JP2000238449A - 水なし平版印刷原版 - Google Patents

水なし平版印刷原版

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JP2000238449A JP3933299A JP3933299A JP2000238449A JP 2000238449 A JP2000238449 A JP 2000238449A JP 3933299 A JP3933299 A JP 3933299A JP 3933299 A JP3933299 A JP 3933299A JP 2000238449 A JP2000238449 A JP 2000238449A
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紀文 因埜
Tsumoru Hirano
積 平野
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザーによる描き込みが可能で、耐傷性、
耐溶剤性に優れ、画像再現性が良好な水なし平版印刷原
版を提供する。 【解決手段】 支持体上に、レーザー光を熱に変換する
化合物を含有する光熱変換層およびシリコーンゴム層を
この順に積層してなる水なし平版印刷原版であって、該
光熱変換層が、チタンジイソプロポキサイドビス（２，
４−ペンタジオネート）のような金属キレート化合物の
反応物及び／又は金属キレート化合物の自己縮合物を含
有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水なし平版印刷版
（以下、水なし平版と称すこともある）を作成する為の
平版印刷原版に関し、特にレーザー光によるヒートモー
ド記録が可能で耐傷性、耐溶剤性および画像再現性が良
好な水なし平版印刷原版に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の湿し水を必要とする印刷方式は湿
し水とインキの微妙なバランスのコントロールが難し
く、インキの乳化を起こしたり、湿し水にインキが混ざ
ったりして、インキ濃度不良や地汚れを発生し、これら
が損紙の原因となっていた。
【０００３】それに対して、水なし平版は湿し水を必要
としないために数多くの利点を有する。このような湿し
水を用いないで平版印刷を行うための水なし平版に関し
ては例えば、特公昭４４−２３０４２号公報、特公昭４
６−１６０４４号公報、特公昭５４−２６９２３号公
報、特公昭５６−１４９７６号公報、特公昭５６−２３
１５０号公報、特公昭６１−５４２２２号公報、特開昭
５８−２１５４１１号公報、特開平２−１６５６１号公
報、特開平２−２３６５５０号公報等において種々のも
のが提案されている。
【０００４】その中でも支持体上に、プライマー層、光
重合性光熱変換層およびシリコーンゴム層をこの順に塗
設し、露光により、露光部の光重合性光熱変換層が重合
硬化するとともに、シリコーンゴム層との接着力が強化
され、現像において未露光部のシリコーンゴム層のみが
剥離されてインク受容部となり、画像を形成する水なし
平版が極めて優れた性能を有している。
【０００５】一方、近年プリプレスシステムやイメージ
セッター、レーザープリンターなどの出力システムの急
激な進歩によって、印刷画像をデジタルデーター化し、
コンピューター・トウ・プレート、コンピューター・ト
ウ・シリンダー等の新しい製版方法により、印刷版を得
る方法が提案されるようになり、これらの印刷システム
のための新しいタイプの印刷材料が望まれ、開発が進め
られている。
【０００６】しかし、これらの技術は、従来の湿し水を
用いて印刷する平版印刷版に関するものが殆どであり、
水なし平版に関してはほとんど知られていないのが実状
である。
【０００７】レーザー描き込みにより水なし平版を形成
できる例としては、例えば、米国特許５、３５３、７０
５号公報、国際公開ＷＯ−９４０１２８０号公報、特開
平９−１３１９７８号公報等に記載された水なし平版印
刷原版等が挙げられる。しかし、これらはインキ反発性
のシリコーンゴム層の除去をレーザー照射による光熱変
換層のアブレーションに頼るために、細線の直線性およ
び網点の真円性に乏しく、印刷画像としては不満足であ
り、その改良が強く望まれていた。また、従来公知の技
術では光熱変換層とシリコーンゴム層との接着性及び光
熱変換層の耐溶剤性が悪いため、印刷版取り扱い時、版
面の溶剤洗浄時及び印刷時に印刷版に傷が入りやすく、
傷にインキが着肉して、非画像部が汚れる問題が生じ
る。このような傷の発生を防止するために、シリコーン
ゴム層にシランカップリング剤を添加することが記載さ
れている公報もあるが、シランカップリング剤は光熱変
換層とシリコーンゴム層の接着力を高めるには不十分で
あり、耐傷性向上の効果も少ない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、レー
ザーによる描き込み可能で、耐傷性、耐溶剤性に優れ、
画像再現性が良好な水なし平版印刷原版を提供すること
である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討の
結果、支持体上に、レーザー光を熱に変換する化合物を
含有する光熱変換層およびシリコーンゴム層をこの順に
積層してなる水なし平版印刷原版において、金属キレー
ト化合物及び、さらに好ましくは、分子内に活性水素を
有するポリマーを含有する塗布液を塗布乾燥して、該光
熱変換層を形成することによって本発明の目的を達成す
るに至った。
【００１０】即ち、本発明は支持体上に、レーザー光を
熱に変換する化合物を含有する光熱変換層およびシリコ
ーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷原版
であって、該光熱変換層が金属キレート化合物の反応物
及び／又は金属キレート化合物の自己縮合物を含有する
ことを特徴とする。光熱変換層は、さらに、分子内に活
性水素を有するポリマーを含有することが好ましい。
【００１１】本発明においては、光熱変換層の塗布乾燥
時に、金属キレート化合物は、活性水素を含有する化合
物と反応する。水と反応した場合には、加水分解及び縮
合反応が進行し、また、分子内に活性水素を有するポリ
マーと反応した場合には、架橋構造を形成する。以上の
結果、光熱変換層は、化学的結合及び物理的なポリマー
分子の絡み合いにより、溶剤に対しての耐性が向上す
る。さらに、シリコーン層の塗布乾燥時に、光熱変換層
とシリコーン層の接着性が増大するため、耐傷性が向上
する。この光熱変換層とシリコーン層の接着性増大の理
由は、未だ明確ではないが、光熱変換層中に含有される
金属キレート化合物の反応物が有する残基とシリコーン
層中に含有されるシリコーン架橋剤との共有結合の形
成、あるいは、極めて強い相互作用の形成に由来するも
のであると考えられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳しく説明す
る。
【００１３】本発明は、支持体上に、レーザー光を熱に
変換する化合物を含有する光熱変換層およびシリコーン
ゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷原版であ
る。
【００１４】本発明に用いられる光熱変換層は描き込み
に使用されるレーザー光を熱に変換（光熱変換）する機
能を有する層であり、塗布法により形成される。本発明
の光熱変換層の塗布液中には、少なくとも（１）金属キ
レート化合物および（２）光熱変換剤を含有し、さら
に、（３）分子内に活性水素を有するポリマーを含有す
ることが好ましい。
【００１５】本発明に用いる（１）金属キレート化合物
は、金属に配位可能なドナー基を２個以上有するキレー
ト化剤が金属に配位し、１個以上の環状構造を有する化
合物である。
【００１６】ドナー基としては、例えば、酸素がドナー
原子の場合、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、＞Ｃ＝Ｏ、−Ｏ−、
−ＣＯＯＲ（Ｒ：脂肪族、芳香族炭化水素基を表す）、
−Ｎ＝Ｏ、−ＮＯ2 、＞Ｎ→Ｏ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＰＯ3
Ｈ2 等が、窒素がドナー原子の場合、−ＮＨ2 、＞Ｎ
Ｈ、＞Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、＝Ｎ−ＯＨ、−ＮＯ2 、−Ｎ
＝Ｏ、＞Ｃ＝Ｎ−、＞Ｃ＝ＮＨ等が、硫黄がドナー原子
の場合、−ＳＨ、−Ｓ−、＞Ｃ＝Ｓ、−ＣＯ−ＳＨ、−
ＣＳ−ＯＨ、−ＣＳ−ＳＨ、−ＳＣＮ等が挙げられる。
【００１７】キレート化剤としては、例えば、β−ジケ
トン型の２，４−ペンタンジオン（アセチルアセト
ン）、２，４−ヘプタンジオン等、ケトエステル型のア
セト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチル
等、ヒドロキシカルボン酸またはそのエステル、塩型の
乳酸、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸アンモニウム塩、
サリチル酸、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、サ
リチル酸フェニル、リンゴ酸、リンゴ酸エチル、酒石
酸、酒石酸メチル、酒石酸エチル等、ケトアルコール型
の４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、４−
ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−２−ヘ
プタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ヘプタノ
ン等、アミノアルコール型のモノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチル
−モノエタノールアミン、Ｎ−エチル−モノエタノール
アミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルモノエタノールアミン、Ｎ，
Ｎ−ジエチルモノエタノールアミン等、エノール性活性
水素化合物型のマロン酸ジエチルエステル、メチロール
メラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミド
等が挙げられる。
【００１８】金属としては、例えば、Ａｌ、Ｂａ、Ｂ
ｉ、Ｃｄ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｄｙ、Ｅ
ｒ、Ｇｄ、Ｈｆ、Ｈｏ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｌａ、Ｐ
ｂ、Ｌｉ、Ｌｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ｋ、Ｐｒ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｒｂ、Ｓｍ、Ｓｃ、
Ａｇ、Ｎａ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｂ、Ｔｌ、Ｔｈ、Ｔｍ、Ｓ
ｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｙｂ、Ｙ、Ｚｎ、Ｚｒ等があげられる
が、特に、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒが好適に使用できる。
【００１９】Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒのキレート化合物の具体
例としては、チタンアリルアセトアセテートトリイソプ
ロポキサイド、チタンビス（トリエタノールアミン）ジ
イソプロポキサイド、チタンビス（トリエタノールアミ
ン）ジ−ｎ−ブトキサイド、チタンジイソプロポキサイ
ドビス（２，４−ペンタジオネート）、チタンジ−ｎ−
ブトキサイドビス（２，４−ペンタジオネート）、チタ
ンジイソプロポキサイドビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−３，５−ヘプタンジオネート）、チタンジイソ
プロポキサイドビス（エチルアセトアセテート）、チタ
ンジ−ｎ−ブトキサイドビス（エチルアセトアセテー
ト）、チタンエチルアセトアセテートトリ−ｎ−ブトキ
サイド、チタンメタクリルオキシエチルアセテートトリ
イソプロポキサイド、チタンオキシドビス（２，４−ペ
ンタジオネート）、チタンテトラ（２―エチル−３−ヒ
ドロキシ−ヘキシルオキサイド）、ジヒドロキシビス
（ラクテート）チタン、（エチレングリコレート）チタ
ンビス（ジオクチルフォスフェート）、アルミニウムｓ
−ブトキサイドビス（エチルアセトアセテート）、アル
ミニウムジ−ｓ−ブトキサイドエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムジイソプロポキサイドエチルアセトア
セテート、アルミニウムトリス（ヘキサフルオロペンタ
ンジオネート）、アルミニウムトリス（２，４−ペンタ
ンジオネート）、アルミニウム９−オクタデセニルアセ
トアセテートジイソプロポキサイド、アルミニウムトリ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタン
ジオネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセ
テート）、ジルコニウムジ−ｎ−ブトキサイドビス
（２，４−ペンタンジオネート）、ジルコニウムテトラ
キス（ヘキサフルオロペンタンジオネート）、ジルコニ
ウムテトラキス（トリフルオロペンタンジオネート）、
ジルコニウムメタクリルオキシエチルアセトアセテート
トリ−ｎ−プロポキサイド、ジルコニウムテトラキス
（２，４−ペンタンジオネート）、ジルコニウムテトラ
キス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタ
ンジオネート）、トリグリコラートジルコン酸、トリラ
クテートジルコン酸等が挙げられる。これらの中では、
チタンジイソプロポキサイドビス（２，４−ペンタジオ
ネート）、チタンジイソプロポキサイドビス（エチルア
セトアセテート）、アルミニウムトリス（２，４−ペン
タジオネート）、アルミニウムｓ−ブトキサイドビス
（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラキス
（２，４−ペンタジオネート）、ジルコニウムジ−ｎ−
ブトキサイドビス（２，４−ペンタジオネート）等が好
ましい。
【００２０】このような金属キレート化合物は、それに
対応する金属アルコキシドに比べ、加水分解またはエス
テル交換反応等の反応性が緩慢であるため、取り扱い上
及び貯蔵上有利であり、特に、本発明の光熱変換層の塗
布液貯蔵安定性の上で有利に使用することができる。
【００２１】本発明に用いる金属キレート化合物は、１
種単独で用いても、２種以上を併用しても良い。また、
その使用量は光熱変換層の塗布液中の総固形分重量に対
して、１重量％〜５０重量％、好ましくは６重量％〜４
５重量％、より好ましくは１０重量％〜４０重量％であ
る。使用量が１重量％より少ない場合には、光熱変換層
の耐溶剤性及びシリコーン層と光熱変換層の接着性が充
分得られず、５０重量％より多い場合には、光熱変換層
が硬くなり、耐傷性及び耐刷性が低下しやすい。
【００２２】本発明に用いる（２）レーザー光を熱に変
換する化合物（光熱変換剤）としては、無機顔料、有機
顔料、有機色素、金属もしくは金属酸化物が挙げられ
る。無機顔料としては酸性カーボンブラック、塩基性カ
ーボンブラック、中性カーボンブラックなど各種カーボ
ンブラック、分散性改良等のために表面修飾もしくは表
面コートされた各種カーボンブラック等が挙げられる。
また、有機顔料としてはニグロシン類が挙げられる。有
機色素としては「赤外増感色素」（松岡著 Plenum Pres
s, New York, NY (1990)）、米国特許４、８３３、１２
４号、ヨ−ロッパ特許公開３２１、９２３号、米国特許
４、７７２、５８３号、米国特許４、９４２、１４１
号、米国特許４、９４８、７７６号、米国特許４、９４
８、７７７号、米国特許４、９４８、７７８号、米国特
許４、９５０、６３９号、米国特許４、９１２、０８３
号、米国特許４、９５２、５５２号、米国特許５、０２
３、２２９号などに記載の各種化合物が挙げられる。金
属もしくは金属酸化物としてはアルミニウム、インジウ
ムスズ酸化物、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化
チタン等、この他にポリピロール、ポリアニリンなどの
導電性ポリマーなどが挙げられる。
【００２３】その使用量は光熱変換層の総固形分重量に
対して、５重量％〜５０重量％、好ましくは８重量％〜
４５重量％、より好ましくは１０重量％〜４０重量％で
ある。
【００２４】光熱変換層には、フィルム形成能を有する
ポリマー（バインダー）を用いることができる。その光
熱変換層に使用されるポリマーの例としては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリブチルメタクリレートなどのア
クリル酸エステル、メタクリル酸エステルの単独重合体
および共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレンな
どのスチレン系モノマーの単独重合体もしくは共重合
体、イソプレン、スチレン−ブタジエンなどの各種合成
ゴム類、ポリ酢酸ビニルなどのビニルエステル類の単独
重合体および酢酸ビニル−塩化ビニルなどの共重合体、
ポリエステル、ポリカーボネートなどの縮合系各種ポリ
マー、分子内に活性水素を有するポリマー等が使用可能
である。これらの中では、分子内に活性水素を有するポ
リマーが好ましい。
【００２５】本発明に用いる（３）分子内に活性水素を
有するポリマーとは、例えば、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ
2 、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ2 、−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ
ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−ＯＨ、
−ＣＳ−ＯＨ、−ＣＯ−ＳＨ、−ＣＳ−ＳＨ、−ＳＯ3
Ｈ、−ＰＯ3 Ｈ2 、−ＳＯ2 −ＮＨ2 、−ＳＯ2 −ＮＨ
−、−ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＯ−等の活性水素を有する構造
単位を分子内に有するポリマーであり、このような構造
単位を分子内に有するポリマーとしては、例えば、アク
リル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基を含有するモ
ノマーの単独重合体もしくは共重合体、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト等の水酸基を含有するアクリル酸又はメタクリル酸エ
ステルの単独重合体もしくは共重合体、Ｎ−アルキルア
クリルアミド、アクリルアミドの単独重合体もしくは共
重合体、アミン類とアクリル酸グリシジル、メタクリル
酸グリシジル又はアリルグリシジルとの反応物の単独重
合体もしくは共重合体、ｐ−ヒドロキシスチレン、ビニ
ルアルコールの単独重合体もしくは共重合体等の活性水
素を含有するエチレン性不飽和モノマーの単独重合体も
しくは共重合体（共重合モノマー成分としては、活性水
素を含有する他のエチレン性不飽和モノマーでも良く、
活性水素を含有しないエチレン性不飽和モノマーでも良
い。）や、ポリウレタン樹脂類、ポリウレア樹脂類、ポ
リアミド樹脂（ナイロン樹脂）類、エポキシ樹脂類、ポ
リアルキレンイミン類、ノボラック樹脂類、セルロース
誘導体類等の主鎖に活性水素を有する構造単位を有する
縮合体が挙げられる。
【００２６】これらのバインダポリマーは、１種単独で
用いても、２種以上を併用して用いても良い。バインダ
ーの使用量は光熱変換層の総固形分重量に対して、２０
重量％〜９０重量％、好ましくは２５重量％〜８０重量
％、より好ましくは３０重量％〜７５重量％である。
【００２７】分子内に活性水素を有するポリマーの使用
量はバインダーの５０重量％〜１００重量％が好まし
く、より好ましくは７０重量％〜１００重量％、さらに
好ましくは９０重量％〜１００重量％である。 その他の成分 その他の添加物が光熱変換層のレーザー記録感度を向上
させたり、光熱変換層中の分散物の分散性を向上させた
り、支持体やプライマー層などの隣接する層に対する密
着性を向上させるなど種々の目的に応じて添加される。
例えば、レーザー記録感度を向上させるために加熱によ
り分解しガスを発生する公知の化合物を添加することが
考えられる、この場合には光熱変換層の急激な体積膨張
によりレーザー記録感度が向上できる。これらの添加剤
の例としては、アジドジカルボンアミド、スルフォニル
ヒドラジン、ジニトロソペンタメチレンテトラミンなど
が挙げられる。
【００２８】また、加熱により分解し酸性化合物を生成
する公知の化合物を添加剤として使用することが出来
る。これらを、「J. Imaging Sci., P59-64, 30(2), (1
986)（Frechet ら）」や「Polymers in Electronics
（Symposium Series, P11, 242,T. Davidson, Ed.,ACS
Washington, DC (1984)（Ito, Willson）」、「Microel
ectronic Engineering, P3-10, 13 (1991) （E. Reichm
anis, L.F. Thompson）」に記載のいわゆる「化学増幅
系」に使用されるバインダーと併用することにより、光
熱変換層の構成物質の分解温度を大きく低下させ、結果
としてレーザー記録感度を向上させることが可能であ
る。これらの添加剤の例としては、各種のヨードニウム
塩、スルフォニウム塩、フォスフォニウムトシレート、
オキシムスルフォネート、ジカルボジイミドスルフォネ
ート、トリアジンなどが挙げられる。
【００２９】また、多官能イソシアネート化合物、多官
能エポキシ化合物や多官能メチロール化合物等の公知の
多官能架橋剤を併用して、更なる架橋構造を導入するこ
とも可能である。
【００３０】光熱変換剤にカーボンブラックなどの顔料
を用いた場合には、顔料の分散度がレーザー記録感度に
影響を与えることがあり、各種の顔料分散剤が添加剤と
して使用される。この他にも、塗布性を改良するための
界面活性剤など必要に応じて各種の添加剤が使用され
る。
【００３１】本発明に用いる上記の光熱変換層組成物
は、例えば、２−メトキシエタノール、２−メトキシエ
チルアセテート、プロピレングリコールメチルエチルア
セテート、乳酸メチル、乳酸エチル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、エタノール、イソプロパノー
ル、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の適当な溶剤の単独又はこれらの混合
溶媒に溶解して、基板上に塗布、乾燥される。好ましい
乾燥温度は、使用する溶剤及び金属キレート化合物に依
存するが、１００℃以上の乾燥温度が好ましい。
【００３２】その塗布重量は乾燥後の重量で０．０５〜
１０ｇ／ｍ2 の範囲が適当であり、好ましくは０．１〜
５ｇ／ｍ2 の範囲である。光熱変換層の膜厚は厚すぎる
とレーザー記録感度の低下など好ましくない結果を与え
る。
【００３３】本発明において用いられる架橋を行ったシ
リコーンゴム層は、縮合型シリコーンを架橋剤を用いて
硬化させるか、付加型シリコーンを触媒により付加重合
させて形成することが好ましい。縮合型シリコーンを用
いる場合には、（ａ）ジオルガノポリシロキサン１００
重量部に対して、（ｂ）縮合型架橋剤を３〜７０重量
部、（ｃ）触媒０．０１〜４０重量部を加えた組成物を
用いるのが好適である。
【００３４】前記成分（ａ）のジオルガノポリシロキサ
ンは、下記一般式で示されるような繰り返し単位を有す
るポリマーで、Ｒ1 およびＲ2 は炭素数１〜１０アルキ
ル基、炭素数２〜１０のアルケニル基（好ましくは、ビ
ニル基）、炭素数６〜２０のアリール基であり、またそ
の他の適当な置換基を有していても良い。一般的にはＲ
1 およびＲ2 の６０％以上がメチル基、ハロゲン化ビニ
ル基、又はハロゲン化フェニル基などであるものが好ま
しい。
【００３５】
【化１】
【００３６】このようなジオルガノポリシロキサンとし
ては両末端に水酸基を有するものを用いるのが好まし
い。
【００３７】また、前記成分（ａ）の数平均分子量は好
ましくは３，０００〜１００，０００であり、より好ま
しくは１０，０００〜７０，０００である。
【００３８】成分（ｂ）の架橋剤は縮合型のものであれ
ばいずれであってもよいが、次の一般式で示されるよう
なものが好ましい。
【００３９】
【化２】
【００４０】ここでＲ1 は先に説明したＲ1 と同じ意味
であり、ＸはＣｌ、Ｂｒ，Ｉなどのハロゲン原子、水素
原子、水酸基、或いは以下に示す如き有機置換基を表
す。
【００４１】
【化３】
【００４２】式中、Ｒ3 は炭素数１〜１０のアルキル基
および炭素数６〜２０のアリール基、Ｒ4 、Ｒ5 は炭素
数１〜１０のアルキル基を示す。
【００４３】成分（ｃ）としては、錫、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例えば、ラ
ウリン酸ジブチル錫、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛な
ど、あるいは塩化白金酸等のような公知の触媒があげら
れる。
【００４４】付加型シリコーンを用いる場合には、
（ｄ）付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキ
サン１００重量部に対して、（ｅ）オルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン０．１〜１０重量部、（ｆ）付加触
媒０．００００１〜１重量部を添加した組成物を用いる
ことが好ましい。
【００４５】上記成分（ｄ）の付加反応性官能基を有す
るジオルガノポリシロキサンとは、１分子中にケイ素原
子に直接結合した炭素数２〜１０のアルケニル基（より
好ましくはビニル基）を少なくとも２個有するオルガノ
ポリシロキサンで、アルケニル基は分子の末端、中間い
ずれにあってもよく、アルケニル基以外の有機基として
は、置換もしくは非置換の炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数６〜２０のアリール基である。また、成分
（ｄ）には水酸基を微量有することも任意である。成分
（ｄ）の数平均分子量は好ましくは３，０００〜１０
０，０００であり、より好ましくは、１０，０００〜７
０，０００である。
【００４６】成分（ｅ）としては、両末端に水素基を有
するポリジメチルシロキサン、α、ω−ジメチルポリシ
ロキサン、両末端にメチル基を有するメチルシロキサン
−ジメチルシロキサン共重合体、環状ポリメチルシロキ
サン、両末端にトリメチルシリル基を有するポリメチル
シロキサン、両末端にトリメチルシリル基を有するジメ
チルシロキサン−メチルシロキサン共重合体などが例示
される。
【００４７】成分（ｆ）としては、公知のものの中から
任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白
金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金な
どが例示される。
【００４８】これらの組成物において硬化速度を制御す
る目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロキサンな
どのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭
素三重結合含有のアルコ−ル、アセトン、メチルエチル
ケトン、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピレングリコ−
ルモノメチルエ−テルなどの架橋抑制剤を添加すること
も可能である。
【００４９】なお、シリコーンゴム層には必要に応じ
て、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタンなどの無機物
の微粉末、シランカップリング剤、チタネート系カップ
リング剤やアルミニウム系カップリング剤などの接着助
剤や光重合開始剤を添加しても良い。
【００５０】本発明に用いる上記のシリコーンゴム層の
組成物は、例えば、石油系溶剤、アイソパーＥ、アイソ
パーＧ、アイソパーＨ（エッソ化学製）、ヘキサン、ヘ
プタン、トルエン、キシレン等の適当な溶媒の単独又は
これらの適当に組み合わせた混合溶媒に溶解して、基板
上に塗布し、乾燥、硬化して設けても良い。
【００５１】本発明におけるシリコーンゴム層は、塗布
重量が小さいとインキ反撥性が低下し、傷が入りやすい
等の問題点があり、塗布重量が大きい場合、現像性が悪
くなるという点から、塗布重量としては０．５〜５ｇ／
ｍ2 が好ましく、より好ましくは１〜３ｇ／ｍ2 であ
る。
【００５２】ここに説明した水なし平版において、シリ
コーンゴム層の上に更に種々のシリコーンゴム層を塗工
しても良い。更に、シリコーンゴム層の表面保護のため
に、シリコーンゴム層上に透明なフィルム、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビリニデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレ
フタレート、セロファン等をラミネートしたり、ポリマ
ーのコーティングを施しても良い。これらのフィルムは
使用時にはシリコーンゴム層から剥離される。なお、こ
れらのフィルムは延伸して用いても良い。また、表面に
マット加工を施しても良いが、マット加工の無いものの
方が本発明では好ましい。
【００５３】本発明に用いる支持体としては、通常の印
刷機にセットできる程度のたわみ性を有し、同時に印刷
時にかかる荷重に耐えるものでなければならない。従っ
て、代表的な支持体としては、コート紙、アルミニウム
のような金属板、ポリエチレンテレフタレートのような
プラスチックフィルム、ゴムあるいはそれらを複合させ
たものを挙げることができ、より好ましくはアルミニウ
ム、アルミニウム含有（例えば、珪素、銅、マンガン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル
などの金属とのアルミニウムとの合金）合金およびプラ
スチックフィルムである。
【００５４】支持体の膜厚は２５μｍから３ｍｍが好ま
しく、７５μｍから５００μｍがより好ましいが、用い
る支持体の種類と印刷条件により最適な厚さは変動す
る。一般には１００μｍから３００μｍが最も好まし
い。
【００５５】本発明においては、支持体と光熱変換層間
の接着性向上、印刷特性向上または高感度化のために、
支持体にコロナ処理等の表面処理を施したり、支持体と
光熱変換層との間にプライマー層を設けることができ
る。本発明に用いられるプライマー層としては、例え
ば、特開昭６０−２２９０３号公報に開示されているよ
うな種々の感光性ポリマーを感光性樹脂層を積層する前
に露光して硬化せしめたもの、特開昭６２−５０７６０
号公報に開示されているエポキシ樹脂を熱硬化せしめた
もの、特開昭６３−１３３１５１号公報に開示されてい
るゼラチンを硬膜せしめたもの、更に特開平３−２００
９６５号公報に開示されているウレタン樹脂とシランカ
ップリング剤を用いたものや特開平３−２７３２４８号
公報に開示されているウレタン樹脂を用いたもの等を挙
げることができる。この他、ゼラチンまたはカゼインを
硬膜させたものも有効である。
【００５６】更に、プライマー層を柔軟化させる目的
で、前記のプライマー層中に、ガラス転移温度が室温以
下であるポリウレタン、ポリアミド、スチレン／ブタジ
エンゴム、カルボキシ変性スチレン／ブタジエンゴム、
アクリロニトリル／ブタジエンゴム、カルボキシ変性ア
クリロニトリル／ブタジエンゴム、ポリイソプレン、ア
クリレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン等のポリマーを添加しても良い。
その添加割合は任意であり、フィルム層を形成できる範
囲内であれば、添加剤だけでプライマー層を形成しても
良い。
【００５７】また、これらのプライマー層には前記の目
的に沿って、染料、pH指示薬、焼き出し剤、光重合開始
剤、接着助剤（例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、
シランカップリング剤等）、顔料、シリカ粉末や酸化チ
タン粉末等の添加物を含有させることもできる。また、
塗布後、露光によって硬化させることもできる。
【００５８】一般に、プライマー層の塗布量は乾燥重量
で０．１〜１０ｇ／ｍ2 の範囲が好ましく、より好まし
くは０．３〜８ｇ／ｍ2 であり、さらに好ましくは０．
５〜５ｇ／ｍ2 である。
【００５９】本発明においては、記録に用いられるレー
ザー光エネルギーが、本発明の水なし平版の光熱変換層
において吸収されて熱エネルギーに変換され、これに起
因して、光熱変換層の一部もしくは全体の燃焼、融解、
分解、気化、爆発等の化学反応や物理変化により、結果
として光熱変換層とシリコーンゴム層間の密着性が低下
する。本発明においては水なし平版を露光するのにレー
ザー光が使用される。使用されるレーザーはシリコーン
ゴム層が剥離除去されるのに十分な密着力の低下が起き
るのに必要な露光量を与えるものであれば特に制限はな
く、Ａｒレーザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレー
ザー、ＹＡＧレーザーのような固体レーザー、そして半
導体レーザーなどが使用できる。通常出力が５０ｍＷク
ラス以上のレーザーが必要となる。保守性、価格などの
実用的な面からは、半導体レーザーおよび半導体励起の
固体レーザー（ＹＡＧレーザーなど）が好適に使用され
る。これらのレーザーの記録波長は赤外線の波長領域で
あり、８００ｎｍから１１００ｎｍの発振波長を利用す
ることが多い。また、特開平６−１８６７５０号公報に
記載されているイメージング装置を用いて露光すること
も可能である。シリコーンゴム層の表面保護のためのフ
ィルムを設ける場合は、使用するレーザー光に対して透
過性のフィルムであれば、そのまま露光しても良いし、
フィルムを剥がした後に露光しても良い。
【００６０】上記の方法で露光された本発明の水なし平
版印刷原版は、必要に応じて、擦りまたは剥離により現
像処理される。これにより画像部のインキ反撥層が除か
れ、その部分がインキ受容部となる。擦り現像処理は、
例えば、処理液の存在下又は非存在下において、現像用
パッドや現像用ブラシ等の擦り部材により版面を擦るこ
とにより実施される。本発明において使用される処理液
としては、水なし平版の処理液として公知のもの、例え
ば炭化水素類、極性溶媒、水（水道水、純水、蒸留水
等）及びこれらの組み合わせ等が使用できるが、安全性
および引火性等の観点から、水または水を主成分とする
水溶液が好ましく、有機溶剤の濃度は４０重量％未満が
望ましい。
【００６１】用い得る炭化水素類としては、例えば、脂
肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、”アイソパー
Ｅ、Ｈ、Ｇ”（エッソ化学（株）製）あるいはガソリ
ン、灯油等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン
等）、あるいはハロゲン化炭化水素（トリクレン等）等
が挙げられる。極性溶剤としては、例えば、アルコール
類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、２−エトキシエタノール、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエー
テル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポ
リエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピ
レングリコール、テトラエチレングリコール等）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、エステル類
（酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールアセテート、ジエチルフタレート等）、その他
トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェー
ト等が挙げられる。また、処理液は、これらの有機溶剤
や水等の他に、界面活性剤等やアルカリ剤（例えば、炭
酸ナトリウム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム
等）等を含むことができる。
【００６２】処理液の温度は、任意の温度で使用できる
が、好ましくは１０℃〜５０℃である。
【００６３】以上のような擦り現像処理、叉はそれに続
く水洗、乾燥処理は、自動処理機で行うこともできる。
このような自動処理機の好ましいものは、特開平２−２
２００６１号公報に記載されている。
【００６４】剥離現像処理は、例えば、接着層を有する
剥離シートをシリコーンゴム層表面に張り合わせた後
に、接着層を剥離することにより実施される。このよう
な剥離シートとしては、シリコーンゴム層の表面に密着
できる公知の接着層を可撓性支持体に設けたものものが
使用できる。接着層として用いることができる市販品と
しては、例えば、東芝シリコーン製ＴＳＲ１５１０，Ｔ
ＳＲ１５１１，ＴＳＲ１５１５，ＴＳＲ１５２０、東レ
ダウコーニングシリコーン製ＳＨ４２８０，ＳＤ４５６
０，ＳＤ４５７０，ＳＤ４５８０等のシリコーン系感圧
接着剤が挙げられる。
【００６５】接着層の膜厚は、１μｍ〜２００μｍが好
ましく、より好ましくは、５μｍ〜１００μｍであり、
さらに好ましくは、１０μｍ〜５０μｍである。
【００６６】また、シリコーンゴム層の表面に密着でき
る接着層を可撓性支持体に設けたものが市販されてお
り、剥離シートとして使用することができる。例えば、
日東電工製ＮＯ．３３６，ＮＯ．３６０ＰＣ，ＮＯ．３
６０ＵＬ、住友スリーエム製スコッチテープ＃８５１
Ａ，スコッチテープ＃５４１３，スコッチテープ＃９３
９６，スコッチテープ＃５４９０、ソニーケミカルズ製
ソニーボンドテープＴ４０８０、Ｂｅｉｅｒｓｄｏｒｆ
製ｔｅｓａテープ＃４４２８，ｔｅｓａテープ＃４３５
０−１，ｔｅｓａテープ＃４１４２，ｔｅｓａテープ＃
４３３１，ｔｅｓａテープ＃４３１０、Ｐｅｒｍａｃｅ
ｌ製Ｐ−３６６，Ｐ−３７７，Ｐ−９０４，Ｐ９０４Ｈ
Ｄ等が挙げられる。
【００６７】また、以上のように現像処理された刷版を
積み重ねて保管する場合には、刷版を保護するために合
紙を挿入し挟んでおくことが好ましい。
【００６８】
【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。ただし、本発明は下記の実施例に限定されるもので
はない。実施例１〜８ （支持体）厚さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体上に、下記組成の塗布液を塗布し、加熱（１０
０℃、１分）、乾燥することにより、乾燥膜厚０．２μ
ｍのプライマー層を形成した。
【００６９】 塩素化ポリエチレン １．０ｇ
【００７０】
【化４】
【００７１】 メチルエチルケトン １０ｇ シクロヘキサン １００ｇ （カーボンブラック分散液の作成）下記の混合液をペイ
ントシェーカーにて３０分間分散した後、ガラスビーズ
をろ別してカーボンブラック分散液を作成した。
【００７２】 カーボンブラック（ＭＡ１００ 三菱化学（株）製） ４．０ｇ ソルスパースＳ２７０００（ＩＣＩ社製） ０．４ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル １０ｇ メチルエチルケトン １０ｇ ガラスビーズ １２０ｇ （光熱変換層の形成）前記の塩素化ポリエチレンが下塗
りされたポリエチレンテレフタレート上に、下記の塗布
液を塗布し、加熱（１１０℃、１分）、乾燥することに
より、乾燥膜厚１μｍの光熱変換層を形成した。
【００７３】 上記のカーボンブラック分散液 ２０ｇ ヒドロキシエチルメタクリレート（２０重量％）と メチルメタクリレート（８０重量％）の共重合体 ７．６５ｇ 表１の金属キレート化合物 プロピレングリコールモノメチルエーテル ４５ｇ メチルエチルケトン ４５ｇ
【００７４】
【表１】
【００７５】（シリコーンゴム層の形成）下記の塗布液
を前記光熱交換層上に塗布し、加熱（１１０℃、１
分）、乾燥することにより、乾燥膜厚２μｍの付加型シ
リコーンゴム層を形成した。
【００７６】 α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度約７００） ９．００ｇ (CH3)3-Si-O-(SiH(CH3)-O)8-Si(CH3)3 ０．６０ｇ ポリジメチルシロキサン（重合度 約８０００） ０．５０ｇ オレフィン−塩化白金酸 ０．０８ｇ 抑制剤［HC≡C-C(CH3)2-O-Si(CH3)3] ０．０７ｇ アイソパーＧ（エッソ化学（株）製） ５５ｇ 上記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に６
μｍのポリエチレンテレフタレートをラミネートした。
【００７７】得られた本発明の水なし平版印刷原版のカ
バ−フィルムを剥離した後に、波長１０６４ｎｍ、ビ−
ム径１００μｍ（１／ｅ2 ）の半導体励起ＹＡＧレ−ザ
−を用いて連続線の描き込みを行った。記録エネルギー
は０．７５Ｊ／ｃｍ2 とした。その後、下記組成の処理
液１を含ませた現像用パッドで版面を擦り、レーザー照
射部のシリコーンゴム層を除去した。一方、レーザー未
照射部のシリコーン層は除去されずに水なし平版表面に
保持され、シャープなエッジのシリコーン画像が形成で
きた。 （処理液１） ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート ５ｇ （花王（株）製レオドールＴＷ−Ｏ１０６） 水 ９９５ｇ また、水なし平版印刷原版を版面上パワー１１０ｍＷ、
波長８２５ｎｍ、ビーム径１０μｍ（１／ｅ2 ）の半導
体レーザーを用いて、主操作速度６ｍ／秒にて描き込み
を行った後、同様の現像を行った。解像力は８μｍでシ
ャープなエッジのシリコーン画像を有する水なし平版印
刷版が形成された。この記録条件にて、２００ｌｐｉの
網点形成を行ったところ網点面積率２％から９８％まで
が版上に形成できた。また、得られた水なし平版印刷版
の非画像部をＨＥＩＤＯＮ（新東化学（株）製表面性試
験機）を用い、０．２５ミリのサファイア針に１００ｇ
の荷重をかけてスクラッチを行い、シリコーンゴム層の
耐傷性を評価した。このようにして形成された水なし平
版印刷版を、印刷機を用いて印刷したところ、１万枚の
汚れのない良好な印刷物が得られた。次いで、この水な
し平版印刷版の版面を下記組成の洗浄液１を含ませたウ
エスで拭いた後、印刷を行い、耐溶剤性の評価を行った
ところ、さらに、１万枚の汚れのない良好な印刷物が得
られた。 （洗浄液１） メチルエチルケトン ２００ｇ アイソパーＥ（エッソ化学（株）製炭化水素系溶剤） ８００ｇ比較例１ 金属キレート化合物を添加しない以外は、実施例１と全
く同様にして水なし平版印刷原版を形成した。次いで、
実施例１と全く同様にして、半導体励起ＹＡＧレーザー
および半導体レーザーにて描き込みを行った後、同様の
現像処理を行った。しかし、記録画像としては形成され
たシリコーン画像のエッジが不鮮明であり、これを印刷
した時、印刷が進むにしたがってエッジ部のシリコーン
が脱離するため、画像面積が増大してしまうなど種々の
不都合を示した。また、２００ｌｐｉの網点形成を行っ
たところ網点面積率４％から９６％までしか形成され
ず、フリンジの残る網点形状であった。また、実施例１
と同様に耐傷性の評価を行ったが、印刷において傷つけ
た部分にインキが着肉し、汚れとなった。さらに、実施
例１と同様に耐溶剤性の評価を行ったが、非画像部のシ
リコーン層が部分的に脱落し、印刷において、その部分
にインクが着肉し、汚れとなった。実施例９ 下記の塗布液を用いて縮合型シリコーンゴム層の形成を
行う以外は、実施例１と全く同様にして水なし平版印刷
原版を形成した。 （シリコーンゴム層塗布液組成） 両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン（重合度７００） ９．００ｇ メチルトリアセトキシシラン ０．３ｇ ジブチル錫ジオクタエート ０．２ｇ アイソパーＧ（エッソ化学（株）製） １６０ｇ 次いで、実施例１と全く同様にして、半導体励起ＹＡＧ
レーザーおよび半導体レーザーにて描き込みを行った
後、実施例１と同様の現像処理を行った。その結果、実
施例１と同様にシャープなエッジのシリコーン画像を有
する水なし平版印刷版が形成された。さらに、実施例１
と同様の記録条件にて、２００ｌｐｉの網点形成を行っ
たところ網点面積率２％から９８％までが版上に形成で
きた。また、得られた水なし平版印刷版の非画像部をＨ
ＥＩＤＯＮ（新東化学（株）製表面性試験機）を用い、
０．２５ミリのサファイア針に１００ｇの荷重をかけて
スクラッチを行い、シリコーンゴム層の耐傷性を評価し
た。このようにして形成された水なし平版印刷版を、印
刷機を用いて印刷したところ、１万枚の汚れのない良好
な印刷物が得られた。次いで、この水なし平版印刷版の
版面を上記組成の洗浄液１を含ませたウエスで拭いた
後、印刷を行い、耐溶剤性の評価を行ったところ、さら
に、１万枚の汚れのない良好な印刷物が得られた。比較例２ 金属キレート化合物を添加しない以外は、実施例９と全
く同様にして水なし平版印刷原版を形成した。次いで、
実施例９と全く同様にして、半導体励起ＹＡＧレーザー
および半導体レーザーにて描き込みを行った後、同様の
現像処理を行った。しかし、記録画像としては形成され
たシリコーン画像のエッジが不鮮明であり、これを印刷
した時、印刷が進むにしたがってエッジ部のシリコーン
が脱離するため、画像面積が増大してしまうなど種々の
不都合を示した。また、２００ｌｐｉの網点形成を行っ
たところ網点面積率４％から９６％までしか形成され
ず、フリンジの残る網点形状であった。また、実施例９
と同様に耐傷性の評価を行ったが、印刷において傷つけ
た部分にインキが着肉し、汚れとなった。さらに、実施
例９と同様に耐溶剤性の評価を行ったが、非画像部のシ
リコーン層が部分的に脱落し、印刷において、その部分
にインクが着肉し、汚れとなった。実施例１０〜１５ 下記組成の塗布液を用いて光熱変換層を形成する以外
は、実施例１と全く同様にして、水なし平版印刷原版を
形成した。 （光熱変換層の塗布液組成） 実施例１のカーボンブラック分散液 ２０ｇ 表２のポリマー 金属キレート化合物（チタボンド−５０、 ４．６７ｇ （日本曹達（株）製チタンジイソプロポキサイドビス （２，４−ペンタジオネート）の約７５％イソプロパノール溶液） プロピレングリコールモノメチルエーテル ７０ｇ メチルエチルケトン ７０ｇ
【００７８】
【表２】
【００７９】得られた本発明の水なし平版印刷原版のカ
バ−フィルムを剥離した後に、波長１０６４ｎｍ、ビ−
ム径１００μｍ（１／ｅ2 ）の半導体励起ＹＡＧレ−ザ
−を用いて連続線の描き込みを行った。記録エネルギー
は０．７５Ｊ／ｃｍ2 とした。その後、下記組成の処理
液２を含ませた現像用パッドで版面を擦り、レーザー照
射部のシリコーンゴム層を除去した。一方、レーザー未
照射部のシリコーン層は除去されずに水なし平版表面に
保持され、シャープなエッジのシリコーン画像が形成で
きた。 （処理液２） ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物 ５ｇ （旭電化工業（株）製プルロニックＬ６２） 水 ９９５ｇ また、水なし平版印刷原版を版面上パワー１１０ｍＷ、
波長８２５ｎｍ、ビーム径１０μｍ（１／ｅ2 ）の半導
体レーザーを用いて、主操作速度６ｍ／秒にて描き込み
を行った後、同様の現像を行った。解像力は８μｍでシ
ャープなエッジのシリコーン画像を有する水なし平版印
刷版が形成された。この記録条件にて、２００ｌｐｉの
網点形成を行ったところ網点面積率２％から９８％まで
が版上に形成できた。また、得られた水なし平版印刷版
の非画像部をＨＥＩＤＯＮ（新東化学（株）製表面性試
験機）を用い、０．２５ミリのサファイア針に１００ｇ
の荷重をかけてスクラッチを行い、シリコーンゴム層の
耐傷性を評価した。このようにして形成された水なし平
版印刷版を、印刷機を用いて印刷したところ、１万枚の
汚れのない良好な印刷物が得られた。次いで、この水な
し平版印刷版の版面をＰＣ−２（東レ（株）製版面洗浄
剤）を含ませたウエスで拭いた後、印刷を行い、耐溶剤
性の評価を行ったところ、さらに、１万枚の汚れのない
良好な印刷物が得られた。比較例３〜８ 金属キレート化合物を添加しない以外は、実施例１０〜
１５と全く同様にして水なし平版印刷原版を各々形成し
た。次いで、実施例１０と全く同様にして、半導体励起
ＹＡＧレーザーおよび半導体レーザーにて描き込みを行
った後、同様の現像処理を行った。しかし、記録画像と
しては形成されたシリコーン画像のエッジが不鮮明であ
り、これを印刷した時、印刷が進むにしたがってエッジ
部のシリコーンが脱離するため、画像面積が増大してし
まうなど種々の不都合を示した。また、２００ｌｐｉの
網点形成を行ったところ網点面積率４％から９６％まで
しか形成されず、フリンジの残る網点形状であった。ま
た、実施例１０と同様に耐傷性の評価を行ったが、印刷
において傷つけた部分にインキが着肉し、汚れとなっ
た。さらに、実施例１０と同様に耐溶剤性の評価を行っ
たが、非画像部のシリコーン層が部分的に脱落し、印刷
において、その部分にインクが着肉し、汚れとなった。
【００８０】
【発明の効果】本発明の水なし平版印刷原版は、レーザ
ー光によるヒートモード記録が可能であり、耐傷性、耐
溶剤性および画像再現性に優れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AA06 AA13 AB04 AC08 AD01 AD03 CB07 CB13 CB15 CB22 CB23 CB29 CB30 CB41 CB42 CB43 CB45 CB47 CC20 FA03 FA17 2H096 AA11 AA13 BA16 BA20 CA20 EA04 GA08 2H114 AA05 AA14 AA23 BA02 DA03 DA25 DA26 DA39 DA46 DA47 DA56 DA73 DA78 EA03 EA04 GA34 GA38

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 支持体上に、レーザー光を熱に変換する
    化合物を含有する光熱変換層およびシリコーンゴム層を
    この順に積層してなる水なし平版印刷原版であって、該
    光熱変換層が金属キレート化合物の反応物及び／又は金
    属キレート化合物の自己縮合物を含有することを特徴と
    する水なし平版印刷原版。
  2. 【請求項２】 光熱変換層が、さらに、分子内に活性水
    素を有するポリマーを含有することを特徴とする請求項
    １に記載の水なし平版印刷原版。
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