JPH1158667A

JPH1158667A - 水なし平版印刷版の形成方法

Info

Publication number: JPH1158667A
Application number: JP9221394A
Authority: JP
Inventors: Noribumi Inno; 紀文因埜; Masahiko Fukaya; 正彦深谷
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-08-18
Filing date: 1997-08-18
Publication date: 1999-03-02

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザー記録でき、露光部のインク反発性層
の除去性能と印刷性能を満足し、印刷時に問題となる非
画像部の汚れ及び画像部のすぬけの原因となる物質が版
面に残存しない、水なし平版印刷版の形成方法の提供。【解決手段】レーザー光を熱に変換する第１層及びイ
ンキ反発性の表面を有する第２層を支持体上にこの順に
積層してなる水なし平版印刷原版に対し、該第１層が吸
収可能なレーザー光を照射し画像露光する工程、該第２
層の表面に対する接触角が９０度以上の液体の存在下で
該第２層の表面を擦り該第２層におけるレーザー照射部
の少なくとも一部を除去する第１の擦り工程、及び、該
第２層の表面に対する接触角が９０度未満の液体の存在
下で該第２層の表面を擦る第２の擦り工程を含むことを
特徴とする水なし平版印刷版の形成方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光による
ヒートモード記録によって湿し水を必要とせずに印刷を
行うことができる平版印刷版（以下「水なし平版印刷
版」という）の形成方法に関する。なお、本明細書中で
は、「水なし平版印刷原版」（「水なし原版」と称する
ことがある）とは、インク受容部と非インク受容部とに
よる画像パターンが形成されていない状態の画像記録前
の版材を意味し、「水なし平版印刷版」（「水なし平
版」と称することがある）とは、インク受容部と非イン
ク受容部とによる画像パターンが形成されており、その
まま印刷にかけられる版材を意味する。

【０００２】

【従来の技術】印刷を行うための印刷版の手法には、活
版印刷、グラビア印刷及び平版オフセット印刷などが伝
統的な手法として知られている。近年、特殊な分野を除
いては平版を用いる印刷が増加している。この平版オフ
セット印刷においては、プレート表面の親水性、親油性
の画像パターンを形成し湿し水を用いる水あり平版と、
プレート表面にインキ反発性、インキ受容性の画像パタ
ーンを形成し湿し水を用いない水なし平版とが知られて
いる。この内、水なし平版は、湿し水を用いないために
印刷作業に熟練を要しないこと、インキ濃度が印刷初期
から安定し損紙が少なく少部数の印刷を行う場合にも経
済的である等、水あり平版に比して有利な特徴を持って
いる。

【０００３】一方、コンピューター技術の進展により、
従来、手作業で行われていた印刷の前工程である製版工
程がデジタル化され、印刷の画像がデジタルデータ化さ
れてきている。このデジタルデータからリスフイルムを
介さず直接、印刷版材料を形成する技術（コンピュータ
ー・ツ−・プレート技術）が近年進展してきている。し
かし、これらの技術は、水あり平版を形成するものが多
く提供されているが、水なし平版を形成できるものは殆
ど知られていないのが実状である。

【０００４】レーザー書き込みにより水なし平版を形成
できる例としては、特公昭４２−２１８７９号公報にそ
の最も古い開示がある。この公報には、インキ反発性の
シリコーン層をレーザー照射により一部除去してインク
付着性とし水なし印刷することが記載されている。しか
し、この場合、レーザー照射部のシリコーンが版面全体
に飛散し印刷時に不都合を起こしたり、レーザー照射だ
けではシリコーン層が十分除去されないため、印刷が進
むにつれてインキ付着部の面積が増大する（ドットゲイ
ンする）などの問題があった。

【０００５】また、特開昭５０−１５８４０５号公報に
は、シリコーンゴム表面層を有する印刷原版に対し、赤
外光レーザーであるＹＡＧレーザーを照射し、溶剤（ナ
フサ）処理によりレーザー照射部を除去して水なし平版
を形成する方法が開示されている。更に、ＥＰ第０５７
３０９１号明細書には、シリコーンゴム表面層を有する
版材にＹＡＧレーザーを照射した後、無溶媒のドライ条
件下で擦り取るか、シリコーンゴムを膨潤させない溶剤
を与えながら擦りにより除去して水なし平版を形成する
方法が開示されている。しかし、これらの方法は、レー
ザー露光部シリコーンゴム除去の際の擦りにより、非画
像部シリコーンゴムに傷が入るおそれがある。更に、露
光部から除去したシリコーンゴムを版面から完全に除去
することが困難である。このため、これらの方法により
形成した水なし平版を用いて、印刷を行った場合、非画
像部の傷汚れ、画像部のすぬけ等の不都合を生じるとい
う問題があった。

【０００６】以上のように、レーザーにより水なし平版
印刷版を形成する方法は、従来から幾つか提案されては
いるものの、露光部シリコーン層の除去性能（現像性）
と印刷性能上の問題とを両立するには至っていないのが
現状である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、レーザー記録でき、露光部
のインク反発性層の除去性能と印刷性能を満足する水な
し平版印刷版の形成方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、露光部シリコーン層除去によるシリコ
ーン画像形成の際に、印刷時に問題となる非画像部の汚
れ及び画像部のすぬけの原因となる物質が、水なし平版
の版面に残存しない、水なし平版印刷版の形成方法を提
供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。即ち、レーザー光を熱に
変換する第１層及びインキ反発性の表面を有する第２層
を支持体上にこの順に積層してなる水なし平版印刷原版
に対し、該第１層が吸収可能なレーザー光を照射し画像
露光する工程、該第２層の表面に対する接触角が９０度
以上の液体の存在下で該第２層の表面を擦り該第２層に
おけるレーザー照射部の少なくとも一部を除去する第１
の擦り工程、及び、該第２層の表面に対する接触角が９
０度未満の液体の存在下で該第２層の表面を擦る第２の
擦り工程を含むことを特徴とする水なし平版印刷版の形
成方法である。

【０００９】本発明において、レーザー露光部のインク
反発性の第２層の除去は、レーザー照射後に、インク反
発性の第２層の表面に対する接触角が９０度以上の液体
の存在下でインク反発性の第２層の表面を擦る第１の擦
り工程と、インク反発性の第２層の表面に対する接触角
が９０度未満の液体の存在下でインク反発性の第２層の
表面を擦る第２の擦り工程との２つの擦り工程により達
成される。

【００１０】インク反発性の第２層の表面を擦ることに
より、レーザー露光部のインク反発性の第２層を除去す
る場合、まず、インク反発性の第２層に亀裂が生じ、そ
こから剥離が始まる。この際、インク反発性の第２層の
表面に対し、親和性の高い（濡れ性の良い）液体を使用
すると、インク反発性の第２層の表面と擦り部材（ブラ
シやパッド等）との摩擦抵抗が下がるため、ひっかかり
が悪く、除去の効率が悪くなる。このため、擦りの圧
力、回数等の条件を強化しなくてはならない。一方、イ
ンク反発性の第２層の表面に対し、親和性の低い（濡れ
性の悪い）液体を使用して第２層の表面を擦ると、両者
の摩擦抵抗の低下は小さく、温和な擦り条件で、レーザ
ー露光部のインク反発性の第２層の除去が可能となる。
しかし、使用する液体のインク反発性の第２層に対する
親和性が低いため、露光部より除去したインク反発性の
第２層のカスが、非画像部のインク反発性の第２層、あ
るいは第２層が除去された画像部上に付着し易い。ここ
で、インク反発性の第２層に対する液体の親和性は、イ
ンク反発性の第２層表面に対する液体の接触角（空中液
滴法による接触角）として見積もることができる。

【００１１】前記第１の擦り工程においては、インク反
発性の第２層の表面に対する接触角が９０度以上であ
る、インク反発性の第２層の表面に対する親和性の低い
液体を用いて、現像用パッド、ブラシ等にて、インク反
発性の第２層の表面を擦る。その結果、大部分のレーザ
ー露光部のインク反発性の第２層が効率的に除去され
る。しかしながら、前記第１の擦り工程においては、露
光部より除去したインク反発性第２層のカスが、非画像
部のインク反発性の第２層、あるいは第２層が除去され
た画像部上に付着し、版面上から、これらのカスを完全
に除去することは困難である。更に、非画像部のインク
反発性の第２層に傷が付かない程度に、前記第１の擦り
工程を行うと、レーザー露光部のインク反発性の第２層
の一部が除去されずに残存する。

【００１２】そこで、前記第１の擦り工程の次に、イン
ク反発性の第２層の表面に対する接触角が９０度未満で
あるインク反発性の第２層の表面に対する親和性の高い
液体を用いて、インク反発性の第２層の表面を擦る第２
の擦り工程を行うことで、版面上に付着したインク反発
性の第２層のカス及び除去されずに残存したレーザー露
光部のインク反発性の第２層を版面上から完全に除去す
ることができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の水なし平版印刷版の形成
方法は、露光工程、第１の擦り工程、及び第２の擦り工
程を少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を
適宜含んでいてもよい。

【００１４】本発明において、「水なし平版印刷原版」
は、第１層と第２層とを支持体上にこの順に積層してな
る。前記「第１層」は、露光されたレーザー光を熱に変
換し、該熱に基づき支持体に対する第２層の密着性を低
下させる機能を有する層である。前記「第２層」は、い
わゆる水なし平版印刷版においてインキが実質的に付着
されず印刷用非画像部として機能するインク反発性の表
面を有する層である。なお、前記「支持体に対する第２
層の密着性」は、第１層等の層を介した、支持体に対す
る第２層の間接的な接着性能を含む。

【００１５】前記露光工程では、レーザー光を熱に変換
する第１層とインキ反発性の表面を有する第２層とを支
持体上にこの順に積層してなる水なし平版印刷原版に対
し、該第１層が吸収可能なレーザー光を照射し画像露光
する。前記露光工程において、前記水なし平版印刷原版
に対し、形成すべき画像情報に対応するレーザー光が照
射されると、第１層でレーザー光のエネルギーが吸収さ
れ、その部分で、光が熱に変換され、急速に昇温し、熱
による潜像が形成されると共に、その部分の第１層の一
部乃至全部が燃焼、融解、分解、気化、爆発等の化学反
応や物理変化を引き起し、結果として、実質的にレーザ
ーを照射した区域内で、かつ支持体とインク反発性の第
２層の間のいずれかの部分（界面や層内）で、密着性又
は一体性が低下し、支持体に対する第２層の密着性が低
下する。実質的にレーザーを照射した区域のみで、この
ような密着性の低下が生じるため、レーザー光が照射さ
れた部分の第２層は、多くの場合、レーザー光の照射の
みによっては破損・飛散せず水なし平版印刷原版に保持
されるものの、後述の第１及び第２の擦り工程において
外力を付加することによって、選択的にかつ容易に除去
される。

【００１６】なお、前記水なし平版印刷原版について
は、その素材等について特に制限はないので、説明の便
宜上、後述する。

【００１７】前記露光工程において、前記水なし平版印
刷原版を露光するのに使用するレーザーは、後述の第１
及び第２の擦り工程で第２層が剥離除去されるのに十分
な密着力の低下が起きるのに必要な露光量、波長等を与
えるものであれば特に制限はなく、具体的には、Ａｒレ
ーザー、炭酸ガスレーザー等のガスレーザー、ＹＡＧレ
ーザー等の固体レーザー、半導体レーザーなどが挙げら
れる。通常、その出力が１００ｍＷクラス以上のレーザ
ーが必要となる。保守性、価格などの実用的な面から
は、半導体レーザー及び半導体励起の固体レーザー（Ｙ
ＡＧレーザーなど）が好適に使用される。

【００１８】レーザーは、主に熱を発生させる目的で使
用するので、記録波長としては赤外線の波長領域が好ま
しく利用でき、通常は、８００〜１１００ｎｍの発振波
長が利用される。また、ビーム径としては、通常５〜２
００μｍ（１／ｅ２）である。レーザー照射は、水なし
平版印刷原版の第２層側から照射することが好ましい
が、支持体が、照射レーザー光に対し透明な場合には、
支持体側から照射することもできる。また、特開平６−
１８６７５０号公報に記載されているイメージング装置
を用いて露光することも可能である。

【００１９】本発明では、レーザー露光部の密着性の低
下を利用して、レーザー露光部のインク反発性の第２層
を選択的に除去することにより、インク受容性部を露出
させ水なし平版印刷版を形成する。

【００２０】前記第１の擦り工程及び前記第２の擦り工
程における擦り方法としては、例えば、液体を含む現像
用パッドで版面を擦ったり、液体を版面に注いだ後に、
ブラシで擦るなど、公知の方法に従って行うことができ
る。更に、特開平２−２２００６１号公報や、特開昭６
０−５９３５１号公報等に記載されているような自動処
理機によっても行うことができる。使用する液体の温度
は、特に制限はないが、１０〜５０℃程度が好ましい。

【００２１】本発明において、レーザー露光部のインク
反発性の第２層の除去のために、版面を擦る際に用いる
液体としては、水なし平版の現像液として公知のものを
使用できるが、中でも以下のものが好適に挙げられる。
前記第１の擦り工程において使用する液体は、インク反
発性の第２層の表面に対する接触角が９０度以上の液体
であり、水、メタノール、エチレングリコール、グリセ
リン等の極性溶剤そのもの、又は水を主成分とするもの
が好ましい。前記第２の擦り工程において使用する液体
は、インク反発性の第２層の表面に対する接触角が９０
度未満の液体であり、７０度以下の液体がより好まし
く、脂肪族炭化水素系溶剤や芳香族炭化水素系溶剤その
もの、又は水を主成分とするものが好ましい。これらの
中でも、安全性及び引火性等を考慮すると、溶剤の濃度
は４０重量％未満であるのが好ましい。

【００２２】水なし平版の現像液として公知のものとし
ては、例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタ
ン、”アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ”（エッソ化学（株）
製）、ガソリン、灯油等）、芳香族炭化水素類（トルエ
ン、キシレン等）、ハロゲン化炭化水素（トリクレン
等）、更に下記の極性溶媒を添加したものや該極性溶媒
そのもの、有機溶剤系現像液に水を添加したり、有機溶
剤を界面活性剤等を用いて水に可溶化したものや、更に
その上にアルカリ剤（例えば、炭酸ナトリウム、ジエタ
ノールアミン、水酸化ナトリウム等）を添加したもの
や、単に界面活性剤の水溶液、水（水道水、純水、蒸留
水等）などが挙げられる。

【００２３】前記極性溶媒としては、例えば、アルコー
ル類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプ
ロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、２−エトキシエタノール、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、
ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロ
ピレングリコール、テトラエチレングリコール等）、ケ
トン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、エステル
類（酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールアセテート、ジエチルフタレート等）、その
他（トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフ
ェート等）などが挙げられる。

【００２４】ここで、以下に、前記水なし平版印刷原版
について説明する。前記水なし平版印刷原版は、レーザ
ー光を熱に変換する第１層及びインキ反発性の表面を有
する第２層を支持体上にこの順に積層してなり、更に必
要に応じてプライマー層等のその他の層を有してなる。

【００２５】（支持体）前記支持体としては、通常、オ
フセット印刷に用いられる公知の金属、プラスチックフ
イルム、紙及びこれらの複合化された形態の総ての支持
体が使用できる。用いる印刷条件下で必要とされる機械
的強度、耐伸び特性などの物理適性能を満たす必要があ
ることは当然である。前記支持体の例としては、アルミ
ニウムのような金属支持体、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなど
のプラスチック支持体、紙もしくは紙にポリエチレン、
ポリプロピレンなどのプラスチクフイルムがラミネート
された複合シートなどが挙げられる。

【００２６】前記支持体の厚みとしては、用いる支持体
の種類と印刷条件により最適な厚みは変動するため、一
概に規定することはできないが、通常、２５μｍ〜３ｍ
ｍ程度であり、７５μｍ〜５００μｍが好ましく、１０
０μｍ〜３００μｍがより好ましい。

【００２７】前記支持体には、支持体上に形成される第
１層など隣接する層との密着性向上、印刷特性向上又は
感度向上のため、コロナ処理等の表面処理を施したり、
プライマー層を設けることができる。

【００２８】（プライマー層）前記プライマー層として
は、例えば、特開昭６０−２２９０３号公報に開示され
ているような、種々の感光性ポリマーを感光性樹脂層を
積層する前に露光して硬化させてなるもの、特開昭６２
−５０７６０号公報に開示されているような、エポキシ
樹脂を熱硬化させてなるもの、特開昭６３−１３３１５
１号公報に開示されているような、ゼラチンを硬膜させ
てなるもの、特開平３−２００９６５号公報に開示され
ているような、ウレタン樹脂とシランカップリング剤と
を用いてなるもの、特開平３−２７３２４８号公報に開
示されているような、ウレタン樹脂を用いてなるもの、
等が挙げられる。この他、ゼラチン又はカゼインを硬膜
させたものも前記プライマー層として有効である。

【００２９】本発明においては、前記プライマー層中
に、ポリウレタン、ポリアミド、スチレン・ブタジエン
ゴム、カルボキシ変性スチレン・ブタジエンゴム、アク
リロニトリル・ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリ
ロニトリル・ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリ
レートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素
化ポリプロピレン、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、
ニトロセルロース、ハロゲン化ポリヒドロキシスチレ
ン、塩化ゴム等のポリマーを添加してもよい。その添加
割合は任意であり、フィルム層を形成できる範囲内であ
れば、添加剤だけでプライマー層を形成してもよい。ま
た、これらのプライマー層には接着助剤（例えば、重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング剤）
や染料等の添加物を含有させることもできる。また、塗
布後、露光によって硬化させることもできる。

【００３０】前記プライマー層は、インク反発性の第２
層の除去部のインキ受容層としても有用であり、支持体
として金属支持体のような非インキ受容性の場合、特に
有用である。また、前記プライマー層は、印刷時のイン
ク反発性の第２層への圧力緩和のためのクッション層と
しての役割も有している。一般に、プライマー層の塗布
量は、乾燥重量で０．０５〜１０ｇ／ｍ²の範囲が適当
であり、０．１〜８ｇ／ｍ²が好ましく、０．２〜５ｇ
／ｍ²がより好ましい。

【００３１】（第１層）前記第１層は、書き込みに使用
されるレーザー光を熱に変換（光熱変換）する機能を有
する層であり、かかる機能を有する公知の光熱変換材料
を含有する光熱変換層を該第１層として使用することが
できる。

【００３２】前記光熱変換材料としては、従来、レーザ
ー光源を赤外線レーザーとした場合、赤外線吸収色素、
赤外線吸収顔料、赤外線吸収性金属、赤外線吸収金属酸
化物など書き込みのレーザーに使用する波長の光を吸収
する各種の有機材料及び無機材料が使用可能であること
が知られている。これらの光熱変換材料は、単独膜の形
態で、又はバインダー、添加剤など他の成分との混合膜
の形態で使用される。

【００３３】前記単独膜の場合、アルミニウム、チタ
ン、テルル、クロム、錫、インジウム、ビスマス、亜
鉛、鉛等の金属及び合金、金属酸化物、金属炭化物、金
属窒化物、金属ホウ化物、金属ハロゲン化物、有機色素
などの光熱変換材料を、蒸着法、スパッタリング法等に
て前記支持体上に被覆すること等により、前記第１層を
形成させることができる。前記混合膜の場合、前記光熱
変換材料を溶解又は分散させて他の成分と共に、塗布法
にて塗設すること等により、前記第１層を形成すること
ができる。

【００３４】−光熱変換材料− 前記光熱変換材料としては、有機顔料として、酸性カー
ボンブラック、塩基性カーボンブラック、中性カーボン
ブラックなど各種カーボンブラック、分散性改良等のた
めに表面修飾もしくは表面コートされた各種カーボンブ
ラック、ニグロシン類などが挙げられ、有機色素とし
て、「赤外増感色素」（松岡著 Plenum Press ,New Yor
k,NY(1990)）、ＵＳ４８３３１２４，ＥＰ−３２１９２
３、ＵＳ−４７７２５８３，ＵＳ−４９４２１４１、Ｕ
Ｓ−４９４８７７６、ＵＳ−４９４８７７７、ＵＳ−４
９４８７７８、ＵＳ−４９５０６３９、ＵＳ−４９１２
０８３、ＵＳ−４９５２５５２、ＵＳ−５０２３２２９
等の明細書に記載の各種化合物などが挙げられ、金属若
しくは金属酸化物として、アルミニウム、インジウムス
ズ酸化物、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化チタ
ンなどが挙げられ、この他、ポリピロール、ポリアニリ
ン等の導電性ポリマーなどが挙げられる。

【００３５】−バインダー− 前記第１層を混合膜として形成する場合、使用されるバ
インダーとしては、光熱変換材料を溶解又は分散する公
知のバインダーが使用される。前記バインダーの例とし
ては、ニトロセルロース、エチルセルロース等のセルロ
ース、セルロース誘導体類、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリブチルメタクリレート等のアクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステルの単独重合体及び共重合体、
ポリスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノ
マーの単独重合体及び共重合体。イソプレン、スチレン
−ブタジエン等の各種合成ゴム類、ポリ酢酸ビニル等の
ビニルエステル類の単独重合体及び酢酸ビニル・塩化ビ
ニル等の共重合体、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート等の縮合系各種ポリマー及
び、「J. Imaging Sci.,P59-64 ,30(2), (1986)（Frech
etら）」や「Polymers in Electronics （Symposium S
eries,P11, 242, T.Davidson,Ed., ACS Washington,DC
(1984)（Ito,Willson）」、「Microelectronic Enginee
ring,P3-10,13(1991)（E. Reichmanis,L.F.Thompso
n）」に記載のいわゆる「化学増幅系」に使用されるバ
インダー、などが使用可能である。

【００３６】−添加剤− 前記第１層を混合膜として形成する場合、前記光熱変換
材料及び前記バインダー以外に、添加剤を用いることが
できる。該添加剤は、第１層の機械的強度を向上させた
り、レーザー記録感度を向上させたり、光熱変換層中の
分散物の分散性を向上させたり、前記支持体や前記プラ
イマー層等の隣接する層に対する密着性を向上させるな
ど種々の目的に応じて添加される。

【００３７】例えば、第１層の機械的強度を向上させる
ために第１層を架橋する手段が考えられ、この場合、前
記添加剤として各種の架橋剤が添加される。また、レー
ザー記録感度を向上させるために加熱により分解しガス
を発生する公知の化合物を前記添加剤として添加するこ
とができる。この場合、第１層の急激な体積膨張により
レーザー記録感度が向上できる。これらの添加剤として
は、例えば、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジニトロソテレフタル
アミド、ｐ−トルエンスルホニルヒドラジド、４、４−
オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）、ジアミ
ドベンゼン等を使用することができる。

【００３８】また、加熱により分解し酸性化合物を生成
する公知の化合物を前記添加剤として使用することがで
きる。これらを化学増幅系のバインダーと併用すること
により、第１層の構成物質の分解温度を大きく低下さ
せ、結果としてレーザー記録感度を向上させることが可
能である。これらの添加剤としては、例えば、各種のヨ
ードニウム塩、スルフォニウム塩、フォスフォニウムト
シレート、オキシムスルフォネート、ジカルボジイミド
スルフォネート、トリアジンなどを使用することができ
る。

【００３９】前記光熱変換材料にカーボンブラックなど
の顔料を用いた場合には、顔料の分散度がレーザー記録
感度に影響を与えることがあり、各種の顔料分散剤を添
加剤として使用される。接着性を向上させるために公知
の密着改良剤（例えば、シランカップリング剤、チタネ
ートカップリング剤等）を前記添加剤として添加しても
よい。この他にも、塗布性を改良するための界面活性剤
など必要に応じて各種の添加剤が使用される。

【００４０】−厚み− 蒸着法、スパッタリング法等にて薄膜に形成される単独
膜としての前記第１層の厚みは、通常５０Å〜１０００
Å程度であり、１００Å〜８００Åが好ましい。塗布等
により形成される混合膜としての第１層の厚みは、通常
０．０５μｍ〜１０μｍ程度であり、０．１μｍ〜５μ
ｍが好ましい。前記第１層の厚みが厚すぎると、レーザ
ー記録感度の低下など好ましくない結果を与える。

【００４１】（第２層）前記第２層は、インク反発性の
表面を有する層であり、従来から公知のインク反発性の
表面を有するものを該第２層として使用することができ
る。従来から公知のインク反発性の表面に好適な物質と
しては、低表面エネルギーを有する物質としてのフッ素
化合物又はシリコーン化合物が知られている。これらの
中でも、特にシリコーンゴム（シリコーンエラストマ
ー）は、水なし平版のインク反発層としての前記第２層
に好適に用いられる。

【００４２】前記シリコーンゴムは、大別して、縮合
型シリコーンゴム、付加型シリコーンゴム、放射線
硬化型シリコーンゴムの３種に分類されるが、本発明に
おける水なし平版の前記第２層のシリコーンゴムとして
は、これら総ての従来から公知の各種のシリコーンゴム
を使用することができる。

【００４３】前記縮合型シリコーンゴムによる第２層
は、下記組成物Ａを硬化して形成した皮膜である。 −組成物Ａ− （ａ）ジオルガノポリシロキサン・・・・・・・・・・・・１００重量部（ｂ）縮合型架橋剤・・・・・・・・・・・・・・・・・３〜７０重量部（ｃ）触媒・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．０１〜４０重量部

【００４４】前記（ａ）ジオルガノポリシロキサンは、
下記一般式で示されるような繰り返し単位を有するポリ
マーである。

【００４５】

【化１】

【００４６】上記一般式において、Ｒ₁及びＲ₂は、炭
素数１〜１０のアルキル基、ビニル基、アリール基を表
し、これらは、適当な置換基を有していてもよい。一般
的には、Ｒ₁及びＲ₂の６０％以上が、メチル基、ハロ
ゲン化ビニル基、ハロゲン化フェニル基などであるのが
好ましい。

【００４７】本発明においては、前記（ａ）ジオルガノ
ポリシロキサンの中でも、両末端に水酸基を有するもの
が好ましい。また、前記（ａ）ジオルガノポリシロキサ
ンの数平均分子量としては、通常、３，０００〜１０
０，０００であり、１０，０００〜７０，０００が好ま
しい。

【００４８】前記（ｂ）縮合型架橋剤は、縮合型のもの
であればいずれであってもよいが、次の一般式で表され
るものが好ましい。Ｒ_1m・Ｓｉ・Ｘ_n（但し、ｍ＋ｎ＝４、ｎは２以上）ここで、Ｒ₁は、先に説明したＲ₁と同じ意味である。
Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン、Ｈ、−ＯＨ、−Ｏ
ＣＯＲ₃、−ＯＲ₃、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ₄）（Ｒ₅）、
−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）などの有機置換基を表す。ここ
で、Ｒ₃は、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数６
〜２０のアリール基を表す。Ｒ₄及びＲ₅は、炭素数１
〜１０のアルキル基を表す。

【００４９】前記（ｃ）触媒は、錫、亜鉛、鉛、カルシ
ウム、マンガン等の金属カルボン酸塩、具体的には、ラ
ウリン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛など、
あるいは塩化白金酸などの公知の触媒が挙げられる。

【００５０】前記付加型シリコーンゴムによる第２層
は、下記組成物Ｂを硬化して形成した皮膜である。 −組成物Ｂ− （ｄ）付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００重量部（ｅ）オルガノハイドロジェンポリシロキサン・・・０．１〜２５重量部（ｆ）付加触媒・・・・・・・・・・・・・・０．００００１〜１重量部

【００５１】前記（ｄ）付加反応性官能基を有するジオ
ルガノポリシロキサンとは、１分子中にケイ素原子に直
接結合したアルケニル基（より好ましくはビニル基）を
少なくとも２個有するオルガノポリシロキサンであり、
該アルケニル基は分子の末端、中間のいずれにあっても
よく、該アルケニル基以外の有機基としては、置換もし
くは非置換の炭素数１〜１０のアルキル基又はアリール
基が挙げられる。本発明においては、前記（ｄ）付加反
応性官能基を有するジオルガノポリシロキサンは、水酸
基を微量有していてもよい。前記（ｄ）の数平均分子量
としては、通常３，０００〜１００，０００程度であ
り、１０，０００〜７０，０００が好ましい。

【００５２】前記（ｅ）オルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンとしては、例えば、両末端水素基のポリジメチ
ルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシロキサン、両末
端メチル基の（メチルシロキサン）（ジメチルシロキサ
ン）共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリメ
チルシリル基のジメチルシロキサン）（メチルシロキサ
ン）共重合体などが挙げられる。

【００５３】前記（ｆ）付加触媒としては、公知のもの
の中から任意に選択することができるが、特に白金系の
化合物が好ましく、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、
オレフィン配位白金などが好的に挙げられる。

【００５４】本発明においては、組成物Ｂの硬化速度を
制御する目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロキ
サンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭
素−炭素三重結合含有のアルコ−ル、アセトン、メチル
エチルケトン、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピレング
リコ−ルモノメチルエ−テルなどの架橋抑制剤を添加す
ることも可能である。

【００５５】前記放射線硬化型シリコーンゴムによる
第２層は、放射線照射により重合可能な官能基を有する
シリコーンベースポリマーの放射線による架橋反応によ
り硬化して形成した皮膜であり、ベースポリマーを開始
剤と共に溶解した液をコーティング液とし、塗布後に、
全面放射線露光することで形成することができる。通
常、アクリル系の官能基を有するベースポリマーを使用
し、紫外線照射により架橋を形成する。

【００５６】これらのシリコーンゴムについては、「Ｒ
＆ＤレポートＮｏ．２２シリコーンの最新応用技術」
（ＣＭＣ発行、１９８２年）、特公昭５６−２３１５
０、特開平３−１５５５３、特公平５−１９３４号公報
などに詳述されている。前記シリコーンゴムによる第２
層は、前記第１層上に、直接もしくは他の層を介して塗
設される。なお、前記シリコーンゴムによる前記第２層
には必要に応じて、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタ
ンなどの無機物の微粉末、シランカップリング剤、チタ
ネート系カップリング剤やアルミニウム系カップリング
剤などの接着助剤や光重合開始剤を添加してもよい。

【００５７】前記シリコーンゴムによる前記第２層の厚
みが薄いと、インキ反撥性が低下し、傷が入りやすい等
の問題があり、該厚みが厚いと、現像性が悪くなる等の
問題があることから、該厚みとしては、通常０．３〜１
０μｍ程度であり、０．５〜５μｍが好ましく、１〜３
μｍがより好ましい。

【００５８】ここに説明した水なし原版においては、前
記シリコーンゴム等による前記第２層上に、更に種々の
シリコーンゴム層等を塗工してもよい。更に、前記シリ
コーンゴム等による前記第２層の表面保護のために、該
第２層上に、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビリニデン、ポリビニルアルコ
ール、ポリエチレンテレフタレート、セロファン等によ
る透明なフィルムをラミネートしたり、ポリマーをコー
ティングしてもよい。これらのフィルムは、延伸して用
いてもよい。また、前記第２層の表面にマット加工を施
してもよいが、マット加工のないものの方が本発明では
好ましい。

【００５９】上記のように本発明によると、水なし平版
印刷版を形成する際、レーザー露光部のインク反発性の
第２層の除去を、レーザー照射後に、該第２層の表面に
対する接触角が９０度以上の液体を用いて、該第２層表
面を擦る第１の擦り工程と、該第２層の表面に対する接
触角が９０度未満の液体を用いて、該第２層の表面を擦
る第２の擦り工程との２つの擦り工程により行うため、
レーザー露光部のインク反発性の第２層の除去を確実に
行うことができ、かつ印刷性能に問題となる版面上の付
着カスを取り除くことができる。

【００６０】

【実施例】以下に本発明の実施例を説明するが、本発明
は以下の実施例に何ら限定されるものではない。

【００６１】（実施例１） −カーボンブラック分散液の調製− 下記の混合液をペイントシェーカーを用いて３０分間、
分散させた後、ガラスビーズをろ別し、カーボンブラッ
ク分散液を調製した。カーボンブラック（＃４０、三菱化学（株）製）・・・・・５．０ｇクリスボン３００６ＬＶ（大日本インキ化学工業（株）製ポリウレタン）・・・・４．０ｇニトロセルロース（２−プロパノール３０％含有、重合度８０、ナカライテスク製）・・・・・・・・・・・１．３ｇソルスパースＳ２７０００（ＩＣＩ社製）・・・・・・・・０．４ｇプロピレングリコールモノメチルエーテル・・・・・・・・４５ｇガラスビーズ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１６０ｇ

【００６２】−第１層の形成− 表面をコロナ処理した厚み１８８μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム（東洋紡（株）製、Ｅ５１０１）
の表面上に、下記の塗布液を乾燥厚みが２μｍとなるよ
うに塗布し、乾燥して第１層を形成した。上記カーボンブラック分散液・・・・・・・・・・・・・・５５ｇニトロセルロース（２−プロパノール３０％含有、重合度８０、ナカライテスク製）・・・・・・・・・・・４．０ｇプロピレングリコールモノメチルエーテル・・・・・・・・４５ｇ

【００６３】−第２層の形成− 下記の塗布液を前記第１層上に塗布し、加熱（１１０
℃、２分）し、乾燥することにより、乾燥厚みが２μｍ
となるように第２層を形成し、レーザー記録用の水なし
原版を得た。 α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度約７００）・・・・・・・・・・・・・・・・９．００ｇ (CH₃)₃-Si-O-(SiH(CH₃)-O)₈-Si(CH₃)₃・・・・・・・・・０．６０ｇポリジメチルシロキサン（重合度約８０００）・・・・・０．５０ｇオレフィン・塩化白金酸・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ抑制剤［HC≡C-C(CH₃)₂-O-Si(CH₃)₃] ・・・・・・・・・０．０７ｇアイソパーＧ（エッソ化学（株）製）・・・・・・・・・５５ｇ

【００６４】＜露光工程＞得られたレーザー記録用の水
なし原版に、第２層側から、波長１０６４ｎｍ、ビーム
径４０μｍ（１／ｅ２）の半導体励起ＹＡＧレーザーを
用いて連続線の書き込みを行った。記録エネルギーは、
４５０ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００６５】＜第１の擦り工程＞その後、水道水を含ま
せた現像用パッドで、第２層の表面を、非画像部の第２
層に傷が付かない程度に擦り、レーザー露光部のインク
反発性の第２層の大部分を除去した。しかし、レーザー
露光部より除去したインク反発性の第２層のカスが、非
画像部のインク反発性の第２層、あるいは第２層が除去
された画像部上に付着した。また、レーザー露光部のイ
ンク反発性の第２層の一部は、除去されずに残存した。
用いた水道水の第２層の表面に対する接触角は、１０８
度であった。前記接触角の測定は、協和界面科学（株）
製接触角計ＣＡ−Ａ型を用い、２５℃の室温下、空中液
滴法により行った（以下における接触角の測定も同様に
行った。）

【００６６】＜第２の擦り工程＞次いで、下記組成１の
水溶液を含ませた現像用パッドで、第２層の表面を擦っ
た。下記組成の水溶液の第２層の表面に対する接触角
は、５４度であった。 −水溶液の組成１− エマルゲン９１１（花王アトラス（株）製、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル）・・・・１ｇ水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１９９ｇ

【００６７】その結果、版面上に付着したインク反発性
の第２層のカス及び除去されずに残存したレーザー露光
部のインク反発性の第２層を版面上から完全に除去する
ことができ、シャープなエッジの画像を該第２層に形成
できた。

【００６８】また、水なし原版を出力１１０ｍＷ、波長
８３０ｎｍ、ビーム径１０μｍ（１／ｅ２)の半導体レ
ーザーを用いて、主走査速度５ｍ／秒にて、第２層側か
ら、書き込みを行った後、同様の現像処理を行ったとこ
ろ、解像力は８μｍでシャープなエッジの水なし平版印
刷版を形成することができた。この記録条件及び同様の
現像処理にて、２００線の網点形成を行ったところ網点
面積率２％〜９８％までの画像を版上に形成することが
できた。このようにして画像が形成された水なし平版印
刷版を、印刷機を用いて印刷に供したところ、非画像部
の汚れ及び画像部のすぬけのない良好な印刷物が連続し
て２万枚得られた。

【００６９】（実施例２）実施例１において、前記第１
の擦り工程及び前記第２の擦り工程を、以下の通りに変
更した外は、実施例１と同様にした。

【００７０】＜第１の擦り工程＞エチレングリコールを
含ませた現像用パッドで第２層の表面を、非画像部の第
２層に傷が付かない程度に擦り、レーザー露光部のイン
ク反発性の第２層の大部分を除去した。

【００７１】該第１の擦り工程の終了後において、レー
ザー露光部より除去したインク反発性第２層のカスが、
非画像部のインク反発性第２層、あるいは第２層が除去
された画像部上に付着した。さらに、レーザー露光部の
インク反発性第２層の一部が除去されず残存した。な
お、エチレングリコールの第２層の表面に対する接触角
は、９２度であった。

【００７２】＜第２の擦り工程＞次いで、下記組成２の
水溶液を含ませた現像用パッドで、第２層の表面を擦っ
た。下記水溶液の第２層表面に対する接触角は、４８度
であった。 −水溶液の組成２− アミート１０５（花王アトラス（株）製、ポリオキシエチレンアルキルアミン）・・・・・・・・・１ｇ水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１９９ｇ

【００７３】その結果、版面上に付着したインク反発性
の第２層のカス及び除去されずに残存したレーザー露光
部のインク反発性の第２層を版面上から完全に除去する
ことができ、シャープなエッジの画像を該第２層に形成
できた。

【００７４】得られた水なし原版を、実施例１と全く同
様にして、半導体レーザーを用いて書き込みを行った
後、同様の現像処理を行ったところ、解像力は８μｍで
シャープなエッジの水なし平版印刷版が形成された。こ
の記録条件及び同様の現像処理にて、２００線の網点形
成を行ったところ、網点面積率２％〜９８％までの画像
が版上に形成できた。このようにして画像が形成された
水なし平版印刷版を、印刷機を用いて印刷に供したとこ
ろ、非画像部の汚れ及び画像部のすぬけのない良好な印
刷物が連続して２万枚得られた。

【００７５】（比較例１）実施例１において、前記第１
の擦り工程及び前記第２の擦り工程を以下の通りに変更
した。即ち、前記組成１の水溶液を含ませた現像用パッ
ドを用いて、第２層の表面を非画像部の第２層に傷が付
かない程度に擦った。すると、レーザー露光部のインク
反発性の第２層の大部分が除去されずに残存し、現像不
良となった。そこで、更にレーザー露光部のインク反発
性の第２層を完全に除去するまで、上記現像用パッドを
用いて第２層表面を擦ったところ、非画像部の第２層の
表面に傷が付いた。このようにして得られた比較例１の
水なし平版を、印刷機を用いて印刷に供したところ、非
画像部の傷の部分に、インクが着肉し、汚れのある印刷
物が得られた。

【００７６】（比較例２）実施例２において、前記第１
の擦り工程及び前記第２の擦り工程を以下の通りに変更
した。即ち、前記組成２の水溶液を含ませた現像用パッ
ドを用いて、第２層の表面を非画像部の第２層に傷が付
かない程度に擦った。すると、レーザー露光部のインク
反発性の第２層の大部分が除去されずに残存し、現像不
良となった。そこで、更にレーザー露光部のインク反発
性の第２層を完全に除去するまで、上記現像用パッドを
用いて第２層表面を擦ったところ、非画像部の第２層の
表面に傷が付いた。このようにして得られた比較例２の
水なし平版を、印刷機を用いて印刷に供したところ、非
画像部の傷の部分に、インクが着肉し、汚れのある印刷
物が得られた。

【００７７】（実施例３）以下のような水なし原版を得
た。厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート支持
体上に、下記組成のプライマー層塗布液を塗布し、加熱
（１００℃、１分）し、乾燥することにより、乾燥厚み
が０．２μｍのプライマー層を形成した。 −プライマー層塗布液− 下記化２で表される塩素化ポリエチレン・・・・・・・・・１．０ｇ（但し、化２において、ｙ＝１．７，ｎ＝２００である。）

【００７８】

【化２】

【００７９】メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０ｇシクロヘキサン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００ｇ

【００８０】次に、前記プライマー層を形成したポリエ
チレンテレフタレート支持体上に、蒸着真空度５×１０
^-5Ｔｏｒｒの条件下、Ｔｉを抵抗加熱により蒸着し、第
１層を形成した。第１層の厚みは２００Åであり、光学
濃度は０．６であった。

【００８１】次に、下記の塗布液を作成し、上記第１層
上に塗布し、加熱（１１０℃、１分）し、乾燥すること
により、乾燥厚みが２μｍのシリコーンゴムによる第２
層を形成した。 α，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン（重合度約９００）・・・・・・・・・・・・・・・９．００ｇメチルトリアセトキシシラン・・・・・・・・・・・・・１．００ｇジメチルジアセトキシシラン・・・・・・・・・・・・・１．００ｇオクチル酸ジブチルスズ・・・・・・・・・・・・・・・０．０１ｇアイソパーＧ（エッソ化学（株）製）・・・・・・・・・１２０ｇ

【００８２】上記のようにして得られたシリコーンゴム
による第２層の表面に６μｍのポリエチレンテレフタレ
ートをカバーフィルムとしてラミネートし、水なし原版
を得た。

【００８３】＜露光工程＞得られた水なし原版のカバー
フィルムを剥離した後、第２層側から、波長１０６４ｎ
ｍ、ビーム径４０μｍ（１／ｅ２)の半導体励起ＹＡＧ
レーザーを用いて連続線の書き込みを行った。記録エネ
ルギーは４５０ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００８４】＜第１の擦り工程＞その後、水道水を含ま
せた現像用パッドで、第２層の表面を、非画像部の第２
層に傷が付かない程度に擦り、レーザー露光部のインク
反発性第２層の大部分を除去した。その結果、レーザー
露光部より除去したインク反発性の第２層のカスが、非
画像部のインク反発性の第２層、あるいは第２層が除去
された画像部上に付着した。また、レーザー露光部のイ
ンク反発性の第２層の一部が除去されず残存した。な
お、水道水の第２層の表面に対する接触角は、１１１度
であった。

【００８５】＜第２の擦り工程＞次いで、下記組成３の
水溶液を含ませた現像用パッドで、第２層の表面を擦っ
た。なお、下記水溶液の第２層表面に対する接触角は、
５０度であった。 −水溶液の組成３− ペレックスＯＴ−Ｐ（花王アトラス（株）製、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム）・・・・・・・０．８５ｇＫＳ５０２（信越化学（株）製、シリコーン系消泡剤）・０．０２ｇ水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２００ｇその結果、版面上に付着したインク反発性の第２層のカ
ス及び除去されずに残存したレーザー露光部のインク反
発性の第２層を、版面上から完全に除去することがで
き、シャープなエッジの画像を第２層に形成することが
できた。

【００８６】また、水なし原版を出力１１０ｍＷ、波長
８３０ｎｍ、ビーム径１０μｍ（１／ｅ２)の半導体レ
ーザーを用いて、主走査速度５ｍ／秒にて、第２層側か
ら、書き込みを行った後、同様の現像処理を行ったとこ
ろ、解像力は７μｍでシャープなエッジの水なし平版印
刷版が形成された。

【００８７】この記録条件及び同様の現像処理にて、２
００線の網点形成を行ったところ、網点面積率２％〜９
８％までの画像が版上に形成できた。このようにして画
像が形成された水なし平版印刷版を、印刷機を用いて印
刷に供したところ、非画像部の汚れ及び画像部のすぬけ
のない良好な印刷物が連続して２万枚得られた。

【００８８】（実施例４）実施例３において、第１の擦
り工程及び第２の擦り工程を以下の通りに変更した外
は、実施例３と同様にした。＜第１の擦り工程＞下記組成４の水溶液を含ませた現像
用パッドで、第２層の表面を、非画像部の第２層に傷が
付かない程度に擦り、レーザー露光部のインク反発性の
第２層の大部分を除去した。 −水溶液の組成４− デモールＮＬ（花王アトラス（株）製、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物）・・・・・・・４ｇ水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１９６ｇその結果、レーザー露光部より除去したインク反発性の
第２層のカスが、非画像部のインク反発性の第２層、あ
るいは第２層が除去された画像部上に付着した。更にレ
ーザー露光部のインク反発性の第２層の一部が除去され
ず残存した。なお、上記水溶液の第２層の表面に対する
接触角は、１０４度であった。

【００８９】＜第２の擦り工程＞次いで、下記組成５の
水溶液を含ませた現像用パッドで、第２層の表面を擦っ
た。なお、下記水溶液の第２層の表面に対する接触角
は、５４度であった。 −水溶液の組成５− ＤＢＥ−８２１（チッソ（株）製、ジメチルシロキサン− ポリエチレンオキシドブロックコポリマー・・・・・・・０．４ｇ水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１９９．６ｇその結果、版面上に付着したインク反発性の第２層のカ
ス及び除去されずに残存したレーザー露光部のインク反
発性の第２層を版面上から完全に除去することができ、
シャープなエッジの画像を第２層に形成することができ
た。

【００９０】また、水なし原版を実施例３と全く同様
に、半導体レーザーを用いて書き込みを行った後、同様
の現像処理を行ったところ、解像力は７μｍでシャープ
なエッジの水なし平版印刷版が形成された。

【００９１】この記録条件及び同様の現像処理にて、２
００線の網点形成を行ったところ網点面積率２％〜９８
％までの画像が版上に形成できた。このようにして画像
が形成された水なし平版印刷版を、印刷機を用いて印刷
に供したところ、非画像部の汚れ及び画像部のすぬけの
ない良好な印刷物が連続して２万枚得られた。

【００９２】（比較例３）実施例３において、前記第１
の擦り工程及び前記第２の擦り工程を以下の通りに変更
した。即ち、前記組成３の水溶液を含ませた現像用パッ
ドを用いて、第２層の表面を非画像部の第２層に傷が付
かない程度に擦った。すると、レーザー露光部のインク
反発性の第２層の大部分が除去されずに残存し、現像不
良となった。そこで、更にレーザー露光部のインク反発
性の第２層を完全に除去するまで、上記現像用パッドを
用いて第２層表面を擦ったところ、非画像部の第２層の
表面に傷が付いた。このようにして得られた比較例３の
水なし平版を、印刷機を用いて印刷に供したところ、非
画像部の傷の部分に、インクが着肉し、汚れのある印刷
物が得られた。

【００９３】（比較例４）実施例４において、前記第１
の擦り工程及び前記第２の擦り工程を以下の通りに変更
した。即ち、前記組成４の水溶液を含ませた現像用パッ
ドを用いて、第２層の表面を非画像部の第２層に傷が付
かない程度に擦った。すると、レーザー露光部のインク
反発性の第２層の大部分が除去されずに残存し、現像不
良となった。そこで、更にレーザー露光部のインク反発
性の第２層を完全に除去するまで、上記現像用パッドを
用いて第２層表面を擦ったところ、非画像部の第２層の
表面に傷が付いた。このようにして得られた比較例４の
水なし平版を、印刷機を用いて印刷に供したところ、非
画像部の傷の部分に、インクが着肉し、汚れのある印刷
物が得られた。

【００９４】

【発明の効果】本発明によると、前記従来における諸問
題を解決することができる。また、本発明によると、レ
ーザー記録でき、露光部のインク反発性層の除去性能と
印刷性能を満足する水なし平版印刷版の形成方法を提供
することができる。また、本発明によると、露光部シリ
コーン層除去によるシリコーン画像形成の際に、印刷時
に問題となる非画像部の汚れ及び画像部のすぬけの原因
となる物質が水なし平版の版面に残存しない、水なし平
版印刷版の形成方法を提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザー光を熱に変換する第１層及びイ
ンキ反発性の表面を有する第２層を支持体上にこの順に
積層してなる水なし平版印刷原版に対し、該第１層が吸
収可能なレーザー光を照射し画像露光する工程、該第２
層の表面に対する接触角が９０度以上の液体の存在下で
該第２層の表面を擦り該第２層におけるレーザー照射部
の少なくとも一部を除去する第１の擦り工程、及び、該
第２層の表面に対する接触角が９０度未満の液体の存在
下で該第２層の表面を擦る第２の擦り工程を含むことを
特徴とする水なし平版印刷版の形成方法。