塗膜を設けた。

【０１３０】 （１）アジピン酸とポリエチレングリコ−ルからなるポリエステルポリオ−ルと イソホロンジイソシアネ−トとからなるポリウレタン ６０重量部 （２）Ｎ，Ｎ，Ｎ´−トリ−（２−ヒドロキシ−３−メタアクリロイルオキシプ ロピル）−Ｎ´−モノ−（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）ペンタオキ シプロピレンジアミン １０重量部 （３）テトラエチレングリコ−ルジアクリレ−ト １０重量部 （４）Ｎ，Ｎ´−ジ−（２−ヒドロキシ−３−メタアクリロイルオキシプロピル ）−Ｎ，Ｎ´−ジ−（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）ｍ−キシレンジ アミン １０重量部 （５）４、４´−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （６）Ｎ−メチルアクリドン ５重量部 （７）ビクトリアピュアブルーＢＯＨナフタレンスルホン酸塩 ０．５重量部 （８）アジピン酸 ０．５重量部 （９）エチルセルソルブ ５８０重量部 続いて、この感光層上に下記の組成を有するシリコ−ン
ゴム液を塗布した後１２０℃、２分間加熱乾燥し、厚さ
２ｇ／ｍ² シリコ−ンゴム層を設けた。

【０１３１】 （１）両末端シラノ−ルジメチルポリシロキサン（重量平均分子量１００，００ ０） １００重量部 （２）エチルトリアセトキシシラン（Ｅ−１） １２重量部 （３）Ｔ−１ ０．０１重量部 （４）アイソパ−Ｅ ７５０重量部 上記のように作製した版に、厚さ１２μｍの片面マット
化二軸延伸ポリプロピレンフィルムをマット化されてい
ない面がシリコーンゴム層と接するようにしてカレンダ
ーローラーを用いてラミネ−トして、保護フィルムとし
ポジ型の水なし平版印刷版原版を得た。

【０１３２】又、この印刷版原板を作製した後、６０
℃、ＲＨ８０％の雰囲気下で２週間、強制保存したもの
を経時後の平版印刷版原版とした。これらの水なし平版
印刷版原版を３ｋＷの超高圧水銀灯（オ−ク製作所製）
を用い、ポジフィルムを通して９０秒間密着露光後、版
から保護フィルムを剥離し、自動現像機（ＴＷＬ−１１
６０、東レ（株）製）で搬送速度６０ｃｍ／ｍｉｎで現
像を行い刷版とした。このようにして得られた刷版の画
像再現性は、ＰＣＷ（PLATE CONTOROL WEDGE; ＫＡＬＬ
Ｅ社製）におけるパターン再現性で目視評価した。また
耐スクラッチ性及び耐刷性は、オフセット印刷機（小森
スプリント４色機）に取り付け、大日本インキ化学工業
（株）製“ドライオカラ−”墨、藍、紅、黄インキを用
いて上質紙（62.5Kg／菊）にて印刷し、耐刷テストを行
って印刷物及び版面のシリコーンゴム層の損傷状況を目
視観察することによって評価した。２２０，０００枚の
印刷を行った場合にも、ポジフィルムに忠実な印刷物が
得られ印刷終了後の版面のシリコーンゴムの損傷も軽微
であった。また、経時後の版も初期と同等の結果を示し
た。

【０１３３】比較例１ 実施例１において、シリコーンゴム層に縮合触媒を添加
しない他は実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原
版を作成した。

【０１３４】５０，０００枚の印刷を行ったところで、
版面のシリコーンゴム層に大きな損傷が生じ、ポジフィ
ルムの画像を忠実に再現した印刷物を得ることはできな
かった。

【０１３５】また初期と経時後のこれらの性能は、ほぼ
同等であった。

【０１３６】比較例２〜５ 実施例１において、縮合触媒の添加量を表３に示す部数
に変更し、その他は実施例１と同様の方法で水なし平版
印刷版原版を作成した。

【０１３７】比較例６〜１１ 実施例１において、架橋剤の種類と添加量を表２に示す
組み合わせに変更し縮合剤媒の添加量を表３に示す部数
に変更し、その他は実施例１と同様の方法で水なし平版
印刷版原版を作成した。

【０１３８】比較例１２〜１５ 実施例１において、表３に示す縮合触媒種類と添加部数
に変更し、その他は実施例１と同様の方法で水なし平版
印刷版原版を作成した。

【０１３９】実施例２〜４ 実施例１の縮合触媒の添加量を表３に示す部数に変更し
た他は実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原版を
作成した。

【０１４０】実施例５〜１３ 実施例１の縮合触媒を表３に示す触媒に変更した他は実
施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成し
た。

【０１４１】実施例１４〜１７ 実施例１の架橋剤及び添加量を表２に示す組み合わせに
変更した他は実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版
原版を作成した。

【０１４２】このようにして得られた実施例２〜１３及
び比較例５〜８に対応する水なし平版印刷版原版及び経
時後の水なし平版印刷版原版を実施例１と同様の方法で
評価した。

【０１４３】結果を表３に示す。

【０１４４】

【表３】 表３に示す通り、本発明によりシリコーンゴム層中の縮
合触媒の添加量を最適化することで画像再現性、耐スク
ラッチ性、耐刷性に優れ且つこれらの性能が経時後も初
期と同等である水なし平版印刷版原版を得ることができ
た。また、各種の有機金属化合物やシリコーンゴム層中
の架橋剤を変更した系でも実施例１と同様な向上効果が
確認された。

【０１４５】シリコーンゴム層に縮合触媒を添加しない
比較例１は、シリコーンゴム形成の反応速度が遅く、耐
スクラッチ性や耐刷性が極めて劣る印刷版であった。本
発明よりも触媒添加量が少ない場合（比較例２、６、
８、１０、１２、１４）、添加した触媒全部がシリコー
ンゴム形成に寄与するため未反応の触媒が存在しない。
従って初期と経時後の画像再現性、耐スクラッチ性及び
耐刷性はほぼ同等であるが、シリコーンゴム形成に必要
な触媒量が入っていないため良好なシリコーンゴムが形
成できない。従って実施例と比較して初期の耐スクラッ
チ性、耐刷性が劣る。また、本発明よりも添加量が多い
場合（比較例３、４、５、７、９、１１、１３、１
５）、耐スクラッチ性や耐刷性は上記条件（比較例２、
６、８、１０、１２、１４）よりも良好ではあるが、シ
リコーンゴム形成時の反応速度が早いため良好なゴムが
得れず、実施例と比較して初期の耐スクラッチ性及び耐
刷性が劣る。また、触媒がシリコーンゴム形成にあたっ
て必要以上の量すなわち過剰な量入っていることから、
初期と比較して経時後の性能が劣る結果しか得られなか
った。

【０１４６】実施例１８ 実施例１において、感光層中に３ーメタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシランを５部添加した他は実施例１と
同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成した。

【０１４７】実施例１９〜２１ 実施例１において、両末端シラノ−ルジメチルポリシロ
キサンの重量平均分子量を６０，０００に変更し、縮合
触媒を表４に示す添加部数に変更した他は実施例１と同
様の方法で水なし平版印刷版原版を作成した。

【０１４８】実施例２２〜２４ 実施例１において、両末端シラノ−ルジメチルポリシロ
キサンの重量平均分子量を１５０，０００に変更し、縮
合触媒を表４に示す添加部数に変更した他は実施例１と
同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成した。

【０１４９】比較例１６、１７ 実施例１において、両末端シラノ−ルジメチルポリシロ
キサンの重量平均分子量を６０，０００に変更し、縮合
触媒を表４に示す添加部数に変更した他は実施例１と同
様の方法で水なし平版印刷版原版を作成した。

【０１５０】比較例１８、１９ 実施例１において、両末端シラノ−ルジメチルポリシロ
キサンの重量平均分子量を１５０，０００に変更し、縮
合触媒を表４に示す添加部数に変更した他は実施例１と
同様の方法で水なし平版印刷版原版を作成した。

【０１５１】このようにして得られた実施例１８〜２４
及び比較例１６〜１９対応する水なし平版印刷版原版及
び経時後の水なし平版印刷版原版を実施例１と同様の方
法で評価した。

【０１５２】結果を表４に示す。

【０１５３】

【表４】 表４より、本発明の組成で且つ感光層中に３ーメタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシランを含有させたた版
は、より良好なＳＫ接着力（シリコーンゴム層と感光層
間の接着力）を有することから初期、経時ともに良好な
結果が得られた。また、本発明によって両末端シラノー
ルジメチルポリシロキサンの重量平均分子量に関係な
く、画像再現性、耐スクラッチ性、耐刷性に優れ、且つ
これらの性能が経時後も初期と同等である水なし平版印
刷版原版を得ることができ、実施例１と同様な向上効果
が確認された。

【０１５４】しかし本発明よりも触媒添加量が少ない場
合や添加量が多い場合は両末端シラノールジメチルポリ
シロキサンの重量平均分子量について広い範囲において
初期、経時後ともに極めて劣る結果が得られた。

【０１５５】実施例２５ 実施例１において、感光層組成を下記組成に変更し感光
層を形成した他は実施例１と同様の方法で水なし平版印
刷版原版を作成した。

【０１５６】プライマー層上に、下記の組成を有する光
重合性感光液を塗布した後１００℃、１分間加熱乾燥
し、厚さ４ｇ／ｍ² の塗膜を設けた。

【０１５７】 （１）アジピン酸とポリエチレングリコ−ルからなるポリエステルポリオ−ルと イソホロンジイソシアネ−トとからなるポリウレタン ６０重量部 （２）Ｎ，Ｎ，Ｎ´−テトラ−（２−ヒドロキシ−３−メタアクリロイルオキシ プロピル）ｍ−キシレンジアミン ３０重量部 （３）４，４´−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン ４重量部 （４）Ｎ−メチルアクリドン ５重量部 （５）ビクトリアピュアブルーＢＯＨナフタレンスルホン酸塩 ０．５重量部 （６）エチルセルソルブ ５８０重量部 実施例２６、２７ 実施例２５の縮合触媒の添加量を表３に示す部数に変更
した他は実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原版
を作成した。

【０１５８】実施例２８〜３０ 実施例１の縮合触媒を表３に示す触媒及び添加部数に変
更した他は実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原
版を作成した。

【０１５９】比較例２０、２１ 実施例２５の縮合触媒の添加量を表３に示す部数に変更
した他は実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原版
を作成した。

【０１６０】比較例２２、２３ 実施例２５の架橋剤及び添加量を表２に示す組み合わせ
に変更し、縮合触媒の添加量を表３に示す部数に変更し
た他は実施例１と同様の方法で水なし平版印刷版原版を
作成した。

【０１６１】このようにして得られた実施例２５〜３０
及び比較例２０〜２３に対応する水なし平版印刷版原版
及び経時後の水なし平版印刷版原版を実施例１と同様の
方法で評価した。

【０１６２】

【表５】 感光層に特定のモノマーを含む場合（実施例１〜２４）
と比較すると耐刷性における効果は若干劣るが、感光層
のモノマ組成を変更した場合においても、本発明による
効果が確認された（実施例２５〜３０）。

【０１６３】しかし感光層を変更しても、本発明よりも
触媒添加量が少ない場合や添加量が多い場合は、実施例
と比較して初期、経時後ともに極めて劣る結果が得られ
た。

【０１６４】

【発明の効果】本発明の水なし平版を用いることで、画
像再現性とインキ反撥性に優れ、同時に経時的にも安定
して優れた耐スクラッチ性、耐刷性を示すものとなる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/085

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、少なくとも感光層およびインキ
   反撥層をこの順に設けてなる水なし平版印刷用原版にお
   いて、該インキ反撥層がポリオルガノシロキサンと縮合
   触媒を含有し、ポリオルガノシロキサン１００重量部に
   対して縮合触媒が０．００１〜０．５重量部であるシリ
   コーンガム組成物を架橋硬化してなることを特徴とする
   水なし平版印刷版原版。
2. 【請求項２】ポリオルガノシロキサン１００重量部に対
   して縮合触媒が０．００１〜０．０１重量部であること
   を特徴とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。
3. 【請求項３】縮合反応架橋剤が脱酢酸型架橋剤および／
   または脱オキシム型架橋剤であることを特徴とする請求
   項１または２記載の水なし平版印刷版原版。
4. 【請求項４】ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量
   が５００００〜１５００００であることを特徴とする請
   求項１〜３のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
5. 【請求項５】感光層が下記一般式（１）で表されるジア
   ミン誘導体および／または下記一般式（２）で表される
   ジアミン誘導体を含有することを特徴とする請求項１〜
   ４のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版 【化１】 【化２】 ［ただしＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及
   びＲ¹⁰は水素、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜
   ２０の置換アシル基、アクリロイル基またはメタアクリ
   ロイル基を表す。Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は、水素または炭素数１
   〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜５０の数を表す。
   Ｒ¹ 〜Ｒ¹⁰はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘ
   は、 【化３】 のいずれかを表す。ｍは１〜２０の数字を表す。］
6. 【請求項６】Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ
   ⁹ 及びＲ¹⁰の少なくとも１つが、水素、アルキル基、ア
   リール基、アクリロイル基またはメタアクリロイル基で
   あることを特徴とする請求項５記載の水なし平版印刷版
   原版。
7. 【請求項７】一般式（１）中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及びＲ
   ⁴ のうち、１〜４個がアクリロイル基、またはメタアク
   リロイル基であることを特徴とする請求項５記載の水な
   し平版印刷版原版。
8. 【請求項８】一般式（１）中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及びＲ
   ⁴ のうちアクリロイル基メタアクリロイル基以外のもの
   が、水素、炭化水素基または置換炭化水素基であること
   を特徴とする請求項７記載の水なし平版印刷版原版。
9. 【請求項９】一般式（１）中、ｎが１〜１０であること
   を特徴とする請求項５記載の水なし平版印刷版原版。
10. 【請求項１０】一般式（１）中、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ の少なく
    とも１つが、水素またはメチル基であることを特徴とす
    る請求項５記載の水なし平版印刷版原版。
11. 【請求項１１】一般式（２）中、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及び
    Ｒ¹⁰のうち、１〜３個がアクリロイル基またはメタアク
    リロイル基であることを特徴とする請求項５記載の水な
    し平版印刷版原版。
12. 【請求項１２】一般式（２）中、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及び
    Ｒ¹⁰のうち、１〜３個がアクリロイル基またはメタアク
    リロイル基以外のものが、水素、炭化水素基または置換
    炭化水素基であることを特徴とする請求項１１記載の水
    なし平版印刷版原版。
13. 【請求項１３】感光層に、光重合可能なエチレン性不飽
    和モノマーもしくはオリゴマー、形態保持用バインダー
    ポリマー及び光重合開始剤を含有することを特徴とする
    請求項１〜１２のいずれかに記載の水なし平版印刷版原
    版。
14. 【請求項１４】感光層に有機シリル基を有するエチレン
    性不飽和化合物を含有することを特徴とする請求項１〜
    １３のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
15. 【請求項１５】有機シリル基が加水分解性の活性シリル
    基であることを特徴とする請求項１４記載の水なし平版
    印刷版原版。
16. 【請求項１６】有機シリル基が非加水分解性の活性シリ
    ル基であることを特徴とする請求項１４記載の水なし平
    版印刷版原版。