JPS62295054A - 水なし平版印刷用原版 - Google Patents
水なし平版印刷用原版Info
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- JPS62295054A JPS62295054A JP13821586A JP13821586A JPS62295054A JP S62295054 A JPS62295054 A JP S62295054A JP 13821586 A JP13821586 A JP 13821586A JP 13821586 A JP13821586 A JP 13821586A JP S62295054 A JPS62295054 A JP S62295054A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は湿し水を用いずに印刷可能な、水なし平版印刷
用原版に関する。
用原版に関する。
従来架橋したオルガノポリシロキサンを主成分とするシ
リコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし平版印刷版
が、数多く提案されている。
リコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし平版印刷版
が、数多く提案されている。
例えば、特公昭56−23150号公報に示されるよう
に、基板、感光層、シリコーンゴム層の順に積層されて
構成されるもの、また特公昭56−14976@公報に
示されるように、基板、シリコーンゴム層、感光層の順
に積層されて構成されるもの、特公昭56−772号公
報に示されるように、基板、感光性のシリコーンゴム層
から構成されるもの、特開昭56−62253号公報、
特開昭56−1307528公報に示されるように、基
板、シリコーンゴム層から構成され、電子写真処理、プ
ラズマ処理などによって画像形成されるものなどが挙げ
られる。
に、基板、感光層、シリコーンゴム層の順に積層されて
構成されるもの、また特公昭56−14976@公報に
示されるように、基板、シリコーンゴム層、感光層の順
に積層されて構成されるもの、特公昭56−772号公
報に示されるように、基板、感光性のシリコーンゴム層
から構成されるもの、特開昭56−62253号公報、
特開昭56−1307528公報に示されるように、基
板、シリコーンゴム層から構成され、電子写真処理、プ
ラズマ処理などによって画像形成されるものなどが挙げ
られる。
しかしながらこれまでに提案されている、線状オルガノ
ポリシロキサンを架橋して得られるシリコーンゴムをイ
ンキ反1σ層とした場合には、版面強度とインキ反目性
のバランスをとるのが難しかつた。
ポリシロキサンを架橋して得られるシリコーンゴムをイ
ンキ反1σ層とした場合には、版面強度とインキ反目性
のバランスをとるのが難しかつた。
本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑み創案されたもの
で、版面強度を低下させずに、高いインキ反撥性能を有
するインキ反撥層を得ることを目的としたものである。
で、版面強度を低下させずに、高いインキ反撥性能を有
するインキ反撥層を得ることを目的としたものである。
すなわち、本発明者らは、上記の性能を満足するシリコ
ーンゴム層組成について検討を行なった結果、特定構造
を有する化合物を添加した場合には上記目的が良好に達
成されることを見出し、本発明に到達したものでおる。
ーンゴム層組成について検討を行なった結果、特定構造
を有する化合物を添加した場合には上記目的が良好に達
成されることを見出し、本発明に到達したものでおる。
(問題点を解決するための手段)
本発明はシリコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし
平版印刷用原版において、シリコーンゴム層が式(I>
で示される化合物を、0.1〜25重ω%含有している
ことを特徴とする水なし平版印刷用原版に関する。
平版印刷用原版において、シリコーンゴム層が式(I>
で示される化合物を、0.1〜25重ω%含有している
ことを特徴とする水なし平版印刷用原版に関する。
しくは、置換もしくは非置換の炭素数1から20の1価
炭化水素基) 本発明におけるインキ反撥層となるシリコーンゴム層は
、次式(n)もしくは(I[I)に示される構造中位を
主成分(望ましくは80%以上)とする架橋オルガノポ
リシロキサンを含有するシリコーンゴムからなるのが一
般的である。
炭化水素基) 本発明におけるインキ反撥層となるシリコーンゴム層は
、次式(n)もしくは(I[I)に示される構造中位を
主成分(望ましくは80%以上)とする架橋オルガノポ
リシロキサンを含有するシリコーンゴムからなるのが一
般的である。
1゜
一3r −0−(II)
R6R8
ここでR3、R4、R5、R6、R7、R8は水素もし
くは非置換もしくは置換(例えばハロゲン原子、シアノ
基、アミノ基による)の炭素数1〜10の1価炭化水素
塁、ざらにこの炭化水素基としてアルキル基、アルケニ
ル基、フェニル基であることが好ましく、特にR3、R
4、R5、R6、R7、R8の総和の50%以上がメチ
ル基であることが望ましく、R9は置換もしくは非置換
の炭素数2から20の2価炭化水素基である。
くは非置換もしくは置換(例えばハロゲン原子、シアノ
基、アミノ基による)の炭素数1〜10の1価炭化水素
塁、ざらにこの炭化水素基としてアルキル基、アルケニ
ル基、フェニル基であることが好ましく、特にR3、R
4、R5、R6、R7、R8の総和の50%以上がメチ
ル基であることが望ましく、R9は置換もしくは非置換
の炭素数2から20の2価炭化水素基である。
オルガノポリシロキサンからシリコーンゴムとするため
の架橋方法としては、シラノール基を有するオルガノポ
リシロキサンと加水分解性基(例えばアシルオキシ基、
アルコキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミノオ
キシ基、ハロゲン原子〉がケイ素原子に二個以上(さら
に望ましくは三個以上)結合したシラン化合物もしくは
シロキサン化合物などの架橋剤とを縮合反応させる方法
が望ましい。この場合オルガノポリシロキサンのシラノ
ール基数と架(n剤の加水分解性基数とをほぼ同じにす
ることによって架橋することも、また加水分解性基数を
過剰な状態として、加水分解縮合させて架橋することも
可能である。このシリコーンゴムの硬化前の組成として
望ましいものは、(イ)平均して1.5個以上のシラノ
ール基を有する線状オルガノポリシロキサン 100重量部 (ロ)加水分解性基を有する架橋剤 0.5〜20重量部 (ハ) (I)式で示される化合物 でおる。
の架橋方法としては、シラノール基を有するオルガノポ
リシロキサンと加水分解性基(例えばアシルオキシ基、
アルコキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミノオ
キシ基、ハロゲン原子〉がケイ素原子に二個以上(さら
に望ましくは三個以上)結合したシラン化合物もしくは
シロキサン化合物などの架橋剤とを縮合反応させる方法
が望ましい。この場合オルガノポリシロキサンのシラノ
ール基数と架(n剤の加水分解性基数とをほぼ同じにす
ることによって架橋することも、また加水分解性基数を
過剰な状態として、加水分解縮合させて架橋することも
可能である。このシリコーンゴムの硬化前の組成として
望ましいものは、(イ)平均して1.5個以上のシラノ
ール基を有する線状オルガノポリシロキサン 100重量部 (ロ)加水分解性基を有する架橋剤 0.5〜20重量部 (ハ) (I)式で示される化合物 でおる。
(ハ)の量、すなわち(I)式で示される化合物の笛と
しては、シリコーンゴムの硬化後、シリコーンゴム層中
に0.1〜25重量%含有するようにすることが必要で
ある。添加物(ハ)は架橋構造にほとんど取込まれるこ
となく、シリコーンゴム層中に遊離して存在している。
しては、シリコーンゴムの硬化後、シリコーンゴム層中
に0.1〜25重量%含有するようにすることが必要で
ある。添加物(ハ)は架橋構造にほとんど取込まれるこ
となく、シリコーンゴム層中に遊離して存在している。
これらの他に例えば以下のようなものを添加1ノでシリ
コーンゴム層とすることができるが、以下の例示に限ら
れるものではない。
コーンゴム層とすることができるが、以下の例示に限ら
れるものではない。
(ニ)シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの補強
用充填材 O〜300重口部(本口部ランカップ
リング剤、チタンカップリング剤などの、公知の接着付
与剤 0〜20重量部 くべ)スズ塩、鉄塩、ニッケル塩、チタン塩などの公知
のシリコーンの硬化触媒 0〜10重量部 (ト)4量体以下のオルガノシクロポリシロキサン
0〜20重量部(I)
式で示される化合物は、シリコーンゴム層中に含有され
てインキ反撥性を向上させる効果をもつものである。n
が4以下の環状オリゴマーであると、印刷初期にはイン
キ反撥性の向上効果があるものの、印刷を続けるとオル
ゴマ−が揮発してインキ反撥性が低下してくることから
、nが5以上であることが必要である。
用充填材 O〜300重口部(本口部ランカップ
リング剤、チタンカップリング剤などの、公知の接着付
与剤 0〜20重量部 くべ)スズ塩、鉄塩、ニッケル塩、チタン塩などの公知
のシリコーンの硬化触媒 0〜10重量部 (ト)4量体以下のオルガノシクロポリシロキサン
0〜20重量部(I)
式で示される化合物は、シリコーンゴム層中に含有され
てインキ反撥性を向上させる効果をもつものである。n
が4以下の環状オリゴマーであると、印刷初期にはイン
キ反撥性の向上効果があるものの、印刷を続けるとオル
ゴマ−が揮発してインキ反撥性が低下してくることから
、nが5以上であることが必要である。
シリコーンゴム層中に含有される(I)式で示される化
合物の量としては、少なすぎると、インキ反撥性の向上
効果が低く、また多すぎると、シリコーンゴム層の表面
に傷がつきやすくなることから、0.1重量%〜25重
但%であることが必要であり、さらに0.5重量%〜1
5重伍%であることが望ましく、1〜10重ffi%が
最も望ましい。また、分子量300〜100,000の
ものであることが望ましい。さらに、R1、R2として
は、R3、R4と同様のものが選ばれるが、待に60%
以上がメチル基であることが望ましい。
合物の量としては、少なすぎると、インキ反撥性の向上
効果が低く、また多すぎると、シリコーンゴム層の表面
に傷がつきやすくなることから、0.1重量%〜25重
但%であることが必要であり、さらに0.5重量%〜1
5重伍%であることが望ましく、1〜10重ffi%が
最も望ましい。また、分子量300〜100,000の
ものであることが望ましい。さらに、R1、R2として
は、R3、R4と同様のものが選ばれるが、待に60%
以上がメチル基であることが望ましい。
(I)式で示される化合物は例えば以下のように合成す
ることができるが、なんらこの合成方法に限定されるも
のではない。
ることができるが、なんらこの合成方法に限定されるも
のではない。
すなわちジアルキルジクロロシランを大過剰の溶剤に希
釈して(例えば濃度1%以下)、水を徐々に滴下して、
加水分解および縮合重合を行なう。
釈して(例えば濃度1%以下)、水を徐々に滴下して、
加水分解および縮合重合を行なう。
反応終了後、溶剤を蒸溜したのち、nが4以下の環状オ
ルガノポリシロキサンを減圧蒸溜によって除去する。加
水分解性の基を複数行するシランもしくはシロキサンを
大過剰に用いて表面処理したシリカのカラムに、蒸溜残
渣を通して、シラノール基を有する直鎖状のオルガノポ
リシロキサンを除去して、化合物(I)を得ることがで
きる。
ルガノポリシロキサンを減圧蒸溜によって除去する。加
水分解性の基を複数行するシランもしくはシロキサンを
大過剰に用いて表面処理したシリカのカラムに、蒸溜残
渣を通して、シラノール基を有する直鎖状のオルガノポ
リシロキサンを除去して、化合物(I)を得ることがで
きる。
本発明の特徴を有するシリコーンゴム層が使われるもの
としては以下のような水なし平版印ql用原版が例示さ
れる。
としては以下のような水なし平版印ql用原版が例示さ
れる。
(1)基板、感光層、シリコーンゴム層の順に積層され
る印刷用原版、 (2) 基板、シリコーンゴム層、感光層の順に積層
される印刷用原版、 (3)基板、感光性基を有するシリコーンゴム層の順に
構成される印刷用原版、 (4)基板、シリコーンゴム層からなる原版であり、例
えば電子写真処理、プラズマ、電磁波処理して印刷版と
なるもの、 (5) 湿し水が必要な平版原版を通常の方法で、露
光、現像して画像形成した後、非画線部にシリコーンゴ
ム層を設けた印刷版。
る印刷用原版、 (2) 基板、シリコーンゴム層、感光層の順に積層
される印刷用原版、 (3)基板、感光性基を有するシリコーンゴム層の順に
構成される印刷用原版、 (4)基板、シリコーンゴム層からなる原版であり、例
えば電子写真処理、プラズマ、電磁波処理して印刷版と
なるもの、 (5) 湿し水が必要な平版原版を通常の方法で、露
光、現像して画像形成した後、非画線部にシリコーンゴ
ム層を設けた印刷版。
などである。これらのほかに、画像形成ずみの水なし平
版印刷版の不要の画像部に塗布して画像を修正するため
の塗布液にも適用することができる。
版印刷版の不要の画像部に塗布して画像を修正するため
の塗布液にも適用することができる。
上記の感光層に含有される基、および感光性基としては
、エチレン性不飽和結合、光によって環化二組化しうる
基、アジド基、キノンジアジド基、ジアゾ基などが例示
される。特に(1)のように構成される原版の感光図と
しては、以下のようなものが例示される。
、エチレン性不飽和結合、光によって環化二組化しうる
基、アジド基、キノンジアジド基、ジアゾ基などが例示
される。特に(1)のように構成される原版の感光図と
しては、以下のようなものが例示される。
(イ)エチレン性不飽和結合を有する重合性の化合物、
光開始剤、および支持ポリマーを含有するもの、 (ロ)環化三量化しうる不飽和結合を複数行する化合物
を含有するもの、 (ハ)(ナフト)キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体を含有するもの、 (ニ)(ナフト)キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体と、フェノール基と反応しうる基を複数行する
化合物(例え(fイソシアネート化合物)を含有するも
の。
光開始剤、および支持ポリマーを含有するもの、 (ロ)環化三量化しうる不飽和結合を複数行する化合物
を含有するもの、 (ハ)(ナフト)キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体を含有するもの、 (ニ)(ナフト)キノンジアジド基を有するフェノール
性重合体と、フェノール基と反応しうる基を複数行する
化合物(例え(fイソシアネート化合物)を含有するも
の。
シリコーンゴム層の厚みとしてに!任意である力く、厚
すぎると不経済であり、また薄すぎるとインキ反撥性が
悪くなることから、0.5ミクロシカ1ら1 mm、さ
らに1ミ、クロンから100ミクロンであることが好ま
しい。ざらに上記(1)のように村へ成される印刷用原
版においては、厚0揚合に(ま原版の現像性が悪ぐなる
ことから、シリコーンゴム層の厚みは、50ミクロン以
下であること力(望ましい。
すぎると不経済であり、また薄すぎるとインキ反撥性が
悪くなることから、0.5ミクロシカ1ら1 mm、さ
らに1ミ、クロンから100ミクロンであることが好ま
しい。ざらに上記(1)のように村へ成される印刷用原
版においては、厚0揚合に(ま原版の現像性が悪ぐなる
ことから、シリコーンゴム層の厚みは、50ミクロン以
下であること力(望ましい。
以下に実施例を示す。例中に記載の85数(ま徂量部で
ある。またインキ反撥性のデータにおける地汚れ発生指
数とは次の方法によって測定したものであり、地汚れ発
生指数が高いシリコーンゴム層はど実用印刷において高
いインキ反撥性を有することを意味する。
ある。またインキ反撥性のデータにおける地汚れ発生指
数とは次の方法によって測定したものであり、地汚れ発
生指数が高いシリコーンゴム層はど実用印刷において高
いインキ反撥性を有することを意味する。
版胴に温水を通じて版面を昇温できるように改造した印
刷機に、印刷版を取りつCブ、特定のインキを用いて、
版面を昇温しながら印刷し、一定のベタ濃度において印
刷物に地汚れが発生した際の版面温度を地汚れ発生指数
とする。
刷機に、印刷版を取りつCブ、特定のインキを用いて、
版面を昇温しながら印刷し、一定のベタ濃度において印
刷物に地汚れが発生した際の版面温度を地汚れ発生指数
とする。
実施例1
砂目立て加工したアルミ板の上に、数平均重合度4.8
のフェノールノボラック樹脂と1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリドとの45%部分エステ
ル化物のエチルセロソルブ溶液を塗布して、120’C
で30秒間加熱して感光層としたく厚さ2ミクロン)。
のフェノールノボラック樹脂と1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリドとの45%部分エステ
ル化物のエチルセロソルブ溶液を塗布して、120’C
で30秒間加熱して感光層としたく厚さ2ミクロン)。
ついで該感光層上にγ−アミノプロピルトリメトキシシ
ランのn−ヘキサン溶液を塗布して、120′Cで30
秒間加熱して、接着層とした(厚さ003ミクロン〉。
ランのn−ヘキサン溶液を塗布して、120′Cで30
秒間加熱して、接着層とした(厚さ003ミクロン〉。
ついで該接着層上に以下の組成を有するシリコーンガム
の゛′アイソパーE″ (脂肪族炭化水素、エクソン化
学(株)製)溶液を塗布して、120℃で3分間加熱、
乾燥、硬化させてシリコーンゴム層とした(厚さ2ミク
ロン)。
の゛′アイソパーE″ (脂肪族炭化水素、エクソン化
学(株)製)溶液を塗布して、120℃で3分間加熱、
乾燥、硬化させてシリコーンゴム層とした(厚さ2ミク
ロン)。
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロ
キサン(数平均分子量25,000)100部(2)シ
クロポリジメチルシロキサン(数平均分子量7,000
.4量体以下はなし) 10部(3) ビニルトリ
ス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(4)ジブチルスズジアセテー
ト 0.2部該シリコーンゴム層上に、カバーフ
ィルムとして厚さ10ミクロンの゛′トレファン″(ポ
リプロピレンフィルム、束しく株)製)をラミネートし
て、原版とした。
キサン(数平均分子量25,000)100部(2)シ
クロポリジメチルシロキサン(数平均分子量7,000
.4量体以下はなし) 10部(3) ビニルトリ
ス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(4)ジブチルスズジアセテー
ト 0.2部該シリコーンゴム層上に、カバーフ
ィルムとして厚さ10ミクロンの゛′トレファン″(ポ
リプロピレンフィルム、束しく株)製)をラミネートし
て、原版とした。
得られた原版を、岩崎電気(株)製メタルハライドラン
プ″アイドルフィン”2000を用いて、光源から1m
の距離で4秒間全面フラシュ露光した後、原画ネガフィ
ルムを真空密着して、1分間露光した。露光済みの原版
のカバーフィルムを剥離したのち、40’Cのジエチレ
ングリコール/モノエタノールアミン(9515重量比
)に2分間浸漬した後、水の浸漬下で、ナイロンブラシ
を用いて現像したところ、露光部はシリコーンゴム層、
接着層、感光層が剥離して、基板が露出してインキ着肉
性の画像部となり、非露光部はシリコーンゴム層が残存
して、インキ反撥性で非画像部となっている印刷版を得
た。
プ″アイドルフィン”2000を用いて、光源から1m
の距離で4秒間全面フラシュ露光した後、原画ネガフィ
ルムを真空密着して、1分間露光した。露光済みの原版
のカバーフィルムを剥離したのち、40’Cのジエチレ
ングリコール/モノエタノールアミン(9515重量比
)に2分間浸漬した後、水の浸漬下で、ナイロンブラシ
を用いて現像したところ、露光部はシリコーンゴム層、
接着層、感光層が剥離して、基板が露出してインキ着肉
性の画像部となり、非露光部はシリコーンゴム層が残存
して、インキ反撥性で非画像部となっている印刷版を得
た。
1qられた印刷版をオフセット印刷機に取り付けて、湿
し水を与えずに印刷したところ、優れた画像再現性を有
する印刷物を得た。またこの印刷版の地汚れ発生指数は
32であり、比較例1と比較して版面強度の低下は認め
られなかった。
し水を与えずに印刷したところ、優れた画像再現性を有
する印刷物を得た。またこの印刷版の地汚れ発生指数は
32であり、比較例1と比較して版面強度の低下は認め
られなかった。
実施例2
シリコーンゴムの組成を以下のものとした他は実施例1
と同様にして原版を得た。
と同様にして原版を得た。
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロ
キサン(数平均分子量25,000)100部(2)デ
カメチルシクロペンタシロキサン 10部(3〉 ビ
ニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(4)ジブチルスズジ
アセテート 0.2部得られた原版を実施例1と
同様に露光、現像したところ、実施例1と同様の印刷版
を得た。
キサン(数平均分子量25,000)100部(2)デ
カメチルシクロペンタシロキサン 10部(3〉 ビ
ニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(4)ジブチルスズジ
アセテート 0.2部得られた原版を実施例1と
同様に露光、現像したところ、実施例1と同様の印刷版
を得た。
得られた印刷版を、実施例1と同様に印刷したところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
またこの印刷版の地汚れ発生指数は31であった。
実施例3
シリコーンゴムの組成を以下のものとした他は実施例1
と同様にして原版を得た。
と同様にして原版を得た。
(1〉 α、ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロ
キザン(数平均分子量25,000)100部(2)
シクロポリジメチルシロキサン(数平均分子量8,0
00.4量体以下はなし 2部(3〉 ビニル
トリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(4)ジブチルスズジアセ
テート 0.2部得られた原版を実施例1と同様
に露光、現象したところ、実施例1と同様の印刷版を得
た。
キザン(数平均分子量25,000)100部(2)
シクロポリジメチルシロキサン(数平均分子量8,0
00.4量体以下はなし 2部(3〉 ビニル
トリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(4)ジブチルスズジアセ
テート 0.2部得られた原版を実施例1と同様
に露光、現象したところ、実施例1と同様の印刷版を得
た。
得られた印刷版を、実施例1と同様に印刷したところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を19だ。
優れた画像再現性を有する印刷物を19だ。
またこの印刷版の地汚れ発生指数は31であった。
比較例1
シリコーンゴムの組成を以下のものとした他は実施例1
と同様にして原版を得た。
と同様にして原版を得た。
(1)α、ω−ジヒドロキシポリジメチルポリシロキサ
ン(数平均分子量25,000>100部(2)ビニル
トリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(3)ジブチルスズジアセ
テート 0.2部得られた原版を実施例1と同様
に露光、現像したところ、実施例1と同様の印刷版を得
た。
ン(数平均分子量25,000>100部(2)ビニル
トリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(3)ジブチルスズジアセ
テート 0.2部得られた原版を実施例1と同様
に露光、現像したところ、実施例1と同様の印刷版を得
た。
得られた印刷版を、実施例1と同様に印刷したところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
しかしながら地汚れ発生指数は28であり、本比較例に
比べて実施例1から3のシリコーンゴム層がインキ反1
發性において優れていることがわかる。
比べて実施例1から3のシリコーンゴム層がインキ反1
發性において優れていることがわかる。
実施例4
砂目立て加工したアルミ板の上に、以下の組成の″アイ
ソパーE 11溶液を塗布して、120’Cで2分間加
熱乾燥して、シリコーンゴム層を設けた(厚さ10ミク
ロン)。
ソパーE 11溶液を塗布して、120’Cで2分間加
熱乾燥して、シリコーンゴム層を設けた(厚さ10ミク
ロン)。
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン(数平均分子量40,000> 100部(2)
シクロポリジメチルシロキサン(数平均分子量18,0
00.4量体以下は含まない)3部(3)メチルトリア
セトキシシラン 8部(4)ジブチルスズジア
セテート 0.1部一方、厚さ10ミクロンの“
トリファンパ上に(1) グリシジルメタクリレート
とキシリレンジアミンの4モル/1モル付加反応物
95部(2)ベンゾインメチルエーテル
5部からなる組成のエチルセロソルブ溶液を塗布し、5
0’Cで乾燥し、厚さ2ミクロンの感光層を設けた。
ン(数平均分子量40,000> 100部(2)
シクロポリジメチルシロキサン(数平均分子量18,0
00.4量体以下は含まない)3部(3)メチルトリア
セトキシシラン 8部(4)ジブチルスズジア
セテート 0.1部一方、厚さ10ミクロンの“
トリファンパ上に(1) グリシジルメタクリレート
とキシリレンジアミンの4モル/1モル付加反応物
95部(2)ベンゾインメチルエーテル
5部からなる組成のエチルセロソルブ溶液を塗布し、5
0’Cで乾燥し、厚さ2ミクロンの感光層を設けた。
次に2種の積層体を、シリコーンゴム層と感光層が密着
するように、カレンダーローラーを用いて圧着し原版を
得た。
するように、カレンダーローラーを用いて圧着し原版を
得た。
この原版のポリプロピレンフィルム上に、ネガフィルム
を密着し、実施例1と同様の露光方法で3分間露光した
。
を密着し、実施例1と同様の露光方法で3分間露光した
。
トレフ7ンを剥離し、イソプロパツール50%水溶液に
浸漬して、“ハイゼガーゼ″(不織布、旭化成(株)製
)で軽くこすると、非露光部分の感光層は容易に除去さ
れ、シリコーン層が露出して、インキ反溌性の非画像部
となり、一方露光部分の感光層は残っており、インキ受
容性の画像部となっている印刷版を得た。
浸漬して、“ハイゼガーゼ″(不織布、旭化成(株)製
)で軽くこすると、非露光部分の感光層は容易に除去さ
れ、シリコーン層が露出して、インキ反溌性の非画像部
となり、一方露光部分の感光層は残っており、インキ受
容性の画像部となっている印刷版を得た。
実施例1と同様に印刷したところ、優れた画像再現性を
有する印刷物を得た。また地汚れ発生指数は33であっ
た。
有する印刷物を得た。また地汚れ発生指数は33であっ
た。
比較例2
シリコーンゴム層の組成を以下のものとする他は、実施
例4と同様に原版を得た。
例4と同様に原版を得た。
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン(数平均分子量40,000> 100部(2)
メチルトリアセトキシシラン 8部(3)ジブ
デルスズジアセテート 0.1部得られた原版を
実施例4と同様に、露光、現象して印刷版を作製して、
印計1したところ、実施例4と同様の印刷物が得られた
。しかしながら地汚れ発生指数は30であり、本比較例
に比べて、実施例4に示したシリコーンゴム層のインキ
反溌性が優れていることがわかる。
ン(数平均分子量40,000> 100部(2)
メチルトリアセトキシシラン 8部(3)ジブ
デルスズジアセテート 0.1部得られた原版を
実施例4と同様に、露光、現象して印刷版を作製して、
印計1したところ、実施例4と同様の印刷物が得られた
。しかしながら地汚れ発生指数は30であり、本比較例
に比べて、実施例4に示したシリコーンゴム層のインキ
反溌性が優れていることがわかる。
実施例5
砂目立て加工したアルミ板上に、以下の組成を有する″
アイソパーE IF溶液を塗布して、120℃で3分間
加熱してシリコーンゴム層を設けて印刷用原版とした(
厚さ10ミクロン)。
アイソパーE IF溶液を塗布して、120℃で3分間
加熱してシリコーンゴム層を設けて印刷用原版とした(
厚さ10ミクロン)。
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ンく数平均分子量12,000) 100部(2)
シクロポリジメチルシロキサン(数平均分子量4,
000> 3部(3)メチル1
〜リアセトキシシラン 8部(4)ジブチルス
ズジアセテート 0.1部得られた印計り用原版
を大気中で部分的にプラズマ放電処理して、処理したと
ころか画像部となる印刷版を得た。得られた印届11版
の地汚れ発生指数は34であった。
ンく数平均分子量12,000) 100部(2)
シクロポリジメチルシロキサン(数平均分子量4,
000> 3部(3)メチル1
〜リアセトキシシラン 8部(4)ジブチルス
ズジアセテート 0.1部得られた印計り用原版
を大気中で部分的にプラズマ放電処理して、処理したと
ころか画像部となる印刷版を得た。得られた印届11版
の地汚れ発生指数は34であった。
比較例3
シリコーンゴム層の組成を以下のものとする他は実施例
5と同様に印刷用原版、印刷版を得た。
5と同様に印刷用原版、印刷版を得た。
(1〉 α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン(数平均分子旧12,000) 100部(2)
メチルトリアセトキシシラン 8部(4)
ジブチルスズジアセテート 0.1部得られた印
刷版の地汚れ発生指数は、31であり、本比較例に比べ
て、実施例5のシリコーンゴム層のインキ反撥性が優れ
ていることがわかる。
ン(数平均分子旧12,000) 100部(2)
メチルトリアセトキシシラン 8部(4)
ジブチルスズジアセテート 0.1部得られた印
刷版の地汚れ発生指数は、31であり、本比較例に比べ
て、実施例5のシリコーンゴム層のインキ反撥性が優れ
ていることがわかる。
本発明の特徴である環状のオルガノポリシロキサンをシ
リコーンゴム層が含有することによって、従来のものに
比べて、版面の強度を下げることなく、インキ反撥性が
向上する。
リコーンゴム層が含有することによって、従来のものに
比べて、版面の強度を下げることなく、インキ反撥性が
向上する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 シリコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし平版印刷
用原版において、シリコーンゴム層が式( I )で示さ
れる化合物を、0.1〜25重量%含有していることを
特徴とする水なし平版印刷用原版。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中nは5以上の整数、R_1、R_2は水素、もし
くは、置換もしくは非置換の炭素数1から20の1価炭
化水素基)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61138215A JPH0682213B2 (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 水なし平版印刷用原版 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61138215A JPH0682213B2 (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 水なし平版印刷用原版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62295054A true JPS62295054A (ja) | 1987-12-22 |
JPH0682213B2 JPH0682213B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=15216773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61138215A Expired - Lifetime JPH0682213B2 (ja) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | 水なし平版印刷用原版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0682213B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100910556B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2009-08-03 | 삼성전자주식회사 | 컬러포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9956801B2 (en) * | 2012-08-31 | 2018-05-01 | Xerox Corporation | Printing plates doped with release oil |
US9327487B2 (en) * | 2012-08-31 | 2016-05-03 | Xerox Corporation | Variable lithographic printing process |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5137786A (en) * | 1974-09-27 | 1976-03-30 | Nippon Steel Corp | Shibori shigokikakokanno seizoho |
JPS564908A (en) * | 1979-06-15 | 1981-01-19 | Siemens Ag | Monolithic integrated transistor amplifier |
JPS61103931A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | シリコ−ンゴム成形体の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-16 JP JP61138215A patent/JPH0682213B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5137786A (en) * | 1974-09-27 | 1976-03-30 | Nippon Steel Corp | Shibori shigokikakokanno seizoho |
JPS564908A (en) * | 1979-06-15 | 1981-01-19 | Siemens Ag | Monolithic integrated transistor amplifier |
JPS61103931A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | シリコ−ンゴム成形体の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
KR100910556B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2009-08-03 | 삼성전자주식회사 | 컬러포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0682213B2 (ja) | 1994-10-19 |
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