JP2507390B2 - 水なし平版製版用処理液 - Google Patents

水なし平版製版用処理液

Info

Publication number
JP2507390B2
JP2507390B2 JP3340687A JP3340687A JP2507390B2 JP 2507390 B2 JP2507390 B2 JP 2507390B2 JP 3340687 A JP3340687 A JP 3340687A JP 3340687 A JP3340687 A JP 3340687A JP 2507390 B2 JP2507390 B2 JP 2507390B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
weight
silicone rubber
photosensitive layer
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP3340687A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63201657A (ja
Inventor
幹雄 津田
与一 森
昌也 浅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP3340687A priority Critical patent/JP2507390B2/ja
Publication of JPS63201657A publication Critical patent/JPS63201657A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2507390B2 publication Critical patent/JP2507390B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は湿し水なしに印刷が可能な水なし平版の製版
用処理液に関するものであり、特に塩基処理工程におい
て、塩基処理効果の優れた水なし平版用処理液に関する
ものである。
[従来技術] 感光層、シリコーンゴム層からなる水なし平版印刷版
としては、種々のものが知られている。なかでも、支持
体上にキノンジアジド構造を含む物質を構成成分とする
感光層およびシリコーンゴム層をこの順に設けてなる画
像形成用積層体を、塩基処理することによって、ネガ、
ポジ両性タイプの水なし平版印刷版を得る方法は、特開
昭59-17552に開示されているように、水なし平版印刷版
の画像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めた現像ラチ
チュードを広げ、かつネガ型とポジ型の版が同一の版材
からできること等の優れた特徴を有している。また特開
昭57-205740号公報には、画像露光、現像後、塩基処理
して定着する方法が提案されている。さらに特開昭60-1
69852号公報には、画像露光、現像、全面露光後、塩基
処理を施して定着する方法が開示されている。
これらの従来技術による水なし平版用塩基処理工程に
おいて、アミン化合物が塩基処理効果が大きく、好まし
く用いられている。
しかしながら、シリコーンゴムを最上層とする水なし
平版を現像する前または後に行う処理に用いられる塩基
処理する場合は、シリコーンゴム層を介して、下層の接
着層および感光層に塩基化合物を送り込む必要がある
が、塩基化合物より先に極性溶剤が送りこまれると、非
画線部の接着層および感光層まで膨潤させられ、非画線
部とシリコーンゴム層が部分的に除去されてしまい、印
刷上の欠点となって現われるというようなことが起る。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明者らは、かかる問題点を改良すべき鋭意検討し
た結果、水以外の極性溶剤と特定のアミンを主体とする
処理液が好適であることを見出し、本発明に到達した。
本発明の目的は、シリコーンゴム層を通過しやすく、
かつ塩基処理効果の大きい水なし平版製版用処理液を提
供するものである。
[問題点を解決するための手段] すなわち、本発明は支持体上にキノンジアジド構造を
含む物質を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム
層をこの順に塗設してなる水なし平版製版用処理液にお
いて、該処理液が水以外の極性溶剤と下記一般式(I)
で表わされるアミンからなることを特徴とする水なし平
版製版用処理液に関するものである。
RO(CH2)nNH2 (I) ここでR:炭素数1〜10のアルキル基または炭素数6〜
10のアリール基 n:1〜5の整数。
本発明の処理液において使用される水以外の極性溶剤
としては、下記のものが単独あるいは混合して用いられ
る。
アルコール類(メタノール、エタノール、n−プロパ
ノール、イソプロパノール、3−メトキシブタノール、
3−メチル−3−メトキシブタノール、2−メチルペン
タノール−1、ジアセトンアルコール、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、オ
クチレングリコールなど)。
エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、エチレングリコールジ−n−ブ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジ−n−ブチルエーテル、トリエチレング
リコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジ
エチルエーテル、トリエチレングリコールジ−n−ブチ
ルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ポリプロピレングリコールモノメチルエー
テルなど)。
ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトニルアセト
ンなど)。
本発明において使用可能なアミンとしては、3−メト
キシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3
−プロポキシプロピルアミン、3−イソプロポキシプロ
ピルアミン、3−ブトキシプロピルアミン、3−イソブ
トキシプロピルアミン、2−エチルヘキシロキシプロピ
ルアミン、2−エトキシエチルアミン、2−プロポキシ
エチルアミン、2−ブトキシエチルアミン等が挙げられ
るが、より好ましくは3−ブトキシプロピルアミン、3
−イソブトキシプロピルアミンを使用するのがよい。
処理液中に配合されるアミンの量は、極性溶剤に対し
て0.1〜60重量%添加するのが効果的であり、特に0.3〜
30重量%が最も好ましい。0.1重量%より少ない場合
は、塩基処理効果が小さい。60重量%を越える場合は、
画像再現性を悪くするため好ましくない。
処理液として用いる場合、処理液中に、ぬれ性向上お
よびアミン成分の溶解性向上のため界面活性剤を添加す
ることもできる。また処理液でそのまま現像する場合
は、検版性向上のため、例えばネプチュンブルーベース
627(BASF社製)、アイゼンビクトリアブルーBH、アイ
ゼンマリーンRNX(保土谷化学(株)製)等の染料等を
処理液中に加えることもできる。
また処理液中には極性溶媒に対して40重量%以下の脂
肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、ガソリン、灯
油、“アイソパー"Hなど)または水を添加してもよい。
本発明で用いられる支持体は特に限定されないが、通
常の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案
されているものならば、いずれでもよい。
例えば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板およびポリ
エステル、ポリオレフィン、ポリスチレンのような透明
または不透明なプラスチックフィルム、あるいは両者の
複合体などが挙げられる。これらのシート上にハレーシ
ョン防止その他の目的でさらに樹脂層などをコーティン
グして支持体とすることも可能である。
本発明でいう感光層とは、公知のキノンジアジド構造
を含む物質から構成されているものであり、キノンジア
ジド構造を含む物質とは、通常ポジ型PS版、ワイポン
版、フオトレジストなどに用いられているキノンジアジ
ド類である。
かかるキノンジアジド類としては、例えば、ベンゾキ
ノン−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸と
ポリヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−
1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とピロガ
ロールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,2
−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とフェノール
ホルムアルデヒドノボラック樹脂またはカシユ変性ノボ
ラツク樹脂とのエステルなどが挙げられる。また低分子
量のキノンジアジト化合物(例えば、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−5−スルホン酸と、フエノール、クレゾ
ール、キシレノール、カテコール、ピロガロールおよび
ビスフエノールAなどとのエステル化物など)または上
記のキノンジアジド基を含む樹脂に感光性基を含まない
ノボラツク樹脂(例えば、フエノール、クレゾール、キ
シレノール、カテコールおよびピロガロールなどのフエ
ノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮
合させて得られる可溶可融性樹脂など)を単に混合して
もよい。さらに特開昭56-80046等公報で提案されている
ようなキノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめた
光剥離性感光層が挙げられる。
架橋剤としては、多官能性イシアナート類、例えば、
パラフェニレンジイソシアナート、2,4−または2,6−ト
リレンジイシアナート、4,4′−ジフェニルメタンジイ
シアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホ
ロンジイソシアナートもしくはこれらのアダクト体な
ど、あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテル類、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフエノール
Aジグリシジルエーテル類、トリメチロールプロパント
リグリシジルエーテルなどがある。これらの熱硬化は感
光性物質の感光性を失わせない範囲、通常130℃以下で
行なうことが好ましく、このため通常触媒等が併用され
る。
またキノンジアジド類に、単官能化合物を反応させて
変性し、現像液に難溶もしくは不溶にする方法として
は、同様に該キノジアジド類の活性な基を例えばエステ
ル化、アミド化、ウレタン化することなどが挙げられ
る。キノンジアジド類の活性な基と反応させる化合物と
しては、低分子であっても比較的高分子であってもよい
し、キノインジアジド類にモノマをグラフト重合させて
もよい。
本発明で用いられる感光層として特に好ましいもの
は、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エス
テル化物を多官能もしくは単官能イソシアネートで架橋
もしくは変性して得られたものである。
感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ましくは約0.5〜10
μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホール等の欠
陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経済的見地から不利
である。
また感光層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜
形成性の向上や支持体との接着性向上などの目的で他の
成分を加えたりすることは可能である。
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次のような
繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポ
リシロキサンを主成分とするものが好ましく使用され
る。
ここでnは2以上の整数、R,R′は炭素数1〜10のア
ルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基であり、R,
R′の60%以上がメチル基であるものが好ましい。
この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添加され
る。架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシ
リコーンゴムに使われるものとして、アセトキシシラ
ン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシ
ラン、アミドシランなどがあり、通常線状有機ポリシロ
キサンとして末端が水酸基であるものと組合せて、各々
脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリ
コーンゴムには、更に触媒として少量の有機スズ化合物
等を添加してもよい。
シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ましく
約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷力の点
で問題を生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的
に不利であるばかりでなく現像時シリコーンゴム層を除
去するのが困難となり、画像再現性の低下をもたらす。
本発明に用いられる印刷版において、支持体と感光
層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像再現
性、耐刷力などの基本的な版性能にとり非常に重要であ
るので、必要に応じて各層間に接着剤層を設けたり、各
層に接着改良性成分を添加したりすることが可能であ
る。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着力のため
に、層間に公知のシリコーンプライマやシランカップリ
ング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層
にシリコーンプライマやシランカップリング剤を添加す
ると効果的である。
以上説明したようにして構成された水なし平版印刷原
版の表面に薄い保護フィルムをラミネートすることもで
きる。
本発明で用いられる水なし平版印刷版原版は、例えば
次のようにして製造される。まず支持体上に、リバース
ロールコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装
置を用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥
および必要に応じて熱キュア後、必要ならば該感光層の
上に同様な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコー
ンガム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で塗布
し、通常50〜130℃の温度で数分間熱処理して、十分に
硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。必要なら
ば、保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミネータ
ー等を用いカバーする。
このようにして得られた水なし平版印刷原版にポジフ
ィルムまたはポジ原画、あるいはネガフィルムまたはネ
ガ原画を用いて画像露光を与えて現像を行なうと水なし
平版印刷版が得られる。
かかる水なし平版印刷原版の製版方法としては、次の
ようなものが挙げられる。例えば、ポジ型の水なし平版
印刷原版として用いる場合、真空密着されたポジフィル
ムまたはポジ原画を通して、活性光線で感光層中のキノ
ンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の5〜
60モル%が光分解するように画像露光を与えて、塩基処
理と現像を行なう水なし平版印刷版が得られる。
一方、ネガ型の水なし平版印刷原版として使用する場
合、真空密着されたネガフィルムまたはネガ原画を通し
て、活性光線で通常の画像露光(感光層中のキノンジア
ジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の60モル%を
越える量が光分解する露光量)を与えてから、塩基処理
後に現像、または現像後に塩基処理を行なうと水なし平
版が得られる。より好ましくは、通常の画像露光の前か
後、または現像後に非画線部の感光層中のキノンジアジ
ド構造を含む物質のキノンジアジド単位の5〜60モル%
が光分解するように画像部を含めて全面露光を与えてか
ら、塩基処理後に現像、または現像後に塩基処理を行な
うとよい。
この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発
生するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、螢光灯などを使うこ
とができる。さらに紫外線以外にもレーザー光等が用い
られる。
本発明の処理液による塩基処理方法としては、次のよ
うな方法が挙げられる。
A.ネガ型 (1)全面露光→画像露光→塩基処理→現像 (2)画像露光→全面露光→塩基処理→現像 (3)全面露光→画像露光→現像→塩基処理 (4)画像露光→全面露光→現像→塩基処理 (7)画像露光→現像→全面露光→塩基処理 (8)画像露光→現像→塩基処理 (9)画像露光→塩基処理→現像 B.ポジ型 (1)画像露光→塩基処理→現像 処理方法としては、本発明の処理液に浸漬するか、あ
るいはハケやパッドを用いて処理液で均一に版面をぬら
すか、また自動現像機のようにシャワー方法で版面をぬ
らせばよい。
処理時間は特に限定されず、アミン化合物の強さと濃
度によって適宜選択できるが、通常処理液にふれると即
時に効果があらわれ、かつ長時間接触させても何ら効果
に変化はない。通常約10秒〜5分程度でよい。
本発明において用いられる現像液としては、水なし平
版印刷版において通常提案されているものが使用でき
る。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加したもの、
脂肪酸炭化水素類(ヘキサン、ヘプタンあるいはガソリ
ン、灯油など)に下記の極性溶剤を添加したものが好適
である。
アルコール(メタノール、エタノールなど) エーテル類(エチルセロソルブ、エチルカルビトール、
ブチルカルビトールなど) エステル類(セロソルブアセテート、カルビトールアセ
テートなど) また本発明の処理液でそのまま現像することも可能で
ある。
以下に実施例によって本発明をさらに詳しく説明す
る。
[実施例] 実施例1 厚さ0.3mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)に下記
のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理して
5μのプライマ層を設けた。
ポリウレタン樹脂(サンプレンLQ-T1331、三洋化成工
業(株)製) 100重量部 ブロックイソシアネート(タケネートB830、武田薬品
(株)製) 20重量部 エポキシ・フェノール・尿素樹脂(SJ9372、関西ペイ
ント(株)製) 8重量部 ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感光層組成物をバーコータを用
いて塗布し、110℃の熱風中で1分間乾燥して厚さ2μ
の感光層を設けた。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレ
ズ製:スミライトレジンPR50622)の部分エステル(元
素分析法によるエステル化度25%) 100重量部 4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート 40重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン 5重量部 P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 次いでこの感光層の上に次の組成を有するシリコーン
ゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点30℃、3.5分間湿
熱硬化させて2.3μのシリコーンゴム層を設けた。
ポリジメチルシロキサン(分子量約25,000、末端OH
基) 100重量部 ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン)8
重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン 0.5重量部 “アイソパーE"(エクソン化学(株)製)1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”(東レ(株)製)を
カレンダーローラーを用いてラミネートし、水なし平版
印刷原版を得た。
かかる印刷原版にメタルハライドランプ(岩崎電気
(株)製アイドルフィン2000)を用い、UVメーター(オ
ーク製作所製、ライトメジャータイプUV-402A)で11mw/
cm2の照度で6秒間全面露光を施した。
上記のようにして得られた印刷原版に150線/インチ
の網点画像を持つネガフィルムを真空密着し、上記のメ
タルハライドランプを用い、1mの距離から60秒間画像露
光した。
次いで上記露光済版の“トレファン”を剥離して、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル/3−ブトキシプ
ロピルアミン=90/10(重量比)からなる処理液に1分
間浸漬した。浸漬後ゴムスキージで版面および裏面に付
着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現像
液(水/ブチルカルビトール/2−エチル酪酸/クリスタ
ルバイオレット=70/30/2/0.2(重量比))を注ぎ、現
像パッドで版面を軽くこすると、画像露光された部分の
シリコーンゴム層が除去され、感光層表面が露出した。
一方、全面露光のみがなされた部分はシリコーンゴム層
が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した
画像が得られた。この印刷版をオフセット印刷機に取り
付け、東洋インキ(株)製“東洋キングウルトラTKUア
クワレスGアイPL"を用いて印刷を行ない、網点再現性
を評価したところ、2〜98%の網点を再現しており、か
つ版面の損傷による微小欠点も全く認められなかった。
実施例2 実施例1と同様な方法で作製した全面露光を施してい
ない水なし平版印刷原版に150線/インチの2%から98
%の網点を有するグラデーションポジフィルムを常法に
従って真空密着し、実施例1で用いたメタルハライドラ
ンプを用いて、1mの距離で実施例1で用いたUVメーター
で11mw/cm2の照度で9秒間露光した。
次いで、カバーフィルムを剥離して、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル/3−イソブトキシプロピルア
ミン=90/10(重量比)からなる処理液を満たした平型
バットに1分間浸漬する。浸漬後、ゴムスキージで版面
および裏面に付着した前処理液を除去し、次いで現像パ
ッドに現像液(水/ブチルカルビトール=40/60(重量
比)を含ませて版面をこすると、未露光部のシリコーン
ゴム層が除去されて感光層表面が露出し、画像部を形成
した。一方、露光部シリコーンゴム層は現像液に浸され
ずに残り、非画線部を形成した。
この印刷版を用いて実施例1と同様の条件で印刷した
ところ、網点再現性は5%から96%で、微小欠点や現像
パッドによるスリ傷状の欠点のない印刷物が得られた。
実施例3 化成処理アルミ板(住友軽金属(株)製)にエステル
化度44%のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
(住友デュレズ(株)製:スミライトレジンPR50235)
のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テル(エタノール可溶性成分9.7重量%、エステル化度
はIRスペクトルから定量)の3重量%ジオキサン溶液を
ホエラーで回転塗布後、60℃で3分間乾燥させて厚さ1.
2μの感光層を得た。この感光層の上に次の組成を有す
るシリコーンガム組成物の7%アイソパーE溶液に、シ
リコーン組成物に対し4重量%のγ−アミノプロピルト
リエトキシシラン(UCC製:A1100)を添加し、均一に攪
拌後ホエラーで回転塗布した。乾燥後120℃、露点25
℃、4分間加熱硬化させて厚さ2.2μのシリコーンゴム
層を得た。
ポリジメチルシロキサン(分子量約80,000、両末端OH
基) 100重量部 エチルトリアセトキシシラン 5重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 上記のようにして得られた水なし平版印刷原版に150
線/インチの網点画像を持つネガフイルムを真空密着
し、実施例1で用いたメタルハライドランプで、1mの距
離から60秒間画像露光した。露光された版の版面をエタ
ノール/“アイソパーE"=80/20(重量比)からなる現
像液で軽くこすると、画像露光した部分はシリコーンゴ
ム層と感光層の両方が容易に除去されて化成処理アルミ
表面が露出し、ネガフイルムを忠実に再現した画像が得
られた。
上記の製版された版をメタルハライドランプを用い、
1mの距離で実施例1のUVメーターで11mw/cm2の照度下、
10秒間全面露光(感光層中のキノンジアジドの25モル%
が光分解してカルボン酸成分を生成する光量)した後、
エタノール/“アイソパーE"/3−ブトキシプロピルアミ
ン=65/30/5(重量比)からなる処理液で1分間浸漬処
理し、水洗乾燥した。得られた版が塩基処理によって十
分定着されているかどうかを確認するために、さらに上
記のメタルハライドランプで1mの距離から60秒間全面露
光した後、エタノール/“アイソパー"E=80/20からな
る現像液を含ませた現像パッドで擦っても、非画像部の
シリコーンゴム層は全く損傷を受けず、塩基処理による
定着効果は十分であった。
実施例4 実施例3の感光液を次の組成に置き換える以外は全く
同様な方法で、水なし平版印刷原版を作製した。即ちフ
エノールホルムアルデヒドノボラック樹脂のナフトキノ
ン−1,2−ジアジト−5−スルホ酸エステル8重量部と
フエノールノボラック樹脂2重量部を200重量部のジオ
キサンに溶解し、感光液を調製した。感光層の厚みは1.
7g/m2であった。
次に実施例3と同様な方法で未定着の印刷版を製版し
た。この版を実施例1に記載のメタルハライドランプを
用いて10秒間全面露光した。次いでエタノール/“アイ
ソパーE"/3−ブトキシプロピルアミン=65/30/5からな
る処理液で1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。
実施例3と同様な方法で定着が行なわれたか否か確認
したところ、非画線部のシリコーンゴム層は全く損傷を
受けていないことがわかった。即ち、非画線部は完全に
定着されていた。
比較例 実施例1と同様な方法で得られた水なし平版印刷原版
に、実施例1と同様な条件で全面露光、画像露光を施し
た。
次いで上記露光済み版の“トレファン”を剥離して、
プロピレングリコール/モノエタノールアミン=90/10
(重量比)からなる処理液に1分浸漬した。浸漬後ゴム
スキージで版面および裏面に付着した処理液を除去し、
次いで版面と現像パッドに現像液(水/ブチルカルビト
ール/2−エチル酢酸/クリスタルバイオレット=70/30/
2/0.2(重量比)を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこす
ると、画像露光された部分のシリコーンゴム層は除去さ
れ、感光層表面が露出した。一方、全面露光のみがなさ
れた非画線部となるべき部分のシリコーンゴム層も一部
欠落して感光層表面が露出し、版面の損傷による欠点が
多数認められた。
得られた版を、さらにメタルハライドランプで1mの距
離から60秒間全面露光した後、エタノール/“アイソパ
ーE"=80/20からなる現像液を含ませた現像パッドで擦
ったところ、残存していたシリコーンゴム層が除去さ
れ、感光層表面が露出していた。これは上記処理液の塩
基処理による定着効果が不十分であることを示してい
る。
[発明の効果] 本発明による水なし平版製版用処理液により、次のよ
うな効果が達成される。
(1)接着層および感光層の膨潤より先に塩基処理がさ
れるので、非画線部シリコーンゴム層を損傷することな
く、塩基処理をすることができる。
(2)塩基処理効果か大きく、確実に塩基処理をするこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−17552(JP,A) 特開 昭60−28655(JP,A) 特開 昭60−169852(JP,A) 特開 昭60−192948(JP,A) 特開 昭62−288848(JP,A) 特開 昭63−52145(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】支持体上にキノンジアジド構造を含む物質
    を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層をこの
    順に塗設してなる水なし平版を現像する前または後に行
    う処理に用いられる製版用処理液において、該処理液が
    水以外の極性溶剤と下記一般式(I)で表されるアミン
    から主としてなることを特徴とする水なし平版製版用処
    理液。 RO(CH2)nNH2 (1) ここで、R:炭素数1〜10のアルキル基または炭素数6〜
    10のアリール基n:1〜5の整数。
JP3340687A 1987-02-18 1987-02-18 水なし平版製版用処理液 Expired - Lifetime JP2507390B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3340687A JP2507390B2 (ja) 1987-02-18 1987-02-18 水なし平版製版用処理液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3340687A JP2507390B2 (ja) 1987-02-18 1987-02-18 水なし平版製版用処理液

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63201657A JPS63201657A (ja) 1988-08-19
JP2507390B2 true JP2507390B2 (ja) 1996-06-12

Family

ID=12385715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3340687A Expired - Lifetime JP2507390B2 (ja) 1987-02-18 1987-02-18 水なし平版製版用処理液

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2507390B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7111818B2 (en) 2004-03-29 2006-09-26 Neriki Valve Co., Ltd. Safety valve

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7111818B2 (en) 2004-03-29 2006-09-26 Neriki Valve Co., Ltd. Safety valve

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63201657A (ja) 1988-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5917552A (ja) 画像形成用積層体の処理方法
JPS6154222B2 (ja)
JP3716429B2 (ja) 「水なし平版製版用処理液」
JPH0740134B2 (ja) 水なし平版製版用処理液
JP2507390B2 (ja) 水なし平版製版用処理液
JPH043866B2 (ja)
JPH043865B2 (ja)
JP2507376B2 (ja) 水なし平版製版用処理液
JP2530693B2 (ja) 水なし平版印刷版の製版方法
JPH0682214B2 (ja) 水なし平版印刷版
JP2921092B2 (ja) 水なし平版製版用処理液
JPH0213295B2 (ja)
JP2507470B2 (ja) 水なし平版印刷用原板
JP2507428B2 (ja) 水なし平版印刷原版の製版方法
JPH07104598B2 (ja) 水なし平版印刷用原版
JPS6323546B2 (ja)
JP2507342B2 (ja) 水なし平版印刷用原版
JPH0429053B2 (ja)
JPS6322304B2 (ja)
JPH0782233B2 (ja) 画像形成用積層体の製版方法
JPS6158824B2 (ja)
JPH07253661A (ja) 水なし平版印刷用原版
JPH07325389A (ja) 水なし平版印刷版原版
JPH042942B2 (ja)
JPS63217353A (ja) 水なし平版製版用処理液