JPS59146054A - 湿し水不要平版印刷版用現像液 - Google Patents

湿し水不要平版印刷版用現像液

Info

Publication number
JPS59146054A
JPS59146054A JP1887283A JP1887283A JPS59146054A JP S59146054 A JPS59146054 A JP S59146054A JP 1887283 A JP1887283 A JP 1887283A JP 1887283 A JP1887283 A JP 1887283A JP S59146054 A JPS59146054 A JP S59146054A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lithographic printing
printing plate
water
hydrocarbon
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1887283A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Kinashi
木梨 隆夫
Yoichi Shimokawa
下川 洋市
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP1887283A priority Critical patent/JPS59146054A/ja
Publication of JPS59146054A publication Critical patent/JPS59146054A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背電 本発明は、湿し水不要平版印刷版用現@液に関し+ ’
F’Jに、基体に裏1′]ちされた感光層の上にシリコ
ーンコム層を設けてなるボジデイブワー、キング用湿し
水不要平版印刷版用の、すぐれた現f象性を有する現像
液に関する。
基体に裏打ちされた感光層の−ににシリコーンコム層を
設けてなるポジティブワーキング用湿し水不要平版印刷
版については9例えば峙公昭44−25042号、特公
昭54−2692ろ月なと(・(数多、〈提案されてい
る。
これらの印刷原版は1画像露光をI@ L /こ後、1
1(像されるが、現像液とし2ては例えば]侍うさ昭5
6−23’150号に開示さJlているよ′)に、・ζ
−シーツイン系炭化水素を主成分とシフ、次σ)ようt
、 、1: 1)4ifj・1′1゜の高い溶剤を、5
0重4 %を1限と−C添jノ++ Lフl=−ものが
使用された。
了ルj−ル類(メタノーノ1..二1−タノー )l冷
り−)エーテルm(エチルセ[Iツノ1.、、 ”、’
:)’  フグ−r−f= Dノルゾなと) ケトン類(アセトン、ン′り1−1−ヘキーリーノン・
′なと)ハ「lゲン化炭化水素類(トリクl/ :y’
 、四用化1)コ素左と) カルボン酸類(酢酸など) エステルa(酢酸エチル、:丁−チル−17r1ツノ1
−)−フ′セデートなと) 芳香族系炭化水素類(l・)LJ’−>・、・〜7 t
、・:/・々と)さらに特開昭57−13448号にし
t 、 (!n!、 L、水不−兜平版印チii;11
版用の1(、像τf(とし7で9ゾ17に” l/’ 
、’−′:4ギ1ナイド誘導体の少なくとも一種を01
〜10口重量係含治したものを用いることが示されてい
る。
しかしながら前記のような現像液を用いて、露光後の印
刷原版を現像すると2画像の・・イライト部分、特に数
10脂程度の径の網点部分のンリコーンーフム層を除去
゛することが困難で、ハイライト部分のノリコーンコム
層が七分除去されていない印刷版を用いて印刷し2だ場
合、原画に忠実な印刷物が得られないという極めて重大
な問題があった。
一方、微小な網点部分の7リコーンゴl、層を除去する
/こめに、より大きな力をかけようとし/(−場合に幻
、現像作業が困難になるばかりでなく、非画線部のシリ
コーンゴム層を傷つけでしj・い、その部分がインキを
受容シ22.いわゆる地汚れをひきおこす結果、印刷物
の価イ的が失われてし2まうという問題もあつ/こ。
発明の目的および構成 本発明者らは上記の問題点を克服し、より簡易なiJl
像作業でし7かも微小な網点をもせ〕現するために鋭意
検ホIL、だ結果9本発明に到達した。
−すなわち本発明は、基体に裏4’]’ t〕さit/
を感)Y、IX鱒の才にノリコーンコム層を設けてなる
ポジーj−イフワーギング用湿し水不要」佃:Iプ印刷
版1−t’il fJλ像z(’r、に4.・いて、該
現像z夜が、0口5〜5−小td%の水と1・−99重
はチの炭化水素を含楢−4゛ることをIp、l、徴と−
4る湿し水工・州平版印刷版用土」1.像准−(7あど
)3、発明の好せしい態様 以下に本発明の詳細な説明する。
本発明の湿し水不要平版印刷版の基体とし一ζ−しj。
厚さが約107z −2mm 、  好−IL<は約5
07+ −400Ir0紙、プラスナツク−ノイ)li
 ムもり、 < ir:J、/−1・、コムなとの弾性
体シート、アノ1ミなどの金属板、それらに種々の表面
処理を施り、7/こもの、・tどが14 (、でいるが
、シリンダー4)(の基体を用い−(もよい。
本発明〕感光層とl、−r、014例えば fQ +1
1隆弘p;I感光性も11脂」などに記載されでいる。
公知・つ”))11゜沖合性、光架橋性の感光性樹脂を
含自するものが挙げら扛るが、イ(発明の感光層とし1
kl11次のような組成をイ1するものが適してい入)
(1)  沸3点100℃以l−7のエチレン性不飽和
モノマあるい(r+Lオリゴマ(1〜999重礒部)(
2)光増感剤(0,1−20重量部)(3)  必要に
応して熱重合禁止剤(0,01〜1重−腋部) (4)  必要に応して感光層の形態保持のための充填
材とし7て、ポリマあるいは無機粉末(001〜95重
量部) 本発明の湿し水不要平版印刷版に用いられるノリコーン
ゴム層は、約05〜100μ、好ましくは約05〜10
μの厚みを有し1次のような繰り返し7単位を有する分
子量数丁〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分と
するものである。
ここでnは1以Hの整数、Rは炭素数1〜1[〕のアル
キル基、アルケニル基あるいはフエごル基である。
この線状有機ボリア0キ力ンには通常架橋剤か添加され
る。架橋剤としては、いわゆイ)牢記(低温1)硬化へ
すの/リコーンゴムに1史われるものとして、−アセト
キシシラン、ケトオーX=ジノ、/ラン、−ノ゛ルコキ
シシラン、アミノシラン、アミトン′フンなどがあり2
通常線状心機ポリシ「1八゛−リン、J、L、?末端が
水酸基であるものと組み合わせて、各々脱19′1酸型
、脱号キシl、型、脱アルコール型、脱rミン型、脱ア
ミド型のンリコーンゴl、 、L i ル□。
本発明の現像液には、1〜997Ii: 44.チ、好
」、し、くは10〜9[〕重ht係の炭化水素と、0.
05〜5重吐係、好1しくは0.06〜3重−:、′4
係、さらに好4し5〈は0.07〜2重鼠係の水がg 
4fする。炭化水素とし7ては石油の分留製品のうち、
ノノノリン(沸点40〜220 ’C、炭素数4〜11
)1月油(沸点150〜ろ2[]て〕、炭素数11〜1
6)。
舒油(nIX点200〜350℃、炭素数12−16)
などが適(7−Cおり、!侍にガソリン、用油か適し7
−Cいる。またペンタン、ヘギーリン、ヘプタン′l〕
クタンなどのような精練された・′°ラノイン系炭化水
素も!J、’l’適であるし、これらに準する市販の石
油系炭化水素溶剤を用いでもよい。
ま/ζζ全発明現像液に添加さ11る水の量が005重
・糺チ以−ドの場合には微小な網点に対する現像性が不
十分であるし、5重量係を越えると現像性がかえって低
下したり、現像液の均・−性・安定性が低ト′する場合
がある。
本発明の現像液には必要に応じて、アルコール。
ニーデル、ケhン、ニスデル、ハロゲン化炭化水素、″
Ji香族系炭化水素、ホリエチレングリコール類、ポリ
プロピレングリコール類などが添加される。その添加敏
はD〜90重量係、好−ましくは2〜60重吊:チ、さ
らに好丑しくは6〜50重融係−Cある。
本発明の現像液には必要に応じて7種々の界面活性剤、
染*1などが添加されてもよい。
次に本発明を実施例によって具体的に説明”1゛るが2
本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではな
い。
実hj(4例および比較例 市販の水なし平版(束しぐ1〕製)を、常7ノ、(・(
−(、Y−)て両像露光し、専用の自動現像機で各(Φ
v−v 、lJ f!’4 ’jitを用いて現像した
結果はト人のとお・リ−Ct’6−、) 7’こ。、*
エツソ化学(m製 **分イ計約3[10〜400 上記の表の結果から水分が[1,[15屯量ヂ・4、満
の現像液(実験Nα1)および水分か5手−hi係を越
5ミる現像液(実験Nα6)は微小な網点の内規性7)
′021J、・、いが、水分がO,05〜5重量%(炭
化水素約86重量%)の現像液は網点の再現性にすぐれ
ていることがわかる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 基体に裏1′1ちされ/こ感光層の上にノリコーンコム
    層を設けてなるポジディプワーキング用if L水不彎
    平版印刷版用現像液において、該現像液が。 0(]55〜511代の水と1〜99重廿係の炭化水素
    を含有することを!時機とする湿し水不巷平版印刷版用
    現像液。
JP1887283A 1983-02-09 1983-02-09 湿し水不要平版印刷版用現像液 Pending JPS59146054A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1887283A JPS59146054A (ja) 1983-02-09 1983-02-09 湿し水不要平版印刷版用現像液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1887283A JPS59146054A (ja) 1983-02-09 1983-02-09 湿し水不要平版印刷版用現像液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59146054A true JPS59146054A (ja) 1984-08-21

Family

ID=11983628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1887283A Pending JPS59146054A (ja) 1983-02-09 1983-02-09 湿し水不要平版印刷版用現像液

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59146054A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0290917A2 (de) * 1987-05-12 1988-11-17 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zum Entwickeln von wasserlos druckenden Offsetplatten
EP0332070A2 (de) * 1988-03-10 1989-09-13 BASF Aktiengesellschaft Verfahren zum Entwickeln von bildmässig belichteten Flexodruckplatten
EP0463486A2 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 BASF Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung photopolymerer flexographischer Reliefdruckplatten
EP0701170A2 (en) 1994-09-07 1996-03-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate requiring no fountain solution and process for producing the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55156947A (en) * 1979-05-24 1980-12-06 Toray Ind Inc Lithographic plate preparation
JPS5713448A (en) * 1980-06-30 1982-01-23 Toray Ind Inc Developing solution for use in lithographic plate requiring no dampening water

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55156947A (en) * 1979-05-24 1980-12-06 Toray Ind Inc Lithographic plate preparation
JPS5713448A (en) * 1980-06-30 1982-01-23 Toray Ind Inc Developing solution for use in lithographic plate requiring no dampening water

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0290917A2 (de) * 1987-05-12 1988-11-17 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zum Entwickeln von wasserlos druckenden Offsetplatten
EP0332070A2 (de) * 1988-03-10 1989-09-13 BASF Aktiengesellschaft Verfahren zum Entwickeln von bildmässig belichteten Flexodruckplatten
EP0463486A2 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 BASF Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung photopolymerer flexographischer Reliefdruckplatten
EP0701170A2 (en) 1994-09-07 1996-03-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate requiring no fountain solution and process for producing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4076536A (en) Dry photopolymer imaging article having a diazonium salt and epoxide copolymer
DE7416173U (de) Flachdruckform
DE2852788A1 (de) Verfahren zur ausbildung eines bildes
JPS6321890B2 (ja)
US4769308A (en) Dry presensitized plate with photosensitive layer containing organotin
US5053311A (en) Direct planographic printing plate requiring no dampening
US5871883A (en) Lithographic printing plate precursor requiring no fountain solution
US5888696A (en) Planographic original plate requiring no fountain solution
JPS59146054A (ja) 湿し水不要平版印刷版用現像液
EP0112653B1 (en) Dry planographic plate
US3679479A (en) Washout-preservative for lithographic printing plates
JP4054210B2 (ja) 湿し水不要平版印刷版原版の製版方法
JPS6323544B2 (ja)
US4292396A (en) Method for improving the press life of a lithographic image having an outer layer comprising an epoxy resin and article produced by method
GB2046933A (en) Method for the prpparation of planographic printing plates
US4054732A (en) Dry photopolymer imaging process
JPS6038692B2 (ja) 感光性組成物
JP3134502B2 (ja) 水なし平版印刷版用現像液
JP2910257B2 (ja) 水なし平版印刷版用現像液
JP3496370B2 (ja) 直描型水なし平版印刷版原版
JPH1031317A (ja) レーザーダイレクト画像形成方法
JPH0534931A (ja) 水なし平版印刷版の製版方法
JP3203822B2 (ja) 水なし平版印刷版用現像液
JPS6038693B2 (ja) アジド基含有ポリオルガノシロキサン組成物
DE3811832A1 (de) Trockene, vorsensibilisierte platte und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte