JPS6333140B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シリコーンゴム層をインキ反撥層と
する水なし平版印刷版の製版方法に関するもので
あり、特に、基板上に感光層とシリコーンゴム層
とを積層した水なし平版印刷版の新規な現像方法
に関するものである。
する水なし平版印刷版の製版方法に関するもので
あり、特に、基板上に感光層とシリコーンゴム層
とを積層した水なし平版印刷版の新規な現像方法
に関するものである。
シリコーンゴム層をインキ反撥層とし下層に感
光層を設けた水なし平版印刷版については、すで
に種々なものが提案されている。なかでも、特公
昭44−23042号、特公昭46−16044号に記載され
た、基板上に光可溶化性あるいは光不溶化性感光
層とシリコーンゴム層を積層した平版印刷版、特
開昭48−94504号、特開昭50−50102号に記載され
た、基板上に光接着性感光層とシリコーンゴム層
を積層した平版印刷版は、湿し水を用いないで数
千枚から数万枚の印刷が可能と言われている。こ
のうち、前者の基板上に光可溶化性あるいは光不
溶化性感光層とシリコーンゴム層を積層した平版
印刷版においては、光照射による感光層の可溶化
あるいは不溶化によつてネガ型あるいはポジ型の
印刷版が次のようにして得られている。すなわ
ち、光可溶化型の場合は、露光部の、また光不溶
化型の場合は未露光部の感光層を水、アルコール
などで溶解させながら版面を強くこすることによ
り、画線部のシリコーンゴム層をこすり取り、親
油水性の印刷基板を露出せしめ、ネガ型あるいは
ポジ型の印刷版を形成させている。しかしなが
ら、このような製版方法にあつては、本質的に撥
水性のシリコーンゴム層を水性あるいはアルコー
ル性などの現像液を用いて版面から剥ぎ取るとい
う、言わば強引な現像方法をとつているため、現
像工程でかなり強い力で版面をこする必要があ
る。その結果、非画線部として版面に残すべきシ
リコーンゴム層まで損傷を受け易くなるという問
題が生ずる。
光層を設けた水なし平版印刷版については、すで
に種々なものが提案されている。なかでも、特公
昭44−23042号、特公昭46−16044号に記載され
た、基板上に光可溶化性あるいは光不溶化性感光
層とシリコーンゴム層を積層した平版印刷版、特
開昭48−94504号、特開昭50−50102号に記載され
た、基板上に光接着性感光層とシリコーンゴム層
を積層した平版印刷版は、湿し水を用いないで数
千枚から数万枚の印刷が可能と言われている。こ
のうち、前者の基板上に光可溶化性あるいは光不
溶化性感光層とシリコーンゴム層を積層した平版
印刷版においては、光照射による感光層の可溶化
あるいは不溶化によつてネガ型あるいはポジ型の
印刷版が次のようにして得られている。すなわ
ち、光可溶化型の場合は、露光部の、また光不溶
化型の場合は未露光部の感光層を水、アルコール
などで溶解させながら版面を強くこすることによ
り、画線部のシリコーンゴム層をこすり取り、親
油水性の印刷基板を露出せしめ、ネガ型あるいは
ポジ型の印刷版を形成させている。しかしなが
ら、このような製版方法にあつては、本質的に撥
水性のシリコーンゴム層を水性あるいはアルコー
ル性などの現像液を用いて版面から剥ぎ取るとい
う、言わば強引な現像方法をとつているため、現
像工程でかなり強い力で版面をこする必要があ
る。その結果、非画線部として版面に残すべきシ
リコーンゴム層まで損傷を受け易くなるという問
題が生ずる。
一方、基板上に光接着性感光層とシリコーンゴ
ム層を積層した平版印刷版の場合には、露光によ
り光接着性感光層とシリコーンゴム層とが強固に
光接着することを利用して、光接着性感光層を実
質的に溶解させず、シリコーンゴム層のみを膨潤
させる現像液を用いて、未露光部分のシリコーン
ゴム層を選択的に剥離除去するという現像方法が
とられている。
ム層を積層した平版印刷版の場合には、露光によ
り光接着性感光層とシリコーンゴム層とが強固に
光接着することを利用して、光接着性感光層を実
質的に溶解させず、シリコーンゴム層のみを膨潤
させる現像液を用いて、未露光部分のシリコーン
ゴム層を選択的に剥離除去するという現像方法が
とられている。
このような製版法によつた場合には、先の例に
比べて、シリコーンゴム層の切れがよくシヤープ
な網点が得られるが、未露光部におけるシリコー
ンゴム層と光接着性感光層の界面接着力が比較的
大きいため現像時間が長くかかり、ハイライト部
の微小な網点を再現性よく得るためには、ある程
度版面をこすりこむ必要がある。したがつて、非
画線部として版面に残すべきシリコーンゴム層ま
でも損傷しやすいという欠点を完全に克服したと
は言い難い。
比べて、シリコーンゴム層の切れがよくシヤープ
な網点が得られるが、未露光部におけるシリコー
ンゴム層と光接着性感光層の界面接着力が比較的
大きいため現像時間が長くかかり、ハイライト部
の微小な網点を再現性よく得るためには、ある程
度版面をこすりこむ必要がある。したがつて、非
画線部として版面に残すべきシリコーンゴム層ま
でも損傷しやすいという欠点を完全に克服したと
は言い難い。
そこで現像性を向上させるために、シリコーン
ゴムを膨潤させる溶媒に、光接着性感光層をも溶
解する極性溶媒を添加し、画線部の感光層を一部
溶解しながら、シリコーンゴム層をこすりとる方
法が考え出されたが、極性溶媒添加量が多くなる
と非画線部の感光層もある程度膨潤された状態に
なるため、非画線部のシリコーンゴム層もこすり
取られてしまう結果になりがちであり、一方極性
溶媒添加量が少ないと十分な効果が得られないと
いう難点があつた。さらに、印刷工程においてシ
リコーンゴム層表面が傷つかないように版面強度
を向上させるためには、シリコーンゴム層が可能
な限り厚い方が好ましいが、現在までに提案され
た方法のいずれも、これらの要求を満足しつつ網
点再現性のすぐれた版および現像方法を提供する
に至つていない。
ゴムを膨潤させる溶媒に、光接着性感光層をも溶
解する極性溶媒を添加し、画線部の感光層を一部
溶解しながら、シリコーンゴム層をこすりとる方
法が考え出されたが、極性溶媒添加量が多くなる
と非画線部の感光層もある程度膨潤された状態に
なるため、非画線部のシリコーンゴム層もこすり
取られてしまう結果になりがちであり、一方極性
溶媒添加量が少ないと十分な効果が得られないと
いう難点があつた。さらに、印刷工程においてシ
リコーンゴム層表面が傷つかないように版面強度
を向上させるためには、シリコーンゴム層が可能
な限り厚い方が好ましいが、現在までに提案され
た方法のいずれも、これらの要求を満足しつつ網
点再現性のすぐれた版および現像方法を提供する
に至つていない。
本発明者らは、これらの点に鑑み、他の版特性
に影響を与えることなく、網点再現性を向上する
製版方法について鋭意研究した結果、本発明に到
達したものである。
に影響を与えることなく、網点再現性を向上する
製版方法について鋭意研究した結果、本発明に到
達したものである。
すなわち本発明は、基板上に感光層とシリコー
ンゴム層とを積層した平版印刷版を像形状に露光
した後、画像部の感光層の少なくとも一部を溶解
し得る処理液を用いて、画線部の感光層の一部ま
たは全部を溶出せしめ、しかるのちにシリコーン
ゴム層を膨潤させる作用のない水または水を主成
分とする溶媒の存在下で版面をこすることによ
り、画線部のシリコーンゴム層を剥離することを
特徴とする平版印刷版の製版方法である。
ンゴム層とを積層した平版印刷版を像形状に露光
した後、画像部の感光層の少なくとも一部を溶解
し得る処理液を用いて、画線部の感光層の一部ま
たは全部を溶出せしめ、しかるのちにシリコーン
ゴム層を膨潤させる作用のない水または水を主成
分とする溶媒の存在下で版面をこすることによ
り、画線部のシリコーンゴム層を剥離することを
特徴とする平版印刷版の製版方法である。
公知の方法は、先の例で示したように、いずれ
も一段で現像工程を完了させようとするものであ
つたのに対し、本発明は、画線部の感光層の一部
または全部を溶出する工程と、シリコーンゴム層
を膨潤させる作用のない水または水性の溶媒でシ
リコーンゴム層を剥離する工程との二段に現像工
程を区別したことに特徴がある。すなわち、第一
段の工程では、非画線部の感光層に対して貧溶媒
で、画線部の感光層構成成分の一部あるいは全部
に対して良溶媒である処理液を用い、画線部の感
光層の一部あるいは全部を溶出せしめることによ
つて、非画線部の感光層とシリコーンゴム層とに
ほとんど影響を与えることなく、画線部の感光層
とシリコーンゴム層との界面接着力を著しく低下
させ、いわば感光層の上にシリコーンゴム層が浮
き上がつた構造を形成する。従つて第二段の工程
ではシリコーンゴム層を容易に剥離させることが
でき、インキ受容部が形成される。しかも、第二
段の工程ではシリコーンゴム層を膨潤させる作用
のない水または水を主成分とする溶媒を用いてい
るので、非画線部として版面に残すべきシリコー
ンゴム層を損傷することなく現像することができ
る。
も一段で現像工程を完了させようとするものであ
つたのに対し、本発明は、画線部の感光層の一部
または全部を溶出する工程と、シリコーンゴム層
を膨潤させる作用のない水または水性の溶媒でシ
リコーンゴム層を剥離する工程との二段に現像工
程を区別したことに特徴がある。すなわち、第一
段の工程では、非画線部の感光層に対して貧溶媒
で、画線部の感光層構成成分の一部あるいは全部
に対して良溶媒である処理液を用い、画線部の感
光層の一部あるいは全部を溶出せしめることによ
つて、非画線部の感光層とシリコーンゴム層とに
ほとんど影響を与えることなく、画線部の感光層
とシリコーンゴム層との界面接着力を著しく低下
させ、いわば感光層の上にシリコーンゴム層が浮
き上がつた構造を形成する。従つて第二段の工程
ではシリコーンゴム層を容易に剥離させることが
でき、インキ受容部が形成される。しかも、第二
段の工程ではシリコーンゴム層を膨潤させる作用
のない水または水を主成分とする溶媒を用いてい
るので、非画線部として版面に残すべきシリコー
ンゴム層を損傷することなく現像することができ
る。
以下に本発明の内容をさらに詳しく説明する。
まず、本発明の露光工程では、基板上に感光層と
シリコーンゴム層および必要により保護フイルム
を積層した平版印刷原版に、通常の平版用真空焼
枠を用いて、ポジフイルムあるいはネガフイルム
を真空密着し、該フイルムを通して活性な光線を
照射する。この露光工程で用いられる光源は、紫
外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光灯などを使うことができる。
まず、本発明の露光工程では、基板上に感光層と
シリコーンゴム層および必要により保護フイルム
を積層した平版印刷原版に、通常の平版用真空焼
枠を用いて、ポジフイルムあるいはネガフイルム
を真空密着し、該フイルムを通して活性な光線を
照射する。この露光工程で用いられる光源は、紫
外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光灯などを使うことができる。
保護フイルムが存在する場合は、保護フイルム
を取り去つた後、該印刷版を画線部の感光層の少
なくとも一部を溶解し得る処理液で処理する。こ
の際、処理の方法としては印刷版全体を処理液中
に浸漬してもよいし、版面に処理液をスポンジ、
不織布、ガーゼなどで均一に塗布してもよい。
を取り去つた後、該印刷版を画線部の感光層の少
なくとも一部を溶解し得る処理液で処理する。こ
の際、処理の方法としては印刷版全体を処理液中
に浸漬してもよいし、版面に処理液をスポンジ、
不織布、ガーゼなどで均一に塗布してもよい。
本発明において処理液として使用される溶媒
は、非画線部の感光層に対して貧溶媒で、画線部
の感光層の構成成分の一部あるいは全部に対して
良溶媒であるようなものの1種もしくは2種以上
の混合溶媒であつて感光層組成物の構成によつて
適当に選択しなければならないが、一般に有用な
溶媒としては水、および無機塩を溶解した水、ア
ルコール類(例えばメタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、3−メトキ
シブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノ
ール、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等)、
グリコール類(例えばエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール等)、エステル類(例えば酢
酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテ
ート、酢酸カルビトール等)、ケトン類(例えば
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等)、エーテル類(例えばエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、トリエチレングリコー
ルジメチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジ
メチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ
メチルエーテル、テトラエチレングリコールジメ
チルエーテル等)、芳香族炭化水素(トルエン、
キシレン等)、脂肪族炭化水素(石油留分、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等)などの
単独または混合溶媒が使用される。特に好ましい
混合溶媒としては、水0〜95重量部、エーテル類
100〜5重量部から成る混合溶媒、または水0〜
95重量部、グリコール類100〜5重量部から成る
混合溶媒、脂肪族炭化水素0〜95重量部、アルコ
ール類100〜5重量部から成る混合溶媒などで、
無機塩類、界面活性剤、その他の添加剤等を加え
ることもできる。
は、非画線部の感光層に対して貧溶媒で、画線部
の感光層の構成成分の一部あるいは全部に対して
良溶媒であるようなものの1種もしくは2種以上
の混合溶媒であつて感光層組成物の構成によつて
適当に選択しなければならないが、一般に有用な
溶媒としては水、および無機塩を溶解した水、ア
ルコール類(例えばメタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、3−メトキ
シブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノ
ール、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等)、
グリコール類(例えばエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール等)、エステル類(例えば酢
酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテ
ート、酢酸カルビトール等)、ケトン類(例えば
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等)、エーテル類(例えばエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、トリエチレングリコー
ルジメチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジ
メチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ
メチルエーテル、テトラエチレングリコールジメ
チルエーテル等)、芳香族炭化水素(トルエン、
キシレン等)、脂肪族炭化水素(石油留分、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等)などの
単独または混合溶媒が使用される。特に好ましい
混合溶媒としては、水0〜95重量部、エーテル類
100〜5重量部から成る混合溶媒、または水0〜
95重量部、グリコール類100〜5重量部から成る
混合溶媒、脂肪族炭化水素0〜95重量部、アルコ
ール類100〜5重量部から成る混合溶媒などで、
無機塩類、界面活性剤、その他の添加剤等を加え
ることもできる。
このような処理によつて、非画線部の感光層と
シリコーンゴム層はほとんど影響を受けることな
く、画線部の感光層の一部または全部が溶出せし
められる。
シリコーンゴム層はほとんど影響を受けることな
く、画線部の感光層の一部または全部が溶出せし
められる。
次いで、好ましくは版面に付着した処理液の大
部分を、風乾、水洗い、版面スキージなどの方法
により取り去り、水または水を主成分とする溶媒
の存在下で、ガーゼ、不織布などの柔らかいパツ
ドにより版面をこすると、画線部のシリコーンゴ
ム層のみが容易に剥ぎとられ、インキ受容部を形
成する。
部分を、風乾、水洗い、版面スキージなどの方法
により取り去り、水または水を主成分とする溶媒
の存在下で、ガーゼ、不織布などの柔らかいパツ
ドにより版面をこすると、画線部のシリコーンゴ
ム層のみが容易に剥ぎとられ、インキ受容部を形
成する。
水を主成分とする溶媒は、その含水率が前記処
理液の含水率よりも高いものであることが必要で
あり、一般には、50%以上の含水率を有するもの
であることが望ましい。水と混合して使用し得る
ものとしては次のようなものがある。
理液の含水率よりも高いものであることが必要で
あり、一般には、50%以上の含水率を有するもの
であることが望ましい。水と混合して使用し得る
ものとしては次のようなものがある。
アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテ
ル類およびカルボン酸類(酢酸など)など。
ル類およびカルボン酸類(酢酸など)など。
これらを水と適当な乳化剤で、エマルジヨンと
したもの、または懸濁液とした状態で使用しても
よい。
したもの、または懸濁液とした状態で使用しても
よい。
以上述べた本発明の製版方法は、公知の方法に
比べて、次のような利点を有する。
比べて、次のような利点を有する。
(1) 現像工程で水または水を主成分とする溶媒を
用いるため現像作業の安全性がきわめて高い。
用いるため現像作業の安全性がきわめて高い。
(2) 現像工程を二段に分けたにもかかわらず、シ
リコーンゴム層の剥離が極めて容易であるた
め、現像時間がかえつて短縮される。
リコーンゴム層の剥離が極めて容易であるた
め、現像時間がかえつて短縮される。
(3) シリコーンゴム層の膨潤させる作用がないた
めこすりによつて非画線部のシリコーンゴム層
を損傷することなくシヤープな微小網点が再現
される。
めこすりによつて非画線部のシリコーンゴム層
を損傷することなくシヤープな微小網点が再現
される。
(4) 微小網点が再現される露光時間(適当露光時
間)が大巾に拡大される。
間)が大巾に拡大される。
本発明に適用される平版印刷版に使用できる基
板は、通常の平版印刷機にセツトできるたわみ性
と、印刷時にかかる荷重に耐えうるものでなけれ
ばならない。例えばアルミニウム板、亜鉛板、銅
板、鉄板、などの金属板、ポリエステル、ポリエ
チレンおよびポリプロピレンのようなプラスチツ
クフイルム、金属蒸着したプラスチツクフイル
ム、天然紙や合成紙などが目的に応じて使用でき
る。また表面加工、表面樹脂塗装を行なつたもの
なども使用できる。
板は、通常の平版印刷機にセツトできるたわみ性
と、印刷時にかかる荷重に耐えうるものでなけれ
ばならない。例えばアルミニウム板、亜鉛板、銅
板、鉄板、などの金属板、ポリエステル、ポリエ
チレンおよびポリプロピレンのようなプラスチツ
クフイルム、金属蒸着したプラスチツクフイル
ム、天然紙や合成紙などが目的に応じて使用でき
る。また表面加工、表面樹脂塗装を行なつたもの
なども使用できる。
本発明に適用される平版印刷版に使用できる感
光層は、必要ならば接着層を介して基板と結合し
ており、撥インキ性シリコーンゴム層とは基板面
とほぼ平行な界面で接している。感光層の厚みは
任意であるが、(1)、(2)もしくは(3)のような構成の
感光層を使用することが好ましい。
光層は、必要ならば接着層を介して基板と結合し
ており、撥インキ性シリコーンゴム層とは基板面
とほぼ平行な界面で接している。感光層の厚みは
任意であるが、(1)、(2)もしくは(3)のような構成の
感光層を使用することが好ましい。
(1) 沸点100℃以上で、室温で不揮発性の不飽和
モノマあるいはそれらのオリゴマと光増感剤、
熱重合禁止剤と、必要ならば室温での形態保持
性を与えるための充填材および若干の添加物を
含む組成物。
モノマあるいはそれらのオリゴマと光増感剤、
熱重合禁止剤と、必要ならば室温での形態保持
性を与えるための充填材および若干の添加物を
含む組成物。
ここで不飽和モノマとしては次のようなもの
が使用できる。
が使用できる。
アルコール類(例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール等)のアクリル酸
又はメタクリル酸エステル。
ル、プロパノール、ヘキサノール、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール等)のアクリル酸
又はメタクリル酸エステル。
アミン類(例えばメチルアミン、エチルアミ
ン、ブチルアミン、ベンジルアミン、エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、ヘキサメチ
レンジアミン、キシリレンジアミン、エタノー
ルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、
ジエタノールアミン、アニリン等)とアクリル
酸グリシジル又はメタクリル酸グリシジルとの
反応生成物。
ン、ブチルアミン、ベンジルアミン、エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、ヘキサメチ
レンジアミン、キシリレンジアミン、エタノー
ルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、
ジエタノールアミン、アニリン等)とアクリル
酸グリシジル又はメタクリル酸グリシジルとの
反応生成物。
カルボン酸類(例えば酢酸、プロピオン酸、
安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク
酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸
等)とアクリル酸グリシジル又はメタクリル酸
グリシジルとの反応生成物。
安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク
酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸
等)とアクリル酸グリシジル又はメタクリル酸
グリシジルとの反応生成物。
アミド誘導体(例えばアクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、メチレンビスアクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミド等)。
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、メチレンビスアクリルアミド、ジアセトン
アクリルアミド等)。
その他スチレン誘導体、ケイ皮酸誘導体な
ど。
ど。
光増感剤としては、ベンゾフエノンおよびそ
の誘導体、ベンゾインおよびその誘導体、アン
トラキノンおよびその誘導体、さらにはアルデ
ヒド類、ケトン類、イオウ化合物、ハロゲン化
合物、あるいはメチレンブルー、リボフラビン
などの染料が使用できる。
の誘導体、ベンゾインおよびその誘導体、アン
トラキノンおよびその誘導体、さらにはアルデ
ヒド類、ケトン類、イオウ化合物、ハロゲン化
合物、あるいはメチレンブルー、リボフラビン
などの染料が使用できる。
熱重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよ
びその誘導体、フエノール誘導体、ニトロ置換
ベンゼン、第3級アミン、フエノチアジンおよ
びその誘導体が用いられる。
びその誘導体、フエノール誘導体、ニトロ置換
ベンゼン、第3級アミン、フエノチアジンおよ
びその誘導体が用いられる。
充填材あるいは添加物としては、コロイダル
シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、
酸化鉄などの無機物の微細な粉末、ビニルポリ
マー(例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アク
リル酸エステル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチ
ル、あるいはそれらのコポリマー)、未加硫ゴ
ム(例えば天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイ
ソプレン、ポリクロロプレン、ポリネオプレン
あるいはそれらのコポリマー)、ポリアミド、
ポリエステル、ポリウレタン、硬化前のエポキ
シ、ユリア、アルキツド、メラミン、フエノー
ル樹脂などがあげられる。
シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、
酸化鉄などの無機物の微細な粉末、ビニルポリ
マー(例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アク
リル酸エステル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチ
ル、あるいはそれらのコポリマー)、未加硫ゴ
ム(例えば天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイ
ソプレン、ポリクロロプレン、ポリネオプレン
あるいはそれらのコポリマー)、ポリアミド、
ポリエステル、ポリウレタン、硬化前のエポキ
シ、ユリア、アルキツド、メラミン、フエノー
ル樹脂などがあげられる。
(2) 光不溶化性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂と
必要ならば光増感剤と若干の充填材などの添加
物からなる組成物。
必要ならば光増感剤と若干の充填材などの添加
物からなる組成物。
光不溶化性ジアゾ樹脂としては、パラジアゾ
フエニルアミン、パラジアゾモノエチルアニリ
ン、パラジアゾベンジルエチルアニリンなどの
ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物
をあげることができる。
フエニルアミン、パラジアゾモノエチルアニリ
ン、パラジアゾベンジルエチルアニリンなどの
ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物
をあげることができる。
光不溶化性アジド樹脂としては、ポリビニル
アルコールのアジドフタール酸エステル、ある
いはアジド安息香酸エステル、スチレン−無水
マレイン酸共重合体と、芳香族アジド系アルコ
ール、例えばβ−(4−アジドフエノキシ)エ
タノールのエステルなどがあげられる。
アルコールのアジドフタール酸エステル、ある
いはアジド安息香酸エステル、スチレン−無水
マレイン酸共重合体と、芳香族アジド系アルコ
ール、例えばβ−(4−アジドフエノキシ)エ
タノールのエステルなどがあげられる。
光増感剤、充填材などの添加物としては前記
(1)の例であげたものを使用できる。
(1)の例であげたものを使用できる。
(3) 光可溶化性感光性物質と必要ならば光増感剤
と若干の充填材などの添加物からなる組成物。
と若干の充填材などの添加物からなる組成物。
光可溶化性感光層は、アルミ基板表面をリン
タングステン酸、リンモリブデン酸、パナジウ
ムタングステン酸などのヘテロ多重酸またはイ
ソ多重酸処理を行ない、その上に上述のジアゾ
樹脂感光液を塗布し加熱することによつて得ら
れる。またオルソキノンジアジド類、例えば英
国特許第711626号、英国特許第1188527号など
に記載のものが使用できる。
タングステン酸、リンモリブデン酸、パナジウ
ムタングステン酸などのヘテロ多重酸またはイ
ソ多重酸処理を行ない、その上に上述のジアゾ
樹脂感光液を塗布し加熱することによつて得ら
れる。またオルソキノンジアジド類、例えば英
国特許第711626号、英国特許第1188527号など
に記載のものが使用できる。
光増感剤、充填材などの添加物としては、必
要なら前記(1)の例であげたものを使用できる。
要なら前記(1)の例であげたものを使用できる。
本発明に適用される平版印刷版に使用できるシ
リコーンゴム層は0.5〜100ミクロン、好ましくは
0.5〜10ミクロンの厚みと、紫外線が透過しうる
透明性を有することが必要である。有用なシリコ
ーンゴムは数万から数十万の分子量を有する線状
ジオルガノポリシロキサン(好ましくは、ジメチ
ルポリシロキサン)をまばらに架橋することによ
り得られる。代表的なシリコーンゴムは、次のよ
うなくり返し単位を有する。
リコーンゴム層は0.5〜100ミクロン、好ましくは
0.5〜10ミクロンの厚みと、紫外線が透過しうる
透明性を有することが必要である。有用なシリコ
ーンゴムは数万から数十万の分子量を有する線状
ジオルガノポリシロキサン(好ましくは、ジメチ
ルポリシロキサン)をまばらに架橋することによ
り得られる。代表的なシリコーンゴムは、次のよ
うなくり返し単位を有する。
ここでnは2以上の整数である。Rは炭素数1
〜20のアルキル、アルケニル、アリール、あるい
はシアノアルキル基である。全体のRの40%以下
がビニル、フエニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲ
ン化フエニルであり、Rの60%以上がメチル基で
あるものが好ましい。このようなシリコーンゴム
は、有機過酸化物の添加により、まばらに架橋さ
せることができるが、縮合型の架橋を行なうシリ
コーンゴム(RTV、LTV型シリコーンゴム)を
用いることにより、さらに好ましいシリコーンゴ
ム層が得られる。縮合型の場合はジオルガノポリ
シロキサン鎖のRの一部がHに置換されたものも
用いられるが、通常は次のような末端基同志の縮
合によつて架橋する。
〜20のアルキル、アルケニル、アリール、あるい
はシアノアルキル基である。全体のRの40%以下
がビニル、フエニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲ
ン化フエニルであり、Rの60%以上がメチル基で
あるものが好ましい。このようなシリコーンゴム
は、有機過酸化物の添加により、まばらに架橋さ
せることができるが、縮合型の架橋を行なうシリ
コーンゴム(RTV、LTV型シリコーンゴム)を
用いることにより、さらに好ましいシリコーンゴ
ム層が得られる。縮合型の場合はジオルガノポリ
シロキサン鎖のRの一部がHに置換されたものも
用いられるが、通常は次のような末端基同志の縮
合によつて架橋する。
ここでRは先に説明したRと同じ意味であり、
R′はメチル、エチルなどの1価のアルキル基で
ありAcはアセチル基である。このような縮合型
の架橋を行なうシリコーンゴムには、錫、亜鉛、
カルシウム、マンガンなどの金属の有機カルボン
酸塩たとえば酢酸ジブチルスズ、ラウリン酸ジブ
チルスズ、スズ()オクトエート、ナフテン酸
鉛など、あるいは塩化白金酸のような触媒が添加
される。シリコーンゴムの強度を向上し、印刷作
業中に生じる、摩擦力に耐え得るためにフイラー
を混合することも有効である。
R′はメチル、エチルなどの1価のアルキル基で
ありAcはアセチル基である。このような縮合型
の架橋を行なうシリコーンゴムには、錫、亜鉛、
カルシウム、マンガンなどの金属の有機カルボン
酸塩たとえば酢酸ジブチルスズ、ラウリン酸ジブ
チルスズ、スズ()オクトエート、ナフテン酸
鉛など、あるいは塩化白金酸のような触媒が添加
される。シリコーンゴムの強度を向上し、印刷作
業中に生じる、摩擦力に耐え得るためにフイラー
を混合することも有効である。
以上説明したように、本発明の製版方法が好都
合に適用できる平版印刷版の不可欠の要素とし
て、基板、感光層、シリコーンゴム層をあげるこ
とができる。
合に適用できる平版印刷版の不可欠の要素とし
て、基板、感光層、シリコーンゴム層をあげるこ
とができる。
このようにして構成された平版印刷版原版の表
面を形成するシリコーンゴム層の表面は、いくぶ
ん粘着性を有し、埃などが付着しやすく、そのた
めにシリコーン層の表面に、保護フイルムをはり
つけることもできる。この保護フイルムが、紫外
線を透過し得る透明性と、100ミクロン以下、好
ましくは15ミクロン以下の厚みを有する場合は、
保護フイルムをかけたまま原版を露光することが
できる。保護フイルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテ
レフタレート、セロフアンなどが使用される。
面を形成するシリコーンゴム層の表面は、いくぶ
ん粘着性を有し、埃などが付着しやすく、そのた
めにシリコーン層の表面に、保護フイルムをはり
つけることもできる。この保護フイルムが、紫外
線を透過し得る透明性と、100ミクロン以下、好
ましくは15ミクロン以下の厚みを有する場合は、
保護フイルムをかけたまま原版を露光することが
できる。保護フイルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテ
レフタレート、セロフアンなどが使用される。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらによつて何ら限定されるも
のではない。
るが、本発明はこれらによつて何ら限定されるも
のではない。
実施例 1
アルミニウム基板上に、次の組成を有する厚さ
4ミクロンの光接着性感光層を設けた。
4ミクロンの光接着性感光層を設けた。
(a) アジピン酸とヘキサン−1,6−ジオール、
2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオール
とのポリエステルポリオールとイソホロンジイ
ソシアネートとのポリウレタン 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミ
ンの4モル/1モル付加反応物 40重量部 (c) ミヒラー氏ケトン 4重量部 この光接着性感光層の上に次の組成を有するシ
リコーンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50
℃熱風中で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコーン
ゴム層を設けた。
2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオール
とのポリエステルポリオールとイソホロンジイ
ソシアネートとのポリウレタン 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミ
ンの4モル/1モル付加反応物 40重量部 (c) ミヒラー氏ケトン 4重量部 この光接着性感光層の上に次の組成を有するシ
リコーンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50
℃熱風中で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコーン
ゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000)
100重量部 (b) メチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポ
リエチレンテレフタレートフイルム「ルミラー」
(東レ(株)製)をラミネートして印刷原版とした。
100重量部 (b) メチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポ
リエチレンテレフタレートフイルム「ルミラー」
(東レ(株)製)をラミネートして印刷原版とした。
この印刷版に網点面積率を段階的に変えた
(200線、2%〜98%)ポジフイルムを密着し、
3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1m
の距離から90秒露光した。
(200線、2%〜98%)ポジフイルムを密着し、
3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1m
の距離から90秒露光した。
露光版からラミネートしてあるフイルムを取り
除き、水10重量部、トリエチレングリコールモノ
メチルエーテル90重量部からなる混合処理液を版
面全体に均一になるように塗布した。その後処理
液をふきとり、水をしみこませたパツドでこする
ことにより、画線部のシリコーンゴム層を剥離さ
せて平版印刷版を得た。かくして得られた印刷版
を用いて小森印刷機(株)製「スプリント」で印刷し
た結果、5万枚以上の良好な印刷物を得た。
除き、水10重量部、トリエチレングリコールモノ
メチルエーテル90重量部からなる混合処理液を版
面全体に均一になるように塗布した。その後処理
液をふきとり、水をしみこませたパツドでこする
ことにより、画線部のシリコーンゴム層を剥離さ
せて平版印刷版を得た。かくして得られた印刷版
を用いて小森印刷機(株)製「スプリント」で印刷し
た結果、5万枚以上の良好な印刷物を得た。
実施例 2
アルミニウム基板上に、組の組成を有する厚さ
1ミクロンの光接着性感光層を設けた。
1ミクロンの光接着性感光層を設けた。
(a) アクリル酸エチルとメタクリル酸メチルとの
コポリマー(モル比7:3、数平均分子量5
万) 50重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとベンジルアミンと
の2モル/1モルの付加反応物 48重量部 (c) ミヒラー氏ケトン 2重量部 この光接着性感光層の上に「YE−3085」東芝
シリコーン製RTVシリコーンガムデイスパージ
ヨンをn−ヘプタンで希釈したのち塗布、乾操
し、厚さ2ミクロンのシリコーンゴム層をもうけ
た。このようにして設けたシリコーンゴム層の表
面に実施例1と同様の保護フイルムをラミネート
して印刷原版とした。
コポリマー(モル比7:3、数平均分子量5
万) 50重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとベンジルアミンと
の2モル/1モルの付加反応物 48重量部 (c) ミヒラー氏ケトン 2重量部 この光接着性感光層の上に「YE−3085」東芝
シリコーン製RTVシリコーンガムデイスパージ
ヨンをn−ヘプタンで希釈したのち塗布、乾操
し、厚さ2ミクロンのシリコーンゴム層をもうけ
た。このようにして設けたシリコーンゴム層の表
面に実施例1と同様の保護フイルムをラミネート
して印刷原版とした。
この印刷原版に、網点面積率を段階的に変えた
(200線、2%〜98%)ポジフイルムを密着し、
3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1m
の距離から露光した。
(200線、2%〜98%)ポジフイルムを密着し、
3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1m
の距離から露光した。
露光版からラミネートしてあるフイルムを取り
除き、水30重量部、エチルカルビトール70重量部
からなる混合処理液に30秒間浸漬した。版面の処
理液を水洗した後、水90重量部、エタノール10重
量部からなる現像液をしみこませたパツドで軽く
こすることにより、画線部のシリコーンゴム層を
剥離させて平版印刷版を得た。このような処理に
よつて、画線部の感光層はほとんど溶出し、アル
ミ基板がインキ受容部を形成する。
除き、水30重量部、エチルカルビトール70重量部
からなる混合処理液に30秒間浸漬した。版面の処
理液を水洗した後、水90重量部、エタノール10重
量部からなる現像液をしみこませたパツドで軽く
こすることにより、画線部のシリコーンゴム層を
剥離させて平版印刷版を得た。このような処理に
よつて、画線部の感光層はほとんど溶出し、アル
ミ基板がインキ受容部を形成する。
比較例として、前処理をおこなわずに、n−ヘ
キサン98重量部、エチルセロソルブ2重量部から
なる現像液をしみこませたパツドでこすりこむこ
とによつて画線部のシリコーンゴム層を剥離させ
て印刷版を得た。この場合は、画線部の感光層は
溶出せず露出した感光層がインキ受容部となる。
キサン98重量部、エチルセロソルブ2重量部から
なる現像液をしみこませたパツドでこすりこむこ
とによつて画線部のシリコーンゴム層を剥離させ
て印刷版を得た。この場合は、画線部の感光層は
溶出せず露出した感光層がインキ受容部となる。
このようにして製版した印刷版を小森印刷機(株)
製「スプリント」で印刷した結果、前処理を施し
た印刷版から5万枚以上の良好な印刷物を得た。
一方比較例として行なつた前処理を施さずに製版
した印刷版によつて得た印刷物には、ベタ部の粘
着性に起因するヒツキー、モツトリングが見ら
れ、現像時に生じたすり傷状の印刷欠点が認めら
れた。
製「スプリント」で印刷した結果、前処理を施し
た印刷版から5万枚以上の良好な印刷物を得た。
一方比較例として行なつた前処理を施さずに製版
した印刷版によつて得た印刷物には、ベタ部の粘
着性に起因するヒツキー、モツトリングが見ら
れ、現像時に生じたすり傷状の印刷欠点が認めら
れた。
実施例 3
3M社製「ドライプレート」の保護フイルムを
剥がし、その上に網点面積率を段階的に変えた
(200線、2%〜98%)ネガフイルムを密着し、
3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1m
の距離から一定時間露光した。
剥がし、その上に網点面積率を段階的に変えた
(200線、2%〜98%)ネガフイルムを密着し、
3kWの超高圧水銀灯(オーク製作所製)で1m
の距離から一定時間露光した。
露光版を、エチルセロソルブに30秒間浸漬し、
水洗後、水をしみこませたパツドで軽くこするこ
とにより、ネガ型の平版印刷版を得た。露光時間
30秒から90秒で、網点再現範囲は3%〜97%であ
つた。
水洗後、水をしみこませたパツドで軽くこするこ
とにより、ネガ型の平版印刷版を得た。露光時間
30秒から90秒で、網点再現範囲は3%〜97%であ
つた。
実施例 4
富士フイルム社製PS版「SGP」の上に、トー
レシリコーン社製SH−781RTVの5重量部およ
びトーレシリコーン社製SH−6020の1重量部を
n−ヘプタン90重量部に溶解させて、塗布した
後、120℃で5分間乾燥してネガ型平版印刷原版
を得た。シリコーンゴム層の厚みは3ミクロンで
あつた。この印刷原版の上に、網点面積率を段階
的に変えた(200線、2%〜98%)ネガフイルム
を密着し、2kWのメタルハライドランプ(岩崎
電気製)で1mの距離から一定時間露光した。
レシリコーン社製SH−781RTVの5重量部およ
びトーレシリコーン社製SH−6020の1重量部を
n−ヘプタン90重量部に溶解させて、塗布した
後、120℃で5分間乾燥してネガ型平版印刷原版
を得た。シリコーンゴム層の厚みは3ミクロンで
あつた。この印刷原版の上に、網点面積率を段階
的に変えた(200線、2%〜98%)ネガフイルム
を密着し、2kWのメタルハライドランプ(岩崎
電気製)で1mの距離から一定時間露光した。
露光版を、水50重量部、エタノール50重量部か
らなる混合溶媒に1分間浸漬し、水洗後、水90重
量部、エチルカルビトール10重量部からなる混合
溶媒をしみこませたパツドで軽くこすることによ
り、ネガ型の平版印刷版を得た。露光時間30秒〜
120秒で、2%〜98%の網点再現範囲を得た。
らなる混合溶媒に1分間浸漬し、水洗後、水90重
量部、エチルカルビトール10重量部からなる混合
溶媒をしみこませたパツドで軽くこすることによ
り、ネガ型の平版印刷版を得た。露光時間30秒〜
120秒で、2%〜98%の網点再現範囲を得た。
実施例 5
実施例1で作製した印刷原版を、実施例1の記
載のとおり露光した。
載のとおり露光した。
露光版からラミネートしてあるフイルムを取り
除き、50℃のポリプロピレングリコール(分子量
200)に1分間浸漬する。浸漬後、ゴムスキージ
で版面および裏面に付着した処理液を除去した
後、水道水をふりかけながらパツドで軽くこする
ことにより、画線部のシリコーンゴム層を剥離さ
せて平版印刷版を得た。この印刷版を用いて、湿
し水を用いないで小森印刷機(株)製「スプリント」
で印刷した結果、2〜98%の網点再現域を有し、
かつ版面の損傷による微小欠点のない印刷物が得
られた。
除き、50℃のポリプロピレングリコール(分子量
200)に1分間浸漬する。浸漬後、ゴムスキージ
で版面および裏面に付着した処理液を除去した
後、水道水をふりかけながらパツドで軽くこする
ことにより、画線部のシリコーンゴム層を剥離さ
せて平版印刷版を得た。この印刷版を用いて、湿
し水を用いないで小森印刷機(株)製「スプリント」
で印刷した結果、2〜98%の網点再現域を有し、
かつ版面の損傷による微小欠点のない印刷物が得
られた。
Claims (1)
- 1 基板上に感光層とシリコーンゴム層とを積層
した平版印刷版を像形状に露光した後、画像部の
感光層の少なくとも一部を溶解し得る処理液を用
いて、画線部の感光層の一部または全部を溶出せ
しめ、しかるのちにシリコーンゴム層を膨潤させ
る作用のない水または水を主成分とする溶媒の存
在下で版面をこすることにより、画線部のシリコ
ーンゴム層を剥離することを特徴とする平版印刷
版の製版方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6327079A JPS55156947A (en) | 1979-05-24 | 1979-05-24 | Lithographic plate preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6327079A JPS55156947A (en) | 1979-05-24 | 1979-05-24 | Lithographic plate preparation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55156947A JPS55156947A (en) | 1980-12-06 |
JPS6333140B2 true JPS6333140B2 (ja) | 1988-07-04 |
Family
ID=13224430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6327079A Granted JPS55156947A (en) | 1979-05-24 | 1979-05-24 | Lithographic plate preparation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS55156947A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59146054A (ja) * | 1983-02-09 | 1984-08-21 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷版用現像液 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5170004A (en) * | 1974-12-13 | 1976-06-17 | Toray Industries | Heibaninsatsubanno seizoho |
JPS5353403A (en) * | 1976-10-22 | 1978-05-15 | Asahi Chemical Ind | Original form for press plate and method of producing waterrfree lithographic press plate adopting same |
JPS5462003A (en) * | 1977-10-25 | 1979-05-18 | Mitsumura Printing | Method of anastatic printing |
JPS5489805A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Toray Industries | Makeup method of planographic printing plate |
-
1979
- 1979-05-24 JP JP6327079A patent/JPS55156947A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5170004A (en) * | 1974-12-13 | 1976-06-17 | Toray Industries | Heibaninsatsubanno seizoho |
JPS5353403A (en) * | 1976-10-22 | 1978-05-15 | Asahi Chemical Ind | Original form for press plate and method of producing waterrfree lithographic press plate adopting same |
JPS5462003A (en) * | 1977-10-25 | 1979-05-18 | Mitsumura Printing | Method of anastatic printing |
JPS5489805A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Toray Industries | Makeup method of planographic printing plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55156947A (en) | 1980-12-06 |
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