JPS6322306B2 - - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 86
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 31
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 30
- 229920006113 non-polar polymer Polymers 0.000 claims description 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 18
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 12
- -1 sensitizers Substances 0.000 description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 5
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dibutyl)stannyl] acetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 230000009291 secondary effect Effects 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
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Description
本発明は、改良されたインキ反撥性を示す水な
し平版印刷版原板に関するものである。 シリコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし
平版印刷版については、種々のものが提案されて
いる。なかでも特公昭54−26923に記載されてい
るような基板上に光重合層を設け、該光重合層上
にシリコーンコム層を設けてなる平版印刷版原板
を、ポジフイルムを通して露光し、露光部分のシ
リコーンゴム層を光重合層に接着せしめ、次にシ
リコーンゴムを膨潤させうる性質の現像液を用い
て未露光部分のシリコーンゴムを除去することに
よつて得られる平版印刷版は、極めて優れた性質
を有している。 本発明者らは、かかる水なし平版印刷版原板に
ついてさらに詳細な検討を続けた結果、空気中に
存在する酸素のため、光重合層の光重合が阻害さ
れ、現像の際に露光部分のシリコーンゴム層の一
部が光重合層に接着せず、剥離しやすいという欠
点を、シリコーンゴム層上に光透過性で、かつ酸
素透過防止性の被覆層を設けることによつて解決
できることを見い出した。しかしながら、このよ
うな酸素透過防止性の被覆層を設けることは、印
刷版原板へのゴミ等の異物付着防止、キズ防止な
どのための保護膜としての副次的な効果を有して
いるが、光重合層組成物中のモノマや増感剤、そ
の他の添加剤がシリコーンゴム層中に浸み出し、
シリコーンゴム層表面を汚染し、その結果インキ
反撥性の低下を招くという欠点を有していること
がわかつた。 本発明者らは、かかる欠点を解決すべく鋭意検
討した結果、本発明の水なし平版印刷版原板に到
達した。すなわち、本発明の水なし平版印刷版原
板は、基板上に光重合層を設け、該光重合層上に
シリコーンゴム層を設け、さらに該シリコーンゴ
ム層上に非極性高分子層および酸素透過防止性の
被覆層を順次積層してなることを特徴とする水な
し平版印刷版原板に関するものである。 本発明の水なし平版印刷版原板は、シリコーン
ゴム層と酸素透過防止性の被覆層との間に、非極
性高分子層を介在させてなるものであり、光重合
層組成物中の各種成分のシリコーンゴム層中への
浸み出しを防止し、従つてインキ反撥性の良好な
印刷板を得ることができる。 本発明の水なし平版印刷版原板の基板は、通常
の平版印刷機にセツトできるたわみ性と、印刷時
にかかる荷重に耐えうるものでなければならな
い。代表的な基板としては、コート紙、金属板あ
るいはポリエチレンテレフタレートのようなプラ
スチツクフイルム、ゴムあるいはそれらの複合基
板などをあげることができる。これらの基板の表
面には、例えばハレーシヨン防止層を設けること
も有用である。 本発明の光重合層は基板に均一に塗布されてお
り、層の厚みは任意であり、好ましくは100ミク
ロン以下であり、50ミクロン以下のものがさらに
有用である。もし必要があれば、光重合層と下層
の基板との間の接着性向上あるいは、ハレーシヨ
ン防止のために基板と光重合層との間にアンカー
コート層を設けることも有用である。 本発明に用いられる光重合層は以下に示すよう
な組成を有することが好ましい。 (1) 沸点100℃以上の光重合性不飽和モノマーあ
るいはオリゴマ 1.0〜99.9重量部 (2) 光増感剤 0.1〜20.0重量部 (3) 必要に応じて熱重合禁止剤 0.01〜10重量部 (4) 必要に応じて光重合層の形態保持のための充
填材として、ポリマーあるいは無機粉末
0.01〜95.0重量部 光重合性モノマーあるいはオリゴマの代表的な
例としては、炭素数30以下の1価のアルコールあ
るいは1価のアミンから誘導された沸点100℃以
上の(メタ)アクリル酸エステル、あるいは(メ
タ)アクリルアミド、炭素数80以下の多価アルコ
ールあるいは多価アミンから誘導された沸点100
℃以上の(メタ)アクリル酸エステル、あるいは
(メタ)アクリルアミドをあげることができる。 光増感剤の代表例としては、ベンゾフエノンお
よびその誘導体、ベンゾインおよびその誘導体、
アントラキノンおよびその誘導体、さらにはアル
デヒド類、ケトン類、イオウ化合物、ハロゲン化
合物などであり、熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノンおよびその誘導体、フエノール誘導体、
ニトロ置換ベンゼン、第三級アミン、フエノチア
ジンおよびその誘導体などをあげることができ
る。 充填材あるいは添加物として、ポリ(メタ)ア
クリル酸エステル、ポリウレタン、ポリアミド、
ポリエステルなどのポリマーやコロイダルシリ
カ、炭酸カルシウムなどの無機粉末、その他の添
加物として、露光部分を識別しやすいようにクリ
スタルバイオレツトのような染料を添加しておく
こともできる。 シリコーンゴム層は0.5〜50ミクロン、好まし
くは0.5〜5ミクロンの厚さと、紫外線が透過し
うる透明性を有する。有用なシリコーンゴムは末
端基同志の縮合によつて架橋する分子量100〜
400000の線状ジオルガノポリシロキサン(好まし
くはジメチルポリシロキサン)を主成分とし、必
要に応じて架橋剤、触媒が添加されたものであ
る。さらに、シリコーンゴム層と下層の光重合層
との接着性向上のため、シリコーンゴム層と光重
合層の間にシリコーンプライマーやシランカツプ
リング剤からなる中間層を設けることも有用であ
る。 本発明に用いられる非極性高分子層は、そのsp
値が9.5(cal/cm3)1/2以下の高分子化合物からなる
層で、厚みは100ミクロン以下0.1ミクロン以上、
好ましくは10ミクロン以下0.5ミクロン以上が適
当である。 ここにいうsp値とは、1cm3あたりの凝集力、す
なわち凝集エネルギー密度(CED)の0.5乗とし
て定義されるものである。 SP値=(CED)1/2(cal/cm3)1/2 CED=H−RT/Vcal/cm3 H:蒸発熱 cal/mol T:温度 V:その温度での1molの容積 R=1.982cal/度・mol 中でも好ましいものとしては分子内にカルボニ
ル基、エーテル基、水酸基などの極性基を実質的
に含まない高分子化合物であり、代表的な非極性
高分子化合物としては、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブ
テン、ポリペンテン、ポリイソプレン、ポリイソ
ブチレン、ポリブタジエン、ポリ4−メチルペン
テン、ポリスチレン、ブタジエン−スチレン共重
合体、固体状のパラフインワツクスなどの炭化水
素樹脂、ポリ四フツ化エチレン、ポリ六フツ化プ
ロピレン、ポリ四フツ化−六フツ化プロピレン、
ポリフツ化ビニリデンなどのフツ素樹脂、シリコ
ーン樹脂などをあげることができる。 本発明に用いられる酸素透過防止性の被覆層と
しては、酸素透過率が300c.c.(NTP)/m2/hr/
0.1mm/atm(25℃)以下、好ましくは50c.c.
(NTP)/m2/hr/0.1mm/atm(25℃)以下であ
り、膜厚は100ミクロン以下0.1ミクロン以上、好
ましくは10ミクロン以下0.5ミクロン以上が適当
である。その代表的な例として、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポ
リアクリロニトリル、アクリロニトリル−塩化ビ
ニリデン共重合体、ポリアミド、セロフアン、ポ
リビニルアルコールなどをあげることができる。
もし必要なら、真空密着性を向上せしめるため
に、適当なマツト化剤、例えば酸化チタン、コロ
イダルシリカ、炭酸カルシウムなどの無機粉末を
添加したり、ゴミの付着を防止するために、帯電
防止剤を添加することも有効である。 また、非極性高分子層と酸素透過防止性の被覆
層との接着性向上のため、例えば両層の間にエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物、アクリル酸
の共重合体、その他の高分子化合物からなる接着
層を設けること、あるいはいずれか一方または両
方の層にその本来の性能をそこなわない程度に、
これらの接着に寄与する成分を添加することも有
効である。 なお、これらの非極性高分子層および酸素透過
防止性の被覆層は生版の保存および露光工程にお
いて重要な役割を演ずるが、現像工程前あるいは
現像工程中に剥離または溶解によつて除去され、
印刷工程においては不必要なものである。 以上説明したような構成からなる本発明の水な
し平版印刷版原板は、例えば次のようにして製造
される。 まず、基板の上に、リバースロールコータ、エ
アーナイフコータ、グラビアコーター、メーヤバ
ーコータなどの通常のコータを用いて光重合組成
物を塗布する。次に該光重合層の上に、シリコー
ンガム溶液を、光重合層と同様の方法で塗布し、
充分に硬化させてシリコーンゴム層を形成する。
一方、先に例示した非極性高分子化合物からなる
プラスチツクフイルムと酸素透過防止性のプラス
チツクフイルムをはり合わせたフイルム、あるい
は非極性高分子化合物からなるプラスチツクフイ
ルムか、または酸素透過防止性のプラスチツクフ
イルムのいずれか一方のフイルムに、他方を塗布
することによつて得られた非極性高分子層と酸素
透過防止性層とからなる複合フイルムを用いて、
先に述べたシリコーンゴム層の上に通常のラミネ
ータを用いて、非極性高分子層側をシリコーンゴ
ム層と接するように張り合わせることにより水な
し平版印刷版原板が得られる。 このようにして製造された本発明の水なし平版
印刷版原板は、例えば真空密着されたポジフイル
ムを通して活性光線によつて露光される。この露
光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生
するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ、螢光灯な
どを使うことができる。 露光の終つた印刷版は必要に応じて非極性高分
子層と酸素透過防止性の被覆層を剥がし、現像液
に浸漬される。有用な現像液としては、シリコー
ンゴムを膨潤させるものが好ましく、未露光部の
シリコーンゴム層のみを除去するか、光重合層ご
と除去できるものである。このような現像液に浸
漬し、ガーゼなどの柔らかいパツドを用いて印刷
版面を軽くこすると、現像液が光重合層を実質的
に溶解させない場合は、未露光部のシリコーンゴ
ム層のみが容易に剥ぎとられ、下層の未硬化の光
重合層が露出する。また、現像液が未露光部の光
重合層を溶解させる場合は、未露光部のシリコー
ンゴム層とともに未露光部の光重合層が溶解除去
され基板が露出する。いずれの場合も、露光部分
のシリコーンゴム層は、光重合した光重合層に強
く接着しているため、現像パツドで強くこすつて
も侵されずに版面に残る。このようにして水なし
平版印刷版が製造される。 以下実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらによつて何ら限定される
ものではない。 実施例1、比較例1 アルミニウム基板上に、次の組成を有する感光
液(10%エチルセロソルブ溶液)を塗布し、80℃
熱風中で乾燥して厚さ4ミクロンの光重合層を設
けた。 (a) ポリウレタン樹脂「Impranil ELN」
(Bayer社製) 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジル4モルとキシリレン
ジアミン1モルの付加反応物 40重量部 (c) ミヒラー氏ケトン 4重量部 (d) クリスタルバイオレツト 0.4重量部 この光重合層の上に次の組成を有するシリコー
ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風
中で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層
を設けた。 (a) ポリジメチルシロキサン(分子量約40000)
100重量部 (b) メチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 一方、酸素透過防止層としての厚さ10ミクロン
のポリエチレンテレフタレートフイルム「ルミラ
ー」(東レ製)の上に、第1表に掲げた非極性高
分子樹脂(トルエン溶液)を厚さ2ミクロンにな
るように塗布した。次いで、これらの非極性高分
子層がシリコーンゴム層と接するようにラミネー
トして印刷版原板とした。 これらの印刷版原板に、2%〜98%の網点再現
域を有するグラーデシヨンポジフイルムを密着
し、3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で
1mの距離から90秒露光した。露光版からラミネ
ートしてあるフイルムを取り除き、n−ヘキサン
をしみこませたパツドで軽くこすることにより未
露光部のシリコーンゴム層のみを取り除いて印刷
版とした。第1表に、これらの印刷版の網点再現
性、非画線部の水による接触角を示す。網点再現
性は比較例として用いた非極性高分子層のない場
合(ポリエチレンテレフタレートフイルムだけの
場合)と同等であるが、接触角は非極性高分子層
のある場合の方が高く、シリコーンゴム層表面の
汚染が少ないことを示している。事実、これらの
印刷版を、版面の温度を昇温できるように改造し
たハマダスターにとりつけ、東洋インキ「アクワ
レスHTR紅」を用いて、湿し水を用いないで印
刷したところ、比較例として用いた非極性高分子
層のない場合は、版面の温度が36℃で地汚れが発
生したが、非極性高分子層がある場合は40℃でも
汚れが出なかつた。
し平版印刷版原板に関するものである。 シリコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし
平版印刷版については、種々のものが提案されて
いる。なかでも特公昭54−26923に記載されてい
るような基板上に光重合層を設け、該光重合層上
にシリコーンコム層を設けてなる平版印刷版原板
を、ポジフイルムを通して露光し、露光部分のシ
リコーンゴム層を光重合層に接着せしめ、次にシ
リコーンゴムを膨潤させうる性質の現像液を用い
て未露光部分のシリコーンゴムを除去することに
よつて得られる平版印刷版は、極めて優れた性質
を有している。 本発明者らは、かかる水なし平版印刷版原板に
ついてさらに詳細な検討を続けた結果、空気中に
存在する酸素のため、光重合層の光重合が阻害さ
れ、現像の際に露光部分のシリコーンゴム層の一
部が光重合層に接着せず、剥離しやすいという欠
点を、シリコーンゴム層上に光透過性で、かつ酸
素透過防止性の被覆層を設けることによつて解決
できることを見い出した。しかしながら、このよ
うな酸素透過防止性の被覆層を設けることは、印
刷版原板へのゴミ等の異物付着防止、キズ防止な
どのための保護膜としての副次的な効果を有して
いるが、光重合層組成物中のモノマや増感剤、そ
の他の添加剤がシリコーンゴム層中に浸み出し、
シリコーンゴム層表面を汚染し、その結果インキ
反撥性の低下を招くという欠点を有していること
がわかつた。 本発明者らは、かかる欠点を解決すべく鋭意検
討した結果、本発明の水なし平版印刷版原板に到
達した。すなわち、本発明の水なし平版印刷版原
板は、基板上に光重合層を設け、該光重合層上に
シリコーンゴム層を設け、さらに該シリコーンゴ
ム層上に非極性高分子層および酸素透過防止性の
被覆層を順次積層してなることを特徴とする水な
し平版印刷版原板に関するものである。 本発明の水なし平版印刷版原板は、シリコーン
ゴム層と酸素透過防止性の被覆層との間に、非極
性高分子層を介在させてなるものであり、光重合
層組成物中の各種成分のシリコーンゴム層中への
浸み出しを防止し、従つてインキ反撥性の良好な
印刷板を得ることができる。 本発明の水なし平版印刷版原板の基板は、通常
の平版印刷機にセツトできるたわみ性と、印刷時
にかかる荷重に耐えうるものでなければならな
い。代表的な基板としては、コート紙、金属板あ
るいはポリエチレンテレフタレートのようなプラ
スチツクフイルム、ゴムあるいはそれらの複合基
板などをあげることができる。これらの基板の表
面には、例えばハレーシヨン防止層を設けること
も有用である。 本発明の光重合層は基板に均一に塗布されてお
り、層の厚みは任意であり、好ましくは100ミク
ロン以下であり、50ミクロン以下のものがさらに
有用である。もし必要があれば、光重合層と下層
の基板との間の接着性向上あるいは、ハレーシヨ
ン防止のために基板と光重合層との間にアンカー
コート層を設けることも有用である。 本発明に用いられる光重合層は以下に示すよう
な組成を有することが好ましい。 (1) 沸点100℃以上の光重合性不飽和モノマーあ
るいはオリゴマ 1.0〜99.9重量部 (2) 光増感剤 0.1〜20.0重量部 (3) 必要に応じて熱重合禁止剤 0.01〜10重量部 (4) 必要に応じて光重合層の形態保持のための充
填材として、ポリマーあるいは無機粉末
0.01〜95.0重量部 光重合性モノマーあるいはオリゴマの代表的な
例としては、炭素数30以下の1価のアルコールあ
るいは1価のアミンから誘導された沸点100℃以
上の(メタ)アクリル酸エステル、あるいは(メ
タ)アクリルアミド、炭素数80以下の多価アルコ
ールあるいは多価アミンから誘導された沸点100
℃以上の(メタ)アクリル酸エステル、あるいは
(メタ)アクリルアミドをあげることができる。 光増感剤の代表例としては、ベンゾフエノンお
よびその誘導体、ベンゾインおよびその誘導体、
アントラキノンおよびその誘導体、さらにはアル
デヒド類、ケトン類、イオウ化合物、ハロゲン化
合物などであり、熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノンおよびその誘導体、フエノール誘導体、
ニトロ置換ベンゼン、第三級アミン、フエノチア
ジンおよびその誘導体などをあげることができ
る。 充填材あるいは添加物として、ポリ(メタ)ア
クリル酸エステル、ポリウレタン、ポリアミド、
ポリエステルなどのポリマーやコロイダルシリ
カ、炭酸カルシウムなどの無機粉末、その他の添
加物として、露光部分を識別しやすいようにクリ
スタルバイオレツトのような染料を添加しておく
こともできる。 シリコーンゴム層は0.5〜50ミクロン、好まし
くは0.5〜5ミクロンの厚さと、紫外線が透過し
うる透明性を有する。有用なシリコーンゴムは末
端基同志の縮合によつて架橋する分子量100〜
400000の線状ジオルガノポリシロキサン(好まし
くはジメチルポリシロキサン)を主成分とし、必
要に応じて架橋剤、触媒が添加されたものであ
る。さらに、シリコーンゴム層と下層の光重合層
との接着性向上のため、シリコーンゴム層と光重
合層の間にシリコーンプライマーやシランカツプ
リング剤からなる中間層を設けることも有用であ
る。 本発明に用いられる非極性高分子層は、そのsp
値が9.5(cal/cm3)1/2以下の高分子化合物からなる
層で、厚みは100ミクロン以下0.1ミクロン以上、
好ましくは10ミクロン以下0.5ミクロン以上が適
当である。 ここにいうsp値とは、1cm3あたりの凝集力、す
なわち凝集エネルギー密度(CED)の0.5乗とし
て定義されるものである。 SP値=(CED)1/2(cal/cm3)1/2 CED=H−RT/Vcal/cm3 H:蒸発熱 cal/mol T:温度 V:その温度での1molの容積 R=1.982cal/度・mol 中でも好ましいものとしては分子内にカルボニ
ル基、エーテル基、水酸基などの極性基を実質的
に含まない高分子化合物であり、代表的な非極性
高分子化合物としては、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブ
テン、ポリペンテン、ポリイソプレン、ポリイソ
ブチレン、ポリブタジエン、ポリ4−メチルペン
テン、ポリスチレン、ブタジエン−スチレン共重
合体、固体状のパラフインワツクスなどの炭化水
素樹脂、ポリ四フツ化エチレン、ポリ六フツ化プ
ロピレン、ポリ四フツ化−六フツ化プロピレン、
ポリフツ化ビニリデンなどのフツ素樹脂、シリコ
ーン樹脂などをあげることができる。 本発明に用いられる酸素透過防止性の被覆層と
しては、酸素透過率が300c.c.(NTP)/m2/hr/
0.1mm/atm(25℃)以下、好ましくは50c.c.
(NTP)/m2/hr/0.1mm/atm(25℃)以下であ
り、膜厚は100ミクロン以下0.1ミクロン以上、好
ましくは10ミクロン以下0.5ミクロン以上が適当
である。その代表的な例として、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポ
リアクリロニトリル、アクリロニトリル−塩化ビ
ニリデン共重合体、ポリアミド、セロフアン、ポ
リビニルアルコールなどをあげることができる。
もし必要なら、真空密着性を向上せしめるため
に、適当なマツト化剤、例えば酸化チタン、コロ
イダルシリカ、炭酸カルシウムなどの無機粉末を
添加したり、ゴミの付着を防止するために、帯電
防止剤を添加することも有効である。 また、非極性高分子層と酸素透過防止性の被覆
層との接着性向上のため、例えば両層の間にエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物、アクリル酸
の共重合体、その他の高分子化合物からなる接着
層を設けること、あるいはいずれか一方または両
方の層にその本来の性能をそこなわない程度に、
これらの接着に寄与する成分を添加することも有
効である。 なお、これらの非極性高分子層および酸素透過
防止性の被覆層は生版の保存および露光工程にお
いて重要な役割を演ずるが、現像工程前あるいは
現像工程中に剥離または溶解によつて除去され、
印刷工程においては不必要なものである。 以上説明したような構成からなる本発明の水な
し平版印刷版原板は、例えば次のようにして製造
される。 まず、基板の上に、リバースロールコータ、エ
アーナイフコータ、グラビアコーター、メーヤバ
ーコータなどの通常のコータを用いて光重合組成
物を塗布する。次に該光重合層の上に、シリコー
ンガム溶液を、光重合層と同様の方法で塗布し、
充分に硬化させてシリコーンゴム層を形成する。
一方、先に例示した非極性高分子化合物からなる
プラスチツクフイルムと酸素透過防止性のプラス
チツクフイルムをはり合わせたフイルム、あるい
は非極性高分子化合物からなるプラスチツクフイ
ルムか、または酸素透過防止性のプラスチツクフ
イルムのいずれか一方のフイルムに、他方を塗布
することによつて得られた非極性高分子層と酸素
透過防止性層とからなる複合フイルムを用いて、
先に述べたシリコーンゴム層の上に通常のラミネ
ータを用いて、非極性高分子層側をシリコーンゴ
ム層と接するように張り合わせることにより水な
し平版印刷版原板が得られる。 このようにして製造された本発明の水なし平版
印刷版原板は、例えば真空密着されたポジフイル
ムを通して活性光線によつて露光される。この露
光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生
するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ、螢光灯な
どを使うことができる。 露光の終つた印刷版は必要に応じて非極性高分
子層と酸素透過防止性の被覆層を剥がし、現像液
に浸漬される。有用な現像液としては、シリコー
ンゴムを膨潤させるものが好ましく、未露光部の
シリコーンゴム層のみを除去するか、光重合層ご
と除去できるものである。このような現像液に浸
漬し、ガーゼなどの柔らかいパツドを用いて印刷
版面を軽くこすると、現像液が光重合層を実質的
に溶解させない場合は、未露光部のシリコーンゴ
ム層のみが容易に剥ぎとられ、下層の未硬化の光
重合層が露出する。また、現像液が未露光部の光
重合層を溶解させる場合は、未露光部のシリコー
ンゴム層とともに未露光部の光重合層が溶解除去
され基板が露出する。いずれの場合も、露光部分
のシリコーンゴム層は、光重合した光重合層に強
く接着しているため、現像パツドで強くこすつて
も侵されずに版面に残る。このようにして水なし
平版印刷版が製造される。 以下実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらによつて何ら限定される
ものではない。 実施例1、比較例1 アルミニウム基板上に、次の組成を有する感光
液(10%エチルセロソルブ溶液)を塗布し、80℃
熱風中で乾燥して厚さ4ミクロンの光重合層を設
けた。 (a) ポリウレタン樹脂「Impranil ELN」
(Bayer社製) 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジル4モルとキシリレン
ジアミン1モルの付加反応物 40重量部 (c) ミヒラー氏ケトン 4重量部 (d) クリスタルバイオレツト 0.4重量部 この光重合層の上に次の組成を有するシリコー
ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風
中で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層
を設けた。 (a) ポリジメチルシロキサン(分子量約40000)
100重量部 (b) メチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 一方、酸素透過防止層としての厚さ10ミクロン
のポリエチレンテレフタレートフイルム「ルミラ
ー」(東レ製)の上に、第1表に掲げた非極性高
分子樹脂(トルエン溶液)を厚さ2ミクロンにな
るように塗布した。次いで、これらの非極性高分
子層がシリコーンゴム層と接するようにラミネー
トして印刷版原板とした。 これらの印刷版原板に、2%〜98%の網点再現
域を有するグラーデシヨンポジフイルムを密着
し、3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で
1mの距離から90秒露光した。露光版からラミネ
ートしてあるフイルムを取り除き、n−ヘキサン
をしみこませたパツドで軽くこすることにより未
露光部のシリコーンゴム層のみを取り除いて印刷
版とした。第1表に、これらの印刷版の網点再現
性、非画線部の水による接触角を示す。網点再現
性は比較例として用いた非極性高分子層のない場
合(ポリエチレンテレフタレートフイルムだけの
場合)と同等であるが、接触角は非極性高分子層
のある場合の方が高く、シリコーンゴム層表面の
汚染が少ないことを示している。事実、これらの
印刷版を、版面の温度を昇温できるように改造し
たハマダスターにとりつけ、東洋インキ「アクワ
レスHTR紅」を用いて、湿し水を用いないで印
刷したところ、比較例として用いた非極性高分子
層のない場合は、版面の温度が36℃で地汚れが発
生したが、非極性高分子層がある場合は40℃でも
汚れが出なかつた。
【表】
実施例2、比較例2
実施例1と同様に、アルミニウム基板上に光重
合層、シリコーンゴム層を設ける。非極性高分子
層としての厚さ8ミクロンのポリプロピレンフイ
ルム「トレフアン」(東レ製)の上に、サランレ
ジン(旭ダウ製)のメチルエチルケトン/トルエ
ン溶液を塗布し、厚さ1ミクロンの酸素透過防止
性の被覆層を設けた。次いで、ポリプロピレンフ
イルムがシリコーンゴム層と接するようにラミネ
ートして印刷版原板とした。 この印刷版原板を実施例1と同様に、露光現像
した。非画線部の水による接触角は、比較例とし
て用いた酸素透過性の被覆層のない場合(ポリプ
ロピレンフイルムだけの場合)と同様82゜を示し、
実施例1と同様の印刷試験においても版面の温度
が40℃でも汚れが発生しなかつた。 一方、焼枠の真空度が、50Torr以下において
は、いずれの版も、2〜98%の網点再現性を示し
たが、真空度が200Torr以上になると、酸素透過
防止性の被覆層のない比較例2は、感度の低下お
よび網点再現性の低下(2〜70%)が認められた
が、酸素透過防止性の被覆層を設けた実施例2は
感度低下もなく2〜98%の網点再現性を示した。
合層、シリコーンゴム層を設ける。非極性高分子
層としての厚さ8ミクロンのポリプロピレンフイ
ルム「トレフアン」(東レ製)の上に、サランレ
ジン(旭ダウ製)のメチルエチルケトン/トルエ
ン溶液を塗布し、厚さ1ミクロンの酸素透過防止
性の被覆層を設けた。次いで、ポリプロピレンフ
イルムがシリコーンゴム層と接するようにラミネ
ートして印刷版原板とした。 この印刷版原板を実施例1と同様に、露光現像
した。非画線部の水による接触角は、比較例とし
て用いた酸素透過性の被覆層のない場合(ポリプ
ロピレンフイルムだけの場合)と同様82゜を示し、
実施例1と同様の印刷試験においても版面の温度
が40℃でも汚れが発生しなかつた。 一方、焼枠の真空度が、50Torr以下において
は、いずれの版も、2〜98%の網点再現性を示し
たが、真空度が200Torr以上になると、酸素透過
防止性の被覆層のない比較例2は、感度の低下お
よび網点再現性の低下(2〜70%)が認められた
が、酸素透過防止性の被覆層を設けた実施例2は
感度低下もなく2〜98%の網点再現性を示した。
Claims (1)
- 1 基板上に光重合層を設け、該光重合層上にシ
リコーンゴム層を設け、さらに該シリコーンゴム
層上に非極性高分子層および酸素透過防止性の被
覆層を順次積層してなることを特徴とする水なし
平版印刷版原板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12400981A JPS5825635A (ja) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | 水なし平版印刷原板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12400981A JPS5825635A (ja) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | 水なし平版印刷原板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5825635A JPS5825635A (ja) | 1983-02-15 |
JPS6322306B2 true JPS6322306B2 (ja) | 1988-05-11 |
Family
ID=14874760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12400981A Granted JPS5825635A (ja) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | 水なし平版印刷原板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5825635A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107521214A (zh) * | 2016-06-21 | 2017-12-29 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种柔性版平顶网点的制作方法 |
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JPS5952696A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-27 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷原版の製造方法 |
JPS6011394A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-21 | Nichiban Co Ltd | 平版印刷修正用基材 |
JPS6127547A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
JP2631168B2 (ja) * | 1991-10-09 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
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JPS53137705A (en) * | 1977-05-04 | 1978-12-01 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Method of producing photosensitive resin plate |
JPS5570846A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Toray Ind Inc | Treating method of lithographic material not requiring dampening water |
-
1981
- 1981-08-10 JP JP12400981A patent/JPS5825635A/ja active Granted
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CN107521214A (zh) * | 2016-06-21 | 2017-12-29 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种柔性版平顶网点的制作方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5825635A (ja) | 1983-02-15 |
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