JPH1034868A - 湿し水不要平版印刷版の形成方法 - Google Patents

湿し水不要平版印刷版の形成方法

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JPH1034868A
JPH1034868A JP8214232A JP21423296A JPH1034868A JP H1034868 A JPH1034868 A JP H1034868A JP 8214232 A JP8214232 A JP 8214232A JP 21423296 A JP21423296 A JP 21423296A JP H1034868 A JPH1034868 A JP H1034868A
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    • Y10S430/145Infrared

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザー記録でき、少量の液体を使用して摩
擦するだけで、解像力、印刷性能を満足する画像を形成
できる、湿し水不要平版印刷版の形成法を提供する。 【解決手段】(1)支持体上に、レーザー光を熱に変換
する第1層、インキ反発性の表面を有する第2層をこの
順に積層してなる湿し水不要平版印刷原版を、用意する
工程、(2)第1層が吸収可能なレーザー光を照射し露
光する工程、及び(3)表面張力が25〜50dyn/
cm2 の液体を第2層表面に付与して、第2層を摩擦す
ることにより、露光された部分の第2層を選択的に除去
して、湿し水を必要としない印刷を可能とする画像を形
成する工程を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光によるヒ
ートモード記録によって、湿し水を必要としない印刷が
できる平版印刷版を形成するための方法に関する。な
お、本明細書中では、平版印刷原版(もしくは水なし原
版)とはインク受容部と非インク受容部の画像パターン
が形成されていない状態の画像記録する前の版材と意味
し、平版印刷版(もしくは水なし平版)とはインク受容
部と非インク受容部の画像パターンが形成されており、
そのまま印刷にかけられる版材を意味する。
【0002】
【従来の技術】印刷を行うための印刷版の手法には、活
版印刷、グラビア印刷および平版オフセット印刷などが
伝統的な手法として知られている。近年、特殊な分野を
除いては平版を用いる印刷が増加している。この平版オ
フセット印刷においては、プレート表面の親水性、親油
性の画像パターンを形成し湿し水を用いる水あり平版
と、プレート表面にインキ反発性、インキ受容性の画像
パターンを形成し湿し水を用いない水なし平版とが知ら
れている。このうち水なし平版は、湿し水を用いないた
めに印刷作業に熟練を要しないこと、インキ濃度が印刷
初期から安定し損紙が少なく少部数の印刷を行う場合に
も経済的であるなど水あり平版に対して有利な特徴を持
っている。
【0003】さて、コンピューター技術の進展により、
従来手作業で行われていた印刷の前工程である製版工程
がデジタル化され、印刷の画像がデジタルデーター化さ
れてきている。このデジタルデーターからリスフイルム
を介さず直接印刷版材料を形成する技術(コンピュータ
ー・ツ−・プレート技術)が近年進展してきている。し
かしこれらの技術は、水あり平版を形成するものが多く
提供されているが、それに対して、水なし平版を形成で
きる技術は極めて少ないのが実状である。
【0004】その少ない技術の中で、レーザー書き込み
により水なし平版を形成できる例としては、特公昭42
−21879号公報にその最も古い開示がある。これに
はインキ反発性のシリコーン層をレーザー照射により一
部除去してインク付着性とし水なし印刷することが記載
されている。しかし、レーザー照射部のシリコーンが版
面全体に飛散し印刷時に不都合を起こしたり、レーザー
照射だけではシリコーン層が十分除去されないため、印
刷が進むに従ってインキ付着部の面積が増大する(ドッ
トゲインする)などの問題があった。
【0005】さらに、特開昭50−158405号公報
には、シリコーンゴム表面層を有する印刷原版に赤外光
レーザーであるYAGレーザーを照射し、ナフサを原版
に付与して現像することでレーザー照射部を除去して水
なし平版を形成することが開示されている。また、19
80年4月のReserch Disclosure19201にはポリエ
ステルフイルム上にビスマス層を設け、この上にシリコ
ーン層を設けた印刷原版に、アルゴンレーザー照射した
後、膨潤剤としてのn−ヘキサンをシリコーンゴム層に
付与するため、30秒間そのレーザー被照射版をn−ヘ
キサンに浸漬して現像することが記載されている。これ
らは得られる版の品質が悪いなどの欠点を有している。
【0006】EP−0685333A2には、シリコー
ンゴム表面層を有する版材にYAGレーザーを照射した
後、無溶媒のドライ条件下で表面を擦ることによりレー
ザー照射部を除去して水なし平版を形成する方法が開示
されている。ドライ処理を行うものは実施例によると、
液体を併用し処理する場合に比べて解像力が低下してし
まうことが指摘されている。また、無溶媒下で擦ること
によりシリコーンゴム表面に傷が付きやすく、この部分
に印刷インキが付着しやすくなるため印刷汚れを起こす
問題があった。また、得られた版を用いて印刷すると、
印刷枚数が進むにしたがって、インク付着の画像面積が
変化してしまうことが実施例中に記載されている。
【0007】特開平7−179052号公報には、印刷
原版をYLFレーザーで露光後、その表面を、ドライ条
件下で摩擦した後、さらに工業用洗剤の1%希釈水で湿
潤した綿パッドで摩擦する2段階現像を行う事例が記載
されている。この方法は、ドライ摩擦を行うためシリコ
ーンゴムがキズ付きやすく印刷汚れにないやすいばかり
でなく、2段階の現像工程が必要であるという欠点を有
していた。
【0008】USP5378580には、シリコーンゴ
ム表面層を有する版材に、YAGレーザーを照射した
後、イソプロピルアルコールを与えながら、レーザー照
射部を擦りにより除去して水なし平版を形成する方法が
開示されている。この方法では、印刷枚数が進むにした
がって、インク付着の画像面積が変化してしまうことが
実施例中に記載されている。
【0009】このように、従来知られている、摩擦によ
る現像処理はいずれも何らかの問題点を有していた。
【0010】また、上記のような従来の印刷原版の大半
は、レーザー記録後の版を処理液に浸漬して現像処理す
る必要があったため、レーザー画像記録と現像処理と印
刷の3工程のためにそれぞれ別の機器(レーザー書き込
み機、自動現像機および印刷機)が必要であった。この
ため、この3つの機器の間で印刷版の掛け替え等、必然
的に人手を介したマニュアル作業を必要とし、このマニ
ュアル作業が位置ずれ(レジずれ)等の不都合な問題を
発生させていた。それに対し、現像処理時に、多量の液
体を用いて浸漬などして処理するのではなく、比較的少
量の液体を版材表面に付与してその表面を磨耗すること
で処理すれば、現像処理部をコンパクトに設計できるば
かりでなく、レーザー書き込み、現像処理、印刷を同一
の機器で行う合理的な印刷システムが実現可能となる。
すなわち、印刷機の版胴上で、レーザー記録と現像処理
とを行うことで版の掛け替えプロセスが不要となり、時
間、工程の削減ができるばかりでなく、位置ずれの問題
も発生することがないため極めて合理的な印刷プロセス
が実現できるのである。
【0011】すなわち、湿し水不要平版印刷版の形成方
法は、上述した形態で実行される場合に、最も実用上の
価値が高いのであるが、このような比較的少量の液体を
用いて摩擦する場合に、従来、開示されている溶媒(ナ
フサ、ヘキサン、イソプロピルアルコール、水)を用い
る限りにおいては、十分な品質の水なし平板を得ること
はできなかったのである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、レーザ
ーにより水なし平版を形成する方法は、従来いくつか提
案されているが、解像力や印刷性能等の性能上の問題を
いまだに十分満足させていない。比較的少量の液体の使
用で上記を満足する現像処理方法も実現されていない。
また、レーザー書き込みと現像処理、印刷とが同一の機
器で実行できる合理的な印刷システムの実現することが
期待されている。
【0013】かくして、本発明の目的は、レーザー記録
でき、解像力、印刷性能を満足する水なし平版の形成法
を提供することにある。また、本発明の別の目的は、少
量の液体液を使用して摩擦するだけで、解像力の良好な
レーザー記録できる、水なし平版の形成法を提供するこ
とにある。本発明の他の目的は、レーザー書き込みと印
刷とを同一の機器で実行できる合理的な水なし平版印刷
システムに好適な、水なし平版の形成法を提供すること
にある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、レーザー
書き込みできる水なし平版の作成方法について鋭意検討
を行った結果、上記の目的は、下記の湿し水不要平版印
刷版の形成方法により達成された。即ち、湿し水を必要
としない印刷を可能とする画像を有する湿し水不要平版
印刷版の形成方法であって、(1) 支持体上に、レー
ザー光を熱に変換する第1層、インキ反発性の表面を有
する第2層をこの順に積層してなる湿し水不要平版印刷
原版を、用意する工程、(2) 第1層が吸収可能なレ
ーザー光を照射し露光する工程、及び(3) 表面張力
が25〜50dyn/cm2 の液体を第2層表面に付与
して、第2層を摩擦することにより、露光された部分の
第2層を選択的に除去して、湿し水を必要としない印刷
を可能とする画像を形成する工程、を有する、湿し水不
要平版印刷版の形成方法である。本発明において、「第
1層」は、この層に露光された光を熱に変換し、その熱
に基づいて、支持体に対する第2層の密着性( 保持力)
を低下させる機能を有する層である。なお、本明細書に
いう密着性は、第1層等の層を介した間接的な接着性能
を含んでいる。本発明において、「第2層」は、湿し水
不要平版印刷版においてインキが実質的に付着されず非
印刷画像部として機能するインク反発性表面を有する層
である。上記方法の幾つかの好ましい態様は、以下のと
おりである。 ・第2層表面に付与する液体の沸点が90℃以上であ
る、上記湿し水不要平版印刷版の形成方法。 ・第2層表面に付与する液体の量が200ml/cm2
である、上記湿し水不要平版印刷版の形成方法。 ・第2層がシリコーンゴムを主成分とする層である湿し
水不要平版印刷原版を使用する上記湿し水不要平版印刷
版の形成方法。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の湿し水不要平版印刷版の形成方法においては、
まず、支持体上にレーザー光を熱に変換する第1層、イ
ンキ反発性の表面を有する第2層をこの順に積層してな
る湿し水不要平版印刷原版を、用意する。この水なし原
版において、第1層は支持体とインク反発性の第2層と
の間に形成されている。第1層と第2層との間や、支持
体と第1層との間に、第1層や第2層の機能を許容可能
な範囲で発揮させる限り、任意の層が存在してもよい。
第1層、第2層は、前記した特性を有すれば任意の材質
が利用できるが、その好ましい代表例は、第1層は、有
機顔料や有機色素であり、第2層は、シリコーンゴム層
である。このように両層の好ましい材質は存在するが、
本発明は、広義には、それらの層を特別の種類にものに
限定する意図はないので、第1層、第2層の詳しい説明
は、支持体の説明を含めて、後ろに掲載する。用意され
た水なし原版は、そこにレーザー光が照射されると第1
層でレーザーエネルギーが吸収され、光を熱に変換する
第1層はレーザー照射によって(好ましくはできるだけ
急速に)昇温し、それに基づき、第1層の一部もしくは
全体、及び/又は第2層の一部もしくは全体の燃焼、融
解、分解、気化、爆発(アブレーション)等の化学反応
や物理変化が引き起こされ、その結果として、実質的に
レーザーを照射した区域内で、且つ、支持体とインク反
発性の第2層の間のいずれかの部分(界面や層内)で、
密着性又は一体性が低下し、結果的に、支持体に対する
第2層の密着性( 保持力) が低下する。実質的にレーザ
ーを照射した区域のみで、このような密着性の低下が生
じるため、レーザー照射後に第2層表面に摩擦などの外
力を加えることで、インク反発性表面を有する物質を選
択的に除去できる。本発明の方法では、次の必須工程と
して、第1層が吸収可能なレーザー光を照射し画像露光
する工程を実施する。このようなレーザー光を照射する
と、前記水なし原版を利用しているので、レーザー光の
エネルギーが、水なし原版の第1層において吸収されて
熱エネルギーに変換され、これに起因して、実質的にレ
ーザー光の照射された部分で、支持体とインク反発性の
表面を有する第2層との間での密着性(保持力)が低下
する。こうして、ヒートモード記録がなされる。即ち、
潜像としての画像が、レーザー光のエネルギーに基づく
熱によって形成される。多くの場合、レーザー照射部の
第2層は、破損、飛散せずレーザー照射後もあいかわら
ず水なし原版表面に保持されるが、その下層との密着性
は大きく低下しており容易に摩擦などの外力で除去でき
る状態になる。(実施例参照)
【0016】水なし原版を露光するのに使用するレーザ
ーは、後工程で第2層の除去を可能とする密着力低下を
起こすのに必要な波長および露光量を与えるものであれ
ば特に制限はない。なお、本発明の方法では、後述する
ように第2層がよりスムーズに除去可能であるので、利
用するレーザーの波長および露光量に関して、従来より
も融通性が生ずる。使用するレーザーの具体的には、A
rレーザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレーザー、
YAGレーザーのような固体レーザー、そして半導体レ
ーザーなどが使用できる。通常出力が100mWクラス
以上のレーザーが必要となる。保守性、価格などの実用
的な面からは、半導体レーザーおよび半導体励起の固体
レーザー(YAGレーザーなど)が好適に使用される。
レーザーは、主に熱を発生させる目的で使用するので、
記録波長としては赤外線の波長領域が好ましく利用で
き、通常は、800nmから1100nmの発振波長を
利用すればよい。
【0017】本発明の方法では、次の必須工程として、
レーザー照射後にインク反発性の第2層表面に、表面張
力が25〜50dyn/cm2 の液体を付与して、第2
層を摩擦することにより露光部の第2層を選択的に除去
する工程を実施する。本発明の方法の主な特徴は、表面
張力が25〜50dyn/cm2 の液体を利用すること
である。レーザー照射部の第2層は、支持体に対する密
着性が低下しているが、特に上記液体を利用することに
よって、実質的にその部分のみが、摩擦によって、容易
且つ速やかに選択的に除去され、解像度が向上する.
【0018】表面張力は、表面積を単位量だけ増加させ
る時の仕事に等しく、単位表面積あたりの表面ギブスエ
ネルギーに等しい物理量である。表面張力の測定は厳密
には液体とその蒸気が接触する界面について定義される
が、一般には、その蒸気を含む空気との界面について測
定される。本発明においては、空気との界面について測
定された値を表面張力として採用する。また、表面張力
は温度により変化するが本発明においては25℃におけ
る表面張力を示すものとする。
【0019】25℃における表面張力が25〜50dy
n/cm2 の液体としては、下記の液体が例示される。
メトキシエタノール(31.8dyn/cm2 )、2−
エトキシエタノール(28.2dyn/cm2 )、2−
ブトキシエタノール(27.4dyn/cm2、2−フ
ェノキシエタノール(45.6dyn/cm2 )、ジエ
チレングリコール(47dyn/cm2 )、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル(34.8dyn/cm
2 )、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(3
1.8dyn/cm2 )、ジエチレングリコールモノブ
チルエーテル(33.6dyn/cm2)、トリエチレ
ングリコール(48dyn/cm2 )、、1−メトキシ
−2−プロパノール(27.1dyn/cm2 )、1−
エトキシ−2−プロパノール(25.9dyn/c
2 )、エチレングリコール(45.5dyn/c
2 )などのグリコール類、1,3−ブタンジオール
(37.8dyn/cm2 )、シクロヘキサノール(3
4dyn/cm2 )、2−メチルシクロヘキサノール
(20.4dyn/cm2 )、フルフリルアルコール
(38dyn/cm2 )、テトラヒドロフルフリルアル
コール(37dyn/cm2)、2−メチル−2,4−
ペンタンジオール(27dyn/cm2 )、1,5−ペ
ンタンジオール(43.2dyn/cm2 )1,4−ブ
タンジオール(45.2dyn/cm2 )などの高沸点
アルコール類、ジオキサン(36dyn/cm2 )、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル(29.5dyn
/cm2 )などの高沸点エーテル類、2−ヘキサノン
(25.3dyn/cm2 )、メチルイソブチルケトン
(25.4dyn/cm2 )、シクロヘキサノン(3
4.5dyn/cm2 )、ジアセトンアルコール(3
1.0dyn/cm2 )のようなケトン類、プロピオン
酸イソペンチル(26.6dyn/cm2 )、シュウ酸
ジエチル(32dyn/cm2 )、マロン酸ジエチル
(32dyn/cm2 )、2−エトキシエチルアセター
ト(31.8dyn/cm2 )、2−メトキシエチルア
セタート(31.8dyn/cm2 )、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセタート(31.0dyn
/cm2 )のようなエステル類など種々の液体が使用可
能である。
【0020】上記の液体と他の液体との混合物であって
も、混合液の表面張力が25〜50dyn/cm2 の範
囲にあれば本発明の範囲に入るものである。
【0021】表面張力が25〜50dyn/cm2 の液
体が良好な現像性能を示すので、本発明の方法は、比較
的少量の現像液としての液体を水なし原版に付与して摩
擦する現像処理を行う場合に、特に有利に実施できる。
但し、このような場合、液体の沸点が低いと摩擦による
現像処理中に液体が蒸発・減少してしまうため、所望の
程度の現像が行えないことがあるので、用いる液体の沸
点は90℃以上が好ましい。また、環境安全上の理由か
らも用いる液体の沸点は高いことが好ましい。この好ま
しい形態では、従来、利用されていたヘキサンやイソプ
ロピルアルコール等の液体の、印刷性能以外の欠点、つ
まり環境への悪影響も解消できる。
【0022】表面張力が25〜50dyn/cm2 の液
体が良好な現像性能を示す理由は、現在明白ではない
が、その理由として以下のようなことが推定される。表
面張力が50dyn/cm2 を越える表面エネルギーの
大きなものは、インキ反発性表面へのなじみが悪く、液
はこの表面にはじかれやすい。このため、液体を使用し
た効果が現れにくいものと考えられる。特に、少量の液
体を使用して現像処理しようとする場合には、版材表面
が十分に液体に覆われることができなくなるためほとん
ど液体を使用した効果が現れず、版表面にキズが発生す
ることがある。一方、表面張力が25dyn/cm2
満の表面エネルギーの小さな液体は、インク反発性表面
への液のなじみは良いのであるが、液体の存在によりイ
ンク反発性表面層自身の機械的強度が低下して摩擦への
耐久性が劣化したり、インク反発性層の外力に対する伸
び特性が変化して画像エッジ部分に付着残存しやすくな
ったり等により現像特性が劣化することが考えられる。
現像液として利用する液体の、好ましい表面張力の値
は、27〜40dyn/cm2 である。第2層表面に付
与する液体の量は、200ml/m2 以下であること
が、レーザー書き込みと、印刷を単一機器で実施できる
合理的なシステムに特に有効である。なお、上記のグリ
コール類、ジオール類、それらのエステル化物質類が好
ましい。また、上記液体を付与して、水なし原版を摩擦
する方法は、ブラシ、パット、スティック等の点接触若
しくは面接触により、第1層外面に外力を加えることに
より行う。前記したとおり、以下では、本発明の方法に
好適に利用できる水なし原版について、詳しく説明す
る。 [支持体]当該水なし原版における支持体としては、通
常オフセット印刷に用いられる公知の金属、プラスチッ
クフイルム、紙およびこれらの複合化された形態のすべ
ての支持体が使用できる。用いる印刷条件下で必要とさ
れる機械的強度、耐伸び特性などの物理適性能を満たす
必要があることは当然である。その例としてはアルミニ
ウムのような金属支持体、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなど
のプラスチック支持体、紙もしくは紙にポリエチレン、
ポリプロピレンなどのプラスチクフイルムがラミネート
された複合シートなどが挙げられる。支持体の膜厚は、
通常25μmから3mm、好ましくは75μmから50
0μmであるが、用いる支持体の種類と印刷条件により
最適な厚さは変動する。一般には100μmから300
μmが最も好ましい。これらの支持体は、支持体上に形
成される第1層など隣接する層との密着性を上げるなど
の目的のために、種々の表面処理や表面コーティングを
することが可能である。これらの表面処理、表面コーテ
ィングとしては、コロナ処理、各種カップリング剤塗
布、ゼラチンその他の密着性樹脂の塗布など公知の処理
方法が可能である。
【0023】[第1層]上記水なし原版における第1層
の材料としては、書き込みに使用されるレーザー光を熱
に変換(光熱変換)する機能を有する公知の光熱変換材
料が使用可能である。光熱変換材料としては、レーザー
光源を赤外線レーザーとした場合、赤外線吸収色素、赤
外線吸収顔料、赤外線吸収性金属、赤外線吸収金属酸化
物など書き込みのレーザーに使用する波長の光を吸収す
る各種の有機および無機材料が使用可能であることが知
られており、これらを含めて任意のレーザー光で光熱変
換を起こす材料が利用できる。これらの材料は単独膜の
形態で、もしくはバインダー、添加剤など他の成分との
混合膜の形態で使用される。単独膜の場合には、主に、
アルミニウムのような金属や金属酸化物、有機色素など
を蒸着法により、支持体上に形成させることができる。
また、混合膜の場合には、主に、光熱変換材料を溶解も
しくは分散して他の成分と共に塗布法により、形成する
ことができる。
【0024】(光熱変換材料)光熱変換材料としては、
有機顔料としては酸性カーボンブラック、塩基性カーボ
ンブラック、中性カーボンブラックなど各種カーボンブ
ラック、分散性改良等のために表面修飾もしくは表面コ
ートされた各種カーボンブラック、ニグロシン類、有機
色素としては「赤外増感色素」(松岡著 Plenum Press
,New York,NY(1990))、USP4833124,EP
−321923A、USP4772583,USP49
42141、USP4948776、USP49487
77、USP4948778、USP4950639、
USP4912083、USP4952552、USP
5023229などに記載の各種化合物、金属もしくは
金属酸化物としてはアルミニウム、インジウムスズ酸化
物、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化チタン等、
この他にポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリ
マーなども使用可能である。
【0025】(バインダー)第1層を混合膜として形成
する場合に使用されるバインダーとしては、光熱変換材
料を溶解もしくは分散する公知のバインダーが使用され
る。これらの例としてはニトロセルロース、エチルセル
ロースなどのセルロース、セルロース誘導体類、ポリメ
チルメタクリレート、ポリブチルメタクリレートなどの
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの単独重合
体および共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレン
などのスチレン系モノマーの単独重合体もしくは共重合
体。イソプレン、スチレン−ブタジエンなどの各種合成
ゴム類、ポリ酢酸ビニルなどのビニルエステル類の単独
重合体および酢酸ビニル−塩化ビニルなどの共重合体、
ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボ
ネートなどの縮合系各種ポリマーおよび、「J. Imaging
Sci.,P59-64 ,30(2), (1986)(Frechetら)」や「Poly
mers in Electronics (Symposium Series,P11, 242,
T.Davidson,Ed.,ACS Washington,DC(1984)(Ito,Willso
n)」、「Microelectronic Engineering,P3-10,13(199
1)(E. Reichmanis,L.F.Thompson)」に記載のいわゆる
「化学増幅系」に使用されるバインダー等が使用可能で
ある。
【0026】(添加剤)第1層を混合膜として形成する
場合には、光熱変換剤とバインダー以外に添加剤を用い
ることが出来る。これらの添加剤は、第1層の機械的強
度を向上させたり、レーザー記録感度を向上させたり、
第1層中の分散物の分散性を向上させたり、支持体や第
2層など隣接する層に対する密着性を向上させるなど種
々の目的に応じて添加される。例えば、第1層の機械的
強度を向上させるために第1層を架橋する手段が考えら
れ、この場合には各種の架橋剤が添加される。レーザー
記録感度を向上させるために加熱により分解しガスを発
生する公知の化合物を添加することが考えられる、この
場合には第1層の急激な体積膨張によりレーザー記録感
度が向上できる。(これらの添加剤の例としては、アジ
ドジカルボンアミド、スルフォニルヒドラジン、ジニト
ロソペンタメチレンテトラミンなどを使用することが出
来る) また、加熱により分解し酸性化合物を生成する公知の化
合物を添加剤として使用することが出来る。これらを化
学増幅系のバインダーと併用することにより、第1層の
構成物質の分解温度を大きく低下させ、結果としてレー
ザー記録感度を向上させることが可能である。(これら
の添加剤の例としては、各種のヨードニウム塩、スルフ
ォニウム塩、フォスフォニウムトシレート、オキシムス
ルフォネート、ジカルボジイミドスルフォネート、トリ
アジンなどを使用することが出来る) 光熱変換材料にカーボンブラックなどの顔料を用いた場
合には、顔料の分散度がレーザー記録感度に影響を与え
ることがある。また、第2層を安定に塗布するなどの目
的のため顔料の分散度を向上させる必要があることが多
い。このために各種の顔料分散剤を添加剤として使用さ
れる。この他にも、塗布性を改良するための界面活性剤
など必要に応じて各種の添加剤が使用される。
【0027】(膜厚)第1層の膜厚は、単独膜の場合に
は蒸着法にて薄膜が形成できる。この場合の膜厚は50
から1000オングストローム、好ましくは80から5
00オングストロームである。混合膜は塗布により形成
される。この場合の膜厚は0.05μmから10μm、
好ましくは0.1μmから5μmである。第1層の膜厚
は厚すぎるとレーザー記録感度の低下など好ましくない
結果を与える。
【0028】[第2層]前記水なし原版における第2層
は、公知のインク反発性表面を有する材質が使用でき
る。公知のインク反発性表面を有する材質は、低表面エ
ネルギーを有する物質としてフッ素あるいはシリコーン
化合物が良く知られている。特にシリコーンゴム(シリ
コーンエラストマー)が水なし平版のインク反発層に好
適に用いられる。シリコーンゴムは大別して、(1)縮
合型シリコーンゴム、(2)付加型シリコーンゴム、
(3)放射線硬化型シリコーンゴムの3種に分類される
が、本発明における水なし平版の第2層のシリコーンゴ
ムとしては、これら全ての公知の各種のシリコーンゴム
が使用できる。縮合型シリコーンゴムは縮合反応により
生成されるシリコーンゴムである。通常、末端シラノー
ル基(−Si−OH)を有するポリジメチルシロキサン
をベースポリマーとし、これに下記の一般式で表される
縮合型架橋剤とを有機スズ化合物、有機チタン化合物な
どの公知触媒下に縮合反応させることにより合成でき
る。
【0029】一般式 Rm・ Si・ Xn (m+n=4,nは2以上の数) [式中Rは炭素数1から10のアルキル基、又は炭素数
6〜20のアリール基であり置換基を有していても良
い。XはCl,Br等のハロゲン原子、水素原子、水酸
基、−OCOR1 、−OR2 、又は
【0030】
【化1】 等の有機基を表す。R1 は炭素数1から10のアルキル
基、炭素数6〜20のアリール基であり置換基を有して
いても良い。R2 、R3 、R4 は炭素数1〜10のアル
キル基を表す。] 付加型シリコーンゴムはヒドロシリル化反応によるSi
−H基と二重結合基との付加反応により生成されるシリ
コーンゴムである。通常、末端ビニル置換のポリジメチ
ルポリシロキサンをベースポリマーとし、これに複数の
Si−H基を有するシリコーン化合物架橋剤をプラチナ
系の公知の触媒下で、ヒドロシリル化反応し生成され
る。放射線硬化型シリコーンゴムは、放射線照射により
重合可能な官能基を有するシリコーンベースポリマーの
放射線により架橋反応により合成される。通常、アクリ
ル系の官能基を有するベースポリマーを使用し紫外線照
射により架橋し生成する。これらのシリコーンゴムにつ
いては、「R&DレポートNo.22 シリコーンの最
新応用技術」(CMC発行、1982年)、特公昭56
−23150、特開平3−15553、特公平5−19
34号公報などに詳しく記載されている。上記のシリコ
ーンゴムは、第1層の上に直接もしくは間に他の層を介
して塗設されるが、縮合型や付加型シリコーンゴムの場
合は、ベースポリマー、架橋剤、触媒を溶解した液をコ
ーティング液とし、これを塗布、加熱することで架橋反
応が起こりシリコーンゴム層が形成される。放射線硬化
型シリコーンゴムの場合には、ベースポリマーを開始剤
と共に溶解した液をコーティング液とし、塗布後に、全
面放射線露光することで形成される。これらのシリコー
ンゴム層の膜厚は0.3μmから20μm、好ましくは
0.5μmから10μm、さらに好ましくは0.7μm
から5μmが良い。
【0031】第2層と隣接する層との密着性を改良する
ために、公知の密着改良剤を第2層のコーティング液に
添加しても良い。また、あらかじめ隣接する層にシリコ
ーンへの密着を促進する密着促進の表面処理を行っても
良い。このような効果を有するものとしてポリテトラブ
チルチタネートやポリテトライソプロピルチタネートの
ようなチタン系カップリング剤が有利に使用できること
が知られている。
【0032】(その他の付加的な層)支持体と第1層と
の間に、種々の目的で付加的な層を設置する事が出来
る。例えば、レーザー露光、シリコーン除去部のインキ
受容性向上のために、インキ受容性の層を設けることが
出来る。これに使用される層は、インク受容性の公知の
有機コーティングが使用可能である。アクリル系、メタ
クリル系、スチレン系、ビニルエステル系、ポリエステ
ル系、ポリウレタン系など種々のポリマーコーティング
が利用できる。第1層が金属支持体のような非インク受
容性物質の上に直接形成されている場合に、このような
インク受容層は有用である。また、印刷時のシリコーン
層への圧力緩和のためクッション層として支持体と第1
層の間にコーティングを設けることが出来る。この場合
も、支持体が圧力緩和能力を有しない金属支持体の場合
にこのコーティングは効果的である。前述した有機コー
ティングはこの目的のためにも十分機能する。
【0033】
【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。ただし、本発明は下記の実施例に限定されるもので
はない。
【0034】実施例1 (支持体)厚さ175μmのポリエチレンテレフタレー
トフイルム上に密着層として、乾燥膜厚0.2μmとな
るようにゼラチン下塗り層を形成した。 (カーボンブラック分散液の作成)下記の混合液をペイ
ントシェーカーにて30分間分散した後、ガラスビーズ
をろ別してカーボンブラック分散液を作成した。
【0035】
【表1】 ─────────────────────────────────── カーボンブラック(#40 三菱カーボン社製) 5.0g ポリウレタン (ニッポラン2304 日本ポリウレタン社製) 5.0g ソルスパースS20000(ICI社製) 0.27g ソルスパースS12000(ICI社製) 0.22g テトラヒドロフラン 45g ガラスビーズ 160g ───────────────────────────────────
【0036】(第1層の形成)前記のゼラチン下塗りポ
リエチレンテレフタレート上に、下記の塗布液を乾燥膜
厚2μmとなるように塗布し第1層を形成した。
【0037】
【表2】 ─────────────────────────────────── 上記のカーボンブラック分散液 55g ニトロセルロース(n−プロパノール30%含有) 7.2g テトラヒドロフラン 45g ───────────────────────────────────
【0038】(第2層の形成)下記の塗布液を作成し、
第1層上に塗布、加熱(110℃、2分)、乾燥するこ
とにより、乾燥膜厚2μmの付加型シリコーンゴムより
なる第2層を形成し、レーザー記録用水なし原版を作成
した。
【0039】
【表3】 ─────────────────────────────────── α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約700) 9.00g (CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8 -Si(CH3 )3 0.50g ポリジメチルシロキサン(重合度 約8000) 0.50g オレフィン−塩化白金酸 0.04g 抑制剤[HC≡C-C(CH3)2-O-Si(CH3 )3] 0.07g ヘプタン 55g ───────────────────────────────────
【0040】(水なし平版の形成)得られた、水なし原
版を波長1064nm、ビーム径100μm(1/e
2)の半導体励起YAGレーザーを用いて連続線の書き
込みを行った。記録エネルギーは0.75J/cm2
した。この時のレーザー照射による潜像記録後の版面の
電子顕微鏡写真を図1に示す。この記録エネルギーでは
シリコーン層は版面上からレーザー記録だけでは除去で
きない。第2層のシリコーンはレーザー記録時の第1層
の化学変化若しくは物理変化により、浮き上がっている
が、水なし原版表面に残存していることがわかる。しか
し、これに、液体として2ーエトキシエタノール(表面
張力28.2dyn/cm2 、沸点135℃)を100
ml/cm2 付与して、綿パッドで第2層の表面をこす
ることにより、レーザー照射部の第2層であるシリコー
ン層が水なし原版表面から容易に除去された。一方、レ
ーザー未照射部のシリコーン層は除去されずに水なし原
版表面に保持され、シャープなエッジのシリコーン画像
が形成できた。この様子を電子顕微鏡写真で図2に示し
た。また、水なし原版を版面上パワー110mW、波長
825nm、ビーム径10μm(1/e2)の半導体レ
ーザーを用いて、主操作速度6m/秒にて書き込みを行
ったところ、同様にレーザー照射部のシリコーン層が浮
き上がったが版面上に残存した。同一の液体で同様にし
てシリコーンを除去し水なし平版を形成した。レーザー
記録感度は300mJ/cm,解像力は6μmでシャー
プなエッジの水なし平版が形成された。この記録条件に
て、200線の網点形成を行ったところ網点面積率1%
から99%までが版上に形成できた。このようにして形
成された水なし平版を、印刷機を用いて印刷したところ
2万枚の汚れのない良好な印刷物が得られた。
【0041】比較例1 特公昭42−21879号公報の実施例3に記載の方法
で下記の通り水なし原版を作成した。ポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に下記の塗布液を塗布し乾燥膜厚
5μmの層を形成した。
【0042】
【表4】 ─────────────────────────────────── 線状ポリエステル樹脂 10g ニトロセルロース 10g カーボンブラック 10g 酢酸エチル 40g メチルイソブチルケトン 40g ───────────────────────────────────
【0043】次に、下記の塗布液を乾燥塗布量1g/m
2 となるように塗布した。
【0044】
【表5】 ─────────────────────────────────── シロテックス30(不揮発分濃度30%) 10g 氷酢酸 0.03g シロテックス30用触媒 0.5g キシレン 20g ───────────────────────────────────
【0045】得られた塗布物を150℃で10分加熱処
理し硬化させた。書き込みレーザーのパワーを2.4J
/cm2 とする以外は実施例1と全く同様にして半導体
励起YAGレーザーにて書き込みを行ったところ、レー
ザー照射部のシリコーン層は、破壊され一部は版面から
除去されているが、一部、特にエッジ部ではシリコーン
は除去されきらず、版面上に残存した。この様子を、図
2に示す。この様に、レーザー照射のみでシリコーン層
を破壊することはできるが、記録に必要なエネルギーが
増大するばかりでなく、形成された水なし平版の画像エ
ッジが不鮮明であり、これを印刷した時、印刷が進むに
したがってエッジ部のシリコーンが脱離するため画像面
積が増大してしまうなど種々の不都合を示した。また、
レーザー記録を多数の版材に対し続けて行うと、破壊さ
れた版材の成分が空気中に飛散することにより、しだい
に光学系など記録部への汚染が起き、これに伴いレーザ
ー出力が低下し再現性の良い書き込みが出来なくなる現
象が起きた。すなわち、記録システムの安定性が欠如し
ていた。
【0046】比較例2 実施例1と全く同様にして、半導体励起YAGレーザー
にて書き込みしたのち、実施例1で用いた液体2ーエト
キシエタノールを用いる代わりに、ヘキサン(表面張力
17.9dyn/cm2 、沸点68.7℃)を用いた他
は、実施例1と全く同様に、綿パッドで第2層の表面を
こすることにより、レーザー照射部の第2層であるシリ
コーン層が水なし原版表面から除去された。一方、レー
ザー未照射部のシリコーン層は除去されずに水なし原版
表面に保持された。しかし、露光部のシリコーンの一部
が完全に、処理系外に除去されずにシリコーンカスとし
て版上に残存してしまった。これにより印刷時に本来イ
ンクが付着すべき部位にインクが付着せず印刷画像に欠
陥が生じた。また、版上シリコーンゴム表面に一部キズ
が発生し、印刷時にインクが付着し印刷汚れとなった。
【0047】比較例3 実施例1と全く同様にして、半導体励起YAGレーザー
にて書き込みしたのち、実施例1で用いた液体2ーエト
キシエタノールを用いる代わりに、ナフサ(表面張力2
3.9dyn/cm2 )を用いた他は、実施例1と全く
同様に、綿パッドで第2層の表面をこすることにより、
レーザー照射部の第2層であるシリコーン層が水なし原
版表面から除去された。一方、レーザー未照射部のシリ
コーン層は除去されずに水なし原版表面に保持された。
しかし、露光部のシリコーンの一部が完全に、処理系外
に除去されずにシリコーンカスとして版上に残存してし
まった。これにより印刷時に本来インクが付着すべき部
位にインクが付着せず印刷画像に欠陥が生じた。また、
版上シリコーンゴム表面に一部キズが発生し、印刷時に
インクが付着し印刷汚れとなった。
【0048】比較例4 実施例1と全く同様にして、半導体励起YAGレーザー
にて書き込みしたのち、実施例1で用いた液体2ーエト
キシエタノールを用いる代わりに、イソプロピルアルコ
ール(表面張力21.7dyn/cm2 、沸点82℃)
を用いた他は、実施例1と全く同様に、綿パッドで第2
層の表面をこすることにより、レーザー照射部の第2層
であるシリコーン層が水なし原版表面から除去された。
一方、レーザー未照射部のシリコーン層は除去されずに
水なし原版表面に保持された。しかし、露光部のシリコ
ーンの一部が完全に、処理系外に除去されずにシリコー
ンカスとして版上に残存してしまった。これにより印刷
時に本来インクが付着すべき部位にインクが付着せず印
刷画像に欠陥が生じた。
【0049】比較例5 実施例1と全く同様にして、半導体励起YAGレーザー
にて書き込みしたのち、実施例1で用いた液体2ーエト
キシエタノールを用いる代わりに、水(表面張力72.
6dyn/cm2 、沸点100℃)を用いた他は、実施
例1と全く同様に、綿パッドで第2層の表面をこするこ
とにより、レーザー照射部の第2層であるシリコーン層
が水なし原版表面から除去された。しかし、摩擦には強
い力が必要であり第2層表面の一部に傷が発生した。摩
擦の力を弱めるとシリコーン除去されない部分が発生し
た。
【0050】実施例2 厚さ0.24mmのアルミニウム支持体上に、膜厚3μ
mのポリウレタンよりなる親油性層を塗布乾燥し形成し
た。 (第1層の形成作成)下記の混合液をペイントシェーカ
ーにて30分間分散した後、ガラスビーズをろ別して第
1層塗布液を作成した。前記のゼラチン下塗りポリエチ
レンテレフタレート上に、この塗布液を乾燥膜厚2μm
となるように塗布し第1層を形成した。
【0051】
【表6】 ─────────────────────────────────── カーボンブラック(#40 三菱カーボン社製) 5.0g ニグロシン 2.0g ポリウレタン (ニッポラン2304 日本ポリウレタン社製) 5.0g ソルスパースS20000 0.27g ソルスパースS12000 0.22g ニトロセルロース(n−プロパノール30%含有) 7.2g テトラヒドロフラン 100g ガラスビーズ 160g ───────────────────────────────────
【0052】(第2層の形成)下記の塗布液を、第1層
上に塗布、加熱(110℃、20分)、乾燥することに
より、乾燥膜厚2μmの縮合型シリコーンゴムよりなる
第2層を形成し、レーザー記録用水なし原版を作成し
た。
【0053】
【表7】 ─────────────────────────────────── 両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700)9.00g メチルトリアセトキシシラン 0.63g ジブチル錫ジオクタエート 0.02g ヘプタン 53.9g ───────────────────────────────────
【0054】(水なし平版の形成)得られた水なし原版
を版面上パワー110mW、波長825nm、ビーム径
10μm(1/e2) の半導体レーザーを用いて、主操
作速度6m/秒にて書き込みを行ったところ、実施例1
と同様にレーザー照射部のシリコーン層が浮き上がった
が版面上に残存した。実施例1の液体2ーエトキシエタ
ノールの代わりに、ジプロピレングリコール(表面張力
32dyn/cm2 )を150ml/m2 第2層表面に
付与して、ナイロンブラシで摩擦することで、シリコー
ンを除去し水なし平版を形成した。実施例1と同様に解
像力6μmのシャープな画像エッジの水なし平版が形成
された。この記録条件にて、200線の網点形成を行っ
たところ網点面積率1%から99%までが版上に形成で
きた。このようにして形成された水なし平版を、印刷機
を用いて印刷したところ5万枚の汚れのない良好な印刷
物が得られた。
【0055】実施例3 厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフイルム
上に密着層として、乾燥膜厚0.2μmとなるようにゼ
ラチン下塗り層を形成した。 (第1層の形成)上記の支持体上に、アルミニウムを蒸
着法により200オングストロームの厚さで形成し第1
層とした。 (第2層の形成)実施例2と同様にして、第1層上に膜
厚2μmの縮合型シリコーンゴムよりなる第2層を形成
し、レーザー記録用水なし原版を作成した。
【0056】(水なし平版の形成)得られた水なし原版
を版面上パワー110mW、波長825nm、ビーム径
10μm(1/e2)の半導体レーザーを用いて、主操
作速度4m/秒にて書き込みを行ったところ、レーザー
照射部のシリコーン層は版面上に残存してはいるが、支
持体との密着は低下した。実施例1の液体2ーエトキシ
エタノールの代わりに、ジオキサン(表面張力36dy
n/cm2 )を80ml/m2 第2層表面に付与して、
ナイロンブラシで摩擦することで、シリコーンを除去し
水なし平版が形成された。得られた水なし平版の解像力
は7μmと高解像力であった。この記録条件にて、20
0線の網点形成を行ったところ網点面積率1%から99
%までが版上に形成できた。
【0057】実施例4 実施例1で作成した水なし原版に、実施例1と全く同様
にして、半導体レーザーにて書き込みした後、実施例1
で用いた液体2−エトキシエタノールを用いる代わり
に、イソプロピルアルコール(表面張力21.7dyn
/cm2 )と1,4−ブタンジオール(表面張力45.
2dyn/cm2 )とを混合し表面張力が27.0dy
n/cm2 に調製した液体を用いた他は、実施例1と全
く同様にして、面パッドで第2層の表面をこすることに
より、レーザー照射部の第2層であるシリコーン層が水
なし原版表面から除去された。一方、レーザー非照射部
のシリコーン層は除去されずに水なし原版表面に保持さ
れた。実施例1と同様に解像力6μmのシャープな画像
エッジの水なし版が形成された。200線の網点形成を
行ったところ、面積率1%から99%までが版上に形成
できた。このようにして形成された水なし版を、印刷機
を用いて印刷したところ5万枚の汚れのない良好な印刷
物が得られた。
【0058】
【発明の効果】以上のごとく本発明により、レーザー露
光でき、解像力、印刷性能、を満足できる水なし平版の
形成方法が実現できた。また、この方法は少量の液体し
か使用しない条件下でも良好な現像処理性能を示すこと
ができた。また、シリコーン除去に少量の液体を使うの
みなので、印刷機版胴上に摩擦部材をコンパクトに設置
することが可能となった。これにより、印刷機の版胴上
に設置した印刷原版を、印刷シリンダー上でレーザー記
録し、同様に印刷シリンダー上で現像処理を行う合理的
な水なし平版印刷システムを実現することが可能となっ
た。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例での、レーザー照射による潜像記録後の
版面の電子顕微鏡写真である。
【図2】実施例での、画像の形成された水なし原版表面
の電子顕微鏡写真である。
【図3】比較例での、レーザー照射による潜像記録後の
版面の電子顕微鏡写真である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 湿し水を必要としない印刷を可能とする
    画像を有する湿し水不要平版印刷版の形成方法であっ
    て、 (1) 支持体上に、レーザー光を熱に変換する第1
    層、インキ反発性の表面を有する第2層をこの順に積層
    してなる湿し水不要平版印刷原版を、用意する工程、 (2) 第1層が吸収可能なレーザー光を照射し露光す
    る工程、及び (3) 表面張力が25〜50dyn/cm2 の液体を
    第2層表面に付与して、第2層を摩擦することにより、
    露光された部分の第2層を選択的に除去して、湿し水を
    必要としない印刷を可能とする画像を形成する工程、 を有する、湿し水不要平版印刷版の形成方法。
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