JPS5975255A - ポジ型感光性平版印刷版の現像液 - Google Patents
ポジ型感光性平版印刷版の現像液Info
- Publication number
- JPS5975255A JPS5975255A JP18541982A JP18541982A JPS5975255A JP S5975255 A JPS5975255 A JP S5975255A JP 18541982 A JP18541982 A JP 18541982A JP 18541982 A JP18541982 A JP 18541982A JP S5975255 A JPS5975255 A JP S5975255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing
- silicate
- alkali
- photosensitive
- photosensitive lithographic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明け０−キノンジアジド化合物を感光性成分とする
ポジ型感光性平版印刷版の改良された現像液に関するも
のである。
ポジ型感光性平版印刷版の改良された現像液に関するも
のである。
０−キノンジアジド化合物は活性光線の照射によりジア
ゾ基が分解しカルボキシ基を含有する化合物となること
が知られている。従って０−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像露光後にアルカリ性現像液により処理
されると露光部分が除去され未露光部が画像となるので
、所謂ポジーポジ型感光性成分として特に近年感光性印
刷版の感光層あるいはフォトエツチング用フォトレジス
ト組成物に極めて重用されている。特に０−キノンジア
ジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合した組成物が経
済性、実用性から有利に使用され、中でもノボ゛ラック
型のフェノールホルムアルデヒド縮合樹脂、又はクレゾ
ールホルムアルデヒド縮合樹脂と混合されたものが一般
に用いられている。
ゾ基が分解しカルボキシ基を含有する化合物となること
が知られている。従って０−キノンジアジド化合物を含
む感光層は、画像露光後にアルカリ性現像液により処理
されると露光部分が除去され未露光部が画像となるので
、所謂ポジーポジ型感光性成分として特に近年感光性印
刷版の感光層あるいはフォトエツチング用フォトレジス
ト組成物に極めて重用されている。特に０−キノンジア
ジド化合物にアルカリ可溶性樹脂を混合した組成物が経
済性、実用性から有利に使用され、中でもノボ゛ラック
型のフェノールホルムアルデヒド縮合樹脂、又はクレゾ
ールホルムアルデヒド縮合樹脂と混合されたものが一般
に用いられている。
こねら０−キノンジアジド含有感光層の現像剤としては
第三燐酸ンーダ、苛性ソーダ、珪酸ソーダ、珪酸カリウ
ム、珪酸アンモニウム等の単独あるいは混合された水溶
液が用いら肛ている。しかし苛性ンーダ、第三燐酸ソー
ダ水溶液などは現像時間によってアルミニウムなどの金
属へのエツチング作用が強く金属支持体の感光材料に不
都合である。
第三燐酸ンーダ、苛性ソーダ、珪酸ソーダ、珪酸カリウ
ム、珪酸アンモニウム等の単独あるいは混合された水溶
液が用いら肛ている。しかし苛性ンーダ、第三燐酸ソー
ダ水溶液などは現像時間によってアルミニウムなどの金
属へのエツチング作用が強く金属支持体の感光材料に不
都合である。
また、現像結果が極めて変動し易く甚だしい場合は現像
時間の僅かの超過で画像が欠落してしまうことがある。
時間の僅かの超過で画像が欠落してしまうことがある。
また反復使用による現像能力の低下が激しく一定容量に
おける感光材料の処理可能な量（処理能力）は非常に少
ない。そこで近年珪酸ソーダ水溶液又は珪酸カリウム水
溶液が比較的有利に使用されている。それらは金属に対
するエツチング作用が乏しいこと＼同時に珪酸ソーダ又
は珪酸カリウムの成分である酸化珪素（Ｓｉ０２）と酸
化ナトリウム（Ｎ ａ ２０ ）又は酸化カリウム（Ｋ
２Ｏ）の含有比率（一般にＳ ｉ Ｏ２／Ｎ ａｚ。
おける感光材料の処理可能な量（処理能力）は非常に少
ない。そこで近年珪酸ソーダ水溶液又は珪酸カリウム水
溶液が比較的有利に使用されている。それらは金属に対
するエツチング作用が乏しいこと＼同時に珪酸ソーダ又
は珪酸カリウムの成分である酸化珪素（Ｓｉ０２）と酸
化ナトリウム（Ｎ ａ ２０ ）又は酸化カリウム（Ｋ
２Ｏ）の含有比率（一般にＳ ｉ Ｏ２／Ｎ ａｚ。
又は５ｉ０２／に２０のモル比で表わす）と濃度によっ
である程度現像性の調整が可能とされるためである。す
なわち５１０２が多くなるに従い現像力が抑制され現像
安定性が高まり、Ｎａ２Ｏ又はに２０が多くなると現像
力が高まり現像安定性が低下する。こ＼で云う現像安定
性とは現像時間に対する画像の安定性のことでＮ ａ
２０又ｔｒｉ Ｋ ２０のみが多くなると短時間で画像
の欠落が起り易くなる。
である程度現像性の調整が可能とされるためである。す
なわち５１０２が多くなるに従い現像力が抑制され現像
安定性が高まり、Ｎａ２Ｏ又はに２０が多くなると現像
力が高まり現像安定性が低下する。こ＼で云う現像安定
性とは現像時間に対する画像の安定性のことでＮ ａ
２０又ｔｒｉ Ｋ ２０のみが多くなると短時間で画像
の欠落が起り易くなる。
一定容量での処理能力はＮａ２Ｏ又ｉｄ Ｋ ２０含有
憚゛の高い方が良い。従ってＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏ比又は
Ｓ ｉ Ｏ２／ Ｋ ２０比を現像力、現像安定性の面
で調整しながら全濃度を高めていくことによっである程
度の現像力、安定性と共に処理能力を得ることができる
。しかし乍ら、いずれの点をも満たすには不充分で現像
力を基準におけば安定性に欠け、安定性に基準をおけば
現像力、処理能力に欠ける傾向がある。また比較的高濃
度とするために沈澱が生成し易く、使用後の廃液処理に
際し中和用の酸の使用量が多くなる々どの欠点が出てく
る。以上述べた苛性ソーダ、第３燐酸ソーダ、珪酸ソー
ダ、珪酸カリウム等現像液の問題点を要約すれば、アル
カリ強度を高めれば現像力、処理能力に秀れるが現像安
定性に欠は安定性を得るためにはアルカリ濃度を低くし
なければならず従つ処理能力に欠けることになる。従っ
てアルカリ強度の高い状態で現像安定性を得ることがで
きれば現像力及び処理能力のいずれも秀れた現像液を得
ることができることになる。アルカリ強度の高い４−１
１１２１２１号公報に記載されている。しかしこれらの
現像液のいずれも、自動現像機を用い免 てスプレ一方式で現像すると現像途中で発挺し易いとい
う欠点を有していた。
憚゛の高い方が良い。従ってＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏ比又は
Ｓ ｉ Ｏ２／ Ｋ ２０比を現像力、現像安定性の面
で調整しながら全濃度を高めていくことによっである程
度の現像力、安定性と共に処理能力を得ることができる
。しかし乍ら、いずれの点をも満たすには不充分で現像
力を基準におけば安定性に欠け、安定性に基準をおけば
現像力、処理能力に欠ける傾向がある。また比較的高濃
度とするために沈澱が生成し易く、使用後の廃液処理に
際し中和用の酸の使用量が多くなる々どの欠点が出てく
る。以上述べた苛性ソーダ、第３燐酸ソーダ、珪酸ソー
ダ、珪酸カリウム等現像液の問題点を要約すれば、アル
カリ強度を高めれば現像力、処理能力に秀れるが現像安
定性に欠は安定性を得るためにはアルカリ濃度を低くし
なければならず従つ処理能力に欠けることになる。従っ
てアルカリ強度の高い状態で現像安定性を得ることがで
きれば現像力及び処理能力のいずれも秀れた現像液を得
ることができることになる。アルカリ強度の高い４−１
１１２１２１号公報に記載されている。しかしこれらの
現像液のいずれも、自動現像機を用い免 てスプレ一方式で現像すると現像途中で発挺し易いとい
う欠点を有していた。
又、特開昭！ｊ−２！１００号公報には周期律表１ｒＡ
、ＴＩＴＡ及びｍｂの遷移元素のイオン性化合物を添加
することが記載されている。この場合陽極酸化したアル
ミニウム支持体の強アルカリによるエツチングを抑える
効果はあるが現像安定性に問題があった。
、ＴＩＴＡ及びｍｂの遷移元素のイオン性化合物を添加
することが記載されている。この場合陽極酸化したアル
ミニウム支持体の強アルカリによるエツチングを抑える
効果はあるが現像安定性に問題があった。
従って、本発明の目的は現像力、現像安定性および処理
能力に優れしかも発泡性の少ないポジ型感光性平版印刷
版の現像液を提供することにある。
能力に優れしかも発泡性の少ないポジ型感光性平版印刷
版の現像液を提供することにある。
本発明者らは上記目的を達成すべく種々検討を重ねた結
果、珪酸アルカリ水溶液中に水溶性有機金属界面活性剤
を含有させることによって、すぐれた現像液が得られる
ことを見い出した。
果、珪酸アルカリ水溶液中に水溶性有機金属界面活性剤
を含有させることによって、すぐれた現像液が得られる
ことを見い出した。
本発明に用いられる酸アルカリとしては、珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、
珪酸アミン等で単独又は組合せて用いることが出来る。
ム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、
珪酸アミン等で単独又は組合せて用いることが出来る。
珪酸アルカリの５ｉ０２／Ｍ２０モル比（Ｍはアルカリ
金属を表わす）はＯ１ｊ〜３．０が好ましく、ｉ、ｏ−
２，０が最も好ｊ− ましい。
金属を表わす）はＯ１ｊ〜３．０が好ましく、ｉ、ｏ−
２，０が最も好ｊ− ましい。
上記モル比が３．０を越えるにつれ、現像力が低下する
ようになり、他方上記モル比が０．１より小さくなると
アルカリ強度が高く、感光性平版印刷版の支持体として
汎用されているアルミニウム板等の金属をエツチングす
る併置が出てくるようになる。
ようになり、他方上記モル比が０．１より小さくなると
アルカリ強度が高く、感光性平版印刷版の支持体として
汎用されているアルミニウム板等の金属をエツチングす
る併置が出てくるようになる。
現像液中の珪酸アルカリの濃度は／〜ｉｏ重量％が好ま
しく、ｌ、！〜７重量％が最も好ましい。
しく、ｌ、！〜７重量％が最も好ましい。
上記濃度が１０重ｉチを越えるにつれて沈澱や結晶が生
成したり又廃液時の中和に際してゲル化したりするよう
になる。一方、上記濃度が７重量係よりも低くなると、
現像力、処理能力が低下する。
成したり又廃液時の中和に際してゲル化したりするよう
になる。一方、上記濃度が７重量係よりも低くなると、
現像力、処理能力が低下する。
本発明に用いる最も特徴的な成分である水溶性有機金属
界面活性剤としては界面活性剤ノ・ンドプツク（工学図
書■発行）及び化学工業（ｉｙｔｔ年）第１り巻／≠７
頁に詳細に記載されている。
界面活性剤としては界面活性剤ノ・ンドプツク（工学図
書■発行）及び化学工業（ｉｙｔｔ年）第１り巻／≠７
頁に詳細に記載されている。
以下、具体例をいくつか例示する。
Ａ−
−７−
（ＲＯ（ＣＨ２ＣＨ２０）Ｔ））２Ｔｉ （ＯＣ４Ｈｅ
）２（ＲＯ（ＣＨｚＣＨｚＯ）ｐ）ｚＴｉｏｏＴＩ （
（Ｃ２Ｈ４０）ｑＯＲＩ）２（ＣＨａ） ２ｏ−（ＣＨ
２ＣＨ２０＋Ｆ−ｆＰＯ）ｎＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２
０Ｃ−ター ３７１− −ざ− ７０− 等を使用することもできる。とれらの化合物のＲ及びＲ
′の各々は水素原子又は／−Ｊｊの炭素原子全含有する
アルキル基又は置換アルキル基を示す。ｍ、ｎ、Ｌは／
〜！であり、ｐ、ｑは／〜ｊＯを示す。これらの水溶性
有機金属界面活性剤の添加量としては現像液に対して０
．００／〜Ｏ０！重量係でより好ましくは０１００３〜
０．３重ａ′チである。
）２（ＲＯ（ＣＨｚＣＨｚＯ）ｐ）ｚＴｉｏｏＴＩ （
（Ｃ２Ｈ４０）ｑＯＲＩ）２（ＣＨａ） ２ｏ−（ＣＨ
２ＣＨ２０＋Ｆ−ｆＰＯ）ｎＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２
０Ｃ−ター ３７１− −ざ− ７０− 等を使用することもできる。とれらの化合物のＲ及びＲ
′の各々は水素原子又は／−Ｊｊの炭素原子全含有する
アルキル基又は置換アルキル基を示す。ｍ、ｎ、Ｌは／
〜！であり、ｐ、ｑは／〜ｊＯを示す。これらの水溶性
有機金属界面活性剤の添加量としては現像液に対して０
．００／〜Ｏ０！重量係でより好ましくは０１００３〜
０．３重ａ′チである。
本発明の現像液が適用される０−キノンジアジド感光層
とは活性光照射によりアルカリ可溶性を増す０−キノン
ジアジド化合物を感光性成分として含有する感光性複写
層である。
とは活性光照射によりアルカリ可溶性を増す０−キノン
ジアジド化合物を感光性成分として含有する感光性複写
層である。
か＼る感光材料についてはＪ、コーサー著「ライトセン
シテイブシステムズＪ （Ｊｏｈｎ Ｗｉ ｌｅｙ ＆
５ｏｎｓ、Ｉｎｃ、 ）あるいは［感光性樹脂チー タ
隼Ｊ（綜合化学研究新編）などに詳細に記されている。
シテイブシステムズＪ （Ｊｏｈｎ Ｗｉ ｌｅｙ ＆
５ｏｎｓ、Ｉｎｃ、 ）あるいは［感光性樹脂チー タ
隼Ｊ（綜合化学研究新編）などに詳細に記されている。
特に芳香族ポリヒドロキシ化合物の０−キノンジアジド
スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂、例へげフェ
ノール樹脂、クレゾール樹脂、スチレン／無水マレイン
酸共Ｍ７合体など、と全混合したものが一般に良く使わ
れ、平版印刷用感光板（ブリセンシタイズド版）フォト
エツチング用レジストなどに用いられている。
スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂、例へげフェ
ノール樹脂、クレゾール樹脂、スチレン／無水マレイン
酸共Ｍ７合体など、と全混合したものが一般に良く使わ
れ、平版印刷用感光板（ブリセンシタイズド版）フォト
エツチング用レジストなどに用いられている。
本発明の現像液で処理されるポジ型感光性平版印刷版の
詳細は米国特許第ｔ、２！り、≠３参号明細書の第３欄
下からλ行目〜第を欄第１４’行に記載されている。
詳細は米国特許第ｔ、２！り、≠３参号明細書の第３欄
下からλ行目〜第を欄第１４’行に記載されている。
これらの感光材料に本発明の現像液を用いることにより
第一に現像安定性が高まり現像条件の管理が極めて容易
となる。第二に処理能力が高まり少讐で多くの感光材料
を現像できる。従って、第二に、使用済液の排出が少な
くて済み廃液処理が容易である等の利点をもたらす。
第一に現像安定性が高まり現像条件の管理が極めて容易
となる。第二に処理能力が高まり少讐で多くの感光材料
を現像できる。従って、第二に、使用済液の排出が少な
くて済み廃液処理が容易である等の利点をもたらす。
以下実施例をもって本発明の詳細な説明する。
なお、「チ」は特に指定の々い限り、重量％を示すもの
とする。
とする。
実施例
特公昭’１３−２１弘０３号公報に記載されている、ア
セトンとピロガロールの縮重合により得られるポリヒド
ロキシフェニルのナフトキノン−／。
セトンとピロガロールの縮重合により得られるポリヒド
ロキシフェニルのナフトキノン−／。
λ−ジアジドーｊ−スルホン酸エステルθ、Ｈ４重量と
ノボラック型メタパラ混合クレゾールポルムアルデヒド
樹脂１．２重量部、ノボ′ラック型オクチルフェノール
樹脂０．０２重量部、無水フタル酸ｏ、ｏｒ重量部、コ
ートリクロロメチルーよ−（ｐ−ブトキシスチリル）−
／、３．Ｉｔ−オギサジアゾールｏ、ｏｒ重量部、クリ
スタルバイオレットのノ々ラドルエンスルホン酸ｍＯ，
０３Ｍ鳳ｍｋ２０重量部のメチルセロソルブアセテート
とｒＭ量部のメチルエチルケトンに溶解して感光液を調
製した。厚さ０．３１ｆｔＩＲのナイロンブラシで砂目
立されたアルミニウム板をアルカリでエツチングした後
、硝酸水溶液中で、更に電解エツチングし、続いて硫酸
水溶液中で陽極酸化しく陽極酸化皮膜量λ、７ｆ／ｍ）
、その後、７００Ｃの酢酸亜鉛／％水溶液で処理しよく
洗浄した後に乾燥し、その上に上記感光液を回転塗布機
によって塗布乾燥して、２．０９７ｍ２の感光層を有す
るボー ／ ７− 伏型感光性平版印刷版を得た。
ノボラック型メタパラ混合クレゾールポルムアルデヒド
樹脂１．２重量部、ノボ′ラック型オクチルフェノール
樹脂０．０２重量部、無水フタル酸ｏ、ｏｒ重量部、コ
ートリクロロメチルーよ−（ｐ−ブトキシスチリル）−
／、３．Ｉｔ−オギサジアゾールｏ、ｏｒ重量部、クリ
スタルバイオレットのノ々ラドルエンスルホン酸ｍＯ，
０３Ｍ鳳ｍｋ２０重量部のメチルセロソルブアセテート
とｒＭ量部のメチルエチルケトンに溶解して感光液を調
製した。厚さ０．３１ｆｔＩＲのナイロンブラシで砂目
立されたアルミニウム板をアルカリでエツチングした後
、硝酸水溶液中で、更に電解エツチングし、続いて硫酸
水溶液中で陽極酸化しく陽極酸化皮膜量λ、７ｆ／ｍ）
、その後、７００Ｃの酢酸亜鉛／％水溶液で処理しよく
洗浄した後に乾燥し、その上に上記感光液を回転塗布機
によって塗布乾燥して、２．０９７ｍ２の感光層を有す
るボー ／ ７− 伏型感光性平版印刷版を得た。
この感光板に濃度差０．／ｊのステップウェッジと網点
ウェッジを真空焼枠で密着させ、富士写真フィルム■製
ＰＳライトＣ２ｋＷメタルハライドランプ）を用いて無
光焼付した。一方現像液としてＳ ｉ Ｏ２／ Ｎ ａ
２０モル比的／、／の珪酸ソーダλ重ｉ％水溶液／ｌ
に第１表に記載の化合物を添加した現像液を作製した。
ウェッジを真空焼枠で密着させ、富士写真フィルム■製
ＰＳライトＣ２ｋＷメタルハライドランプ）を用いて無
光焼付した。一方現像液としてＳ ｉ Ｏ２／ Ｎ ａ
２０モル比的／、／の珪酸ソーダλ重ｉ％水溶液／ｌ
に第１表に記載の化合物を添加した現像液を作製した。
露光焼付された感光板を２枚づつ、２！０ｃに保たれた
、それぞれの現像液に浸漬され７枚は／分後他の７枚は
１分後に取り出し水洗をした。第２表には溶出したステ
ップウェジの段数と網点ウェッジのハイライト部の網点
再現性の結果を示す。
、それぞれの現像液に浸漬され７枚は／分後他の７枚は
１分後に取り出し水洗をした。第２表には溶出したステ
ップウェジの段数と網点ウェッジのハイライト部の網点
再現性の結果を示す。
第２表
第２表の結果より比較例１の珪酸ナトリウム水溶液単独
にくらべ扁／〜７の現像液は現像安定性が極めてすぐれ
ていることが判る。更にＡ／とλの現像液について現像
処理能力を調べたがいずれも／を当り３ｍ２の感光板を
現像した後も充分に現像力を維持していた。
にくらべ扁／〜７の現像液は現像安定性が極めてすぐれ
ていることが判る。更にＡ／とλの現像液について現像
処理能力を調べたがいずれも／を当り３ｍ２の感光板を
現像した後も充分に現像力を維持していた。
実施例２
実施例で用いた扁／〜７の珪酸ソーダの代りに５ｉ０２
／ＫｚＯモル比／、−の珪酸カリウム−６ｊ％水溶液を
用いたＡざ〜ｌ≠の現像液を用いて実施した。その結果
実施例／と同様な結果が得られた。
／ＫｚＯモル比／、−の珪酸カリウム−６ｊ％水溶液を
用いたＡざ〜ｌ≠の現像液を用いて実施した。その結果
実施例／と同様な結果が得られた。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
昭和ｓｒ年／１月り日
２、発明の名称 ポジ型感光性平版印刷版の現像液３
、補正をする者 事件との関係 特許出願人性 所 神奈
川県南足柄市中沼２１０番地名 称（５２０）富士写真
フィルム株式会社連絡先 〒１０６東京都港区西麻布２
丁目２ｆ；＃３Ｑ％富士写真フィルム株式会社東京本社 電話（４０６） ２５３７ ４、補正の対象 明Ｉ￥ｌｌｌ沓の「発明の詳細な説
明１の欄 ５、補正の内容 （１）第り〜１０頁グ行の構造式： ％式％（０１１ （２）第７３〜ｌ≠酉の下から２番目の構造式ケ」 に補正する。
、補正をする者 事件との関係 特許出願人性 所 神奈
川県南足柄市中沼２１０番地名 称（５２０）富士写真
フィルム株式会社連絡先 〒１０６東京都港区西麻布２
丁目２ｆ；＃３Ｑ％富士写真フィルム株式会社東京本社 電話（４０６） ２５３７ ４、補正の対象 明Ｉ￥ｌｌｌ沓の「発明の詳細な説
明１の欄 ５、補正の内容 （１）第り〜１０頁グ行の構造式： ％式％（０１１ （２）第７３〜ｌ≠酉の下から２番目の構造式ケ」 に補正する。
（３）第１！頁ｚ行の
ｒｑ」 の次に
「、ｒｌ ３」
を仲人する。
（４）第１り〜ココ頁の與／表を別紙のとおり補正する
。
。
以上
−コ −
Claims (1)
- 珪酸アルカリ水溶液に水溶性有機金属界面活性剤を添加
したことを特徴とする０−キノンジアジド感光層を有す
るポジ型感光性平版印刷版の現像液。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18541982A JPS5975255A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | ポジ型感光性平版印刷版の現像液 |
| DE19833338338 DE3338338A1 (de) | 1982-10-22 | 1983-10-21 | Entwicklerloesung fuer positiv arbeitende, vorsensibilisierte flachdruckformen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18541982A JPS5975255A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | ポジ型感光性平版印刷版の現像液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5975255A true JPS5975255A (ja) | 1984-04-27 |
Family
ID=16170454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18541982A Pending JPS5975255A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | ポジ型感光性平版印刷版の現像液 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5975255A (ja) |
| DE (1) | DE3338338A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59121336A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像液 |
| EP2354854A1 (en) | 2002-09-20 | 2011-08-10 | FUJIFILM Corporation | Method of making lithographic printing plate |
| EP2381312A2 (en) | 2000-08-25 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4828965A (en) * | 1988-01-06 | 1989-05-09 | Olin Hunt Specialty Products Inc. | Aqueous developing solution and its use in developing positive-working photoresist composition |
| EP0732628A1 (en) * | 1995-03-07 | 1996-09-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aqueous alkaline solution for developing offset printing plate |
| EP0908305B2 (en) † | 1997-10-08 | 2006-07-19 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
-
1982
- 1982-10-22 JP JP18541982A patent/JPS5975255A/ja active Pending
-
1983
- 1983-10-21 DE DE19833338338 patent/DE3338338A1/de not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59121336A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像液 |
| JPH0130139B2 (ja) * | 1982-12-28 | 1989-06-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
| EP2381312A2 (en) | 2000-08-25 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
| EP2354854A1 (en) | 2002-09-20 | 2011-08-10 | FUJIFILM Corporation | Method of making lithographic printing plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3338338A1 (de) | 1984-04-26 |
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