JPS59148060A - 湿し水不要平版印刷版 - Google Patents

湿し水不要平版印刷版

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Publication number
JPS59148060A
JPS59148060A JP2171083A JP2171083A JPS59148060A JP S59148060 A JPS59148060 A JP S59148060A JP 2171083 A JP2171083 A JP 2171083A JP 2171083 A JP2171083 A JP 2171083A JP S59148060 A JPS59148060 A JP S59148060A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
exposed
photosensitive layer
layer
silicone rubber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2171083A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Yamada
政明 山田
Kuniyuki Sakai
酒井 国行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2171083A priority Critical patent/JPS59148060A/ja
Publication of JPS59148060A publication Critical patent/JPS59148060A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/0226Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は湿し、水不要平版印刷版に関するものであり、
支持体上に、特に選ばれた感光層と、シリコーンゴム層
を塗設した湿し水不要平版印刷版に関するものである。
従来のオフセット方式による平版印刷では、湿し水の組
成、供給量等とインキのバランスが印刷結果に大きな影
響を及ばずため、漫し水の供給について非常に高度な技
術が要求される。このためオフセット印刷を専らとする
業界では、湿し水が不要な平版印刷版Q出現が久しく待
望されていた。
たとえば、!開閉55−59466号公報および特開昭
55−110249号公報にはノボラック樹脂のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステルを
感光層とした湿し水不要平版印刷版が開示されている。
この印刷版はシリコーンゴム層を浸透し、露光部のカル
ボン酸化合物に変化した部分を溶解する溶媒を含浸させ
たプラン、布等で表面をこすり、露光部の感光層を溶解
するとともに、上部のシリコーン層を剥きとる方法で現
像を行なっている。しかしながら、その現像速度は十分
でなく、またその速度にばらつきがあり2%に乾燥雰囲
気に保存された場合には現像速度が著しく低下するとい
う欠点があった。
本発明者らは上述のような問題点を解決すべく鋭意検討
した結果、感光層として、(a)ノボラック樹脂のナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
’J fc n 4−スルホン酸エステル999〜80
重量%と、(b)有機または無機酸成分を01〜20重
量%含む感光性樹脂組成物を用いると、現像速度が速く
寸だその速度にばらつきが々<、シかも乾燥雰囲気に保
存された場合にも、現像速度がほとんど変化しない事を
見出し本発明をなすに到った。
すなわち9本発明は支持体上傾前記の感光性樹脂組成物
からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に塗設して
なる湿し水不要平版印刷版に関するものである。
本発明の構成からなる湿上水不要平版印刷版の現像速度
がほとんど変動し7ない理由は、未た解明されていない
が以下のように説明できると考えられる。
即ち、従来のノボラック樹脂のオルトナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステルを感光層とした印刷版の現像速
度が十分でなく、また速度が変動するのは、露光により
生成したケテン化合物が感光層中に存在する水分と反応
して、カルボン酸化合物が生成するばかりでなく、ノボ
ラック樹脂に由来する残存水酸基と反応してエステル結
合にょる橋かけが一部で起こり、しかもカルボン、酸化
合物とエステル結合の生成比率が露光時の感光層中に存
在する水分率によって変動するためと考えられる。当然
、乾燥雰囲気に保存した場合には、エステル結合の生成
比率が高くなり現像速度がおそくなる事は言うま丁もな
い。
これに対して9本発明の組成からなる感)光層の場合に
は、添加された(b)成分の有機または無機酸がケテン
化合物と、(a)成分中のノボラック樹脂に由来する残
存水酸基との反応を防止する作用があり、結果として橋
かけ反応が起らず、水分と選択的に反応し現像液のアル
コール等に溶解するカルボン酸化合物になるためと考え
られる。乾燥状態に保存された場合には拡散あるいは外
部から侵透し7てくる水分と反応するまでケテン化合物
のま1留まるのであろう。
以下に本発明の構成を詳細に述べる。
感光層としては(a)エステル化率35〜65%のノボ
ラック樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5〜ス
ルホン酸エステルまたは4−スルホン酸999〜80重
置部と、(b)有機または無機酸01〜20重量%から
なる組成物を用いる。
(a)成分はフェノールまたはクレゾールをホルムアル
デヒドと縮合して得られるノボラックII 脂のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルボン酸エステルま
たは4−スルホン酸エステルで、エステル化率35〜6
5% (工Rスペクトルより測定)のものが用いられる
。エステル化率が35q6よシ小さい場合(Cは露光部
と未露光部の現像溶媒に対する溶解性が出現しに((,
65%を越えると経済的に不利である。(b)成分はP
Ka = 1.0〜10.0のものが好ましく、有機酸
および無機酸のいずれも用いる事ができる。有機酸とし
ては1例えば乳酸。
コハク酸、/ユウ酸、パルミチン酸、ステアリン酸、安
息香酸、フタル酸、P−トルエンスルポン酸、クエン酸
等、無機酸としては硫酸、リン酸等が有利に用いられる
が、中でもl) −)ルエンスルホン酸、コハク酸、リ
ン酸、/ユウ酸が好ま′しい。
感光層の厚さは05〜5μが好ましい。薄くしずき゛る
とピンホールの原因になり、厚くしすき゛るとクラック
が発生しやすくなり、また、経済的な見地からも不利と
なる。
感光層中にはその性能を損わない限り、必要な添加剤1
例えば顔料、染料、樹脂、5T塑剤等を加えることがで
きる。
本発明に用いられるインキ反撥層として、使用されるシ
リコーンゴム層の厚みは05〜100μ。
好ましくは1〜50μのものが用いられる。有用なンリ
コーンゴムは次のような繰返し単位を有する分子量数千
〜数十刃の線状有機ボリア0キザンを主成分とするンリ
コーンゴムである。
Rの60%以上がメチル基であるものが好ましい)。
この線状有機ポリノロキサンは1通常末端水酸基を有す
るものを用い、アセトキノ/ラン、ケトオキシム7ラン
、アルコキン/ラン等の橋かけ剤を存在させ、有機スズ
化合物等の触媒存在下に。
通常熱処理によシ僑かけシリコーンゴム層トシテ用いら
れる。
また、必要に応じてシリコーンゴム層と感光層間あるい
は感光層と支持体の接着のために1層間に公知のシリコ
ーンプライマ層やシリコーンカソグ4:ノング剤層を設
けたり、シリコーンゴム層あるいけ感光層に公知のノリ
コーンプライマ殆シランカップリング剤を添加する事も
効果的である。
支持体としては9紙、プラスチックフィルム捷たはシー
ト、天然あるいは合成ゴムシート、金属板等が用いられ
る。これらの支持体はハレーンヨン防止その他の目的で
さらにコーティング層または貼合せ局を設は支持体とし
て用いることも可能である。
以上説明したようにして構成された湿し水不要平版印刷
版の表面を形成するシリコーンゴム層は。
きすの発生、はこりの付着などを防止するために。
保護フィルムを積層することもできる。有用な保護フィ
ルムとしては、ポリエチレン、ポリグロピ”7 、 ホ
’) 塩化ビニル、ポリビニルアルコール。
ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
本発明に基づく湿し水不要平版印刷版は9例えば次のよ
うにして製造される。まず、支持体の上ニリバースロー
、ルコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータ等の
通常のコータあるいはホエラのような回転塗布装置を用
い、感光性物質溶液を塗布、乾燥後、この感光層の上に
同様な方法で必要に応じて接着層を塗布、乾燥して9次
いで/リコーンゴム溶液を同様に塗布し1通常100〜
120℃の温度で、数分間熱処理して十分に硬化させシ
リコーンゴム層を形成する。きらに必要ならば保護フィ
ルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ等を用い
積層する。
このようにして製造された本発明の、湿し水不要平版印
刷版は1例えば所定のパターンを有するネガフィルムを
真空密着して紫外線により露光される。紫外線を発生す
る光源としては、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ、螢光灯等を用いること
ができる。次いで現像液を含浸させた布、ブラシ等の現
像パッドで表面をこすると露光部の感光層が溶解すると
ともに上部のシリコーンゴム層が容易にはぎとられ支持
体が露出する。
現像液としては、シリコーンゴム層を浸透し。
かつ露光きれた感光層のみを溶解するものが用いられる
。このような現像液としてはメタノール。
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感光層へ
の浸透をより容易にするため、シリコーン層を膨潤させ
得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエ
ン、キンレン等の芳香族炭化水素類等を混合して用いる
ことも好ましい。
以下実施例を示し1本発明をさらに詳細に説明するが9
本発明の実施の態様がこれにより限定されるものではな
い。
実施例1 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にエステル化率49
%のフェノールノボラック樹脂(住友デュレズ製:スミ
レノンPR−50235)のナフトキノン−1,2−ジ
アジM−5−スルホン酸エステル95.0重量%、P−
1ルエンスルホン酸5,0重量%からなる感光性樹脂組
成物の20重量%のエチルセロソルブ溶液を≠10のバ
ーコータで塗布後。
100℃、4分間乾燥させて27μの感光層を形成した
この上にγ−アだノグロビルトリエトキ//ラン(UC
C製、A−1100)の10重量%°゛アイツバーE″
 (エッソ製)溶液を≠ろのバーコータで塗布後、12
0℃、60秒間乾燥した。この上に次の組成をもつンリ
コーン組成物の25%°アインパーEバー液を≠16の
バーコータで塗布後。
120℃、55分間加熱硬化した。この時得られた/リ
コーンゴム層の厚みは51μであった。
(a)  ポリジメチルシロキサン(分子量約8 )5
 。
末端OH基)         100部(b)  エ
チルトリアセI・キノ/ラン   5部(C)  ジブ
チル錫アセテート     02部上記のようにして得
られた印刷原版を2ろ℃X60%RHK7日間保存後、
真空密着した100μ〜15mmの線巾の直線画像を有
するネガフィルムを通してメタルハライドランプ(岩崎
電気製アイドルフィン2000)を用い、1mの距離か
ら60秒露光しまた。版面を現像液のエタノールに1分
間浸漬した後パッド(用品織物製 ロンゲラ7カーベン
ト)で10g/cm2の荷重下にこすると、露光部のシ
リコーン層は8回のこすり回数で除去され、化成処理ア
ルミ表面が露出し7だネガフィルムに忠実な画像が得ら
れた。
比較例1 感光層を実施例1で用いたフェノールノボラック樹脂の
ナフトキノ7−1.2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テルのみにかえて印刷原版を得。
23r:x60係RHに7日間保存後、露光および現像
処理を施した。露光部の化成処理アルξ表面が露出する
までに98回のこすり回数が必要であった。
実施例2 実施例1で得た印刷原版を4067、RHのデフケータ
に14日間保存後、同様に露光および現像処理を施した
。現像は9回のこすり回数で露光部の化成処理アルミ表
面が露出しだ。
比較例2 比較例1で得た印刷原版を、実施例2と同条件に保存後
、同様KN光および現像処理を施した。
露光部の化成処理アルミ表面が露出するまでに120回
のこすり回数が必要であった。
実施例6 厚す0.25mmのポリエチレンテレフタレートのフィ
ルムの上に、実施例1のP−)ルエンスルホン酸にかえ
てコハク酸を5東置部混合した感光性樹脂組成物を用い
印刷原版を実施例1と同様な方法で得、25℃x 60
%RHで7日間保存後、露光および現像処理を施した。
現像液は”アイソパーE ”60重量置部エタノール4
0重量%の混合液を用いた。露光部は5回のこすり回数
で除去され、ニトリルゴム層の表面が露出したネガフィ
ルムに忠実な画像が得られた。
比較例3 実施例6と同じ支持体を用い、比較例1と同様に印刷原
版を得、露光および現像処理を施した。
露光部のポリエチレンテレフタレートフィルムの表面が
露出するまでに82回のこすり回数を要した。
実施例4 実施例6で得られた印刷原版をシリカゲル上でテンケー
タ中に7日間保存後、同様に露光および現像処理を施し
、た。現像は7回のこすり回数で露光部のポリエチレン
テレフタレートフィルムの表面が露出した。
比較例4 比較例6で得られた印刷原版を、実施例4と同条件に保
存後、同様に露光および現像処理を施し。
た。露光部のポリエチレンテレフタレートフィルムの表
面が4露出するまでに98回のこすり回数を要した。
実施例5 実施例ろのコハク酸にかえて、リン酸を1.5重量%混
合した感光性樹脂組成物を用い、印刷原版を実施例6と
同様な方法で得、26℃×60係RHに7日間保存後、
R光および現像処理を施りまた。
原像液け゛アイソパーE”35](置部とエタノール6
5重置部の混合液を用いた。露光部の/リコーン層は7
回のこすり回数で除去され、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムの表…1が露出しまたネガフィルムに忠実な
画像が得られた。
比較例5 比較例3で得られた印刷原版を実施例5と同様に23℃
×60係RHに7日間保存後、露光現像した。露光部の
ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面が露出する
までに74回のこすり回数が必要であった。
実施例6 実施例5で得られた印刷原版を塩化カル/ウムートでデ
フケータ中に10日間保存後、同様に露光および現像処
理を施した。11回のこすり回数で。
露光部のポリエチレンテレフタレートフィルムの表面が
露出した。
比較例6 比較例3で得られた印刷原版を、実施例6.!:同条件
に保存後、同様に露光および現像処理を姉L7た。鱈元
部のポリエチレンテレ7タレーFフィルムの表面が露出
するまでに89回のこすり回数を要した。
実施例7 実施例1のP−トルエンスルホン酸にかえて。
シュウ酸を5重量%混合した感光性樹脂組成物を用い、
実施例1と同条件で厚さ2.4μの感光層を形成した。
この上に実施例1で用いた/リコーンゴム組成物と同一
組成の25重量%の゛アイソパーE ”溶液に、シリコ
ーンゴム組成物に対[−2で4重置部のγ−アミノブ口
ビルトリエトキ7ノラン(UCC製:A−1100)を
加え、≠16のバーコータで塗布し、120℃、35分
間乾燥しまた。この時得られた/リコーンゴム層の厚み
は47μであった。
上記のようにして得られた印刷原版を、実施例1と同様
に26℃×60%RHに7日間保存後、露光および現像
処理を施した。7回のこすり回数で露光部の化成処理ア
ルεの表面が露出し7た。
比較例7 実施例7の感光層のみをンユウ酸を添加し、ない組成と
して、他は同一の方法で印刷原版を得、同様に2′5℃
X60%RHに7日間保存後、露光および現像処理を施
した。露光部の化成処理アルミ表面が露出するまでに4
0回のこすり回数が必要であった。
実施例8 実施例7で得られた印刷原版を実施例2と同一条件で保
存後、同様に露光および現像処理を施した。8回のこす
り回数で露光部の化成処理アルミの表面が露出した。
比較例8 比較例7で得られた印刷原版を、実施例8と同一条件で
保存後、同様に露光および現像処理を施した。露光部の
化成処理アルε表面が露出するまでに66回のこすり回
数が必要てあった。
特許出願人   東  し  株  式 会  社−y
沿

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体上に、(a)エステル化率35〜65%のノボラ
    ック樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−15−ス
    ルホン酸エステル4 k Id、 4−スルホン酸エス
    テル999〜80重置部と、(b)有機または無機酸0
    1〜20重量係から置部感光層を塗設し、更にその上に
    /リコーンゴム層を塗設してなる湿し水不要平版印刷版
JP2171083A 1983-02-14 1983-02-14 湿し水不要平版印刷版 Pending JPS59148060A (ja)

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JP (1) JPS59148060A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0323427A2 (fr) * 1987-12-18 1989-07-05 U C B, S.A. Compositions photosensibles contenant des résines phénoliques et des dérivés de diazoquinone
JPH0248663A (ja) * 1988-08-10 1990-02-19 Nec Corp 光露光方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0323427A2 (fr) * 1987-12-18 1989-07-05 U C B, S.A. Compositions photosensibles contenant des résines phénoliques et des dérivés de diazoquinone
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