JPH043865B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明は水なし平版の製版用処理液に関するも
のであり、特に自動現像機の処理液において、処
理液の安定性に優れた水なし平版製版用処理液に
関するものである。 ［従来技術］ 感光層、シリコーンゴム層からなる水なし平版
印刷版としては、種々のものが知られている。中
でも、支持体上にキノンジアジド構造を含む物質
を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層
をこの順に設けてなる画像形成用積層体を塩基処
理することによつて、ネガ、ポジ両性タイプの水
なし平版印刷版を得る方法は、特開昭59−17552
に開示されているように、水なし平版印刷版の画
像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めた現像ラ
チチユードを広げ、かつネガ型とポジ型の版が同
一の版材からできること等の優れた特徴を有して
いる。これらの特許に記載されている塩基処理方
法としては、無機塩基または有機塩基を単独ある
いは混合して、気相あるいは液状で用い、液状の
場合には、水または公知の有機溶剤を溶媒として
用いることが提案されている。 これらの従来技術による水なし平版用処理液に
おいて、特に有機溶剤と有機塩基からなる塩基処
理液が好ましく用いられる。しかしながら、自動
現像機に使用する場合には、処理液の安定性が悪
く、長期使用できない欠点を有している。 ［発明が解決しようとする問題点］ 本発明者らは、かかる問題点を改良すべく鋭意
検討した結果、特定のアミン化合物を含有する処
理液が好適であることを見出し、本発明に到達し
た。 本発明の目的は上記の問題点である処理液の安
定性が良く、塩基処理効果の大きい水なし平版製
版用処理液を提供するものである。 ［問題を解決するための手段］ すなわち、本発明は支持体上にキノンジアジド
構造を含む物質を構成成分とする感光層およびシ
リコーンゴム層をこの順に塗設してなる水なし平
版の処理液において、該処理液が下記一般式
［］で表わされるアミン化合物を含有すること
を特徴とする水なし平版製版用処理液に関するも
のである。 ここでＲ：Ｈまたは炭素数１〜６のアルキル
基、 R′，R″：Ｈまたは炭素数１〜５のアルキル基、 Ｒ：Ｈまたは炭素数１〜10のアルキル基、ま
たは炭素数６〜20のアリール基、 ｎ：２〜６の整数。 本発明の処理液において使用される溶媒として
は、水、アルコール類（３−メトキシブチルアル
コール、２−メチルペンタノール−１、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジプロピレングリコール、トリ
プロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルなど）、エーテル類（エチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルなど）、
ケトン類（シクロヘキサノン、アセトニルアセト
ン、ジアセトンアルコールなど）などが挙げら
れ、これらは単独または混合して使用される。ま
た適当な乳化剤でエマルジヨンとしたものも使用
できる。 本発明の処理液は、上記した処理液用溶媒また
はこれらの混合溶液に下記一般式［］で表わさ
れるアミン化合物の少なくとも一種を含有せしめ
たものである。 ここでＲ：Ｈまたは炭素数１〜６のアルキル
基、 R′，R″：Ｈまたは炭素数１〜５のアルキル基、 Ｒ：Ｈまたは炭素数１〜10のアルキル基、ま
たは炭素数６〜20のアリール基、 ｎ：２〜６の整数。 処理液中に配合されるアミンの量は、処理溶媒
に対して0.1〜60重量％添加するのが塩基処理効
果と画像再現性の点で好ましく、より好ましくは
0.3〜35重量％添加するのがよい。 上記一般式［］で表わされるアミン化合物
は、処理溶媒と相溶性がよく、かつ、安定性にす
ぐれ、しかも塩基処理効果の大きいものである。 本発明において使用可能なアミン化合物として
は、次のようなものが挙げられる。 (1) H₂N（CH₂CH₂O）₂H (6) H₂N（CH₂CH₂O）₂CH₃ (7) H₂N（CH₂CH₂O）₂C₂H₅ (8) H₂N（CH₂CH₂O）₂C₄H₉ (9) H₂N（CH₂CH₂O）₃H (14) H₂N（CH₂CH₂O）₄H (36) H₂N（CH₂CH₂O）₂CH₃ (37) H₂N（CH₂CH₂O）₂C₂H₅ (38) H₂N（CH₂CH₂O）₃C₄H₉ (39) H₂N（CH₂CH₂O）₃CH₃ (40) H₂N（CH₂CH₂O）₃C₂H₅ (41) H₂N（CH₂CH₂O）₄CH₃ (42) H₂N（CH₂CH₂O）₄C₂H₅ 上記したアミン化合物中、好ましくは下記に挙
げるアミン化合物を使用するのがよい。 (1) H₂N（CH₂CH₂O）₂H (9) H₂N（CH₂CH₂O）₃H (14) H₂N（CH₂CH₂O）₄H 処理液として用いる場合、処理液中に、ぬれ性
向上およびアミン成分の溶解性向上のため界面活
性剤を添加することもできる。また処理液でその
まま現像する場合は、検版性向上のため、例えば
ネプチユンブルーベース627（BASF社製）、アイ
ゼンビクトリアブルーBH、アイゼンマリーン
RNX（保土谷化学(株)製）等の染料等を処理液中に
加えることもできる。 また処理中には脂肪族炭化水素類（ヘキサン、
ヘプタン、ガソリン、灯油、“アイソバー”Ｈな
ど）を添加してもよい。 本発明で用いられる支持体は特に限定されない
が、通常の水なし平板印刷版で用いられるもの、
あるいは提案されているものならば、いずれでも
よい。 例えば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板およ
びポリエステル、ポリオレフイン、ポリスチレン
のような透明または不透明なプラスチツクフイル
ム、あるいは両者の複合体などが挙げられる。こ
れらのシート上にハレーシヨン防止その他の目的
でさらに樹脂層などをコーテイングして支持体と
することも可能である。 本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジ
ド構造を含む物質から構成されるものであり、キ
ノンジアジド構造を含む物質とは、通常ポジ型
PS版、ワイポン版、フオトレジストなどに用い
られているキノンジアジド類である。 かかるキノンジアジド類としては、例えばベン
ゾキノン−１，２−ジアジド−４−または−５−
スルホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステ
ル、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−また
は−５−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−または−５−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂またはカシユ変性ノ
ボラツク樹脂とのエステルが挙げられる。また低
分子量のキノンジアジド化合物（例えば、ナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸と、
フエノール、クレゾール、キシレノール、カテコ
ール、ピロガロールおよびビスフエノールＡなど
とのエステル化合物など）または上記のキノンジ
アジド基を含む樹脂に感光性基を含まないノボラ
ツク樹脂（例えば、フエノール、クレゾール、キ
シレノール、カテコールおよびピロガロールなど
のフエノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触
媒存在下に縮合させて得られる可溶可融性樹脂な
ど）を単に混合してもよい。 さらに特開昭56−80046号公報で提案されてい
るようなキノンジアジド類を多官能化合物で架橋
せしめた光剥離性感光層が挙げられる。 架橋剤としては、多官能性イソシアナート類、
例えば、パラフエニレンジイソシアナート、２，
４−または２，６−トリレンジイソシアナート、
４，4′−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナートもしくはこれらのアダクト体など、
あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールＡジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルなどが
ある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常130℃以下で行なうことが好
ましく、このため通常触媒等が併用される。 またキノンジアジド類に多官能化合物を反応さ
せて変性し、現像液に難溶もしくは不溶にする方
法としては、同様に該キノンジアジド類の活性な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化す
ることなどが挙げられる。キノンジアジド類の活
性な基と反応させる化合物としては、低分子であ
つても比較的高分子であつてもよいし、キノンジ
アジド類にモノマをグラフト重合させてもよい。 本発明で用いられる感光層として特に好ましい
ものは、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物を多官能もしくは単
官能イソシアネートで架橋もしくは変性して得ら
れたものである。 感光性の厚さは約0.1〜100μ、好ましくは約0.5
〜10μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホ
ール等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経
済的見地から不利である。 また感光層中には本発明の効果を損なわない範
囲で塗膜形成性の向上や支持体との接着性向上な
どの目的で他の成分を加えたりすることは可能で
ある。 本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次の
ような繰り返し単位を有する分子量千〜数十万の
線状有機ポリシロキサンを主成分とするものが好
ましく使用される。 ここでｎは２以上の整数、Ｒ，R′は炭素数１
〜10のアルキル基、アルケニル基あるいはフエニ
ル基であり、Ｒ，R′の60％以上がメチル基であ
るものが好ましい。 この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添
加される。架橋剤としては、いわゆる室温（低
温）硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものと組合せて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等を添加してもよい。 シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好
ましくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合
は耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚
すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく現
像時シリコーンゴム層を除去するのが困難とな
り、画像再現性の低下をもたらす。 本発明に用いられる印刷版において、支持体と
感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、
画像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとり
非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接
着剤層を設けたり、各層に接着改良性成分を添加
したりすることが可能である。特に感光層とシリ
コーンゴム層間の接着力のために、層間に公知の
シリコーンプライマやシランカツプリング剤層を
設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシ
リコーンプライマやシランカツプリング剤を添加
すると効果的である。 以上説明したようにして構成された水なし平版
印刷原版の表面に薄い保護フイルムをラミネート
することもできる。 本発明に用いられる水なし平版印刷原版は、例
えば次のようにして製造される。まず支持体上
に、リバースロールコータ、エアナイフコータ、
メーヤバーコータなどの通常のコータ、あるいは
ホエラのような回転塗布装置を用い、感光層を構
成すべき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応
じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に同様
な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコーン
ガム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で
塗布し、通常50〜130℃の温度で数分間熱処理し
て、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成
する。必要ならば、保護フイルムを該シリコーン
ゴム層上にラミネーター等を用いカバーする。 このようにして得られた水なし平版印刷原版に
ポジフイルムまたはポジ原画、あるいはネガフイ
ルムまたはネガ原画を用いて画像露光を与えて現
像を行うと水なし平版印刷版が得られる。 かかる水なし平版印刷原版の製版方法としては
次のようなものが挙げられる。例えば、ポジ型の
水なし平版印刷原版として用いる場合、真空密着
されたポジフイルムまたはポジ原画を通して、活
性光線で感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位の５〜60モル％が光分解
するように画像露光を与えて、塩基処理と現像を
行なうと、水なし平版印刷版が得られる。 一方、ネガ型の水なし平版印刷原版として用い
る場合、真空密着されたネガフイルムまたはネガ
原画を通して、活性光線で通常の画像露光（感光
層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジ
アジド単位の60モル％を越える量が光分解する露
光量）を与えてから、塩基処理後に現像、塩基処
理と同時に現像、または現像後に塩基処理を行な
うと水なし平版印刷版が得られる。より好ましく
は、通常の画像露光の前か後、または現像後に非
画線部の感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジト単位の５〜60モル％が光分解
するように画像部を含めて全面露光を与えてか
ら、塩基処理後に現像、塩基処理と同時に現像、
または現像後に塩基処理を行なうとよい。 この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊
富に発生するものであり、水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、
螢光灯などを使うことができる。さらに紫外線以
外にもレーザー光等が用いられる。 本発明の処理液による塩基処理方法としては、
次のようなやり方があげられる。 Ａ ネガ型 (1) 全面露光→画像露光→塩基処理→現像 (2) 画像露光→全面露光→塩基処理→現像 (3) 全面露光→画像露光→現像と同時に塩基処
理 (4) 画像露光→全面露光→現像と同時に塩基処
理 (5) 全面露光→画像露光→現像→塩基処理 (6) 画像露光→全面露光→現像→塩基処理 (7) 画像露光→現像→全面露光→塩基処理 (8) 画像露光→現像→塩基処理 (9) 画像露光→塩基処理→現像 (10) 画像露光→現像と同時塩基処理 Ｂ ポジ型 (1) 画像露光→塩基処理→現像 処理方法としては、本発明の処理液に浸漬する
か、あるいは自動現像機の場合のようにシヤワー
方法で版面をぬらせばよい。 処理時間は特に限定されず、アミン化合物の強
さと濃度、および処理液の温度によつて適宜選択
できるが、通常処理液にふれると即時に効果があ
らわれ、かつ長時間接触させても何ら効果に変化
はない。通常約10秒〜５分程度でよい。 現像液としては、水なし平版印刷版において通
常提案されているものが使用できる。例えば、
水、水に下記の極性溶剤を添加したものが好適で
ある。 アルコール類（メタノール、エタノールなど） エーテル類（エチルセロソルブ、エチルカルビ
トール、ブチルカルビトールなど） エステル類（セロソルブアセテート、カルビト
ールアセテートなど） また本発明の処理液でそのまま現像することも
可能である。 塩基処理した版の表面を上記の現像液を用い
て、現像パツドあるいはブラシなどでこすること
により、ネガ型水なし平版として利用する場合、
露光部のシリコーンゴム層が除去され、インキ受
容部となる感光層または基板が露出する。一方、
ポジ型水なし平版として利用する場合、未露光部
のシリコーンゴム層が除去され、インキ受容部と
なる感光層または基板が露出する。 以下に実施例によつて本発明をさらに詳しく説
明する。 ［実施例］ 実施例１〜２、比較例１ 厚さ0.3mmのアルミ板（住友軽金属(株)製）に下
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、２分間熱
処理して5μのプライマ層を設けた。 ポリウレタン樹脂（サンプレンLQ−T1331、
三洋化成工業(株)製） 100重量部 ブロツクイソシアネート（タケネートB830、
武田薬品(株)製） 20重量部 エポキシ・フエノール・尿素樹脂（SJ9372、
関西ペイント(株)製） ８重量部 ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感光層組成物をバーコー
タを用いて塗布し、110℃の熱風中で１分間乾燥
して厚さ2μの感光層を設けた。 ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スル
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂（住友デユレズ製：スミライトレジン
PR50622）の部分エステル（元素分析法による
エステル化度25％） 100重量部 ４，4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
40重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 ４，4′−ジエチルアミノベンゾフエノン
５重量部 Ｐ−トルエンスルホン酸 0.8重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 ついでこの感光層の上に次の組成を有するシリ
コーンゴム組成物を塗布後、115℃、露点30℃、
3.5分間湿熱硬化させて2.3μのシリコーンゴム層
を設けた。 ポリジメチルシロキサン（分子量約25000、
未満OH基） 100重量部 ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シ
ラン ８重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部 “アイソパー”Ｅ（エクソン化学(株)製）
1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μ
のポリプロピレンフイルム“トレフアン”（東レ
(株)製）をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷原版を得た。 かかる印刷原版にメタルハライドランプ（岩崎
電気(株)製アイドルフイン2000）を用い、UVメー
ター（オーク製作所製、ライトメジヤータイプ
UV−402A）で11mw／cm²の照度で６秒間全面露
光を施した。 上記のようにして得られた印刷原版に150線／
インチの網点画像を持つネガフイルムを真空密着
し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの
距離から60秒間画像露光した。 表１に挙げた処理液中のアミン成分の濃度を変
えた処理液を東レ水なし平版自動現像機（TWL
−1160D（東レ(株)製））の前処理槽に入れ、現像槽
には水を入れた。前処理液温45℃、現像水温25
℃、搬送スピード40cm／分に設定し、次いで上記
の露光済版の“トレフアン”を剥離して自動現像
機に通版して、現像を行なつた。この印刷版をオ
フセツト印刷機に取り付け、東洋インキ(株)製“東
洋キングウルトラTKUアクワレスＧアイPL”を
用いて印刷を行ない、網点再現性を評価した。表
１に各処理液のアミン濃度による網点再現性を示
す。 表１に示すように、本発明に基づく実施例１〜
２の場合、アミン濃度がいずれの場合も良好な網
点再現性を示し、アミン濃度ラチチユードが広
い。 一方、比較例１で用いた処理液では、アミン濃
度３〜５重量％の範囲でしか良好な網点再現性を
示さず、アミン濃度ラチチユードが非常に狭い。

【表】 実施例３ 比較例２ 表２に挙げた処理液を実施例１の東レ水なし平
版自動現像機（TWL−1160D（東レ(株)製））の前
処理層に18入れ、現像層には40の水を入れ
た。前処理液温45℃、現像水温25℃、搬送スピー
ド40cm／分に設定し、実施例１で得られた水なし
平版に、実施例１と同様に全面露光および画像露
光を行ない、露光済版の“トレフアン”を剥離
し、自動現像機に通版して、現像を行なつた。 菊全版を250枚目、500枚目、1000枚目ごとに処
理液をサンプリングを行ないアミン濃度を測定
し、また網点再現性の評価も行なつた。アミン濃
度は電位差滴定で測定し、網点再現性は実施例１
と同様な方法で評価を行ない表２に各通版枚数ご
とのアミン濃度と網点再現性の結果を示す。 表２に示すように、本発明に基づく実施例２の
場合、菊全般を1000枚通版しても網点再現性は低
下せず、しかも、アミン成分であるジグリコール
アミンの低下も少なく、処理液の長期使用が可能
である。 一方、比較例２の場合は、菊全版を250枚通版
では良好な網点再現性を示すが、500枚通版する
と網点再現性が低下する。またアミン成分である
モノエタノールアミンの濃度が急激に低下するた
めに塩基処理効果が著しく低下したものと考えら
れ、本発明の処理液を使用した場合に比べて1/3
程度しか使用できず、液の寿命が極めて短いもの
であつた。

【表】 実施例 ４ 化成処理アルミ板（住友軽金属製）のエステル
化度44％のフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂（住友ベークライト製：スミライトレジン
PR50235）のナフトキノン−１，２−ジアジド−
５−スルホン酸エステル（エタノール可溶性成分
9.7重量％、エステル化度はIRスペクトルから定
量）の３重量％ジオキサン溶液を塗布後60℃、３
分間乾燥させて1.2μの感光層を形成した。この上
に次の組成を持つシリコーンガム組成物の７％ア
イソパーＥ溶液に、シリコーン組成物に対し４重
量％のγ−アミノプロピルトリエトキシシラン
（UCC製：A1100）を添加し、均一に攪拌後塗布
した。乾燥後120℃、露点25℃、４分間加熱硬化
し２，2μのシリコーンゴム層を得た。 ジメチルポリシロキサン（分子量約80000、
両末端OH基） 100部 エチルトリアセトキシシラン ５部 ジブチル錫ジアセテート 0.2部 上記のようにして得られた水なし平版印刷原版
に150線／インチの網点画像を持つネガフイルム
を真空密着し、実施例１で用いたメタルハライド
ランプで、１ｍの距離から60秒間画像露光した。
露光された版の版面をエタノール／“アイソパー
Ｅ”＝80／20（重量比）からなる現像液で軽くこす
ると、画像露光した部分はシリコーンゴム層と感
光層の両方が容易に除去されて化成処理アルミ表
面が露出し、ネガフイルムを忠実に再現した画像
が得られた。上記の製版された版をメタルハライ
ドランプを用い、１ｍの距離で実施例１のUVメ
ーターで11mw／cm²の照度下、10秒間全面露光
（感光層中のキノンジアジドの25モル％が光分解
してカルボン酸成分を生成する光量）した後、ジ
エチレングリコール／水／ジグリコールアミン＝
60／30／10（重量比）からなる処理液で１分間浸
漬処理し、水洗乾燥した。得られた版が塩基処理
によつて定着されているかどうか確認するため
に、さらに上記のメタルハライドランプで１ｍの
距離から60秒間全面露光した後、エタノール／
“アイソパーＥ”＝80／20（重量比）からなる現像
液を含ませた現像パツドで擦つた。非画像部のシ
リコーンゴム層は全く損傷を受けず、塩基処理に
よる定着効果は十分であつた。 実施例 ５ 実施例４の感光液を次の組成に置き換える以外
は全く同様な方法で、水なし平版印刷原版を作製
した。即ちフエノールホルムアルヒデドノボラツ
ク樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステル８重量部とフエノールノボラ
ツク樹脂２重量部を200重量部のジオキサンに溶
解し、感光液を調整した。感光層の厚みは1.7
ｇ／m²であつた。 次に実施例４と同様な方法で未定着の印刷版を
製版した。該版を実施例１記載のメタルハライド
ランプを用いて10秒間全面露光し、次いでジエチ
レングリコール／水／ジグリコールアミン＝60／
30／10（重量比）からなる処理液で１分間浸漬処
理し、水洗乾燥した。 実施例４と同様な方法で定着が行われたか否か
確認したところ、非画像部のシリコーンゴム層は
全く損傷を受けていないことがわかつた。すなわ
ち、非画像部は完全に定着されていた。 ［発明の効果］ 本発明による水なし平版用処理液により、次の
ような効果が達成される。 (1) アミン成分の濃度ラチチユードが大巾に広く
なり、良好な網点再現性を示す領域が拡大され
る。 (2) 処理液の寿命が大巾に長くなり、処理液の交
換回数が少なくてすむ。 (3) 空気中の炭酸ガスを吸収して、アミンが炭酸
塩になりにくく、アミン成分の減量が少なくな
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 支持体上にキノンジアジド構造を含む物質を
   構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層を
   この順に塗設してなる水なし平版の処理液におい
   て、該処理液が下記一般式［］で表わされるア
   ミン化合物を含有することを特徴とする水なし平
   版製版用処理液。 ここでＲ：Ｈまたは炭素数１〜６のアルキル
   基、 R′，R″：Ｈまたは炭素数１〜５のアルキル基、 Ｒ：Ｈまたは炭素数１〜10のアルキル基、ま
   たは炭素数６〜20のアリール基、 ｎ：２〜６の整数。