JP2546451B2 - 水なし平版印刷版用現像液 - Google Patents
水なし平版印刷版用現像液Info
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- printing plate
- silicone rubber
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
液に関するものであり、特に基版上に光硬化性層とシリ
コ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改善
された現像液に関するものである。
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性接着層とシリ
コ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特
開昭60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿
し水を用いることなく実用的な印刷が可能である。
光、現像工程を経て製版される。まず平版印刷版原版は
真空密着されたポジティブフィルムを通して活性光線に
露光される。露光の終った印刷原版はパラフィン系炭化
水素あるいはそれを主成分とする現像液に浸漬される。
その結果未露光部のシリコ−ンゴム層は現像液によって
激しく膨潤し、しわを生ずる。この状態でガ−ゼなどの
柔らかいパッドを用いて印刷版面を軽くこすると膨潤し
た未露光部のシリコ−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層
の未硬化の光硬化性層が露出する。この部分がインキ着
肉性の画線部となる。一方、露光部分のシリコ−ンゴム
層は現像液により若干膨潤するものの、光硬化した光硬
化性層に強く接着しているため、現像パッドで強くこす
っても侵されずに版面に残り、この部分がインキ反発性
の非画線部を形成することにより水なし平版印刷版に製
版される。このような製版過程を経て得られる水なし平
版印刷版は、シリコ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな
網点が得られる反面、例えば現像工程における現像操作
が不充分な場合には画線部として本来シリコ−ンゴム層
が剥離除去されていなければならない部分にもシリコ−
ンゴム層が残存してしまい、このために微小網点再現性
の悪い印刷版になってしまう。また現像時に版面を強く
こすり過ぎると非画線部として印刷版面上に残すべきシ
リコ−ンゴム層まで損傷してしまう。その結果、最終製
品である印刷物に地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷
特性の優れた印刷版が得られないという問題点をかかえ
ている。
術の諸欠点に鑑みその改善対策について鋭意検討を進め
た結果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし
平版印刷版の現像液としてアルカンジオ−ルを用いるこ
とにより著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易に
再現できることを見い出し以下に述べる本発明に到達し
た。
数4〜15のアルカンジオールの少くとも一種を0.5
重量%以上含有することを特徴とする、基板上に光硬化
性層とシリコーンゴム層とを積層してなる水なし平版印
刷版用現像液である。
ルは炭素数4〜15のものである。炭素数が15を越え
るアルカンジオ−ルを現像液中に含む場合は、光硬化性
層とシリコ−ンゴム層の界面接着力を低下させる効果が
小さく、微小な網点を再現しにくくなるため好ましくな
い。かかるアルカンジオ−ルは現像液総量の0.5〜1
00重量%好ましくは1.0〜100重量%の範囲で含
有されていることが重要である。
ルの具体例として例えば下記のものがあげられるがこれ
らに限定されない。
ジオ−ル、1,4−ブタンジオ−ル、2,3−ブタンジ
オ−ル、2−メチル−1,2−プロパンジオ−ル、2−
メチル−1,3−プロパンジオ−ル、1,2−ペンタン
ジオ−ル、1,3−ペンタンジオ−ル、1,4−ペンタ
ンジオ−ル、1,5−ペンタンジオ−ル、2,3−ペン
タンジオ−ル、2,4−ペンタンジオ−ル、2−メチル
−1,2−ブタンジオ−ル、2−メチル−1,3−ブタ
ンジオ−ル、2−メチル−1,4−ブタンジオ−ル、2
−メチル−2,3−ブタンジオ−ル、2−エチル−1,
3−プロパンジオ−ル、2,2−ジメチル−1,3−プ
ロパンジオ−ル、1,2−ヘキサンジオ−ル、1,3−
ヘキサンジオ−ル、1,4−ヘキサンジオ−ル、1,5
−ヘキサンジオ−ル、1,6−ヘキサンジオ−ル、2,
3−ヘキサンジオ−ル、2,4−ヘキサンジオ−ル、
2,5−ヘキサンジオ−ル、3,4−ヘキサンジオ−
ル、2−メチル−1,3−ペンタンジオ−ル、2−メチ
ル−2,4−ペンタンジオ−ル、3−メチル−1,5−
ペンタンジオ−ル、3−メチル−2,4−ペンタンジオ
−3−メチル−2,5−ペンタンジオ−ル、2−エチル
−1,3−ブタンジオ−ル、2−(n−プロピル)−
1,3−プロパンジオ−ル、2−メチル−2−エチル−
1,3−プロパンジオ−ル、1,2−ヘプタンジオ−
ル、1,3−ヘプタンジオ−ル、1,4−ヘプタンジオ
−ル、1,5−ヘプタンジオ−ル、1,6−ヘプタンジ
オ−ル、1,7−ヘプタンジオ−ル、2,3−ヘプタン
ジオ−ル、2,4−ヘプタンジオ−ル、2,5−ヘプタ
ンジオ−ル、2,6−ヘプタンジオ−ル、3,4−ヘプ
タンジオ−ル、3,5−ヘプタンジオ−ル、2−メチル
−3,5−ヘキサンジオ−ル、3−メチル−2,4−ヘ
キサンジオ−ル、3−エチル−2,4−ヘプタンジオ−
ル、2−イソプロピル−1,3−ブタンジオ−ル、2−
イソプロピル−1,4−ブタンジオ−ル、2−(n−ブ
チル)−1,3−プロパンジオ−ル、2,2−ジエチル
−1,3−プロパンジオ−ル、1,2−オクタンジオ−
ル、1,3−オクタンジオ−ル、1,4−オクタンジオ
−ル、1,5−オクタンジオ−ル、1,6−オクタンジ
オ−ル、1,7−オクタンジオ−ル、1,8−オクタン
ジオ−ル、2,3−オクタンジオ−ル、2,4−オクタ
ンジオ−ル、2,5−オクタンジオ−ル、2,6−オク
タンジオ−ル、2,7−オクタンジオ−ル、3,4−オ
クタンジオ−ル、3,5−オクタンジオ−ル、3,6−
オクタンジオ−ル、4,5−オクタンジオ−ル、2−メ
チル−4,6−ヘプタンジオ−ル、5−メチル−2,4
−ヘプタンジオ−ル、2,2−ジメチル−3,5−ヘキ
サンジオ−ル、3,4−ジメチル−3,4−ヘキサンジ
オ−ル、2−イソブチル−1,3−ブタンジオ−ル、2
−メチル−2−ブチル−1,3−ブタンジオ−ル、1,
9−ノナンジオ−ル、2−エチル−2,8−オクタンジ
オ−ル、2−エチル−2,10−デカンジオ−ルなど。
ジオ−ルがとくに有用である。
ルに溶媒を添加したものを用いることもできる。かかる
溶媒としては、石油の分留製品から容易に入手できるパ
ラフィン系炭化水素あるいはそれを主成分とするもの、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンのような精練
されたパラフィン系炭化水素、水、アルコ−ル類、エス
テル類、ポリエチレングリコ−ル類およびその誘導体、
ポリプロピレングリコ−ル類およびその誘導体、ケトン
類、エ−テル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水
素類などがあげられる。この中でも、ポリエチレングリ
コ−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル
類およびその誘導体が特に有効である。本発明の現像液
が好都合に適用できる水なし平版印刷版は、シリコ−ン
ゴム層をインキ反発層とする平版印刷版であり、特に基
板上に光硬化性層とシリコ−ンゴム層とを積層した水な
し平版印刷版である。
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは100 ミクロン以下であり、50ミクロン以
下のものがさらに有用である。もし必要であれば、光硬
化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−ショ
ン防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−コ−
ト層をもうけることも有用である。
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。 (1) 沸点100 ℃以上の光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマ 1.0 〜99.9重量部 (2) 光増感剤 0.1 〜20.0重量部 (3) 熱重合禁止剤 0.01〜10.0重量部 (4) 光重合性層の形態保持用充填剤(ポリマ−あるいは無機粉末) 0.01〜95.0重量部 光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマの代表的な例
としては、炭素数30以下の1価のアルコ−ルあるいは1
価のアミンから誘導された沸点100 ℃以上のアクリル酸
エステルまたはメタアクリル酸エステル(以下これらを
(メタ)アクリル酸エステルと略称する。また以下の説
明で(メタ)□□□とあるのは同様に□□□またはメタ
□□□を略したものである。)、あるいは(メタ)アク
リルアミド、炭素数30以下の多価アルコ−ルあるいは多
価アミンから誘導された沸点100℃以上の(メタ)アク
リル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルアミド、ア
ミンとグリシジル(メタ)アクリレ−トとの付加反応生
成物などをあげることができる。
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニル
等を含む感光層。 (2) エポキシ基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマ
とジアゾニウム塩との組み合わせからなる感光層。これ
は露光するとジアゾニウム塩の光分解によりルイス酸が
生成し、エポキシ基がカチオン重合して架橋する。ジア
ゾニウム塩として、例えば2,5-ジエトキシ-4-(P-トルイ
ルチオ)ベンゼンジアゾニウムヘキサフロロフオスフェ
−トなどがもちいられる。 (3) アリル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマと
チオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマとの
組み合わせからなる感光層。これは露光するとチオ−ル
基がアリル基に付加して架橋する。 (4) ジアゾニウム塩、例えばP-ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドの縮合物など。 (5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とする感光層。
ロン好ましくは0.5 〜5 ミクロンの厚さと、紫外線が透
過しうる透明性を有する。有用なシリコ−ンゴムは末端
基同志の縮合によって架橋する分子量1000〜1000000 の
線状ジオルガノポリシロキサン(好ましくはジメチルポ
リシロキサン)を主成分とし、必要に応じて架橋剤、触
媒が添加されたものである。シリコ−ンゴム層はインキ
反発性を有するものであり、その表面はいくぶん粘着性
を有し、埃などが付着しやすく、そのため露光工程にお
いてポジフイルムが十分に密着しにくいなどの問題が起
こりやすいので、シリコ−ンゴム層の表面に、薄い透明
性の保護フイルムを張りつけることもできる。また、こ
の保護フイルムは空気中の酸素の光硬化性層への浸透を
抑制し、光硬化性層の光硬化を促進する役割をも演ず
る。この様に、保護フイルムは露光工程において有用で
あるが、勿論、現像工程において剥離または溶解によっ
て除去され、印刷工程においては不必要なものである。
有用な保護フイルムは紫外線を透過し得る透明性と、10
0 ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚みを有
し、その代表例として次のようなプラスチックのフイル
ムをあげることができる。
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ルポ
リエチレンテレフタレ−ト、セロファンなど。
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の現像液を用いて、ガ−ゼ、不織布などの柔
らかいパッドで版面を軽くこすることにより、実質的に
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光
硬化性層を露出させることができる。必要なら、特開昭
54-103103 号公報に記載の方法に従って画線部を染色す
る。また、本現像液中に浸漬するなどして版面をしめら
せた後、別の溶媒、好ましくは水または水を主成分とす
る溶媒で洗浄しながら、版面をこすることにより、実質
的に画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部
の光硬化性層を露出させる方法を採用することもでき
る。この際、洗浄溶媒中に染料を添加することにより、
画線部を染色することも可能である。
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
するが、本発明はこれらに限定されない。
ンの光重合性層を設けた。 (a) アジピン酸とヘキサン−1,6ジオ−ルおよび2,2−ジメチルプロパン −1,3−ジオ−ルからなるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ −トとのポリウレタン 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミ ンの4モル/1モル付加反 応物 40重量部 (c) ミヒラ−氏ケトン 4重量部 次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有するシリ
コ−ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風中
で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコ−ンゴム層を設け
た。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000 ) 100重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチレ
ンテレフタレ−トフイルム“ルミラ−”(東レ(株)
製)を保護フイルムとしてラミネ−トして平版印刷用原
版とした。
に変えた(200 線、2%〜98%)ポジフイルムを密着
し、 3kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)で1mの距離
から90秒露光した。
ムを取り除き、第1表に示すような現像液を用いて露光
版をそれぞれ現像し水なし平版印刷版を得た。これらの
現像液によって得られた印刷版の現像に要した時間およ
び印刷版の網点再現域についての結果を別表に示す。
像液を用いると、光重合性層を実質的に溶解させずに、
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離除去でき、かつい
ずれの場合も網点再現域は 2%〜98%であった。アルカ
ンジオ−ルを含まない比較例1の場合は、光重合性層を
実質的に溶解させずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみ
を剥離除去できるが、現像時間が長くかかり、網点再現
性も不充分である。また、特許請求の範囲外である2−
エチル−2,16−ヘキサデカンジオ−ルを含む比較例
2の現像液は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接
着力を低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しに
くくなっているため、現像液としては不適当である。
り除き、1,3−ブタンジオ−ル20重量部とジエチレ
ングリコ−ル−2−エチルヘキシルエ−テル80部の混
合溶液の中に1分間浸漬した後、“アストラゾンレッ
ド”6B(バイエル社製)を2重量%溶解した水で版面
を洗浄しながらブラシでこすることにより現像を行っ
た。その結果、画線部の光重合性接着層が赤く染色され
た検版性の良好な刷版が得られた。
0 線、 2〜98%と極めて良好であった。
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
Claims (1)
- 【請求項1】 炭素数4〜15のアルカンジオールの少
くとも一種を0.5重量%以上含有することを特徴とす
る、基板上に光硬化性層とシリコーンゴム層とを積層し
てなる水なし平版印刷版用現像液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3116030A JP2546451B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3116030A JP2546451B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04343360A JPH04343360A (ja) | 1992-11-30 |
JP2546451B2 true JP2546451B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=14677020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3116030A Expired - Lifetime JP2546451B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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Families Citing this family (4)
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KR101165178B1 (ko) | 2009-03-31 | 2012-07-11 | 도레이 카부시키가이샤 | 직묘형 무수 평판 인쇄판 원판 및 그 제조방법 |
EP2624053B1 (en) | 2010-09-30 | 2019-02-06 | Toray Industries, Inc. | Direct drawing-type waterless lithographic printing original plate |
JP6003642B2 (ja) | 2011-01-17 | 2016-10-05 | 東レ株式会社 | 直描型水なし平版印刷版原版 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS61185745A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-19 | Toshiba Corp | ポジ型フオトレジスト現像液組成物 |
JPS63259560A (ja) * | 1986-01-14 | 1988-10-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型ホトレジスト用有機アルカリ現像液 |
JPS6419344A (en) * | 1986-01-14 | 1989-01-23 | Sumitomo Chemical Co | Organic alkali developing solution for positive type photoresist |
JP2971961B2 (ja) * | 1991-01-21 | 1999-11-08 | 岡本化学工業株式会社 | 感光性平版印刷版用現像液 |
-
1991
- 1991-05-21 JP JP3116030A patent/JP2546451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH04343360A (ja) | 1992-11-30 |
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