JPH0157895B2 - - Google Patents

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JPH0157895B2
JPH0157895B2 JP57194203A JP19420382A JPH0157895B2 JP H0157895 B2 JPH0157895 B2 JP H0157895B2 JP 57194203 A JP57194203 A JP 57194203A JP 19420382 A JP19420382 A JP 19420382A JP H0157895 B2 JPH0157895 B2 JP H0157895B2
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JP
Japan
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photosensitive
developing
developer
formula
weight
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JP57194203A
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JPS5984241A (ja
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Nobuyuki Kita
Hiroshi Matsumoto
Hitoshi Hagiwara
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はo−キノンジアジド化合物を感光性成
分とする感光性平版印刷版の改良された現像液に
関するものである。 o−キノンジアジド化合物は活性光線の照射に
よりジアゾ基が分解し、カルボキシ基を有する化
合物となることが知られている。従つてo−キノ
ンジアジド化合物を含む感光層は、画像露光後に
アルカリ性現像液により処理されると露光部分が
除去され未露光部が画像となるので、所謂ポジ−
ポジ型感光性成分として特に近年感光性平版印刷
版の感光層あるいはエツチング用フオトレジスト
組成物として極めて重用されている。特にo−キ
ノンジアジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合
した組成物が経済性、実用性から有利に使用さ
れ、中でもノボラツク型のフエノールホルムアル
デヒド縮合樹脂、又はクレゾールホルムアルデヒ
ド縮合樹脂と混合されたものが一般に用いられて
いる。これらo−キノンジアジド感光層の現像液
としては第三燐酸ソーダ、苛性ソーダ、珪酸ソー
ダ、珪酸カリウム、珪酸アンモニウム等の単独あ
るいは混合された水溶液が用いられている。しか
し苛性ソーダ、第三燐酸ソーダ水溶液などはアル
ミニウムなどの金属へのエツチング作用が強く現
像時間によつて金属支持体を使用した感光性平版
印刷版の現像液としては不都合である。また現像
結果が極めて変動し易く甚だしい場合は、現像時
間の僅かの超過で画像が欠落してしまうことがあ
つた。また反復使用による現像能力の低下が激し
く一定容量における感光性平版印刷版の処理可能
な量(処理能力)は非常に少ない。そこで近年珪
酸ソーダ水溶液又は珪酸カリウム水溶液が比較的
有利に使用されている。それは金属に対するエツ
チング作用が乏しいことゝ同時に珪酸ソーダ又は
珪酸カリウムの成分である酸化珪素(SiO2)と
酸化ナトリウム(Na2O)又は酸化カリウム
(K2O)の含有比率(一般にSiO2/Na2O又は
SiO2/K2Oのモル比で表わす)と濃度によつて
ある程度現像性の調整が可能とされるためであ
る。すなわちSiO2が多くなるに従い現像力が抑
制され現像安定性が高まり、Na2O又はK2Oが多
くなると現像力が高まり現像安定性が低下する。
こゝで云う現像安定性とは、現像時間に対する画
像の安定性のことでNa2O又はK2Oのみが多くな
ると短時間で画像の欠落が起り易くなる。 一定容量での処理能力はNa2O又はK2O含有量
の高い方が良い。従つてSiO2/Na2O比又は
SiO2/K2O比を現像力、現像安定性の面で調整
しながら全濃度を高めていくことによつてある程
度の現像力、安定性と共に処理能力を得ることが
できる。しかし乍ら、いずれの点をも満たすには
不充分で現像力を基準におけば安定性に欠け、安
定性に基準をおけば現像力、処理能力に欠ける傾
向があつた。また比較的高濃度とするために沈澱
が生成し易く、使用後の廃液処理に際し中和用の
酸の使用量が多くなるなど欠点があつた。以上述
べた苛性ソーダ、第三燐酸ソーダ、珪酸ソーダ、
珪酸カリウム等の現像液の問題点を要約すればア
ルカリ強度を高めれば現像力、処理能力に秀れる
が現像安定性に欠け、現像安定性を得るためには
アルカリ濃度を低くしなければならず、従つて処
理能力に欠けることになる。従つてアルカリ強度
の高い状態で現像安定性を得ることができれば現
像力、処理能力いずれにも秀れた現像液を得るこ
とができる。 アルカリ強度の高い状態で現像安定性を得る方
法として現像液にアニオン界面活性剤又は両性界
面活性剤を添加する方法が特開昭50−51324号公
報に、また水溶性カチオニツクポリマーを添加す
る方法が特開昭55−95946号公報に、水溶性の両
性高分子電解質を添加する方法が特開昭56−
142528号公報に記載されている。しかしこれらの
現像液はいずれも自動現像機を用いて現像すると
現像途中で発泡するという欠点を有していた。ま
た特開昭55−25100号公報には周期律表A、
Aおよびbの遷移元素のイオン性化合物を添加
することが記載されている。この場合陽極酸化し
たアルミニウム支持体の強アルカリによるエツチ
ングを抑える効果はあるが、現像安定性は十分で
なかつた。 従つて、本発明の目的は現像力、現像安定性、
処理能力、発泡性等いずれにも優れた現像液を提
供することにある。 本発明者らはこれらの点を鋭意研究の結果、珪
酸アルカリ水溶液中に後述の水溶性の有機硼素化
合物を含有させることによつて、o−キノンジア
ジド感光層の改良された現像液が得られることを
見出した。 本発明に用いられる珪酸アルカリとしては珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸
アンモニウム等で、単独又は組合せて用いること
が出来る。珪酸アルカリのSiO2/M2Oモル比
(Mはアルカリ金属をあらわす。)は0.5〜3.0が好
ましく、1.0〜2.0が特に好ましい。上記のモル比
が3.0を越えるにつれて現像性が低下する傾向に
ある。また上記モル比が0.5より小さくなるにつ
れてアルカリ強度が高くなつていくので感光性平
版印刷版の支持体として汎用されているアルミニ
ウム板等の金属をエツチングする併害が出てくる
ようになる。現像液中の珪酸アルカリの濃度は1
〜10重量%が好ましく、1.5〜7重量%が特に好
ましい。10重量%より高くなると沈澱や結晶が生
成しやすくなり、また廃液時の中和に際してゲル
化しやすくなるので廃液処理がめんどうとなる。
また、1重量%より低くなると現像力、処理能力
が低くなる。 本発明に用いられる最も特徴的な成分である水
溶性の有機硼素化合物は、次式の構造式 式中、 R1及びR3はお互に同じでも異なつて
いてもよく、HまたはCH3を示す。 R2及びR4は互いに同じでも異なつ
ていてもよく、H、COR5または
CONHR6を示す。 R5及びR6はアルキル基、アリール
基、アルケニル基またはアルキニル基
を示す。 l及びmは1〜100の整数を示す。 上記のアルキル基としては、例えばCH3
CH3CH- 2、CH3(CH22、CH3(CH2- 3、CH3
(CH24
【式】、
【式】、
【式】CH3(CH27
【式】
【式】 CH3(CH28、CH3(CH210、CH3(CH212
CH3(CH214、CH3(CH216、CH3(CH218、CH3
(CH220、CH3(CH222、CH3(CH224等の炭素数
1〜26の直鎖または分枝のアルキル基が好まし
い。また、上記のアリール基としては例えば、フ
エニル、
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】等の単環または2環のア リール基およびこれらに直鎖または分枝のアルキ
ル基で置換基を有するものが含まれる。 また、上記のアルケニル基またはアルキニル基
としては、例えばCH2=CH(CH2- 7、 CH3CH2CH=CH(CH2- 7、CH3(CH25CH=CH
−、 CH3(CH27CH=CH−、CH3(CH25CH(OH)
CH2CH2CH=CH(CH2- 7、 CH3(CH210CH=CH(CH2- 4、CH3(CH25CH
=CH(CH29−、CH3(CH24CH=CHCH2CH=
CH(CH27−、 CH3CH2CH=CHCH2CH=CHCH2CH=CH
(CH27−、 CH3(CH23(CH=CH)3(CH27−、 CH3(CH28(CH=CH)3(CH24CO(CH2- 2、 CH3(CH27C≡C(CH27−、CH3(CH29CH=
CH(CH27−等の炭素数10〜24のものが挙げられ
る。 これら有機硼素化合物の合成方法としては東邦
化学工業(株)の商品名エマルボンの商品カタログ等
に記載されている。又これらの有機硼素化合物は
特公昭42−24043号、同昭43−14322号、同昭43−
18380号の各公報、米国特許第2224011号、同
2223949号等の明細書にも記されている。 これらの水溶性有機硼素化合物は広い範囲の添
加量において本発明の効果を達成しうるが、適当
な添加量範囲は現像液に対して0.0001〜3重量%
であり、より好ましくは0.0001〜0.3重量%、最
も好ましくは0.003〜0.1重量の範囲である。 本発明の現像液が適用されるo−キノンジアジ
ド感光層とは活性光照射によりアルカリ可溶性を
増すo−キノンジアジド化合物を感光性成分とし
て含有する感光性複写層である。 かゝる感光材料についてはJ・コーサー著「ラ
イト−センシテイブシステムズ」(John wiley
& Sons、Inc.)あるいは「感光性樹脂データ
集」(綜合化学研究所編)などに詳細に記されて
いる。特に芳香族ポリヒドロキシ化合物のo−キ
ノンジアジドスルホン酸エステルとアルカリ可溶
性樹脂、例へばフエノール樹脂、クレゾール樹
脂、スチレン/無水マレイン酸共重合体など、と
を混合したものが一般に良く使われ、平版印刷用
感光版(プレセンシタイズド版)、フオトエツチ
ング用レジストなどに用いられている。更に詳細
には米国特許第4259434号明細書第3欄下から2
行目〜第6欄第14行に記されている。 これらの感光材料に本発明の現像液を用いるこ
とにより第一に現像安定性が高まり現像条件の管
理が極めて容易となる。第二に処理能力が高まり
少量で多くの感光材料を現像できる。第三に、使
用済液の排出が少なくて済み廃液処理が容易であ
る等の利点をもたらす。 以下実施例をもつて本発明を詳細に説明する。 実施例 1〜4 特公昭43−28403号公報実施例1に記載されて
いるアセトンとピロガロールの縮合物により得ら
れるポリヒドロキシフエニルのナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル0.8
重量部とノボラツク型メタパラ混合クレゾルホル
ムアルデヒド樹脂2.2重量部、ノボラツク型オク
チルフエノールホルムアルデヒド樹脂0.02重量
部、無水フタル酸0.08重量部、2−トリクロルメ
チル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4
−オキサジアゾール0.04重量部およびクリスタル
バイオレツトのパラトルエンスルホン酸塩0.03重
量部を20重量部のメチルセロソルブアセテートと
8重量部のメチルエチルケトンに溶解して感光液
を調整した。厚さ0.3mmのナイロンブラシで砂目
立されたアルミニウム版をアルカリでエツチング
した後、硝酸水溶液中で更に電解エツチングし、
続いて硫酸水溶液中で陽極酸化し(陽極酸化皮膜
量2.7g/m2)、その後70℃の酢酸亜鉛水溶液で処
理し良く洗滌した後に乾燥し、その上に上記感光
液を回転途布機によつて塗布乾燥して約2.0g/m2
の感光層を有する感光版を得た。この感光版に濃
度差0.15のステツプウエツジと網点ウエツジを通
して富士写真フイルム(株)製PSライト(2kWメタ
ルハライドランプ)を用いて露光した。一方現像
液としてSiO2/Na2Oモル比約1.1の珪酸ソーダ2
重量%水溶液1に表1の化合物を添加した現像
液を作製した。
【表】 露光焼付された感光版を2枚づつ、25℃に保た
れたそれぞれの現像液に浸漬し1枚は1分後他の
1枚は5分後に取り出し水洗した。表2には溶出
した、ステツプウエツジの段数と網点ウエツジの
ハイライト部の網点再現性の結果を示す。
【表】
【表】 表2より、比較例1の珪酸ナトリウム水溶液単
独にくらべ実施例1〜4の現像液は現像性が極め
て安定であることが判る。更に実施例1と2の現
像液について現像処理能力を調べたがいずれも1
当り3m2の感光版を現像した後も充分な現像力
を維持していた。 実施例 5〜8 実施例1の感光版を用いて現像液として
SiO2/K2Oモル比1.2の珪酸カリウムの2.5重量%
の水溶液1に表3の化合物を添加したものを用
いて実施例と同様な方法で現像した。その結果を
表4に示す。
【表】
【表】
【表】 表4より比較例2の珪酸カリウム水溶液単独に
くらべ実施例5〜8の現像液は現像性が極めて安
定であることが判る。更に実施例6の現像液につ
いて現像処理能力を調べたが、いずれも1当り
3m2の感光版を現像した後も充分な現像力を維持
していた。 又、実施例5〜8の各現像液の処理後の廃液を
水に1で希釈して塩酸で中和したがいずれもゲル
の発生は見られず簡単に中和処理を施すことがで
きた。 実施例 9 実施例1において、そこで用いたナフトキノン
ジアジド化合物の替りにビスフエノールAのナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エ
ステルを用いた感光版を用いて同様に現像処理し
たが、実施例1の場合と同様の結果が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 珪酸アルカリ水溶液に下記構造式の有機硼素
    化合物を含有させたことを特徴とするo−キノン
    ジアジド感光層を有する感光性平版印刷版の現像
    液。 ただし R1およびR3は同一でも異なつていて
    もよく、HまたはCH3を示し、R2
    よびR4は同一でも異なつていてもよ
    く、H、COR5またはCONHR6を示
    し、 R5およびR6はアルキル基、アリー
    ル基、アルケニル基またはアルキニル
    基を示し、 lおよびmは1〜100の整数を表わ
    す。
JP57194203A 1982-11-05 1982-11-05 感光性平版印刷版の現像液 Granted JPS5984241A (ja)

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