JPH1031317A

JPH1031317A - レーザーダイレクト画像形成方法

Info

Publication number: JPH1031317A
Application number: JP8187791A
Authority: JP
Inventors: Toshiyoshi Urano; 年由浦野; Etsuko Hino; 悦子檜野
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1996-07-17
Filing date: 1996-07-17
Publication date: 1998-02-03

Abstract

(57)【要約】【課題】高感度であり、かつ画像再現性に優れた画像
形成方法を提供する。【解決手段】支持体上に、少なくとも近赤外吸収剤を
含有する感光性層を有するレーザーダイレクト画像形成
材料を、基盤上に固定し、近赤外レーザー光線を用いて
画像様に走査露光を行い、露光部分の感光性層をアブレ
ーションさせることにより除去し、支持体上に感光性画
像を形成させるレーザーダイレクト画像形成方法におい
て、該基盤を構成する基材の熱伝導率が０．２Ｗ／ｍＫ
以下であることを特徴とするレーザーダイレクト画像形
成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル画像デー
タから近赤外半導体レーザーを用い、直接、平版印刷
版、印刷校正用カラー画像（プルーフ）、グラビア、あ
るいは配線板用銅エッチングレジスト、カラーフィルタ
ー等を提供するレーザーダイレクト画像形成方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、近赤外半導体レーザー及びコンピ
ュータを用いるデジタル画像処理技術の進歩に伴い、コ
ンピュータ上で形成されたデジタル画像データから印刷
版用銀塩フィルムを用いることなしに直接画像を形成さ
せる技術、特に直接感光性平版印刷版上に近赤外半導体
レーザーで走査露光を行い、露光部分を不溶化した後水
溶液現像処理（湿式現像処理）により画像を形成し製版
する、あるいは露光部分を劣化させ、又は昇華、溶融さ
せ除去する（乾式現像処理）ことにより画像を形成し製
版する、レーザーダイレクト製版技術が注目されてい
る。特に、水と印刷インクのバランスを考える必要が無
く、印刷操作が容易で、印刷初期の損紙が少なく、印刷
時間の短い、湿し水不要デジタル印刷システムは、デジ
タル画像データから短時間で容易に印刷物を作製するこ
とが出来るため、新しい印刷システムとして期待されて
いる。

【０００３】該湿し水不要デジタル印刷システムに使用
される、レーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷
版に関しては、種々の試みがなされているが、例えば、
（イ）支持体上に感光性層、シリコーンゴム層をこの順
に塗設し、感光性層の露光部のアブレーションにより生
ずる熱に応答して、シリコーンゴム層を、同時に溶融、
揮発あるいは燃焼等により除去するもの（特開平７−１
６４７７３、同６−１８６７５０、同６−１９９０６
４、同７−３０９００１）、（ロ）感光性層の露光部の
アブレーションにより生ずる熱に応答して、シリコーン
ゴム層を劣化させ、支持体との接着性を低下させた後擦
り取るもの（特開平６−５５７２３、同６−５５８６
９、同６−９２０５０）、（ハ）シリコーンゴム層を設
けた支持体上に、インク着肉性のトナー画像を電子写真
法により形成させるもの（特開昭５１−６６００８）等
が知られている。これらのうち（イ）の方式が、画像形
成処理が最も簡便であり、また通常画質もより優れたも
のが得られ易いのでより好適と考えられている。

【０００４】しかしながら、上記（イ）の方式のアブレ
ーションを利用するレーザーダイレクト湿し水不要感光
性平版印刷版は、感度が低いため、大出力の半導体レー
ザーを多数必要とし、また、レーザー露光部工程に長時
間を要するという問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高感度であ
り且つ画像再現性に優れたレーザーダイレクト画像形成
方法を提供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、支持体
上に、少なくとも近赤外吸収剤を含有する感光性層を有
するレーザーダイレクト画像形成材料を、基盤上に固定
し、近赤外レーザー光線を用いて画像様に走査露光を行
い、露光部分の感光性層をアブレーションさせることに
より除去し、支持体上に感光性画像を形成させるレーザ
ーダイレクト画像形成方法において、該基盤を構成する
基材の熱伝導率が０．２Ｗ／ｍＫ以下であることを特徴
とするレーザーダイレクト画像形成方法に存する。

【０００７】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明に用いられる基盤は断熱性であって、感光性層に吸
収されたレーザー光のエネルギーにより発生した熱が基
盤を伝わり拡散することを防ぎ、感光性層及びシリコー
ンゴム層のアブレーションの効果を高める機能を有す
る。本発明に用いられる基盤は以下詳細に説明する如
く、基盤の構成の中心要素となる基材（以下、単に基材
と称す）自体で使用することもできるが、支持体の物理
強度を確保する目的で、該基材とその感光性層側の表面
（以下、単に表面という）及び／又は裏面に設けられた
補強層とから成るもの（以下、複合基盤と称す）も用い
られる。

【０００８】前記アブレーションの効果を高める機能を
発現させる目的においては、基材は熱伝導度が低いもの
であるほど断熱性に優れ即ち熱の拡散を防ぐため好まし
い。本発明に用いられる基材としては、３００Ｋ（２７
℃）における熱伝導度が通常０．２Ｗ／ｍＫ以下のもの
であり、さらに熱拡散の防止効果を高めるために、０．
１５Ｗ／ｍＫ以下のものが好ましい。

【０００９】また、熱伝導度を低く抑え、断熱効果を高
めるために、基材の材料中に空気等の気体を含有したも
の、即ち密度の低いものが好ましく用いられる。前記断
熱効果を高めるために、基材の密度は２．０ｇ／ｃｍ³
以下が好ましく、１．５ｇ／ｃｍ³以下が更に好まし
い。該基材の具体例としては、上質紙、樹脂加工紙、コ
ート紙等の紙類；木板；合成紙；発泡ポリエチレンテレ
フタレート、発泡ポリプロピレン、発泡ポリエチレン、
発泡ポリスチレン、発泡ポリウレタン等の発泡プラスチ
ックを挙げることができるが、これらの材料の複数をラ
ミネートしたものも使用できる。これらのうち、寸法安
定性、インクに含まれる溶剤等に対する耐薬品性等の観
点から、コート紙、アート紙、樹脂加工紙、合成紙、写
真印画紙原紙、発泡ポリエチレンテレフタレート、発泡
ポリプロピレン、発泡ポリエチレン、発泡ポリウレタン
が好ましい。

【００１０】また、本発明に用いられる補強層として
は、前記基材に使用されるもの；ポリエチレンテレフタ
レート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン
等のプラスチック；アルミ板、銅板、鉄板等の金属板；
アルミ箔等の金属箔等から適宜選択して用いることがで
きる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、発
泡ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、発泡
ポリプロピレン、ポリエチレン、発泡ポリエチレン、ア
ルミ板が好ましい。

【００１１】複合基盤の場合には、複合基盤全体の熱伝
導度が低いことが重要であることは言うまでもないが、
少なくとも断熱領域を確保するために、基材自体が熱伝
導度０．２Ｗ／ｍＫ以下の断熱性を有することが必須で
あり、基材の表面に設けられた補強層も熱伝導度０．２
Ｗ／ｍＫ以下の断熱性があることが好ましい。本発明に
用いられる基材の厚さは１０μｍ〜３ｍｍ、好ましくは
２０μｍ〜１ｍｍ、更に好ましくは５０μｍ〜５００μ
ｍであるが、基材の断熱性を十分に確保するため、基材
の表面に設ける補強層より厚いことが好ましい。

【００１２】基材の表面に設ける補強層の厚さは１０μ
ｍ〜２００μｍ、好ましくは１５μｍ〜１００μｍ、更
に好ましくは２０μｍ〜６０μｍである。基材の表面に
設ける補強層が断熱性でなく、且つ著しく厚いと、断熱
性が十分に確保されず、アブレーションの効果が低下す
る傾向にある。従って、基材の表面に設ける補強層が断
熱性でない場合には、該補強層の厚さは１０μｍ〜１０
０μｍ、好ましくは１０μｍ〜６０μｍ、更に好ましく
は１０μｍ〜４０μｍである。また、基材の裏面に用い
られる補強層の厚さは１０μｍ〜１ｃｍ、好ましくは２
５μｍ〜５ｍｍである。

【００１３】本発明に用いられる好ましい複合基盤の具
体例としては、例えば５０μｍ〜５００μｍのアート
紙、上質紙、樹脂加工紙、合成紙、あるいはコート紙の
表面に、２０μｍ〜７５μｍの、発泡ポリエチレンテレ
フタレート、発泡ポリプロピレン、あるいは発泡ポリエ
チレンをラミネートしたもの、更に裏面に、２０μｍ〜
５００μｍのアート紙、上質紙、樹脂加工紙、合成紙、
コート紙、ポリエチレンテレフタレート、発泡ポリエチ
レンテレフタレート、ポリプロピレン、発泡ポリプロピ
レン、ポリエチレン、発泡ポリエチレン、アルミ、鉄、
あるいはステンレス板をラミネートしたものが挙げられ
る。

【００１４】前記の基材に補強用シートをラミネートす
る際には、ラミネートする２つのシート面のどちらか、
あるいは両方に例えば特開平２−２２５０８７号公報に
記載のウレタン樹脂等の接着剤を０．１〜１０μｍの厚
さに塗布した後、７０〜１５０℃、０．１〜５０ｋｇ／
ｃｍ²、０．１〜５０ｍ／ｓの条件にてラミネートし、
断熱性基材に補強層を形成する。

【００１５】特に本発明のレーザーダイレクト画像形成
方法に使用する画像形成材料が、感光性平版印刷版であ
って、製版後に同一の基盤上で印刷を行う場合には、該
基盤を構成する基材に、ポリエチレンテレフタレート、
発泡ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、発
泡ポリプロピレン、ポリエチレン、発泡ポリエチレン等
の適当なクッション性を有するプラスチック類を使用し
た複合基盤が、印刷版上へのインク着肉性、該インクの
紙への転写性が優れるため好ましい。

【００１６】以上詳述した通り、本発明において基材は
その物性値と層厚により基盤構成において断熱機能の主
体となるべき層を意味するが、この断熱機能が有効に発
現される限り基盤の層構成と基材との関係は当業者が想
到し得る程度の変形が可能である。例えば断熱機能を基
材と補強層とでほぼ均等に負担せしめたり、基材自身を
複合化して、統合的に本発明で特定する断熱機能を発現
せしめたり、その他必要に応じて他の層を介在せしめる
こともありえよう。本発明に用いられる上述した基盤
は、外面円筒型、内面円筒型、または平面型のレーザー
走査露光装置に装着して使用される。

【００１７】次に、本発明において用いられる支持体と
しては、通常の画像形成装置にセットできるたわみ性を
有し、印刷時にかかる荷重に耐えうるものであればいか
なるものも用いることができ、層構成も含めて特に限定
されない。例えば、コート紙などの紙類、アルミニウム
板などの金属板、あるいは、ポリエチレンテレフタレー
トなどのプラスチックフィルムを例として挙げることが
できる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、
アルミニウム板、又は、アルミニウム箔と他の複合材が
好ましく、また、該支持体は感光層及びシリコーンゴム
層のアブレーション効果を高める目的で、該基板にアル
ミニウム、クロム等の金属を蒸着させる或いは鏡面研摩
処理を施し、近赤外光に対して反射性の表面を設けるこ
とも出来る。

【００１８】該支持体の板厚は通常１０μｍ〜１００μ
ｍ、好ましくは１５μｍ〜６０μｍ、更に好ましくは２
０μｍ〜３０μｍであるが、前記基盤の断熱性を確保す
るため、基材の表面に設けられた補強層と、支持体との
厚さの合計が、通常２０μｍ〜１５０μｍ、好ましくは
２５μｍ〜１００μｍ、更に好ましくは３０μｍ〜６０
μｍである。本発明において用いられる感光性層は、近
赤外レーザー光を効率よく吸収、熱に変換し感光性層の
アブレーションを起こし感光性層を除去すると共に画像
形成材料がシリコーンゴム層を有する場合には、それに
よって生ずる熱に応答してシリコーンゴム層のアブレー
ションを誘引し、溶融、揮発あるいは燃焼させ、及び／
または、感光性層のアブレーションの際の圧力により、
これを除去せしめる機能を有する近赤外吸収剤を含有す
る。

【００１９】該近赤外吸収剤は近赤外光を吸収し、光エ
ネルギーを熱エネルギーに変換する機能を有するもので
あれが特に限定することなく用いることが出来るが、具
体的には、有機、無機の顔料、有機の色素、金属等を挙
げることが出来る。さらに具体的には、例えばカーボン
ブラック（三菱化学社の製品であるＭＡ−７、ＭＡ−１
００、ＭＡ−２２０、＃５、＃１０、デグッサ社の製品
であるカラーブラックＦＷ２、ＦＷ２０、プリンテック
スＶなど）；黒鉛；チタン、クロム等の金属；酸化チタ
ン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化バナジウム、酸化タング
ステン等の金属酸化物；チタンカーバイト等の金属炭化
物；金属ホウ化物；特開平４−３２２２１９号公報に記
載されている無機黒色顔料、アゾ系のブラック顔料、リ
オノールグリーン２ＹＳ、緑色顔料７などの黒、緑など
の有機顔料が用いられる。また、「特殊機能色素」
（池森・住谷編集、１９８６年（株）シーエムシー発
行）、「機能性色素の化学」（檜垣編集、１９８１年
（株）シーエムシー発行）、「色素ハンドブック」（大
河、平嶋、松岡、北尾編集、講談社発行）、（株）日本
感光色素研究所が１９９５年に発行したカタログ及びＥ
ｘｃｉｔｏｎＩｎｃ．が１９８９年に発行したレーザー
色素カタログ等に記載されている近赤外領域に吸収を有
する色素も用いられる。更には特開平３−９７５９０、
同９７５９１、同６３１８５、同２６５９３、同９７５
８９、特開平２−２０７４、同２０７５、同２０７６等
に記載されている近赤外領域に吸収を有する有機色素、
日本化薬社製ＩＲ８２０Ｂ等の近赤外領域に吸収を有す
る色素も用いられる。このような近赤外吸収剤のうちい
くつかを具体的に下記第１表に示す。

【００２０】

【表１】

【００２１】

【表２】

【００２２】

【表３】

【００２３】

【表４】

【００２４】

【表５】

【００２５】

【表６】

【００２６】

【表７】

【００２７】

【表８】

【００２８】

【表９】

【００２９】

【表１０】Ｓ−34 ポリメチン色素；ＩＲ−８２０Ｂ（日本火薬社製）Ｓ−35 ニグロシン色素；Colour Index Solvent Black 5 Ｓ−36 ニグロシン色素；Colour Index Solvent Black 7 Ｓ−37 ニグロシン色素；Colour Index Acid Black 2 Ｓ−38 カーボンブラック；ＭＡ−１００（三菱化学社製）Ｓ−39 一酸化チタン；チタンブラック１３Ｍ（三菱マテリアル社製）Ｓ−40 一酸化チタン；チタンブラック１３Ｂ（三菱マテリアル社製）

【００３０】

【表１１】

【００３１】

【表１２】

【００３２】

【表１３】

【００３３】これら近赤外吸収剤は、単独あるいは複数
混合し、感光性層塗布溶液中に溶解又は、分散させて配
合し、用いることができる。該近赤外吸収剤を配合する
場合、感光性層中での配合率は、全感光性層固形分の５
〜１００重量％、好ましくは１０〜９８重量％、更に好
ましくは２０〜９５重量％である。近赤外吸収剤の配合
率が著しく低いと、レーザー光を十分吸収できず、アブ
レーションの効果が低下しやすい。この場合、感光性層
の膜厚は、０．３〜５μｍ、好ましくは０．３〜３μ
ｍ、さらに好ましくは０．５〜２μｍである。また、該
近赤外吸収剤を蒸着あるいはスパッタリングにより、直
接基板上に近赤外吸収剤から成る感光性層を設けること
もできる。この場合は、膜厚として０．０１〜０．５μ
ｍ、好ましくは０．０２〜０．４μｍである。

【００３４】また、本発明の感光性層中には、必要に応
じて、該感光性層を着色し、多色カラー画像を形成する
目的で近赤外吸収剤以外の着色材料を含有させることが
できる。着色材料としては、染顔料が用いられる。色校
正の用途の場合は、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラ
ックと一致した色調の染顔料が必要となるが、この他、
金属粉、白色顔料、蛍光顔料なども用いることが出来
る。

【００３５】染顔料の具体例としては、ビクトリアピュ
アブルー（４２５９５）、オーラミンＯ（４１００
０）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック１
３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミン
Ｂ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（５０
２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、ファー
ストブラックＨＢ（２６１５０）、Ｎｏ．１２０／リオ
ノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエローＧ
ＲＯ（２１０９０）、シムラーファーストイエロー８Ｇ
Ｆ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ
（２１０９５）、シムラーファーストレッド４０１５
（１２３５５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（１５
８５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６
０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）、三菱カー
ボンブラックＭＡ−１００、三菱カーボンブラック＃４
０等が挙げられる（上記の（）内の数字は、カラーイ
ンデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する）。該着色材料の配
合率は感光性層全固形分に対して、５〜７０重量％であ
る。

【００３６】本発明で用いられる感光性層中には、上記
近赤外吸収剤の他に、塗膜性、近赤外吸収剤との相溶
性、感光性層中の膜強度、及びアブレーションの効果を
高める目的で、有機高分子物質を添加することができ
る。

【００３７】該有機高分子物質としては、例えば、（メ
タ）アクリル酸やイタコン酸等の不飽和酸と、（メタ）
アクリル酸アルキル、（メタ）アクリル酸フェニル、
（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレン、α−メチルス
チレン等との共重合体；ポリメチルメタクリレートに代
表されるメタクリル酸アルキルやアクリル酸アルキルの
重合体；（メタ）アクリル酸アルキルとアクリロニトリ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重
合体；アクリロニトリルと塩化ビニルや塩化ビニリデン
との共重合体；側鎖にカルボキシル基を有するセルロー
ス変性物；ポリエチレンオキシド；ポリビニルピロリド
ン；フェノール、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾール、及び／
又はキシレゾールとアルデヒド、アセトン等との縮合反
応で得られるノボラック樹脂；エピクロロヒドリンとビ
スフェノールＡとのポリエーテル；可溶性ナイロン；ポ
リ塩化ビニリデン；塩素化ポリオレフィン；塩化ビニル
と酢酸ビニルとの共重合体；酢酸ビニルの重合体；アク
リロニトリルとスチレンとの共重合体；アクリロニトリ
ルとブタジエン及びスチレンとの共重合体；ポリビニル
アルキルエーテル；ポリビニルアルキルケトン；ポリス
チレン；ポリウレタン；ポリエチレンテレフタレートイ
ソフタレート；アセチルセルロース；アセチルプロピオ
キシセルロース；アセチルブトキシセルロース；ニトロ
セルロース；セルロイド；ポリビニルブチラール等が用
いられる。該有機高分子物質の感光性層中における配合
率は、全感光性層固形分の０〜９５重量％、好ましくは
２〜９０重量％、さらに好ましくは５〜８０重量％であ
る。

【００３８】また上記感光性層中には、印刷インク着肉
性を高める目的で疎水性基を有する各種添加剤、例えば
ｐ−オクチルフェノール・ホルマリンノボラック樹脂、
ｐ−ブチルフェノール・ホルマリンノボラック樹脂、ｐ
−ｔ−ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジ
ン変性ノボラック樹脂等の変性ノボラック樹脂、また、
更にこれら変性ノボラック樹脂のｏ−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステル、フッ素系の界面活性剤を添加
したり、アブレーシヨンの効果を高める目的で、自己酸
化性のニトロセルロース等のニトロ化合物、硝酸ナトリ
ウム、硝酸アンモニウム等の硝酸塩、過酸化ベンゾイ
ル、過安息香酸エステル等の過酸化物、或いは発泡性の
アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル等
のアゾ化合物、Ｎ，Ｎ′−ジニトロペンタメチレンテト
ラミン等のニトロソ化合物、ｐ−トルエンスルホニルヒ
ドラジン、ｐ，ｐ′−オキシビス（ベンゼンスルホヒド
ラジン）等のスルホニルヒドラジド化合物等を感光性層
の全固形分に対し０．１〜５０重量％、好ましくは０．
２〜２０重量％、さらに好ましくは０．５〜１０重量％
添加して用いることが出来る。

【００３９】また、本発明の感光性層には、アブレーシ
ョンの効率を高める目的で炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、酸化ジルコニウム、カリオン等の熱電伝性の低
い５μｍ以下の微粒子を含有させたり、感光性層の膜強
度を高める為に、上記の微粒子の他に、酸化ケイ素、酸
化チタン等の微粒子を含有させることが出来る。該微粒
子の配合率は、感光性層の全固形分の０〜５０重量％、
好ましくは０〜２５重量％である。

【００４０】本発明に用いられるシリコーンゴム層は、
前記した特開平７−１６４７７３号公報等に記載されて
いるような公知のものから適宜選択できるが、以下に説
明する、縮合反応によりシリコーンゴム層組成物を硬化
させる縮合架橋タイプのものが好ましく用いられる。

【００４１】本発明において用いられる縮合架橋タイプ
のシリコーンゴム層は、両末端に水酸基を有する線状オ
ルガノポリシロキサンと該オルガノポリシロキサンと架
橋しシリコーンゴム層を形成させる反応性シラン化合物
を必須成分として含むものである。本発明で用いられる
両末端に水酸基を有する線状オルガポリシロキサンとし
ては、下記一般式（Ｉ）の線状オルガノポリシロキサン
が挙げられる。

【００４２】

【化１】

【００４３】（式中、２つのＲ¹は各々独立して、水素
原子、メチル基、フェニル基、ビニル基を示し、ｙは１
以上の整数を示す。）上記一般式（Ｉ）で表される化合物のうちＲ⁷がメチル
基であるものが好ましい。該オルガノポリシロキサンの
重量平均分子量（以下、Ｍｗと略す）は５，０００〜
１，０００，０００であり、好ましくは１０，０００〜
１，０００，０００である。Ｍｗが著しく低いとシリコ
ーンゴム層の膜強度が低下し、耐印刷性が低くなり、ま
たＭｗが著しく高いとアブレーションによるシリコーン
ゴム層の除去効果が低下し、感度低下、画像再現性の低
下を起こしやすい。

【００４４】また、本発明に用いられる反応性シラン化
合物は、前記両末端に水酸基を有する線状オルガノポリ
シロキサンの水酸基と反応し、脱酢酸型、脱オキシム
型、脱アルコール型、脱アミノ型あるいは脱水型等の縮
合を起こし架橋することができる官能基を、少なくとも
２つ以上有する分子量２，０００以下の反応性シラン化
合物である。該官能基としては、具体的には例えば、下
記各式で表される官能基が挙げられる。

【００４５】

【化２】

【００４６】（式中、Ｒ²は炭素数１〜５のアルキル基
を示すが同一原子団に２個のＲ²がある場合、それぞれ
は同一でも異なっていても良い。）これらのうち、官能基がアシルオキシ基（−ＯＣＯ
Ｒ²）で官能基数が３以上のもの、あるいは官能基がア
ルコキシ基（−ＯＲ²）で官能基数が３以上のものは、
塗布後の乾燥処理後において短時間にシリコーンゴム層
を形成するため好ましい。更に好ましくは、官能基がア
セトキシ基で官能基数が３以上のもの、あるいは官能基
がアルコキシ基で官能基数が６以上のものである。

【００４７】該反応性シラン化合物としては例えば下記
一般式（II) 〜（Ｖ）で表される化合物を挙げることが
できる。式中Ｑは前記した両末端に水酸基を有する線状
オルガノポリシロキサンの水酸基と反応する官能基から
選ばれたものを表し、Ｑは１分子中に少なくとも２個有
するものとする。

【００４８】

【化３】

【００４９】（式中、Ｘは炭素数１〜５のアルキル基、
フェニル基、ビニル基、Ｈ₂Ｎ−（ＣＨ₂）_h−、ＣＨ
₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯ−、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯ−、

【００５０】

【化４】

【００５１】を示し、Ｒ²は前記と同様に炭素数１〜５
のアルキル基を示し、Ｒ³はアリル基又は−（ＣＨ₂）
_q−ＳｉＲ² _3-pＱ_pを示し、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１
〜５のアルキル基、又はフェニル基を示すが、Ｒ²、Ｒ
³、Ｒ⁴のそれぞれが同一分子内に複数存在する場合、
その複数個のそれぞれは同一でも異なっていても良く、
ｈ、ｊ及びｑは各々１〜５の整数を示し、ｐ及びｒは各
々１〜３の整数を示し、ｓは２〜４の整数を示し、ｔ及
びｕは各々０〜５の整数を示す。）本発明に用いられる反応性シラン化合物について第２表
にさらに具体的な例を挙げるが、これら例示されるもの
に限定されるものではない。

【００５２】

【表１４】

【００５３】

【表１５】

【００５４】

【表１６】

【００５５】本発明に使用される縮合架橋タイプのシリ
コーンゴム層は、上記の両末端に水酸基を有するオルガ
ノポリシロキサンと反応性シラン化合物の縮合架橋反応
の反応効率を高めるため、有機カルボン酸、チタン酸エ
ステル、錫酸エステル、アルミ有機エーテル、白金系触
媒等の縮合触媒を適宜混合させ縮合反応を行い硬化させ
る。

【００５６】本発明において用いられる両末端に水酸基
を有するオルガノポリシロキサン、反応性シラン化合物
及び縮合触媒のシリコーンゴム層中での配合率は、全シ
リコーンゴム層の固形分に対し、両末端水酸基を有する
オルガノポリシロキサンが８０〜９８重量％、好ましく
は８５〜９８重量％、反応性シラン化合物が、通常２〜
２０重量％、好ましくは２〜１５重量％、さらに好まし
くは２〜７重量％、縮合触媒が０．０５〜５重量％、好
ましくは０．１〜３重量％、さらに好ましくは０．１〜
１重量％である。

【００５７】反応性シラン化合物、或いは、縮合触媒の
割合が著しく高いとインク反撥性が低下し、また、アブ
レーション時のシリコーンゴム層の除去が困難になり、
感度及び画像再現性が低下する。また、反対に著しく低
いとシリコーンゴム層の膜強度が低下し、印刷耐久性が
低下する。

【００５８】本発明に使用される縮合架橋タイプのシリ
コーンゴム層には、シリコーンゴム層のインク反撥性を
高めるために、上記の両端に水酸基を有するポリオルガ
ノシロキサン以外のポリシロキサンをシリコーンゴム層
全固形分に対し、２〜１５重量％、好ましくは３〜１２
重量％含有させることが出来る。該ポリシロキサンとし
ては例えば、両末端がトリメチルシリル化されたＭｗ１
０，０００〜１，０００，０００のポリジメチルシロキ
サン等が挙げられる。

【００５９】本発明に用いられるシリコーンゴム層に
は、その強度を向上させる目的で、シリカ、酸化チタ
ン、酸化アルミニウムなどの無機質充填剤を添加しても
良く、特にシリカが好ましく用いられる。このような充
填剤としては分散性あるいは分散安定性の点から平均粒
子径５００μｍ以下のものが好ましい。

【００６０】本発明に用いられるシリコーンゴム層は印
刷インク反撥性、耐印刷性に優れ、さらにアブレーショ
ンにより容易に除去され、高感度で、高い画像再現性を
与える機能を有する。該シリコーンゴム層の引掻傷強度
は１０〜１００ｇであることが好ましい。ただし、引掻
傷強度とは、０．２ｍｍのサファイア針を印刷版上に加
重を加えながら１０ｃｍ／分のスピードで移動させた
際、引掻傷が発生するために必要な加重（ｇ）を表す。
引掻傷強度が上記範囲であれば、印刷インク反撥性、耐
印刷性、感度、画像再現性等の印刷適性が良好となる。
本発明において用いられるシリコーンゴム層の膜厚は
０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜５μｍ、さらに
好ましくは０．３〜２μｍである。

【００６１】以上に記載した感光性層組成物、シリコー
ンゴム層組成物は、適当な溶剤に溶解して溶液となし、
これを支持体にワイヤーバー、スピナー、ロールコータ
ー等の各種の塗布装置により前記基板上に塗布した後、
乾燥して、それぞれ感光性層、シリコーンゴム層を形成
することができる。感光性層の塗布溶剤としては、例え
ばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル等の
エステル類、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼ
ン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、トリクロロエタ
ン等の炭化水素やハロゲン化炭化水素類、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、さらにはプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、ベントキソン、ジメチルホルムアミド
など常用のものを用いることが出来、シリコーンゴム層
の塗布溶剤としては、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、
石油エーテル、脂肪族炭化水素系溶剤エクソン化学
（株）製：アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ及びこれらの溶剤と上
記の感光性層塗布溶剤との混合溶媒等を用いることが出
来る。

【００６２】また、必要に応じて、シリコーンゴム層を
保護する目的で、最外層としてポリプロピレンシート、
ポリエチレンシート、離型処理ポリエチレンテレフタレ
ート等の各種離型性プラスチックシート、離型処理紙、
アルミ、鉄、銅等の金属シート等をシリコーンゴム上に
ラミネートして設けることができる。上記の感光性層あ
るいはシリコーンゴム層を支持体上に設けた画像形成材
料は、予め、断熱性の基盤を装着した外面円筒型、内面
円筒型、または平面型のレーザー走査露光装置に固定
し、通常６８０〜１１００ｎｍの近赤外光を発振する半
導体レーザー光を５〜３０μｍに集光したビームスポッ
トにより走査露光を行い、露光部分の感光性層あるいは
シリコーンゴム層をアブレーションさせて除去し、支持
体上に、レジスト画像、色材画像、あるいは印刷版画像
を形成させる。該画像形成材料は後処理なしでも使用で
きるが、該露光済みの画像形成材料上に付着した、アブ
レーションで発生した感光性層あるいはシリコーンゴム
層の微粒子を除去する目的で、画像形成材料の表面を必
要に応じ、水、水溶液、又は有機溶剤を供給しながら、
ブラシ、パッド、超音波、スプレー等の物理刺激を与え
る後処理を行っても良い。

【００６３】また、該アブレーションで発生した微粒子
を除去する他の方法としては、該微粒子に対して接着性
の高い表面を有するカバーシートを露光済の画像形成材
料の上に、画像形成材料の感光面と接着性のカバーシー
ト表面が合わさるようにラミネートした後、剥離する方
法や露光前に、該カバーシートであってレーザー光を通
過させるカバーシートを上記と同様にラミネートし、露
光後に剥離、画像形成材料上の微粒子を除く方法、等が
挙げられる。該カバーシートとしては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、紙
等の基版上に、シリコーンゴム、アイオノマー、酢酸ビ
ニル等の粘着層を必要に応じて設けたものが挙げられ
る。

【００６４】

【実施例】以下に本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。実施例１〜７、比較例１〜２厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートシート上
に、下記組成の感光性層組成物を塗布した。

【００６５】〔感光性層組成物〕近赤外吸収剤：Ｓ−４１（第１表に記載の化合物）６０重量部有機高分子物質：フェノキシ樹脂（ＰＫＨ−Ｊ、ユニオンカーバイド社製）４０重量部塗布溶媒：シクロヘキサノン９００重量部塗布後、８５℃で３分間乾燥し、乾燥膜厚１．５μｍの
感光層を設けた。続いて該感光性層上に下記組成のシリ
コーンゴム層組成物を塗布した。

【００６６】〔シリコーンゴム層組成物〕両末端に水酸
基を有する線状オルガノポリシロキサン：下式の化合物
（ｙは１以上の整数を示す）

【００６７】

【化５】

【００６８】反応性シラン化合物：第３表に記載の化合物第３表に記載の配合量縮合触媒：ジブチル錫ジラウレート０．８重量部塗布溶媒：アイソパーＥ（エクソン化学社製）９００重量部塗布後、１００℃で４分間乾燥し、乾燥膜厚１μｍのシ
リコーンゴム層を設け感光性印刷版を作製した。

【００６９】該感光性印刷版を、円周２０ｃｍのアルミ
製の回転ドラム上に、表３に記載の基盤をラミネート
し、該ドラム上に感光性試料をシリコーンゴム層が外側
になるように固定し、ドラムを回転させた。次に回転し
ている印刷版上に、８３０ｎｍ、３０ｍＷの半導体レー
ザー光（日立製作所社製、ＨＬ８３２５Ｇ）を、ビーム
径２０μｍに集光させ、走査露光を行った。続いて以下
の項目について評価を行った。その結果を第３表に示
す。

【００７０】〔感度〕各種回転数で回転ドラムを回転
させながら、試料を走査露光させた後、該印刷版を４０
０倍の顕微鏡で観測し、レーザー露光部分のシリコーン
ゴム層が、除去される最高走査速度（ｃｍ／ｓ）によ
り、感度の評価を行った。走査速度が高いほど高感度で
あることを表す。

【００７１】〔画像再現性〕最高走査速度によるレーザ
ー光の走査露光で形成される細線画像を４００倍の顕微
鏡で観察し、細線画像のエッジ部分に残るシリコーンゴ
ム層残渣によるフリンジの大きさにより画像再現性を評
価した。Ａ：細線画像のエッジ部分のフリンジ幅が２．０μｍ未
満であった。Ｂ：細線画像のエッジ部分のフリンジ幅が２．０μｍ以
上３．０μｍ未満であった。Ｃ：細線画像のエッジ部分のフリンジ幅が３．０μｍ以
上５．０μｍ未満であった。Ｄ：細線画像のエッジ部分のフリンジ幅が５．０μｍ以
上であった。

【００７２】

【表１７】

【００７３】第３表中、基盤の欄の略号は、それぞれ以
下の基盤を表す。Ｋ−１；厚さ１００μｍ、密度１．１ｇ／ｃｍ³のアー
ト紙の両面に、厚さ３５μｍ、密度１．２ｇ／ｃｍ³の
発泡ポリエチレンテレフタレートシートをラミネートし
たものＫ−２；厚さ１００μｍ、密度１．１ｇ／ｃｍ³のアー
ト紙の表面に、厚さ２５μｍ、密度０．９４ｇ／ｃｍ³
のポリプロピレンシートをラミネートしたもの

【００７４】Ｋ−３；厚さ１００μｍ、密度１．１ｇ／
ｃｍ³のアート紙Ｋ−４；厚さ１００μｍ、密度１．１ｇ／ｃｍ³のアー
ト紙の表面に、厚さ３０μｍ、密度１．２ｇ／ｃｍ³の
発泡ポリエチレンテレフタレートシートを、裏面に、厚
さ３５μｍ、密度１．６ｇ／ｃｍ³のポリエチレンテレ
フタレートシートをラミネートしたものＫ−５；厚さ１００μｍ、密度１．６ｇ／ｃｍ³のポリ
エチレンテレフタレートシートＫ−６；厚さ３００μｍ、密度２．７ｇ／ｃｍ³のアル
ミ板なお、基材の熱伝導度は以下の文献に基づく。

【００７５】アート紙の３００Ｋ（２７℃）における熱
伝導度：０．１４Ｗ／ｍＫ（化学便覧基礎編II改訂４版
第７０頁、１９９３年、丸善発行）ポリエチレンテレフタレートの３００Ｋ（２７℃）にお
ける熱伝導度：０．２９Ｗ／ｍＫ（プラスチックデータ
ハンドブック第６７頁、１９８０年、工業調査会発行）

【００７６】アルミ板の３００Ｋ（２７℃）における熱
伝導度：２３７Ｗ／ｍＫ（化学便覧基礎編II改訂４版第
６８頁、１９９３年、丸善発行）第３表中、反応性シラン化合物の欄の略号（Ｓｉ１、Ｓ
ｉ４、Ｓｉ２１、Ｓｉ２３）は、それぞれ第２表に挙げ
た化合物を表す。

【００７７】

【発明の効果】本発明により、高品質な色材画像を形成
させる高感度なレーザーダイレクト画像形成方法を提供
することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０６Ｇ０３Ｆ 7/075 ５０１ 7/075 ５０１５２１５２１ 7/09 ５０１ 7/09 ５０１Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｓ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、少なくとも近赤外吸収剤を
含有する感光性層を有するレーザーダイレクト画像形成
材料を、基盤上に固定し、近赤外レーザー光線を用いて
画像様に走査露光を行い、露光部分の感光性層をアブレ
ーションさせることにより除去し、支持体上に感光性画
像を形成させるレーザーダイレクト画像形成方法におい
て、該基盤を構成する基材の熱伝導率が０．２Ｗ／ｍＫ
以下であることを特徴とするレーザーダイレクト画像形
成方法。
【請求項２】支持体上に、該支持体から少なくとも近
赤外吸収剤を含有する感光性層、及びシリコーンゴム層
をこの順に有するレーザーダイレクト感光性平版印刷版
を、基盤上に固定し、近赤外レーザー光線を用いて画像
様に走査露光を行い、露光部分の感光性層をアブレーシ
ョンさせることにより除去し、支持体上に感光性画像を
形成させるレーザーダイレクト画像形成方法において、
該基盤を構成する基材の熱伝導率が０．２Ｗ／ｍＫ以下
であることを特徴とするレーザーダイレクト画像形成方
法。
【請求項３】前記シリコーンゴム層が、シリコーンゴ
ム層の全固形分に対し８０重量％以上９８重量％未満
の、両末端に水酸基を有する線状オルガノシロキサン
と、シリコーン層の全固形分に対し２重量％以上２０重
量％未満の、反応性シラン化合物を含有することを特徴
とする請求項２に記載のレーザーダイレクト湿し水不要
感光性平版印刷版。
【請求項４】前記シリコーンゴム層の引掻傷強度が１
０〜１００ｇであることを特徴とする請求項２及び３に
記載のレーザーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷
版。
【請求項５】前記基材の密度が２．０ｇ／ｃｍ³以下
であることを特徴とする請求項１乃至４に記載のレーザ
ーダイレクト湿し水不要感光性平版印刷版。