JP3309598B2 - 水なし平版印刷版原版の製造方法 - Google Patents

水なし平版印刷版原版の製造方法

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JP3309598B2
JP3309598B2 JP28465894A JP28465894A JP3309598B2 JP 3309598 B2 JP3309598 B2 JP 3309598B2 JP 28465894 A JP28465894 A JP 28465894A JP 28465894 A JP28465894 A JP 28465894A JP 3309598 B2 JP3309598 B2 JP 3309598B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水なし平版印刷版原板
に関するものであり、特に現像性に優れた水なし平版印
刷版を安定して製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。なかでも、特公昭54−26923号公報、
特公昭56−23150号公報などに提案された支持体
上に感光層およびシリコーンゴム層を順次積層してなる
水なし平版印刷版、また、特公平3−56622号公
報、特開昭61−153655号公報などに提案されて
いる支持体上に光二量化型感光層とシリコ−ンゴム層と
が積層された水なし平版印刷版、さらに特公昭61−5
4218号公報などに提案された支持体上にオルトキノ
ンジアジド化合物を含む感光層上に接着層を設けた水な
し平版印刷版、あるいは特公昭61−54222号公報
などに提案された光剥離性感光層上にシリコ−ンゴム層
を設けた水なし平版印刷版などは、湿し水を用いること
なく実用的な印刷が可能である。
【0003】一般的に、これらの水なし平版印刷版原版
を実際に印刷に供するためには、公知の方法により画像
露光処理が施された後に現像処理を行うことが必要とさ
れるが、ここで言う現像処理とは、該印刷原版の画線部
シリコーンゴム層を所定の溶剤で膨潤させた後、ブラシ
で除去することにより達成される。
【0004】ポジ型の水なし平版印刷版原版において
は、画線部即ち未露光部の感光層とシリコーンゴム層間
の剥離接着力が強くなるにつれて、画線部シリコーンゴ
ム層の除去は困難となり、刷版における微小網点再現性
を悪化させ、ポジフィルムの画像を忠実に再現した印刷
物を得ることができない。即ち、現像処理段階において
は、感光層とシリコーンゴム層間の剥離接着力は低い方
が好ましい。
【0005】一方印刷段階においては、感光層とシリコ
ーンゴム層間の剥離接着力が低くなると刷版の版面強度
が低下するため、耐刷力に欠けるという問題を生じる。
【0006】このため、水なし平版印刷版原版におい
て、感光層とシリコーンゴム層間の剥離接着力は、最終
印刷品質を決定付ける重要な因子であり、現像性能と耐
刷力のバランスを考慮しつつ、要求品質に合わせてこれ
を制御することが極めて重要である。
【0007】この接着力を調節する方法としては、層構
成組成を逐次変える方法がある、例えば、シリコーンゴ
ム層中の架橋剤の添加量や感光層中のポリマ種類や添加
量等の変更により制御することは当然可能ではあるが、
この場合生産効率を著しく低下させる上に、切替えロス
の増大により歩留まりを低下させ、経済的にも不利とな
ってしまう。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
の解決を図るもので、要求品質に合わせて、製造工程で
感光層とシリコーンゴム層間の剥離接着力を制御するこ
とのできる水なし平版印刷版原版の製造方法を提供する
ものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
支持体上に少なくとも感光層、シリコーンゴム層を順次
積層してなる水なし平版印刷版原版の製造方法におい
て、少なくとも感光層を塗布した後からシリコーンゴム
層を塗布する間に調湿ゾーンを設け、前記ゾーン内の温
湿度を調節する事により、感光層とシリコーンゴム層間
の剥離接着力を制御可能とする事を特徴とする水なし平
版印刷版原版の製造方法によって達成される。
【0010】すなわち、本発明は「支持体上に少なくと
も感光層、シリコーンゴム層を順次塗布してなる水なし
平版印刷版原版の製造方法において、感光層塗布工程と
シリコーンゴム層塗布工程との間に、温度15〜50
℃、相対湿度30〜85%RH、かつ相対湿度の変動幅
が±5%RHである調湿ゾーンにて処理する工程を有す
ることを特徴とする水なし平版印刷版原版の製造方
法。」からなるものである。
【0011】図1の製造工程模式図により、本発明にお
ける一般的な製造方法を説明する。
【0012】まず、支持体を準備する。支持体として
は、平版印刷用原版に形態保持性を与え、印刷に耐え得
るものであればどのようなものでも良く、高分子フィル
ム、金属板、紙、あるいはこれらの複合材料が好ましく
用いられる。一般的には、連続状の支持体が使用され、
コイル状に巻かれたものが好ましく用いられる巻出し機
1より巻出された支持体は、以降の塗布工程に備え、必
要によっては支持体の洗浄、すすぎ、乾燥を前処理ゾー
ン2において行う。この場合、洗浄は支持体に微小な凹
凸を付け、その後の塗布の際に塗膜との接着性を向上さ
せる機能を含んでいてもよい。
【0013】必要に応じて、プライマー層コーター室3
において、プライマー層塗布装置17によって、プライ
マー層を塗布し、それをその後に続く熱処理ゾーン4で
乾燥(場合によってはキュア)してプライマー層を設け
る。このプライマー層は本発明では必須ではないが、支
持体と感光層との接着性向上、印刷版とした際の検版性
の向上のために有効である。
【0014】プライマー層を構成する材料としては、一
般的には樹脂または樹脂組成物が使用され、エポキシ樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂などを
挙げることができるが、これらに限定されない。
【0015】支持体上、またはプライマー層上に、感光
層コーター室5において、感光層塗布装置18を用い
て、感光層組成物を塗布し、それをその後に続く感光層
熱処理ゾーン6で乾燥(場合によってはキュア)して感
光層とする。この場合、感光層組成物は溶液とするのが
一般的である、感光層熱処理ゾーン6の温度としては8
0℃以上200℃以下の範囲が好ましく用いられる。
【0016】感光層組成物としては、下記に挙げる感光
性樹脂組成物が例示される。 (1)エチレン性不飽和基が結合した化合物を用いた光
重合性または光二量化性などの光硬化性組成物 (2)ジアゾ基が結合した化合物を用いた光硬化性組成
物 (3)キノンジアジド基が結合した化合物を用いた光分
解性組成物
【0017】以下に各感光性樹脂組成物について具体的
に説明する。
【0018】まず(1)エチレン性不飽和基が結合した
化合物を用いた光重合または光二量化などの光硬化性組
成物のうち、光重合性の組成物について説明する。
【0019】エチレン性不飽和結合を有し光重合性を有
する化合物、すなわちモノマとしては、下記一般式
(I)で表わされるモノマが挙げられる。 R1 2 N−(X1 p −(X2 q −NR3 4 (I) (式中X1 は、炭素数1〜20の置換または無置換の環
式または非環式のアルキレン、置換または無置換のフェ
ニレン、置換または無置換のアラルキレンであり、その
置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン
原子、水酸基、アリール基、から選ばれる2価基を表わ
す。X2 は、-OE 1 - 、-S-E2 - 、-NH-E 3 - 、-CO-O-
E 4 - 、-SO2-NH-E 5 - であり、これらE1 、E2 、E
3 、E4 、E5 は、上記のそれぞれ置換または無置換の
アルキレン、フェニレン、アラルキレンから選ばれる2
価の連結基を表わす。pは1以上の整数、qは0または
1以上の整数を表わす。R1 、R2 、R3 、R4 は、水
素原子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル
基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換
のアラルキル基または下式(II)、(III) 、(IV)から
選ばれる官能基を意味し、同一でも異なってもよい。置
換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原
子、水酸基、アリール基を表わす。ただし一般式(I)
の分子中に少なくとも1個以上のエチレン性不飽和基を
含む。 R5 −Y−(X3 n −CH(OH)−CH2 − (II) R6 −Ym −(X4 n −CO− (III ) R7 −Ym −(X5 n −SO2 − (IV) ここでR5 、R6 、R7 は、水素原子、炭素数1〜20
の置換または無置換のアルキル基、置換または無置換の
フェニル基、置換または無置換のアラルキル基、CH2 =C
H-基、CH2 =CCH3 - 基を表わす。Yは-CO-O-、-CO-NH-
、置換または無置換フェニレン基を表わす。X3 、X
4 、X5 は上記X1 、X2 と同義を意味する。m、nは
0または1を表わす。) 特に、下記ジアミン化合物(a) に光重合可能な基を有す
るグリシジル(メタ)アクリレ−ト(b) および光重合可
能な基をもたないモノグリシジルエ−テル化合物(c) を
付加反応させたものが好ましく用いられる。 (a) ジアミン化合物(モノオキシエチレンジアミン、
ジオキシエチレンジアミン、トリオキシエチレンジアミ
ン、テトラオキシエチレンジアミン、ペンタオキシエチ
レンジアミン、ヘキサオキシエチレンジアミン、ヘプタ
オキシエチレンジアミン、オクタオキシエチレンジアミ
ン、ノナオキシエチレンジアミン、デカオキシエチレン
ジアミン、トリトリアコンタオキシエチレンジアミン、
モノオキシプロピレンジアミン、ジオキシプロピレンジ
アミン、トリオキシプロピレンジアミン、テトラオキシ
プロピレンジアミン、ペンタオキシプロピレンジアミ
ン、ヘキサオキシプロピレンジアミン、ヘプタオキシプ
ロピレンジアミン、オクタオキシプロピレンジアミン、
ノナオキシプロピレンジアミン、デカオキシプロピレン
ジアミン、トリトリアコンタオキシプロピレンジアミ
ン、N−ヒドロキシエチルヘキサプロピレンジアミン、
N−ヒドロキシイソプロピルヘキサプロピレンジアミ
ン、N,N´−ジヒドロキシエチルヘキサプロピレンジ
アミン、N,N´−ジヒドロキシイソプロピルヘキサプ
ロピレンジアミン、トリメチレンビス(4−アミノベン
ゾエート)、(テトラメチレングリコールビス(4−ア
ミノベンゾエート)、ジブチレングリコールビス(4−
アミノベンゾエート)、o−キシリレンジアミン、m−
キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、N−ヒ
ドロキシエチル−m−キシリレンジアミン、N−ヒドロ
キシイソプロピル−m−キシリレンジアミン、N,N´
−ジヒドロキシエチル−m−キシリレンジアミン、N,
N´−ジヒドロキシイソプロピル−m−キシリレンジア
ミンなど)1 mol (b) グリシジル(メタ)アクリレ−ト
4−s mol (c) モノグリシジルエ−テル化合物(メチルグリシジル
エ−テル、エチルグリシジルエ−テル、n−プロピルグ
リシジルエ−テル、イソプロピルグリシジルエ−テル、
n−ブチルグリシジルエ−テル、イソブチルグリシジル
エ−テル、n−ヘキシルグリシジルエ−テル、2エチル
ヘキシルグリシジルエ−テル、n−デシルグリシジルエ
−テル、アリルグリシジルエ−テル、フエニ−ルグリシ
ジルエ−テル、グリシド−ルなど)
s mol (0≦s<4)からなる(a),(b),(c) の付加反応物が有
用である。
【0020】また上記に説明したアミノ基を有するエチ
レン性不飽和化合物の他にも、少量にポリジメチルシロ
キサン、シリコーンレジン、公知の各種変性ポリジメチ
ルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサ
ン、シリコーン(メタ)アクリレートなどのシリコーン
化合物を添加することも可能である。特にシリコーン
(メタ)アクリレートの少量添加は感度調整などの点か
ら有効である。
【0021】シリコーン(メタ)アクリレートの具体例
としては、1,3−ビス(3−メタクリロキシプロピ
ル)−1,1,3,3,−テトラメチルジシロキサン、
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
1−(3−メタクリロキシプロピル)1,1,3,3,
3−ペンタメチルジシロキサン、3−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピ
ルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、α,ω−メタ
クリロキシプロピルポリジメチルシロキサン、ポリ(メ
タクリロキシプロピルメチル−co−ジメチル)シロキ
サンなどが挙げられる。
【0022】本発明に用いられる光重合性の感光層中に
は、これらの特定の構造および機能を果たすモノマの他
に感度調整などの目的からその他公知のモノマまたはオ
リゴマを添加することもできる。
【0023】このようなモノマまたはオリゴマの具体例
を下記の示す。
【0024】アルコール類(エタノール、プロパノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、イソアミルアルコール、ラウリルアルコー
ル、ステアリルアルコール、ブトキシエチルアルコー
ル、エトキシエチレングリコール、メトキシエチレング
リコール、メチキシプロピレングリコール、フェノキシ
エタノール、フェノキシジエチレングリコール、テトラ
ヒドロフルフリルアルコールなど)の(メタ)アクリル
酸エステル、カルボン酸類(酢酸、プロピオン酸、安息
香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイン
酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸など)と(メタ)アク
リル酸グリシジル、テトラグリシジル−m−キシリレン
ジアミンまたはテトラグリシジル−m−テトラヒドロキ
シリレンジアミンとの付加反応物、アクリルアミド誘導
体(アクリルアミド、メタクリルアミド、n−メチロー
ルアクリルアミド、メチレンビスアクリルアミドな
ど)、エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との付加反
応物などを挙げることができる。
【0025】さらに具体的には、特公昭48−4170
8号公報、特公昭50−6034号公報、特開昭51−
37193号公報に記載されているウレタンアクリレー
ト、特開昭48−64183号公報、特公昭49−43
191号公報、特公昭52−30490号公報に記載さ
れているポリエステルアクリレート、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させた多官能エポキシ(メ
タ)アクリレート、米国特許454069号公報に記載
されているN−メチロールアクリルアミド誘導体などを
挙げることができる。更に日本接着協会誌VOL.20,No.7,
p300〜308 に紹介されている光硬化性モノマおよびオリ
ゴマ用いることができる。
【0026】本発明に用いられる感光層中には公知の光
重合開始剤が好ましく添加される。光重合開始剤として
は、各種のベンゾフェノン系化合物、置換チオキサント
ン系化合物、置換アクリドン系化合物、米国特許236
7660号公報に提案されているビシナールポリケタル
ドニル化合物、米国特許2367661号公報および米
国特許2367670号公報に提案されているα−カル
ボニル化合物、米国特許2448828号公報に提案さ
れているアシロインエーテル、米国特許2722512
号公報に提案されているα位が炭化水素で置換され芳香
族アシロイン化合物、米国特許3046127号公報お
よび米国特許2951758号公報に提案されている多
核キノン化合物、米国特許3549367号公報に提案
されているトリアリールイミダゾールダイマー/p−ア
ミノフェニルケトンの組合わせ、米国特許387052
4号公報に提案されているベンゾチアゾール系化合物、
米国特許4239850号公報に提案されているベンゾ
チアゾール/トリハロメチル−s−トリアジン系化合
物、米国特許3751259号公報に提案されているア
クリジンおよびフェナジン化合物、米国特許42129
70号公報に提案されているオキサジアゾール化合物、
米国特許3954475号公報、米国特許418932
3号公報、特開昭53−133428号公報、特開昭6
0−105667号公報、特開昭62−58241号公
報、特開昭63−153542号公報に提案されている
発色団基を有するトリハロメチル−s−トリアジン系化
合物、特開昭59−197401号公報、特開昭60−
76503号公報に提案されているベンゾフェノン基含
有ペルオキシエステル化合物などが例示される。
【0027】好ましく用いられる光重合開始剤として
は、ミヒラーケトンに代表されるベンゾフェノン系化合
物、2,4−ジエチルチオキサントンに代表される置換
チオキサントン系化合物およびこれらの組合せがある。
またさらにN−アルキルアクリドンに代表される置換ア
クリドン系化合物を組合わせることが感度および画像再
現性特にハイライト再現性向上の観点から好ましい。
【0028】また本発明に用いられる感光層には、染料
や顔料、pH指示薬、ロイコ染料、界面活性剤、有機
酸、重合禁止剤、光酸発生剤などの各種添加剤を加える
ことも可能である。
【0029】特に有機酸の添加は、前述の有機シリル基
を有するエチレン性不飽和化合物の接着反応や光重合反
応を制御する点から好ましく添加される。例えば、酢
酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル
酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン
酸など。またジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラ
ウレート、ジブチル錫ジオクトエートなどに代表される
公知の金属触媒なども微量感光層中に好ましく添加する
ことができる。
【0030】また、光重合性を有する感光層に重合禁止
剤を配合することができる。重合禁止剤としては、例え
ばハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−
ブチルクレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メル
カプトベンゾイミダゾール、フェノチアジン、テンポー
ルなどがあげられる。
【0031】さらに感光層とプライマー層の接着を向上
させる目的などから、公知のジアゾ化合物を感光層中に
添加することも可能である。
【0032】また感光層組成物の塗工性を向上させる目
的から、フッ素系、炭化水素系、シリコーン系等の界面
活性剤を添加することも好ましい。
【0033】光重合性を有する感光層には、さらに形態
保持用充填剤(ポリマ−あるいは無機粉末)として、樹
脂および無機粉末を添加することが好ましく行なわれ
る。
【0034】例えば、(メタ)アクリル酸系化合物共重
合体、クロトン酸化合物共重合体、マレイン酸系化合物
共重合体、ロジン変性などの部分エステル化マレイン酸
系化合物共重合体、酸性セルロース誘導体、ポリビニル
ピロリドン、ポリエチレンオキサイド、アルコール可溶
性ナイロン、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、ポリウレタン、ポリスチレン、エポキシ樹脂、フェ
ノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、部分ア
セタール化ポリビニルアルコール、水溶性ナイロン、水
溶性ウレタン、ゼラチン、水溶性セルロース誘導体など
を単体もしくは二種類以上混合して用いることが可能で
ある。
【0035】本発明の光重合系に好ましく用いられる感
光層は下記組成比が一般的である。 (d) 式(I)で表わされる化合物 0〜50重量% (e) 上記(I)以外のモノマ 0〜50重量% (f) 光重合開始剤 0.01〜20重量% (g) 形態保持用充填剤 20〜80重量% (h) その他の添加剤 0〜10重量% (ただし上記(d) および(e) の合計が10〜80重量
%、好ましくは上記の(d)および(e) の合計が10〜5
0重量%。)感光層中に過剰にモノマまたはオリゴマ成
分が存在すると、感光層の形態保持が不十分となり、少
なすぎると画像再現性が不良となる。
【0036】本発明の光硬化性組成物を用いた感光層に
は、側鎖に光重合可能または光架橋可能なオレフィン性
不飽和二重結合基を有する高分子化合物の一種もしくは
二種類以上混合したものが好ましく用いられる。
【0037】具体的には、特開昭59−53836号公
報に提案されているアリル(メタ)アクリレート/(メ
タ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニ
ルモノマ共重合体、及びそのアルカリ金属塩またはアミ
ン塩、特公昭59−45979号公報に提案されている
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/(メタ)アク
リル酸/アルキル(メタ)アクリレート共重合体、及び
そのアルカリ金属塩またはアミン塩に(メタ)アクリル
酸クロライドを反応させたもの、特開昭59−7104
8号公報に提案されている無水マレイン酸共重合体にペ
ンタエリスリトールトリアクリレートをハーフエステル
化で付加させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはア
ミン塩、スチレン/無水マレイン酸共重合体にモノヒド
ロキシアルキル(メタ)アクリレー及びまたはポリエチ
レングリコールモノ(メタ)アクリレート及びまたはポ
リプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートをハ
ーフエステル化で付加させたもの、及びそのアルカリ金
属塩またはアミン塩、(メタ)アクリル酸共重合体やク
ロトン酸共重合体のカルボン酸の一部にグリシジル(メ
タ)アクリレートを反応させたもの、及びそのアルカリ
金属塩またはアミン塩、ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート共重合体、ポリビニルホルマール及びまたは
ポリビニルブチラールに無水マレイン酸や無水イタコン
酸を反応させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはア
ミン塩、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート/
(メタ)アクリル酸共重合体に2,4−トリレンジイソ
シアネート/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
=1/1モル比付加反応物をさらに反応させたもの、及
びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、特開昭59−5
3836号公報に提案されている(メタ)アクリル酸共
重合体の一部をアリルグリシジルエーテルで反応させた
もの及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、(メタ)
アリルアクリレート/スチレンスルフォン酸ナトリウム
共重合体、(メタ)アクリル酸ビニル/スチレンスルフ
ォン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アリルアクリレー
ト/アクリルアミド/1,1−ジメチルエチレンンスル
フォン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アクリル酸ビニ
ル/アクリルアミド/1,1−ジメチルエチレンンスル
フォン酸ナトリウム共重合体、2−アリロキシエチル
(メタ)アクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ア
リロキシエチル(メタ)アクリレート/2−メタクリロ
キシエチル水素サクシネート共重合体などを挙げること
ができる。
【0038】これらのポリマの感光層中における割合は
全感光層組成物に対して20〜97重量%、好ましくは
40〜80重量%で含むことができる。他に増感剤や上
記の光重合系の感光層組成物において説明した各種のモ
ノマ、ポリマ、各種添加剤、充填剤を添加することが可
能である。
【0039】次に(2)ジアゾ基が結合した化合物を用
いた光硬化性組成物を用いた感光層について説明する。
【0040】本発明に用いられる好ましく用いられるジ
アゾ基を用いた光硬化性組成物としては、p−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物で代表さ
れる水不溶で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂などが挙げら
れる。具体的には特公昭47−1167号公報および特
公昭57−43890号公報に記載されているようなも
のが挙げられる。一般的には下記一般式(V)の構造を
有するジアゾ樹脂が好ましく用いられる。
【化1】 (式中、R8 、R9 、およびR10は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基を意味し、R11は水素原子、アルキル
基またはフェニル基を意味する。また、XはPF6 、B
4 を意味する。Yは−NH−、−S−、−O−を意味
する。)
【0041】本発明に用いられるジアゾ樹脂におけるジ
アゾモノマーとしては、例えば4−ジアゾ−ジフェニル
アミン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノベン
ゼン、1−ジアゾ−4−N,N−ジエチルアミノベンゼ
ン、1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒドロキシエチ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−メチル−N−
ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−2,5
−ジエトキシ−4−ベンゾイルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−
4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4
−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメト
キシ−4−p−トリルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ
−2−エトキシ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼ
ン、p−ジアゾ−ジメチルアニリン、1−ジアゾ−2,
5−ジブトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジア
ゾ−2,5−ジエトキシ−4−モルフォリノベンゼン、
1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−モルフォリノベ
ンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−p−ト
リルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ−4−N−エチル
−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−
3−エトキシ−4−N−メチル−N−ベンジルアミノベ
ンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−ジエチルアミノ
ベンゼン、1−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリジノベ
ンゼン、1−ジアゾ−2−クロロ−4−N,N−ジメチ
ルアミノ−5−メトキシベンゼン、1−ジアゾ−3−メ
トキシ−4−ピロリジノベンゼン、3−メトキシ−4−
ジアゾジフェニルアミン、3−エトキシ−4−ジアゾジ
フェニルアミン、3−(n−プロポキシ)−4−ジアゾ
ジフェニルアミン、3−(イソプロポキシ)−4−ジア
ゾジフェニルアミンなどが挙げられる。
【0042】また、これらのジアゾモノマーは縮合して
使用されることがある。その縮合剤として用いられるア
ルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒ
ド、イソブチルアルデヒド、ベンズアルデヒドなどが挙
げられる。
【0043】更に式(V)における、陰イオンとして
は、塩素イオンやトリクロロ亜鉛酸などを用いることに
より水溶性のジアゾ樹脂を得ることができ、また四フッ
化ホウ素、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレン
スルフォン酸、4,4’−ビフェニルスルフォン酸、
2、5−ジメチルベンゼンスルフォン酸、2−ニトロベ
ンゼンスルフォン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−
5−ベンゾイル−ベンゼンスルフォン酸などを用いるこ
とにより、有機溶剤可溶性のジアゾ樹脂を得ることがで
きる。
【0044】またこれらのジアゾ樹脂は下記に説明する
ような水酸基を有する高分子化合物とともに混合して使
用することが好ましい。すなわち、水酸基を有する高分
子化合物としては、アルコール性水酸基を有するモノマ
ー、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2、
3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、トリエチレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート、1、3−プロパ
ンジオールモノ(メタ)アクリレート、1、4−ブタン
ジオールモノ(メタ)アクリレート、ジ(2−ヒドロキ
シエチル)マレエートなどの中から選ばれる少なくとも
1種類以上のモノマーと他の水酸基を有さないモノマー
との間での共重合体や、フェノール性水酸基を有するモ
ノマー、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)(メ
タ)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)
マレイミド、o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、o
−、m−、p−ヒドロキフェニル(メタ)アクリレー
ト、などとの共重合体、また、p−ヒドロキシ安息香酸
とグリシジル(メタ)アクリレートとの開環反応生成
物、サリチル酸と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートとの反応生成物などの水酸基含有モノマーなどと
の共重合体が挙げられる。また、ポリビニルアルコー
ル、セルロース、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールな
どやこれらのエポキシ付加反応物、その他の水酸基含有
天然高分子化合物なども用いることができる。
【0045】次に(3)キノンジアジド基が結合した化
合物を用いた光分解性組成物について説明する。
【0046】本発明に用いられるキノンジアジド基が結
合した化合物としては、キノンジアジドスルフォン酸ま
たはその誘導体と水酸基を有する化合物との反応で得ら
れるエステル、例えば、1,2−ベンゾキノンジアジド
−4−または−5−スルフォン酸とポリヒドロキシフェ
ニルとのエステル、1,2−ナフトキノンジアジド−4
−または−5−スルフォン酸とピロガロールアセトン樹
脂とのエステル、1,2−ナフトキノンジアジド−4−
または−5−スルフォン酸とフェノールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂とのエステルなど公知のキノンジアジ
ド化合物が好ましく用いられる。また、1,2−ナフト
キノンジアジド−4−または−5−スルフォン酸とアル
コール性またはフェノール性水酸基を有するポリマーと
のエステルも用いることができる。
【0047】ここで水酸基を有する高分子化合物として
は、アルコール性水酸基を有するモノマー、例えば2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキ
シブチル(メタ)アクリレート、2、3−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリルアミド、トリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、1、3−プロパンジオールモノ
(メタ)アクリレート、1、4−ブタンジオールモノ
(メタ)アクリレート、ジ(2−ヒドロキシエチル)マ
レエートなどの中から選ばれる少なくとも1種類以上の
モノマーと水酸基を有さない他のモノマーとの間での共
重合体や、フェノール性水酸基を有するモノマー、例え
ば N−(4−ヒドロキシフェニル)(メタ)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)マレイミド、
o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、p
−ヒドロキフェニル(メタ)アクリレートなどの共重合
体、また、p−ヒドロキシ安息香酸とグリシジル(メ
タ)アクリレートとの開環反応生成物、サリチル酸と2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応生成
物などの水酸基含有モノマーなどとの共重合体が挙げら
れる。また、ポリビニルアルコール、セルロース、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリ
セリン、ペンタエリスリトールなどやこれらのエポキシ
付加化合物、その他の水酸基含有天然高分子化合物など
との間で形成されるエステルも用いることができる。
【0048】本発明に用いられる感光層は、上記の
(1)〜(3)の異種の感光性基が2種類以上混在して
もよい。また発明の効果を損なわない範囲で必要に応じ
て、染料や顔料、界面活性剤、重合禁止剤や有機酸、光
酸発生剤、触媒などの各種の添加剤や充填剤などを添加
することが可能である。無機粉末としてはシリカ粒子が
好ましく、該シリカ粒子は公知のシランカップリング剤
を用いて表面処理することが可能である。
【0049】本発明に用いられる感光層の膜厚は重量/
面積で表して、0.1〜100g/m2 の範囲が好まし
く、0.5〜10g/m2 の範囲がさらに好ましい。膜
厚が薄すぎると塗工時にピンホールなどの欠点が生じ易
くなり、一方、厚すぎると塗膜乾燥や量など経済的見地
から不利である。
【0050】感光層を塗布した後にシリコーンゴム層コ
ーター室7において、シリコーンゴム組成物を、シリコ
ーンゴム組成物塗布装置19によって塗布し、それをそ
の後に続くシリコーンゴム層熱処理ゾーン9で熱処理、
キュア(架橋)して、シリコーンゴム層とする。熱処理
温度としては80℃〜200℃の範囲が好ましく用いら
れる。
【0051】ここで言うシリコ−ンゴム組成物とは、未
架橋のポリオルガノシロキサンおよび架橋剤、必要に応
じて添加される架橋触媒からなる未硬化(未ゴム化)の
組成物を意味する。一般的には適当な溶媒を用いて溶液
として塗布される。また、シリコ−ンゴムとは該シリコ
−ンゴム組成物を架橋反応させ、ゴム化した硬化生成物
を意味する。このような、シリコーンゴム組成物からシ
リコーンゴムへの架橋方法としては縮合架橋反応が好ま
しく用いられる。その場合のシリコ−ンゴム組成物とし
ては、線状のポリオルガノシロキサンに、架橋剤および
必要に応じて触媒が添加された、いわゆる湿気硬化型の
形態をとる。
【0052】ここで用いられるポリオルガノシロキサン
としては、骨格のケイ素原子に対して、炭素数1〜10
のアルキル基、アルコキシ基、アミノアルキル基、ハロ
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数2〜10の
カルボキシアルキル基、シアノアルキル基または炭素数
6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、アリロキ
シ基、アラルキル基、水素原子、水酸基が結合したもの
が通常用いられる。なかでもケイ素原子に結合する官能
基のうち60%以上がメチル基であることが好ましい。
架橋反応が縮合反応架橋機構をとることが好ましいこと
から、ポリオルガノシロキサンにおいて、鎖末端もしく
は側鎖に、少なくとも一つ以上のケイ素原子に直結した
水酸基を有するものが好ましく用いれる。。
【0053】該シリコーンゴム組成物を構成する上で用
いられる架橋剤としては、アミノ基、アシルオキシ基、
ケトキシメート基、アルコキシ基、アミノ基、ハロゲン
原子などの加水分解性基がケイ素原子に直結した化合物
が通常用いられる。通常、分子鎖中に少なくとも一つ以
上の水酸基を有する線状ポリオルガノシロキサンと反応
して、それぞれ脱酢酸、脱オキシム、脱アルコール、脱
アミン、脱アミド、脱ハロゲンなどの形式で縮合反応で
架橋する。架橋剤は、単一または混合された形、もしく
は加水分解縮合体の形で用いられる。
【0054】架橋剤としては、次のようなものがある。
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、
テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラ
ン、エチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−(βアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、N−(βアミノエチル)−γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキ
シシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、N
−(βアミノエチル)アミノメチルフェネチルトリメト
キシシラン、N−(βアミノエチル)アミノメチルフェ
ネチルトリエトキシシラン、トリス(メチルエチルケト
オキシム)メチルシラン、トリス(メチルエチルケトオ
キシム)エチルシラン、トリス(メチルエチルケトオキ
シム)ビニルシラン、テトラキス(メチルエチルケトオ
キシム)シラン。
【0055】さらに下記の一般式(VI)で示されるよう
な、例えばアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン、アルケ
ニルオキシシランなどが好ましく用いられる。 R12 m ・Si・Zn (VI) (ここで、m≧0、n≧1でm+n=4を満足する整数
を意味する。R12は置換もしくは非置換の炭素数1〜2
0のアルキル基、アミノアルキル基、アミノアルキレン
アミノアルキル基、アミノアルキレンアミノメチルフェ
ネチル基、置換もしくは非置換の炭素数6〜20のアリ
ール基を示し、Zは加水分解性基を意味し、Zとしては
−OR13、−NR1415 −OCOR16、−O−N=C
1718、−O−CR19=CR2021、である。官能基
13、R16としては炭素数1〜4の置換もしくは非置換
のアルキル基、官能基R14、R15、R17、R18、R19
しては、水素原子または炭素数1〜4の置換もしくは非
置換のアルキル基)また、架橋用触媒としてはジブチル
錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫
ジオクトエートなどの有機錫化合物が好ましく用いられ
る。
【0056】本発明に好ましく用いられるシリコーンゴ
ム組成物の一般的な組成としては次のようなものがあ
る。 (1) ポリオルガノシロキサン 100重量部 (2) 一般式(2)で表される縮合反応架橋剤 3〜20重量部 (3) 架橋触媒 0.01〜20重量部 (4) 溶剤 100〜4000重量部
【0057】また、本発明に用いられるシリコーンゴム
組成物には、該シリコーンゴム組成物によって形成され
たシリコーンゴム層を適度に補強する目的で、公知のフ
ィラーや無機粒子、ケイ酸ゾルなどを添加したり、架橋
性官能基を有さない公知の変性シリコーンオイルを少量
添加することも可能である。
【0058】これらのシリコーンガム組成物を溶液とし
て使用する場合、その溶媒としては、パラフィン系炭化
水素、イソパラフィン系炭化水素、シクロパラフィン系
炭化水素および芳香族炭化水素が単一または混合された
形で用いられる。これらの炭化水素系溶媒の代表的なも
のとしては、石油の分留品およびその改質品などがあ
る。
【0059】本発明に用いられるシリコーンゴム層の膜
厚は、耐刷性およびインキ反撥性を保ち、かつ良好な画
像再現性を維持する点から、重量/面積で表して、0.
5〜10g/m2 の範囲が好ましく、1〜3g/m2
範囲がさらに好ましい。
【0060】感光層塗布装置18およびシリコーンゴム
層塗布装置17としては、エクストルージョン型、スラ
イドホッパー型、カーテンコーター型といった流量規制
型塗布装置が一般的に用いられ、必要に応じて塗布部分
を囲い乾燥ガス等を封入して塗布することも有効であ
る。
【0061】また各熱処理ゾーンにおいて熱処理する方
法としては特に規定するものではないが、各層の組成に
応じて、熱風式ヒーター、赤外線ヒーター、またプライ
マー層に関しては紫外線照射装置、電子線照射装置など
から選ばれるのが一般的で、これらを2種類以上組み合
わせても良い。
【0062】本発明では、感光層組成物の塗布工程とシ
リコーンゴム組成物の塗布工程との間に調湿ゾーン8を
設け、その条件を15〜50℃として、相対湿度を30
〜85%RHとして処理する工程を有することが必要で
ある。更に調湿の条件としては、好ましくは相対湿度4
0%RH〜70%RHである。またさらに設定した相対
湿度に対して±5%の変動幅として、相対湿度を制御す
ることが必要である。またこの調湿ゾーンにおける処理
時間としては、短いと本発明の効果が現れにくいことか
ら3秒以上、さらに5秒以上が好ましい。またこの処理
時間が長い場合には、本発明は有効に作用するため、特
に制限はないが、長過ぎると製造ラインが長大化する問
題から、処理時間としては360秒以下、さらに180
秒以下が好ましい
【0063】本発明の水なし平版印刷版原版において
は、感光層とシリコーンゴム層間の剥離接着力は、該二
層間の化学接着により発現することから、感光層構成成
分の層界面近傍への移行量によって変化する。この移行
は、塗布、乾燥後の感光層表面の水分により促進される
ため、この調湿ゾーンによりシリコーンゴム層塗布前の
感光層面の水分を一定に保つことによって、シリコーン
ゴム層との接着力を意図的に制御することが可能にな
る。
【0064】調湿ゾーン8の形態、方法は特に限定され
るものではないが、一般的には、水蒸気発生装置とゾー
ン内に設けられた温湿度センサーが連動することによっ
て、ゾーン内の温湿度を制御する方法が好ましく用いら
れ、更に好ましくは、キュア後の支持体の潜熱の影響を
最小限とするために、ゾーン内の調湿空気を直接排出し
前記蒸気発生装置に常時清浄空気を供給する方法が用い
られる。
【0065】シリコーンゴム層を設けた後、カバーフィ
ルム10をラミネートし、さらに積載時にカバーフィル
ムの傷つき防止のため合紙12をラミネートすることも
可能である。さらにカッター14で裁断後、積載装置1
6で積載することもできる。この後必要に応じて化粧断
裁が施される。
【0066】これらの製造過程は全て連続一貫したライ
ンであることが望ましく、少なくとも感光層、シリコー
ン層は連続一貫したラインで塗布することが好ましい。
連続一貫したラインであることで経済性に有利となるだ
けでなく、各製造過程の占有時間が一定となりかつ各層
乾燥後のオーバーキュアを抑制することができるため、
版面状態等のバラツキは減少する。
【0067】なお、全てのコーター室は温湿度管理され
ており、かつ各熱処理ゾーンも同様である事が好まし
い。
【0068】
【実施例】以下実施例により具体的に説明する。実施に
あたっては、図1に記載の製造装置を用いた。
【0069】実施例1 支持体として厚み0.24mm、幅800mm、長さ300
0mのコイル巻アルミ基板を用い、これを巻出し機から
巻出し、前処理として20%の苛性ソーダ水溶液60℃
で脱脂処理の後、水洗、乾燥を行った。
【0070】その後、下記組成のプライマー層組成物を
スロットコーターで塗布し、熱処理ゾーン4において2
00℃、40秒で加熱乾燥し、乾燥重量2.5g/m2
のプライマー層を形成した。 (a)エポキシ/尿素系樹脂 100重量部 (b)酸化チタン 5重量部 (c)エチルセロソルブ 450重量部 (d)ジメチルホルムアミド 450重量部 (e)リン酸 0.1重量部
【0071】この上に、下記組成の感光層組成物をスロ
ットコーターで塗布し、熱処理ゾーン6において100
℃、20秒間加熱乾燥し、乾燥膜厚5g/m2 の感光層
を形成した。 (a)N,N,N´,N´−テトラキス(2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオ キシプロピル)−m−キシリレンジアミン(グリシジルメタクリレートとm−キ シリレンジアミンの4:1モル付加物) 35重量部 (b)ポリウレタン樹脂 100重量部 (c)N−メチルアクリドン 5重量部 (d)4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 5重量部 (e)マレイン酸 1重量部 (f)p−メトキシフェノール 0.1重量部 (g)クリスタルバイオレットと4−トルエンスルホン酸ナトリウム塩の反応生 成物 0.5重量部 (h)エチルセロソルブ 800重量部
【0072】この感光層の上に、下記組成のシリコーン
ゴム層組成物をスロットコーターで塗布し、熱処理ゾー
ン9において100℃、60秒間加熱乾燥し、乾燥膜厚
2g/m2 のシリコーンゴム層を形成した。 (a)両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン(平均分子量35000) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 12重量部 (c)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (d)n−ヘプタン 800重量部
【0073】この際、感光層を塗布した後からシリコー
ンゴム組成物を塗布する間に、温度30℃/相対湿度5
0%RHに制御された調湿ゾーン8中を10秒間かけて
通過させた。
【0074】この様にして設けたシリコーンゴム層の表
面に、カバーフィルムとして厚さ10μmのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム“ルミラー”(東レ(株)
製)をニップロールでラミネートし、さらに目付け量4
9g/m2 の合紙をラミネートした後、ロータリーシャ
ーカッターで所定のサイズに裁断し、水なし平版印刷版
原版とした。
【0075】この印刷版原版から合紙を剥離して、網点
面積率を段階的に変えた(175線、0.5%〜98
%)パターンを有する画像再現性評価用ポジフィルムを
真空密着させて、3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所
製)を用いて1mの距離から90秒露光した。カバーフ
ィルムを剥離した後、前処理液としてPP−F(東レ
(株)製)、現像液として水、後処理液としてPA−F
(東レ(株)製)を用い、自動現像機(TWL−116
0,東レ(株)製)で現像を行ない水なし平版印刷版を
得た。この結果、網点再現領域は2〜98%で、この印
刷版を用いて湿し水なしで印刷を行なったところ、13
万枚までの印刷が可能であった。
【0076】実施例2 調湿ゾーン8を温度35℃/相対湿度65%RHに制御
した状態で運転した以外は、実施例1と同様に水なし平
版印刷版原版を得て、実施例1と同様の方法で露光、現
像を行なったところ、網点再現領域は0.5〜98%で
あり、この印刷版を用いて湿し水なしで印刷を行なった
ところ、8万枚までの印刷が可能であることがわかっ
た。
【0077】実施例3 前記調湿ゾーン8を温度25℃/相対湿度40%RHに
制御した状態で運転した以外は、実施例1と同様に水な
し平版印刷版原版を得て、実施例1と同様の方法で露
光、現像を行なったところ、網点再現領域は4〜98%
であり、この印刷版を用いて湿し水なしで印刷を行なっ
たところ、18万枚以上の印刷が可能であることがわか
った。
【0078】比較例1 前記調湿ゾーン8を温度40℃/相対湿度90%RHに
制御した状態で運転した以外は実施例1と同様に水なし
平版印刷版原版を得て、実施例1と同様の方法で露光、
現像を行なったところ、カバーフィルムを剥離する際に
シリコーンゴム層の一部がカバーフィルムに転写し、満
足なポジ画像を得ることが出来なかった。 これに対
し、実施例1において、前記調湿ゾーン8を温度20℃
/相対湿度25%RHに制御した状態で運転し、実施例
1と同様の方法で露光、現像を行なったところ、未露光
部シリコーンゴム層が現像段階で剥離せず、ポジ画像を
得ることができなかった。
【0079】実施例4 支持体として厚み0.30mm、幅1165mm、長さ20
00mのコイル巻アルミ基板を用い、これを巻出し機か
ら巻だし、前処理として20%の苛性ソーダ水溶液70
℃で脱脂処理の後、水洗、乾燥を行った。
【0080】その後、下記組成のプライマー層組成物を
スロットコーターで塗布し、キュアゾーン4において2
40℃、60秒間加熱乾燥し、乾燥膜厚5.5g/m2
のプライマー層を形成した。 (a)ポリウレタン樹脂 150重量部 (b)4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート 10重量部 (c)酸化チタン 50重量部 (d)ジメチルホルムアミド 900重量部 (e)ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部
【0081】この上に、下記組成の感光層組成物をスロ
ットコーターで塗布し、キュアゾーン6において120
℃、30秒間加熱乾燥し、乾燥膜厚1.5g/m2 の感
光層を形成した。 (a)フェノールノボラック樹脂の1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホ ン酸エステル 100重量部 (b)4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート 30重量部 (c)N−メチルアクリドン 5重量部 (d)ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (e)メチルセロソルブアセテート 800重量部
【0082】この感光層の上に、下記組成のシリコーン
ゴム組成物をスロットコーターで塗布し、熱処理ゾーン
9において、100℃、60秒で加熱乾燥し、乾燥膜厚
2g/m2 のシリコーンゴム層を形成した。 (a)両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン(平均分子量35000) 100重量部 (b)トリス(メチルエチルケトオキシム)ビニルシラン 4重量部 (c)n−ヘプタン 800重量部 (d)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 0.2重量部
【0083】この際、感光層を塗布した後からシリコー
ンゴム組成物を塗布する間に、温度30℃/相対湿度4
5%RHに制御された調湿ゾーン8中を15秒間かけて
通過させた。
【0084】この様にして設けたシリコーンゴム層の表
面に、カバーフィルムとして厚さ8μmのポリプロピレ
ンフィルム“トレファン”(東レ(株)製)をニップロ
ールでラミネートし、目付け量46g/m2 の合紙をラ
ミネートした後、ロータリーシャーカッターで所定のサ
イズに裁断し、水なし平版印刷版原版とした。
【0085】この印刷用原版から合紙を剥離し、網点面
積率を段階的に変えた(175線、0.5%〜98%)
の画像再現性評価用ネガフィルムを真空密着させて、3
kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)を用いて1mの
距離から60秒露光した。カバーフィルムを剥離した
後、前処理液としてNP−1(東レ(株)製)、現像液
として水、後処理液としてNA−1(東レ(株)製)を
用いて自動現像機(TWL−860,東レ(株)製)で
現像を行ない、水なし平版印刷版を得た。この結果、網
点再現領域は2〜98%で、この印刷版を用いて湿し水
なしで印刷を行なったところ、8万枚までの印刷が可能
であった。
【0086】実施例5 調湿ゾーン8を温度35℃/相対湿度60%RHに制御
した状態で運転した以外は実施例4と同様に、水なし平
版印刷版原版を得て、さらに実施例4と同様の方法で露
光、現像を行なったところ、網点再現領域は1〜98%
であり、この印刷版を用いて湿し水なしで印刷を行なっ
たところ、5万枚までの印刷が可能であった。
【0087】実施例6 調湿ゾーン8を温度25℃/相対湿度35%RHに制御
した状態で運転した以外は実施例4と同様の方法でさら
に実施例4と同様の方法で露光、現像を行なったとこ
ろ、網点再現領域は5〜98%であり、この印刷版を用
いて湿し水なしで印刷を行なったところ、11万枚以上
の印刷が可能であった。
【0088】比較例2 調湿ゾーン8を温度40℃/相対湿度90%RHに制御
した状態で運転した以外は実施例4と同様の方法で水な
し平版印刷版原版を得て、さらに実施例4と同様の方法
で露光、現像を行なったところ、露光部、未露光部とも
にシリコーンゴム層が感光層から剥奪し、満足なネガ画
像を得ることが出来なかった。
【0089】前記調湿ゾーンを20℃/相対湿度25%
RHに制御した状態で運転し実施例4の条件で水なし平
版印刷版原版を得た後、実施例4と同様の方法で露光、
現像を行なったところ、剥離すべき、露光部のシリコー
ンゴム層が現像によっても剥離せず、ネガ画像を得るこ
とができなかった。
【0090】これらのことにより、感光層を塗布した後
からシリコーンゴム層を塗布する間に設けた調湿ゾーン
の温湿度を変えることによって、感光層とシリコーンゴ
ム層間の剥離接着力が変化し、水なし平版印刷版原版の
印刷品質に大きな影響を与えることがわかる。
【0091】
【発明の効果】本発明によって、良好な画像再現性を有
する水なし平版印刷原板を安定して製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の製造工程の模式図である。
【符号の説明】
1.巻き出し機 2.前処理ゾーン 3.プライマー層コーター室 4.プライマー層熱処理ゾーン 5.感光層コーター室 6.感光層熱処理ゾーン 7.シリコーンゴム層コーター室 8.調湿ゾーン 9.シリコーンゴム層ゾーン 10.カバーフィルム 11.カバーフィルムのラミネーター 12.合紙 13.合紙のラミネーター 14.カッター 15.コンベアー 16.積載装置 17.プライマー層塗布装置 18.感光層塗布装置 19.シリコーンゴム層塗布装置
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−145440(JP,A) 特開 平3−219247(JP,A) 特開 昭59−17552(JP,A) 特開 昭60−133452(JP,A) 特開 昭59−182439(JP,A) 国際公開95/10071(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/00 504

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】支持体上に少なくとも感光層、シリコーン
    ゴム層を順次塗布してなる水なし平版印刷版原版の製造
    方法において、感光層塗布工程とシリコーンゴム層塗布
    工程との間に、温度15〜50℃、相対湿度30〜85
    %RH、かつ相対湿度の変動幅が±5%RHである調湿
    ゾーンにて処理する工程を有することを特徴とする水な
    し平版印刷版原版の製造方法。
  2. 【請求項2】調湿ゾーンにて処理する工程の時間が3秒
    以上であることを特徴とする請求項1記載の水なし平版
    印刷版原版の製造方法。
  3. 【請求項3】感光層が光硬化性組成物であることを特徴
    とする請求項1または2記載の水なし平版印刷版原版の
    製造方法。
  4. 【請求項4】感光層がキノンジアジド基を有する化合物
    を有する光分解性組成物であることを特徴とする請求項
    1または2記載の水なし平版印刷版原版の製造方法。
  5. 【請求項5】前記シリコーンゴム層を構成するシリコー
    ンゴム組成物が縮合反応架橋性であることを特徴とする
    請求項1〜4いずれかに記載の水なし平版印刷版原版の
    製造方法。
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