JPH04343361A - 水なし平版印刷版用現像液 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版用現像
液に関するものであり、特に基版上に光硬化性層とシリ
コ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改善
された現像液に関するものである。
液に関するものであり、特に基版上に光硬化性層とシリ
コ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改善
された現像液に関するものである。
【0002】
【従来の技術】シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54−26923号あるいは特
開昭50−50102号などに提案された基板上に光重
合性接着層とシリコ−ンゴム層とが積層された水なし平
版印刷版、また特開昭60−21050号などに提案さ
れた基板上に光硬化性層とシリコ−ンゴム層とが積層さ
れた水なし平版印刷版は湿し水を用いることなく実用的
な印刷が可能である。
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54−26923号あるいは特
開昭50−50102号などに提案された基板上に光重
合性接着層とシリコ−ンゴム層とが積層された水なし平
版印刷版、また特開昭60−21050号などに提案さ
れた基板上に光硬化性層とシリコ−ンゴム層とが積層さ
れた水なし平版印刷版は湿し水を用いることなく実用的
な印刷が可能である。
【0003】水なし平版印刷版は、通常次のような露光
、現像工程を経て製版される。まず平版印刷版原版は真
空密着されたポジティブフィルムを通して活性光線に露
光される。露光の終った印刷原版はパラフィン系炭化水
素あるいはそれを主成分とする現像液に浸漬される。 その結果未露光部のシリコ−ンゴム層は現像液によって
激しく膨潤し、しわを生ずる。この状態でガ−ゼなどの
柔らかいパッドを用いて印刷版面を軽くこすると膨潤し
た未露光部のシリコ−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層
の未硬化の光硬化性層が露出する。この部分がインキ着
肉性の画線部となる。一方、露光部分のシリコ−ンゴム
層は現像液により若干膨潤するものの、光硬化した光硬
化性層に強く接着しているため、現像パッドで強くこす
っても侵されずに版面に残り、この部分がインキ反発性
の非画線部を形成することにより水なし平版印刷版に製
版される。このような製版過程を経て得られる水なし平
版印刷版は、シリコ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな
網点が得られる反面、例えば現像工程における現像操作
が不充分な場合には画線部として本来シリコ−ンゴム層
が剥離除去されていなければならない部分にもシリコ−
ンゴム層が残存してしまい、このために微小網点再現性
の悪い印刷版になってしまう。また現像時に版面を強く
こすり過ぎると非画線部として印刷版面上に残すべきシ
リコ−ンゴム層まで損傷してしまう。その結果、最終製
品である印刷物に地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷
特性の優れた印刷版が得られないという問題点をかかえ
ている。
、現像工程を経て製版される。まず平版印刷版原版は真
空密着されたポジティブフィルムを通して活性光線に露
光される。露光の終った印刷原版はパラフィン系炭化水
素あるいはそれを主成分とする現像液に浸漬される。 その結果未露光部のシリコ−ンゴム層は現像液によって
激しく膨潤し、しわを生ずる。この状態でガ−ゼなどの
柔らかいパッドを用いて印刷版面を軽くこすると膨潤し
た未露光部のシリコ−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層
の未硬化の光硬化性層が露出する。この部分がインキ着
肉性の画線部となる。一方、露光部分のシリコ−ンゴム
層は現像液により若干膨潤するものの、光硬化した光硬
化性層に強く接着しているため、現像パッドで強くこす
っても侵されずに版面に残り、この部分がインキ反発性
の非画線部を形成することにより水なし平版印刷版に製
版される。このような製版過程を経て得られる水なし平
版印刷版は、シリコ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな
網点が得られる反面、例えば現像工程における現像操作
が不充分な場合には画線部として本来シリコ−ンゴム層
が剥離除去されていなければならない部分にもシリコ−
ンゴム層が残存してしまい、このために微小網点再現性
の悪い印刷版になってしまう。また現像時に版面を強く
こすり過ぎると非画線部として印刷版面上に残すべきシ
リコ−ンゴム層まで損傷してしまう。その結果、最終製
品である印刷物に地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷
特性の優れた印刷版が得られないという問題点をかかえ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、従来技
術の諸欠点に鑑みその改善対策について鋭意検討を進め
た結果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし
平版印刷版の現像液としてジエステルを用いることによ
り著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易に再現で
きることを見い出し以下に述べる本発明に到達した。
術の諸欠点に鑑みその改善対策について鋭意検討を進め
た結果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし
平版印刷版の現像液としてジエステルを用いることによ
り著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易に再現で
きることを見い出し以下に述べる本発明に到達した。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式(1)で表される構造を有するジエステルの少なくと
も一種を0.5重量%以上含有することを特徴とする水
なし平版印刷版用現像液である。
式(1)で表される構造を有するジエステルの少なくと
も一種を0.5重量%以上含有することを特徴とする水
なし平版印刷版用現像液である。
【0006】
R1 OOC−X−COOR2
(1)(但し、式中Xは炭素数1〜15の二価の脂肪族
炭化水素、炭素数5〜15の脂環族炭化水素または炭素
数6〜15の芳香族炭化水素であり、R1 、R2 は
炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、それぞれが同
じであっても良いし、異なっていても良い。)本発明に
おいて使用されるジエステルは、一般式(1)で表され
る構造を有するもので、Xは炭素数1〜15の二価の脂
肪族炭化水素、炭素数5〜15の脂環族炭化水素または
炭素数6〜15の芳香族炭化水素であり、R1 、R2
は炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、それぞれ
が同じであっても良いし、異なっていても良い。脂肪族
炭化水素、脂環族炭化水素、芳香族炭化水素、R1 お
よびR2 の炭素数がそれぞれ15を越えるジエステル
を現像液中に含む場合は、光硬化性層とシリコ−ンゴム
層の界面接着力を低下させる効果が小さく、微小な網点
を再現しにくくなるため好ましくない。かかるジエステ
ルは現像液総量の0.5〜100重量%好ましくは1.
0〜100重量%の範囲で含有されていることが重要で
ある。
(1)(但し、式中Xは炭素数1〜15の二価の脂肪族
炭化水素、炭素数5〜15の脂環族炭化水素または炭素
数6〜15の芳香族炭化水素であり、R1 、R2 は
炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、それぞれが同
じであっても良いし、異なっていても良い。)本発明に
おいて使用されるジエステルは、一般式(1)で表され
る構造を有するもので、Xは炭素数1〜15の二価の脂
肪族炭化水素、炭素数5〜15の脂環族炭化水素または
炭素数6〜15の芳香族炭化水素であり、R1 、R2
は炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、それぞれ
が同じであっても良いし、異なっていても良い。脂肪族
炭化水素、脂環族炭化水素、芳香族炭化水素、R1 お
よびR2 の炭素数がそれぞれ15を越えるジエステル
を現像液中に含む場合は、光硬化性層とシリコ−ンゴム
層の界面接着力を低下させる効果が小さく、微小な網点
を再現しにくくなるため好ましくない。かかるジエステ
ルは現像液総量の0.5〜100重量%好ましくは1.
0〜100重量%の範囲で含有されていることが重要で
ある。
【0007】本発明において使用されるジエステルの具
体例として例えば下記のものがあげられるがこれらに限
定されない。
体例として例えば下記のものがあげられるがこれらに限
定されない。
【0008】マロン酸ジメチル、マロン酸ジブチル、マ
ロン酸ジヘキシル、マロン酸ジオクチル、マロン酸ジド
デシル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジブチル、コハク
酸ジヘキシル、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジドデシ
ル、グルタル酸ジメチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジヘキシル、グルタル酸ジオクチル、グルタル酸ジ
ドデシル、メチルコハク酸ジメチル、メチルコハク酸ジ
ブチル、メチルコハク酸ジヘキシル、メチルコハク酸ジ
オクチル、メチルコハク酸ジドデシル、アジピン酸ジメ
チル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジヘキシル、ア
ジピン酸ジオクチル、アジピン酸ジドデシル、エチルコ
ハク酸ジメチル、エチルコハク酸ジブチル、エチルコハ
ク酸ジヘキシル、エチルコハク酸ジオクチル、エチルコ
ハク酸ジドデシル、ピメリン酸ジメチル、ピメリン酸ジ
ブチル、ピメリン酸ジヘキシル、ピメリン酸ジオクチル
、ピメリン酸ジドデシル、スベリン酸ジメチル、スベリ
ン酸ジブチル、スベリン酸ジヘキシル、スベリン酸ジオ
クチル、スベリン酸ジドデシル、アゼライン酸ジメチル
、アゼライン酸ジブチル、アゼライン酸ジヘキシル、ア
ゼライン酸ジオクチル、アゼライン酸ジドデシル、セバ
シン酸ジメチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジヘ
キシル、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジドデシル
、1,10−デカンジカルボン酸ジメチル、1,10−
デカンジカルボン酸ジブチル、1,10−デカンジカル
ボン酸ジヘキシル、1,10−デカンジカルボン酸ジオ
クチル、1,10−デカンジカルボン酸ジドデシル、シ
クロヘキサン−1,2−ジカルボン酸ジメチル、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキ
サン−1,2−ジカルボン酸ジヘキシル、シクロヘキサ
ン−1,2−ジカルボン酸ジオクチル、シクロヘキサン
−1,2−ジカルボン酸ジドデシル、シクロヘキサン−
1,3−ジカルボン酸ジメチル、シクロヘキサン−1,
3−ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキサン−1,3−
ジカルボン酸ジヘキシル、シクロヘキサン−1,3−ジ
カルボン酸ジオクチル、シクロヘキサン−1,3−ジカ
ルボン酸ジドデシル、シクロヘキサン−1,4−ジカル
ボン酸ジメチル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン
酸ジブチル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジ
ヘキシル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジオ
クチル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジドデ
シル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジドデシル
、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジブチル、テレ
フタル酸ジヘキシル、テレフタル酸ジオクチル、テレフ
タル酸ジドデシル、フェニルマロン酸ジメチル、フェニ
ルマロン酸ジブチル、フェニルマロン酸ジヘキシル、フ
ェニルマロン酸ジオクチル、フェニルマロン酸ジドデシ
ル、フェニルコハク酸ジメチル、フェニルコハク酸ジブ
チル、フェニルコハク酸ジヘキシル、フェニルコハク酸
ジオクチル、フェニルコハク酸ジドデシルなど。
ロン酸ジヘキシル、マロン酸ジオクチル、マロン酸ジド
デシル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジブチル、コハク
酸ジヘキシル、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジドデシ
ル、グルタル酸ジメチル、グルタル酸ジブチル、グルタ
ル酸ジヘキシル、グルタル酸ジオクチル、グルタル酸ジ
ドデシル、メチルコハク酸ジメチル、メチルコハク酸ジ
ブチル、メチルコハク酸ジヘキシル、メチルコハク酸ジ
オクチル、メチルコハク酸ジドデシル、アジピン酸ジメ
チル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジヘキシル、ア
ジピン酸ジオクチル、アジピン酸ジドデシル、エチルコ
ハク酸ジメチル、エチルコハク酸ジブチル、エチルコハ
ク酸ジヘキシル、エチルコハク酸ジオクチル、エチルコ
ハク酸ジドデシル、ピメリン酸ジメチル、ピメリン酸ジ
ブチル、ピメリン酸ジヘキシル、ピメリン酸ジオクチル
、ピメリン酸ジドデシル、スベリン酸ジメチル、スベリ
ン酸ジブチル、スベリン酸ジヘキシル、スベリン酸ジオ
クチル、スベリン酸ジドデシル、アゼライン酸ジメチル
、アゼライン酸ジブチル、アゼライン酸ジヘキシル、ア
ゼライン酸ジオクチル、アゼライン酸ジドデシル、セバ
シン酸ジメチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジヘ
キシル、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジドデシル
、1,10−デカンジカルボン酸ジメチル、1,10−
デカンジカルボン酸ジブチル、1,10−デカンジカル
ボン酸ジヘキシル、1,10−デカンジカルボン酸ジオ
クチル、1,10−デカンジカルボン酸ジドデシル、シ
クロヘキサン−1,2−ジカルボン酸ジメチル、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキ
サン−1,2−ジカルボン酸ジヘキシル、シクロヘキサ
ン−1,2−ジカルボン酸ジオクチル、シクロヘキサン
−1,2−ジカルボン酸ジドデシル、シクロヘキサン−
1,3−ジカルボン酸ジメチル、シクロヘキサン−1,
3−ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキサン−1,3−
ジカルボン酸ジヘキシル、シクロヘキサン−1,3−ジ
カルボン酸ジオクチル、シクロヘキサン−1,3−ジカ
ルボン酸ジドデシル、シクロヘキサン−1,4−ジカル
ボン酸ジメチル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン
酸ジブチル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジ
ヘキシル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジオ
クチル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジドデ
シル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジドデシル
、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジブチル、テレ
フタル酸ジヘキシル、テレフタル酸ジオクチル、テレフ
タル酸ジドデシル、フェニルマロン酸ジメチル、フェニ
ルマロン酸ジブチル、フェニルマロン酸ジヘキシル、フ
ェニルマロン酸ジオクチル、フェニルマロン酸ジドデシ
ル、フェニルコハク酸ジメチル、フェニルコハク酸ジブ
チル、フェニルコハク酸ジヘキシル、フェニルコハク酸
ジオクチル、フェニルコハク酸ジドデシルなど。
【0009】上記のうちでもR1 、R2 が炭素数1
〜12の脂肪族炭化水素であるジエステルが特に有用で
ある。
〜12の脂肪族炭化水素であるジエステルが特に有用で
ある。
【0010】本発明の現像液としては、ジエステルに他
の溶媒を添加したものを用いることもできる。かかる溶
媒としては、石油の分留製品から容易に入手できるパラ
フィン系炭化水素あるいはそれを主成分とするもの、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンのような精練さ
れたパラフィン系炭化水素、水、アルコ−ル類、エステ
ル類、ポリエチレングリコ−ル類およびその誘導体、ポ
リプロピレングリコ−ル類およびその誘導体、ケトン類
、エ−テル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類などがあげられる。この中でも、ポリエチレングリコ
−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル類
およびその誘導体が特に有効である。
の溶媒を添加したものを用いることもできる。かかる溶
媒としては、石油の分留製品から容易に入手できるパラ
フィン系炭化水素あるいはそれを主成分とするもの、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンのような精練さ
れたパラフィン系炭化水素、水、アルコ−ル類、エステ
ル類、ポリエチレングリコ−ル類およびその誘導体、ポ
リプロピレングリコ−ル類およびその誘導体、ケトン類
、エ−テル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類などがあげられる。この中でも、ポリエチレングリコ
−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル類
およびその誘導体が特に有効である。
【0011】本発明の現像液が好都合に適用できる水な
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とを積層した水なし平版印刷版である。
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とを積層した水なし平版印刷版である。
【0012】平版印刷版の基板は通常の平版印刷機にセ
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
【0013】光硬化性層は基板に均一に塗布されており
、基板に密着しているならば、層の厚みは任意であるが
、好ましくは100 ミクロン以下であり、50ミクロ
ン以下のものがさらに有用である。もし必要であれば、
光硬化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−
ション防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−
コ−ト層をもうけることも有用である。
、基板に密着しているならば、層の厚みは任意であるが
、好ましくは100 ミクロン以下であり、50ミクロ
ン以下のものがさらに有用である。もし必要であれば、
光硬化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−
ション防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−
コ−ト層をもうけることも有用である。
【0014】本発明に用いられる光硬化性層としては、
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
【0015】本発明に用いられる光重合性接着層として
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。 (1) 沸点100 ℃以上の光重合性不飽和
モノマ−あるいはオリゴマ
…1.0 〜99.
9重量部 (2) 光増感剤
…0.1 〜20.0重量部 (3)
熱重合禁止剤
…0.01〜10.0
重量部 (4) 光重合性層の形態保持用充填剤
(ポリマ−あるいは無機粉末)
…0.01〜95.0重量部光重合性不飽和モノマ−
あるいはオリゴマの代表的な例としては、炭素数30以
下の1価のアルコ−ルあるいは1価のアミンから誘導さ
れた沸点100 ℃以上のアクリル酸エステルまたはメ
タアクリル酸エステル(以下これらを(メタ)アクリル
酸エステルと略称する。また以下の説明で(メタ)□□
□とあるのは同様に□□□またはメタ□□□を略したも
のである。)、あるいは(メタ)アクリルアミド、炭素
数30以下の多価アルコ−ルあるいは多価アミンから誘
導された沸点100℃以上の(メタ)アクリル酸エステ
ル、あるいは(メタ)アクリルアミド、アミンとグリシ
ジル(メタ)アクリレ−トとの付加反応生成物などをあ
げることができる。
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。 (1) 沸点100 ℃以上の光重合性不飽和
モノマ−あるいはオリゴマ
…1.0 〜99.
9重量部 (2) 光増感剤
…0.1 〜20.0重量部 (3)
熱重合禁止剤
…0.01〜10.0
重量部 (4) 光重合性層の形態保持用充填剤
(ポリマ−あるいは無機粉末)
…0.01〜95.0重量部光重合性不飽和モノマ−
あるいはオリゴマの代表的な例としては、炭素数30以
下の1価のアルコ−ルあるいは1価のアミンから誘導さ
れた沸点100 ℃以上のアクリル酸エステルまたはメ
タアクリル酸エステル(以下これらを(メタ)アクリル
酸エステルと略称する。また以下の説明で(メタ)□□
□とあるのは同様に□□□またはメタ□□□を略したも
のである。)、あるいは(メタ)アクリルアミド、炭素
数30以下の多価アルコ−ルあるいは多価アミンから誘
導された沸点100℃以上の(メタ)アクリル酸エステ
ル、あるいは(メタ)アクリルアミド、アミンとグリシ
ジル(メタ)アクリレ−トとの付加反応生成物などをあ
げることができる。
【0016】光増感剤の代表例としては、ベンゾフェノ
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
【0017】本発明に用いられる光架橋性層としては以
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビ
ニルなどを含む感光層。 (2) エポキシ基を有するモノマ、オリゴマまたはポ
リマとジアゾニウム塩との組み合わせからなる感光層。 これは露光するとジアゾニウム塩の光分解によりルイス
酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して架橋する。 ジアゾニウム塩として、例えば2,5−ジエトキシ−4
−(P−トルイルチオ)ベンゼンジアゾニウムヘキサフ
ロロフオスフェ−トなどがもちいられる。 (3) アリル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリ
マとチオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマ
との組み合わせからなる感光層。これは露光するとチオ
−ル基がアリル基に付加して架橋する。 (4) ジアゾニウム塩、例えばP−ジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデヒドの縮合物など。 (5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とする感光層
。
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビ
ニルなどを含む感光層。 (2) エポキシ基を有するモノマ、オリゴマまたはポ
リマとジアゾニウム塩との組み合わせからなる感光層。 これは露光するとジアゾニウム塩の光分解によりルイス
酸が生成し、エポキシ基がカチオン重合して架橋する。 ジアゾニウム塩として、例えば2,5−ジエトキシ−4
−(P−トルイルチオ)ベンゼンジアゾニウムヘキサフ
ロロフオスフェ−トなどがもちいられる。 (3) アリル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリ
マとチオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマ
との組み合わせからなる感光層。これは露光するとチオ
−ル基がアリル基に付加して架橋する。 (4) ジアゾニウム塩、例えばP−ジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデヒドの縮合物など。 (5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とする感光層
。
【0018】本発明のシリコ−ンゴム層は0.5 〜5
0ミクロン好ましくは0.5 〜5 ミクロンの厚さと
、紫外線が透過しうる透明性を有する。有用なシリコ−
ンゴムは末端基同志の縮合によって架橋する分子量10
00〜1000000 の線状ジオルガノポリシロキサ
ン(好ましくはジメチルポリシロキサン)を主成分とし
、必要に応じて架橋剤、触媒が添加されたものである。 シリコ−ンゴム層はインキ反発性を有するものであり、
その表面はいくぶん粘着性を有し、埃などが付着しやす
く、そのため露光工程においてポジフイルムが十分に密
着しにくいなどの問題が起こりやすいので、シリコ−ン
ゴム層の表面に、薄い透明性の保護フイルムを張りつけ
ることもできる。また、この保護フイルムは空気中の酸
素の光硬化性層への浸透を抑制し、光硬化性層の光硬化
を促進する役割をも演ずる。この様に、保護フイルムは
露光工程において有用であるが、勿論、現像工程におい
て剥離または溶解によって除去され、印刷工程において
は不必要なものである。 有用な保護フイルムは紫外線を透過し得る透明性と、1
00 ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚
みを有し、その代表例として次のようなプラスチックの
フイルムをあげることができる。 ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルアルコ−ルポリエチレンテレフタレ−ト、セ
ロファンなど。
0ミクロン好ましくは0.5 〜5 ミクロンの厚さと
、紫外線が透過しうる透明性を有する。有用なシリコ−
ンゴムは末端基同志の縮合によって架橋する分子量10
00〜1000000 の線状ジオルガノポリシロキサ
ン(好ましくはジメチルポリシロキサン)を主成分とし
、必要に応じて架橋剤、触媒が添加されたものである。 シリコ−ンゴム層はインキ反発性を有するものであり、
その表面はいくぶん粘着性を有し、埃などが付着しやす
く、そのため露光工程においてポジフイルムが十分に密
着しにくいなどの問題が起こりやすいので、シリコ−ン
ゴム層の表面に、薄い透明性の保護フイルムを張りつけ
ることもできる。また、この保護フイルムは空気中の酸
素の光硬化性層への浸透を抑制し、光硬化性層の光硬化
を促進する役割をも演ずる。この様に、保護フイルムは
露光工程において有用であるが、勿論、現像工程におい
て剥離または溶解によって除去され、印刷工程において
は不必要なものである。 有用な保護フイルムは紫外線を透過し得る透明性と、1
00 ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚
みを有し、その代表例として次のようなプラスチックの
フイルムをあげることができる。 ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルアルコ−ルポリエチレンテレフタレ−ト、セ
ロファンなど。
【0019】このようにして構成された平版印刷版原版
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の現像液を用いて、ガ−ゼ、不織布などの柔
らかいパッドで版面を軽くこすることにより、実質的に
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光
硬化性層を露出させることができる。必要なら、特開昭
54−103103 号公報に記載の方法に従って画線
部を染色する。また、本現像液中に浸漬するなどして版
面をしめらせた後、別の溶媒、好ましくは水または水を
主成分とする溶媒で洗浄しながら、版面をこすることに
より、実質的に画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取
り、画線部の光硬化性層を露出させる方法を採用するこ
ともできる。この際、洗浄溶媒中に染料を添加すること
により、画線部を染色することも可能である。
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の現像液を用いて、ガ−ゼ、不織布などの柔
らかいパッドで版面を軽くこすることにより、実質的に
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光
硬化性層を露出させることができる。必要なら、特開昭
54−103103 号公報に記載の方法に従って画線
部を染色する。また、本現像液中に浸漬するなどして版
面をしめらせた後、別の溶媒、好ましくは水または水を
主成分とする溶媒で洗浄しながら、版面をこすることに
より、実質的に画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取
り、画線部の光硬化性層を露出させる方法を採用するこ
ともできる。この際、洗浄溶媒中に染料を添加すること
により、画線部を染色することも可能である。
【0020】本発明の現像液を適用することにより、従
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
【0021】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
するが、本発明はこれらに限定されない。
【0022】実施例1〜4、比較例1、2アルミニウム
基板上に、次の組成を有する厚さ4ミクロンの光重合性
層を設けた。 (a) アジピン酸とヘキサン−1,6ジオ−ルお
よび2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオ−ルから
なるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ
−トとのポリウレタン
56重量部 (b) メタクリル酸グリシジ
ルとキシリレンジアミンの4モル/1モル付加反応物
40重量部 (c) ミヒラ
−氏ケトン
4重
量部次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有する
シリコ−ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50
℃熱風中で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコ−ンゴム層
を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約800
00 ) 100重
量部 (b) エチルトリアセトキシシラン
5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ
0.2重量部上述のように
作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチレンテレフタ
レ−トフイルム“ルミラ−”(東レ(株)製)を保護フ
イルムとしてラミネ−トして平版印刷用原版とした。
基板上に、次の組成を有する厚さ4ミクロンの光重合性
層を設けた。 (a) アジピン酸とヘキサン−1,6ジオ−ルお
よび2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオ−ルから
なるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ
−トとのポリウレタン
56重量部 (b) メタクリル酸グリシジ
ルとキシリレンジアミンの4モル/1モル付加反応物
40重量部 (c) ミヒラ
−氏ケトン
4重
量部次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有する
シリコ−ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50
℃熱風中で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコ−ンゴム層
を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約800
00 ) 100重
量部 (b) エチルトリアセトキシシラン
5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ
0.2重量部上述のように
作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチレンテレフタ
レ−トフイルム“ルミラ−”(東レ(株)製)を保護フ
イルムとしてラミネ−トして平版印刷用原版とした。
【0023】この平版印刷用原版に網点面積率を段階的
に変えた(200 線、2%〜98%)ポジフイルムを
密着し、 3kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)で
1mの距離から90秒露光した。
に変えた(200 線、2%〜98%)ポジフイルムを
密着し、 3kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)で
1mの距離から90秒露光した。
【0024】露光版からラミネ−トしてある保護フイル
ムを取り除き、第1表に示すような現像液を用いて露光
版をそれぞれ現像し水なし平版印刷版を得た。これらの
現像液によって得られた印刷版の現像に要した時間およ
び印刷版の網点再現域についての結果を別表に示す。
ムを取り除き、第1表に示すような現像液を用いて露光
版をそれぞれ現像し水なし平版印刷版を得た。これらの
現像液によって得られた印刷版の現像に要した時間およ
び印刷版の網点再現域についての結果を別表に示す。
【0025】一般式(1)のジエステルを含む実施例1
〜4の現像液を用いると、光重合性層を実質的に溶解さ
せずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離除去でき
、かついずれの場合も網点再現域は 2%〜98%であ
った。一般式(1)のジエステルを含まない比較例1の
場合は、光重合性層を実質的に溶解させずに、画線部の
シリコ−ンゴム層のみを剥離除去できるが、現像時間が
長くかかり、網点再現性も不充分である。また、特許請
求の範囲外であるアジピン酸ジステアリルを含む比較例
2の現像液は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接
着力を低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しに
くくなっているため、現像液としては不適当である。
〜4の現像液を用いると、光重合性層を実質的に溶解さ
せずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離除去でき
、かついずれの場合も網点再現域は 2%〜98%であ
った。一般式(1)のジエステルを含まない比較例1の
場合は、光重合性層を実質的に溶解させずに、画線部の
シリコ−ンゴム層のみを剥離除去できるが、現像時間が
長くかかり、網点再現性も不充分である。また、特許請
求の範囲外であるアジピン酸ジステアリルを含む比較例
2の現像液は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接
着力を低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しに
くくなっているため、現像液としては不適当である。
【0026】
【表1】
【0027】実施例5
実施例1と同様にして得た露光版から保護フイルムを取
り除き、アジピン酸ジオクチル10重量部とポリプロピ
レングリコ−ル(重量平均分子量200)90部の混合
溶液の中に1分間浸漬した後、アストラゾンレッド6B
(バイエル社製)を2重量%溶解した水で版面を洗浄し
ながらブラシでこすることにより現像を行った。その結
果、画線部の光重合性接着層が赤く染色された検版性の
良好な刷版が得られた。
り除き、アジピン酸ジオクチル10重量部とポリプロピ
レングリコ−ル(重量平均分子量200)90部の混合
溶液の中に1分間浸漬した後、アストラゾンレッド6B
(バイエル社製)を2重量%溶解した水で版面を洗浄し
ながらブラシでこすることにより現像を行った。その結
果、画線部の光重合性接着層が赤く染色された検版性の
良好な刷版が得られた。
【0028】現像所要時間は約3分で、網点再現域は2
00 線、 2〜98%と極めて良好であった。
00 線、 2〜98%と極めて良好であった。
【0029】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、現
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(1)で表される構造を有するジエ
ステルの少なくとも一種を0.5重量%以上含有するこ
とを特徴とする水なし平版印刷版用現像液。 R1 OOC−X−COOR2
(1)(但し、式中Xは炭素数1〜15の二価の脂肪族
炭化水素、炭素数5〜15の脂環族炭化水素または炭素
数6〜15の芳香族炭化水素であり、R1 、R2 は
炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、それぞれが同
じであっても良いし、異なっていても良い。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11603191A JP3013498B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11603191A JP3013498B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04343361A true JPH04343361A (ja) | 1992-11-30 |
JP3013498B2 JP3013498B2 (ja) | 2000-02-28 |
Family
ID=14677042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11603191A Expired - Fee Related JP3013498B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3013498B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018222395A1 (en) * | 2017-05-29 | 2018-12-06 | 3M Innovative Properties Company | Use of a cleaning composition for 3d-printed articles and related process |
US11738372B2 (en) | 2017-12-08 | 2023-08-29 | 3M Innovative Properties Company | System for washing a 3D-printed object |
-
1991
- 1991-05-21 JP JP11603191A patent/JP3013498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018222395A1 (en) * | 2017-05-29 | 2018-12-06 | 3M Innovative Properties Company | Use of a cleaning composition for 3d-printed articles and related process |
CN110678538A (zh) * | 2017-05-29 | 2020-01-10 | 3M创新有限公司 | 用于3d打印制品的清洁组合物的用途和相关方法 |
US11738372B2 (en) | 2017-12-08 | 2023-08-29 | 3M Innovative Properties Company | System for washing a 3D-printed object |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3013498B2 (ja) | 2000-02-28 |
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