JPH05221178A - 平版印刷版の製造方法およびその方法により製造された平版印刷版 - Google Patents
平版印刷版の製造方法およびその方法により製造された平版印刷版Info
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- JPH05221178A JPH05221178A JP4277432A JP27743292A JPH05221178A JP H05221178 A JPH05221178 A JP H05221178A JP 4277432 A JP4277432 A JP 4277432A JP 27743292 A JP27743292 A JP 27743292A JP H05221178 A JPH05221178 A JP H05221178A
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- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
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- Electrochemistry (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】アルミニウム基材の前面および裏面の酸化物被
覆の劣化、およびそれによって引き起こされる印刷版お
よび現像装置の汚染が防止されるか、または効果的に低
減される様に改良する。 【構成】砂目立て、陽極酸化し、親水性化した、放射線
感応性被覆を施した平版印刷板を露光し、アルカリ性水
溶液中で現像することによって平版印刷版を製造する方
法であって、その平版印刷板を、親水性化の後、０．０
２ mol/l以上の濃度の二価または多価陽イオンを含む塩
溶液で処理することを特徴とする。
覆の劣化、およびそれによって引き起こされる印刷版お
よび現像装置の汚染が防止されるか、または効果的に低
減される様に改良する。 【構成】砂目立て、陽極酸化し、親水性化した、放射線
感応性被覆を施した平版印刷板を露光し、アルカリ性水
溶液中で現像することによって平版印刷版を製造する方
法であって、その平版印刷板を、親水性化の後、０．０
２ mol/l以上の濃度の二価または多価陽イオンを含む塩
溶液で処理することを特徴とする。
Description
【０００１】本発明は、砂目立てし、陽極酸化し、親水
性化した、放射線感応性被覆を施した平版印刷板を露光
し、アルカリ性水溶液中で現像することによって平版印
刷版を製造する方法、およびその方法によって製造され
た平版印刷版に関する。
性化した、放射線感応性被覆を施した平版印刷板を露光
し、アルカリ性水溶液中で現像することによって平版印
刷版を製造する方法、およびその方法によって製造され
た平版印刷版に関する。
【０００２】使用する予め感光性を与えた平版印刷板
は、細片、板またはシートの形のアルミニウム基板にポ
ジ型またはネガ型放射線感応性被覆を施したものであ
る。
は、細片、板またはシートの形のアルミニウム基板にポ
ジ型またはネガ型放射線感応性被覆を施したものであ
る。
【０００３】この目的には、下記の放射線感応性被覆が
一般的に使用される。 − ポジ型またはネガ型ジアゾ化合物、 − オレフィン性不飽和化合物および光反応開始剤から
なるネガ型混合物、および − 光半導体を含むポジ型混合物。
一般的に使用される。 − ポジ型またはネガ型ジアゾ化合物、 − オレフィン性不飽和化合物および光反応開始剤から
なるネガ型混合物、および − 光半導体を含むポジ型混合物。
【０００４】フィルム形成剤として、これらの被覆は、
像映的に露光し、所望によりさらに熱処理または調色の
様な処理工程を行った後、アルカリ性現像剤水溶液中で
確実に現像できる様にするための官能性単位を有する重
合体を含む。その様な官能性単位の例としては、−ＣＯ
ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＰＯ3 Ｈ2 、−ＳＨ、−ＯＨおよ
び−ＮＨ2 がある。
像映的に露光し、所望によりさらに熱処理または調色の
様な処理工程を行った後、アルカリ性現像剤水溶液中で
確実に現像できる様にするための官能性単位を有する重
合体を含む。その様な官能性単位の例としては、−ＣＯ
ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＰＯ3 Ｈ2 、−ＳＨ、−ＯＨおよ
び−ＮＨ2 がある。
【０００５】アルカリ性成分として、現像剤溶液は一般
的に界面活性剤、ヒドロトロピー剤、溶剤、錯化剤、等
の成分に加えて、アルカリ金属ケイ酸塩を含む。ケイ酸
塩には、他のアルカリ性試薬と比較して、陽極酸化工程
で基材の表面上に形成されたＡｌ2 Ｏ3 層に対する攻撃
が著しく少ないという利点がある。
的に界面活性剤、ヒドロトロピー剤、溶剤、錯化剤、等
の成分に加えて、アルカリ金属ケイ酸塩を含む。ケイ酸
塩には、他のアルカリ性試薬と比較して、陽極酸化工程
で基材の表面上に形成されたＡｌ2 Ｏ3 層に対する攻撃
が著しく少ないという利点がある。
【０００６】それにも拘らず、実際には、アルミニウム
基材の前面と裏面に形成されたＡｌ2 Ｏ3 が現像工程中
に場合によってひどく劣化するという問題が生じる。特
に、比較的薄い酸化物被覆しか有していないアルミニウ
ム基材の裏面では、ゼラチン状の被覆が形成され、これ
が現像装置のスクイズローラー上に蓄積し、現像された
平版印刷版に転移することがある。それによって引き起
こされる印刷工程中の欠陥を防ぐために、現像装置を定
期的に清掃することによってこの汚染を防止しなければ
ならない。
基材の前面と裏面に形成されたＡｌ2 Ｏ3 が現像工程中
に場合によってひどく劣化するという問題が生じる。特
に、比較的薄い酸化物被覆しか有していないアルミニウ
ム基材の裏面では、ゼラチン状の被覆が形成され、これ
が現像装置のスクイズローラー上に蓄積し、現像された
平版印刷版に転移することがある。それによって引き起
こされる印刷工程中の欠陥を防ぐために、現像装置を定
期的に清掃することによってこの汚染を防止しなければ
ならない。
【０００７】本発明の目的は、アルミニウム基材の前面
および裏面の酸化物被覆の劣化、およびそれによって引
き起こされる印刷版および現像装置の汚染が防止される
か、または効果的に低減される様に、冒頭に説明した種
類の方法を改良することである。
および裏面の酸化物被覆の劣化、およびそれによって引
き起こされる印刷版および現像装置の汚染が防止される
か、または効果的に低減される様に、冒頭に説明した種
類の方法を改良することである。
【０００８】この目的は、本発明により、平版印刷板
を、親水性化の後、０．０２ mol/l以上の濃度の二価ま
たは多価陽イオンを含む塩溶液で処理することにより達
成される。
を、親水性化の後、０．０２ mol/l以上の濃度の二価ま
たは多価陽イオンを含む塩溶液で処理することにより達
成される。
【０００９】０．０２ mol/l未満の陽イオン濃度（例え
ば硬水中に存在する様な）は、陽極酸化した層のアルカ
リに対する耐性を改良するのに十分有効ではない。好ま
しい濃度範囲は０．０４〜０．４ mol/lである。
ば硬水中に存在する様な）は、陽極酸化した層のアルカ
リに対する耐性を改良するのに十分有効ではない。好ま
しい濃度範囲は０．０４〜０．４ mol/lである。
【００１０】特に好適な陽イオンとしては、周期律表の
第二および第三主族および第三副族の元素の二価または
三価のイオンを挙げることができる。しかし、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、ＳｎおよびＰｂの
二価または三価の陽イオンも十分効果的である。
第二および第三主族および第三副族の元素の二価または
三価のイオンを挙げることができる。しかし、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、ＳｎおよびＰｂの
二価または三価の陽イオンも十分効果的である。
【００１１】原則的に、好適な陰イオンは無機および有
機の一価および多価陰イオンであり、その選択は特に相
当する塩の溶解度により決定される。
機の一価および多価陰イオンであり、その選択は特に相
当する塩の溶解度により決定される。
【００１２】アルミニウム基材裏面の塩溶液による処理
は、好ましくは２０〜９０℃の温度で、１秒間〜１分間
行う。
は、好ましくは２０〜９０℃の温度で、１秒間〜１分間
行う。
【００１３】塩溶液は、標準的な方法、例えば吹き付
け、すすぎ、または浸漬により、前面の親水性化の後
で、感光性被覆を施す前に塗布するのが最も都合が良
い。裏面も感光性被覆を施した後にすすぐことができ
る。塩溶液で処理した後、５０〜２５０℃の温度で乾燥
させるのが有利である。
け、すすぎ、または浸漬により、前面の親水性化の後
で、感光性被覆を施す前に塗布するのが最も都合が良
い。裏面も感光性被覆を施した後にすすぐことができ
る。塩溶液で処理した後、５０〜２５０℃の温度で乾燥
させるのが有利である。
【００１４】本方法のその他の実施形態は、請求項１０
〜１６に記載する。
〜１６に記載する。
【００１５】薬品洗浄、砂目立て、中間薬品洗浄および
陽極酸化などの基材表面の処理における他の工程に関し
ては、先行技術に対して他に特別な点は無い。
陽極酸化などの基材表面の処理における他の工程に関し
ては、先行技術に対して他に特別な点は無い。
【００１６】本発明の方法により製造された平版印刷版
は、平版印刷板のアルミニウム基材をフォトレジストフ
ィルムで被覆する、およびフォトレジスト溶液を乾燥さ
せることによってフォトレジストフィルムを形成すると
いう事実から注目に値する。平版印刷版の実施形態は請
求項１８〜２０に記載する。
は、平版印刷板のアルミニウム基材をフォトレジストフ
ィルムで被覆する、およびフォトレジスト溶液を乾燥さ
せることによってフォトレジストフィルムを形成すると
いう事実から注目に値する。平版印刷版の実施形態は請
求項１８〜２０に記載する。
【００１７】本方法の利点およびその方法によって製造
された平版印刷版の利点は、塩溶液で処理することによ
り、基材の表および裏の酸化物層に対するアルカリ性現
像剤水溶液の攻撃を抑制することである。
された平版印刷版の利点は、塩溶液で処理することによ
り、基材の表および裏の酸化物層に対するアルカリ性現
像剤水溶液の攻撃を抑制することである。
【００１８】下記の実施例により、本発明の主題を詳細
に説明し、比較例と対比する。実施例１ 親水性化後の、同じ温度における、各種の塩
溶液による酸化物層の処理。
に説明し、比較例と対比する。実施例１ 親水性化後の、同じ温度における、各種の塩
溶液による酸化物層の処理。
【００１９】光沢圧延した０．３mm厚のアルミニウム細
片をＮａＯＨ中で洗浄し、塩酸中で電気分解により砂目
立てし（ＤＩＮ ４７６８により求められるＲｚ値：
５．０μm ）、硫酸中で陽極酸化し（酸化物重量は前面
上で４．０ g/m2 、裏面の縁部で１．７ g/m2 、裏面の
中央で０．３ g/m2 ）、ＤＥ−Ｂ １６２１４７８に準
じてポリビニルホスホン酸溶液で親水性化する。その
後、このアルミニウム細片に各種の０．０２〜０．４モ
ル塩溶液（表１参照）を２０〜９０℃で１〜６０秒間吹
き付け、次いで下記の組成を有するフォトレジスト溶液
で被覆する。 ａ）クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂、 ｂ）（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−ま
たは−５−スルホニルクロリドとフェノール誘導体のエ
ステル化生成物、 ｃ）照射により強酸を形成する化合物、 ｄ）陽イオン系染料、および ｅ）２００℃未満の沸点を有する溶剤または溶剤混合
物。
片をＮａＯＨ中で洗浄し、塩酸中で電気分解により砂目
立てし（ＤＩＮ ４７６８により求められるＲｚ値：
５．０μm ）、硫酸中で陽極酸化し（酸化物重量は前面
上で４．０ g/m2 、裏面の縁部で１．７ g/m2 、裏面の
中央で０．３ g/m2 ）、ＤＥ−Ｂ １６２１４７８に準
じてポリビニルホスホン酸溶液で親水性化する。その
後、このアルミニウム細片に各種の０．０２〜０．４モ
ル塩溶液（表１参照）を２０〜９０℃で１〜６０秒間吹
き付け、次いで下記の組成を有するフォトレジスト溶液
で被覆する。 ａ）クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂、 ｂ）（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−ま
たは−５−スルホニルクロリドとフェノール誘導体のエ
ステル化生成物、 ｃ）照射により強酸を形成する化合物、 ｄ）陽イオン系染料、および ｅ）２００℃未満の沸点を有する溶剤または溶剤混合
物。
【００２０】この実施例では、フォトレジスト溶液は下
記の成分を含む。５．００重量％の、ＤＩＮ ５３７８
３／５３２４０で規定されるヒドロキシル価が４２０
で、ＧＰＣにより決定される重量平均分子量が１０，０
００（ポリスチレン標準）であるクレゾール−ホルムア
ルデヒドノボラック樹脂、１．２０重量％の、３モルの
（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−５−スルホ
ニルクロリドと１モルの２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノンのエステル化生成物、０．１５重量％の、
（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−スルホ
ニルクロリド、０．０５重量％のビクトリア ピュア
ブルー（Ｃ．Ｉ．４４０４５）、および合計で１００重
量％となる量の、メチルエチルケトンおよびプロピレン
グリコールモノメチルエーテル（４０／６０）からなる
溶剤混合物。
記の成分を含む。５．００重量％の、ＤＩＮ ５３７８
３／５３２４０で規定されるヒドロキシル価が４２０
で、ＧＰＣにより決定される重量平均分子量が１０，０
００（ポリスチレン標準）であるクレゾール−ホルムア
ルデヒドノボラック樹脂、１．２０重量％の、３モルの
（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−５−スルホ
ニルクロリドと１モルの２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノンのエステル化生成物、０．１５重量％の、
（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−スルホ
ニルクロリド、０．０５重量％のビクトリア ピュア
ブルー（Ｃ．Ｉ．４４０４５）、および合計で１００重
量％となる量の、メチルエチルケトンおよびプロピレン
グリコールモノメチルエーテル（４０／６０）からなる
溶剤混合物。
【００２１】このフォトレジストフィルムを１２５℃で
１分間乾燥させる。フィルム重量は１〜３ g/m2 、特に
２．４ g/m2 である。
１分間乾燥させる。フィルム重量は１〜３ g/m2 、特に
２．４ g/m2 である。
【００２２】この予め感光性を与えた平版印刷板を処理
して印刷版を製造する。真空接触複写フレーム中で、こ
れらの板を排気により試験画像と接触させ、５kw金属ハ
ロゲン化物でドーピングした水銀蒸気ランプを使用し、
現像後に高強度フィルム縁部排除露光に相当するＵＧＲ
Ａオフセット試験くさびで透明階段４が得られる様に、
１１０cmの距離で露光する。
して印刷版を製造する。真空接触複写フレーム中で、こ
れらの板を排気により試験画像と接触させ、５kw金属ハ
ロゲン化物でドーピングした水銀蒸気ランプを使用し、
現像後に高強度フィルム縁部排除露光に相当するＵＧＲ
Ａオフセット試験くさびで透明階段４が得られる様に、
１１０cmの距離で露光する。
【００２３】その後、現像装置中（ヘキストＡＧ製のＶ
Ａ８６）で、総アルカリ金属含有量が０．９５ mol/lの
ケイ酸カリウム現像剤を使用し、２５℃で１分間現像す
る。
Ａ８６）で、総アルカリ金属含有量が０．９５ mol/lの
ケイ酸カリウム現像剤を使用し、２５℃で１分間現像す
る。
【００２４】現像工程により引き起こされる基材の酸化
物層の劣化程度を目視検査により評価する。目視によ
り、劣化は、基材の裏面上に白色の、縞状の被覆の形で
現れる。
物層の劣化程度を目視検査により評価する。目視によ
り、劣化は、基材の裏面上に白色の、縞状の被覆の形で
現れる。
【００２５】表１で、下記の採点方式を採用する。 （＋）＝強度の酸化物劣化 （０）＝わずかな酸化物劣化（すなわち特に基材裏面の
縁部における） （−）＝酸化物劣化が認められない 表１ 実施例 塩 採点 １−１ ＭｇＣｌ2 − １−２ Ｍｇ（ＮＯ3 ）2 − １−３ ＣａＣｌ2 − １−４ Ｃａ（ＮＯ3 ）2 − １−５ Ｃａ酢酸塩 − １−６ ＳｒＣｌ2 − １−７ Ｓｒレブリン酸塩 − １−８ ＢａＣｌ2 − １−９ Ｂａ（ＮＯ3 ）2 − １−１０ ＳｃＣｌ3 − １−１１ Ｓｃ2 （ＳＯ4 ）3 − １−１２ ＬａＣｌ3 − １−１３ Ｌａ（ＮＯ3 ）3 − １−１４ ＴｉＣｌ3 − １−１５ ＶＳＯ4 − １−１６ ＣｒＣｌ2 − １−１７ ＭｎＢｒ2 − １−１８ ＮｉＣｌ2 − １−１９ ＣｕＣｌ2 − １−２０ ＺｎＳＯ4 − １−２１ ＡｌＣｌ3 − １−２２ ＳｎＣｌ2 − １−２３ Ｐｂ酢酸塩 − 比較例 塩 採点 １−２４ すすぎなし ＋ １−２５ 十分に脱イオン化 ＋ した水のみ 実施例２ 親水性化の後、酸化物層を同じ塩溶液で様々
な温度で処理する。
縁部における） （−）＝酸化物劣化が認められない 表１ 実施例 塩 採点 １−１ ＭｇＣｌ2 − １−２ Ｍｇ（ＮＯ3 ）2 − １−３ ＣａＣｌ2 − １−４ Ｃａ（ＮＯ3 ）2 − １−５ Ｃａ酢酸塩 − １−６ ＳｒＣｌ2 − １−７ Ｓｒレブリン酸塩 − １−８ ＢａＣｌ2 − １−９ Ｂａ（ＮＯ3 ）2 − １−１０ ＳｃＣｌ3 − １−１１ Ｓｃ2 （ＳＯ4 ）3 − １−１２ ＬａＣｌ3 − １−１３ Ｌａ（ＮＯ3 ）3 − １−１４ ＴｉＣｌ3 − １−１５ ＶＳＯ4 − １−１６ ＣｒＣｌ2 − １−１７ ＭｎＢｒ2 − １−１８ ＮｉＣｌ2 − １−１９ ＣｕＣｌ2 − １−２０ ＺｎＳＯ4 − １−２１ ＡｌＣｌ3 − １−２２ ＳｎＣｌ2 − １−２３ Ｐｂ酢酸塩 − 比較例 塩 採点 １−２４ すすぎなし ＋ １−２５ 十分に脱イオン化 ＋ した水のみ 実施例２ 親水性化の後、酸化物層を同じ塩溶液で様々
な温度で処理する。
【００２６】硝酸中で電気分解により砂目立て（ＤＩＮ
４７６８により求められるＲｚ値：３．２μm ）し、
硫酸中で陽極酸化（酸化物重量は前面上で２．０ g/
m2 、裏面の縁部で１．２ g/m2 、裏面の中央で０．２
g/m2 ）した０．３mm厚のアルミニウム箔をＤＥ−Ｂ
１６２１４７８に準じてポリビニルホスホン酸溶液で親
水性化し、０．０２ mol/lを超えるＣａ塩を含む溶液、
例えば０．１５モルＣａＣｌ2 溶液に様々な温度（表２
参照）で１〜６０秒間浸漬し、次いで下記の組成を有す
るフォトレジスト溶液で被覆する。 ａ）クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂、 ｂ）（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−ま
たは−５−スルホニルクロリドとフェノール誘導体のエ
ステル化生成物、 ｃ）照射により強酸を形成する化合物、 ｄ）陽イオン系染料、および ｅ）粒子径３〜５μm のシリカ充填材、 ｆ）ジメチルシロキサンおよびエチレンオキシド単位か
らなる界面活性剤、 ｇ）２００℃未満の沸点を有する溶剤または溶剤混合
物。
４７６８により求められるＲｚ値：３．２μm ）し、
硫酸中で陽極酸化（酸化物重量は前面上で２．０ g/
m2 、裏面の縁部で１．２ g/m2 、裏面の中央で０．２
g/m2 ）した０．３mm厚のアルミニウム箔をＤＥ−Ｂ
１６２１４７８に準じてポリビニルホスホン酸溶液で親
水性化し、０．０２ mol/lを超えるＣａ塩を含む溶液、
例えば０．１５モルＣａＣｌ2 溶液に様々な温度（表２
参照）で１〜６０秒間浸漬し、次いで下記の組成を有す
るフォトレジスト溶液で被覆する。 ａ）クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂、 ｂ）（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−ま
たは−５−スルホニルクロリドとフェノール誘導体のエ
ステル化生成物、 ｃ）照射により強酸を形成する化合物、 ｄ）陽イオン系染料、および ｅ）粒子径３〜５μm のシリカ充填材、 ｆ）ジメチルシロキサンおよびエチレンオキシド単位か
らなる界面活性剤、 ｇ）２００℃未満の沸点を有する溶剤または溶剤混合
物。
【００２７】この実施例では、フォトレジスト溶液は下
記の成分を含む。４．８０重量％の、ＤＩＮ ５３７８
３／５３２４０で規定されるヒドロキシル価が４２０
で、ＧＰＣにより決定される重量平均分子量が１０，０
００（ポリスチレン標準）であるクレゾール−ホルムア
ルデヒドノボラック樹脂、１．０５重量％の、３モルの
（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−スルホ
ニルクロリドと１モルの２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノンのエステル化生成物、０．０５重量％の、
２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン、＞０．１０重量％のクリ
スタル バイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、および
合計で１００重量％となる量の、テトラヒドロフランお
よびプロピレングリコールモノメチルエーテル（５５／
４５）からなる溶剤混合物。
記の成分を含む。４．８０重量％の、ＤＩＮ ５３７８
３／５３２４０で規定されるヒドロキシル価が４２０
で、ＧＰＣにより決定される重量平均分子量が１０，０
００（ポリスチレン標準）であるクレゾール−ホルムア
ルデヒドノボラック樹脂、１．０５重量％の、３モルの
（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−スルホ
ニルクロリドと１モルの２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノンのエステル化生成物、０．０５重量％の、
２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン、＞０．１０重量％のクリ
スタル バイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）、および
合計で１００重量％となる量の、テトラヒドロフランお
よびプロピレングリコールモノメチルエーテル（５５／
４５）からなる溶剤混合物。
【００２８】このフォトレジストフィルムを１２５℃で
１分間乾燥させる。フィルム重量は１．８ g/m2 であ
る。
１分間乾燥させる。フィルム重量は１．８ g/m2 であ
る。
【００２９】反転陽画層を備えたこの平版印刷板の処理
は次の様に行う。 − 複写フレーム中で実施例１と同様にして、試験マス
ター版を通して６０秒間露光し、 − 連続炉中、１３５℃で１分間熱処理し、 − 循環空気冷却で１０秒間冷却し、 − 連続式装置中で、放射電力２４０ワットのＵＶ−Ａ
蛍光ランプを使用し、マスターを使用せずに、３０秒間
全面露光し、 − 実施例１と同様の装置中で印刷板処理速度０．５ m
/minで現像する。
は次の様に行う。 − 複写フレーム中で実施例１と同様にして、試験マス
ター版を通して６０秒間露光し、 − 連続炉中、１３５℃で１分間熱処理し、 − 循環空気冷却で１０秒間冷却し、 − 連続式装置中で、放射電力２４０ワットのＵＶ−Ａ
蛍光ランプを使用し、マスターを使用せずに、３０秒間
全面露光し、 − 実施例１と同様の装置中で印刷板処理速度０．５ m
/minで現像する。
【００３０】現像には、ＤＥ−Ａ ４０２７２９９によ
る、総アルカリ金属含有量１．３mol/l、ポリグリコー
ル−１０００−ジカルボン酸含有量０．６重量％のケイ
酸カリウム現像剤を使用する。
る、総アルカリ金属含有量１．３mol/l、ポリグリコー
ル−１０００−ジカルボン酸含有量０．６重量％のケイ
酸カリウム現像剤を使用する。
【００３１】実施例１と同様に採点する酸化物劣化基準
に加えて、複写技術挙動、すなわち感光性、再現性、カ
ラーヘイズ、側方照明感受性、および印刷挙動、すなわ
ちこの様にして製造した平版印刷板のランニングクリー
ン、水需要、印刷回数を調査する。
に加えて、複写技術挙動、すなわち感光性、再現性、カ
ラーヘイズ、側方照明感受性、および印刷挙動、すなわ
ちこの様にして製造した平版印刷板のランニングクリー
ン、水需要、印刷回数を調査する。
【００３２】 表２ 実施例 温度（℃） 酸化物劣化 複写／印刷挙動 ２−１ ２０ − 標準と比較して欠点なし ２−２ ３０ − 〃 ２−３ ４０ − 〃 ２−４ ５０ − 〃 ２−５ ６０ − 〃 ２−６ ７０ − 〃 ２−７ ８０ − 〃 ２−８ ９０ − 〃 比較例 ２−９ すすぎなし ＋ 標準 実施例３ 放射線感応性層を施した後、様々な濃度の同
じ塩溶液で酸化物層を処理する。
じ塩溶液で酸化物層を処理する。
【００３３】実施例１により製造した平版印刷板基材
を、親水性化した後、下記の成分を含む溶液で被覆す
る。 ａ）少なくとも一つのオレフィン性二重結合を含む化合
物、 ｂ）酸価が１０を超える、アルカリに可溶な重合体の結
合剤、 ｃ）光反応開始剤、 ｄ）染料、および ｅ）沸点が２００℃未満の溶剤または溶剤混合物。
を、親水性化した後、下記の成分を含む溶液で被覆す
る。 ａ）少なくとも一つのオレフィン性二重結合を含む化合
物、 ｂ）酸価が１０を超える、アルカリに可溶な重合体の結
合剤、 ｃ）光反応開始剤、 ｄ）染料、および ｅ）沸点が２００℃未満の溶剤または溶剤混合物。
【００３４】この実施例では、この溶液は下記の成分を
含む。３．００重量％のトリアクリル酸トリメチロール
プロパン、１０．００重量％の、ＧＰＣにより決定され
る重量平均分子量が５０，０００（ポリスチレン標準）
で、酸価が１９０の、メタクリル酸メチルとメタクリル
酸の共重合体、０．０５重量％のジベンザルアセトン、
０．０５重量％の９−フェニルアクリジン、０．１０重
量％の、２，４−ジニトロ−６−クロロベンゼンジアゾ
ニウムクロリドおよび２−メトキシ−５−アセチルアミ
ノ−Ｎ−シアノエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルアニリン
からなるアゾ染料、および合計で１００重量％となる量
のエチレングリコールモノメチルエーテル。
含む。３．００重量％のトリアクリル酸トリメチロール
プロパン、１０．００重量％の、ＧＰＣにより決定され
る重量平均分子量が５０，０００（ポリスチレン標準）
で、酸価が１９０の、メタクリル酸メチルとメタクリル
酸の共重合体、０．０５重量％のジベンザルアセトン、
０．０５重量％の９−フェニルアクリジン、０．１０重
量％の、２，４−ジニトロ−６−クロロベンゼンジアゾ
ニウムクロリドおよび２−メトキシ−５−アセチルアミ
ノ−Ｎ−シアノエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルアニリン
からなるアゾ染料、および合計で１００重量％となる量
のエチレングリコールモノメチルエーテル。
【００３５】このフォトレジストフィルムを１２５℃で
２分間乾燥させ、層重量が３．０g/m2 になる。
２分間乾燥させ、層重量が３．０g/m2 になる。
【００３６】その後、基材箔の裏面に様々な濃度（表
３）のＣａ塩溶液、例えばＣａ（ＮＯ3 ）2 溶液を２０
〜９０℃で１〜６０秒間吹き付け、次いで前面に下記の
溶液を酸素後拡散バリヤー層として塗布する。２．２０
重量％の、残留アセチル基含有量が１０．７％で、その
４％濃度の水溶液が８mPasの粘度を有するポリビニルア
ルコール（モウィオール８−８８、ヘキストＡＧ製）、
０．０２重量％のアルカンスルホン酸ｓｅｃ−ナトリウ
ム（ホスタプルＳＡＳ、ヘキストＡＧ製）、０．０２重
量％のクロロアセトアミド、および合計１００重量％と
なる量の十分に脱イオン化した水。１２５℃で１分間乾
燥後、このバリヤー層の層重量は２．０ｇ／ｍ2 であ
る。
３）のＣａ塩溶液、例えばＣａ（ＮＯ3 ）2 溶液を２０
〜９０℃で１〜６０秒間吹き付け、次いで前面に下記の
溶液を酸素後拡散バリヤー層として塗布する。２．２０
重量％の、残留アセチル基含有量が１０．７％で、その
４％濃度の水溶液が８mPasの粘度を有するポリビニルア
ルコール（モウィオール８−８８、ヘキストＡＧ製）、
０．０２重量％のアルカンスルホン酸ｓｅｃ−ナトリウ
ム（ホスタプルＳＡＳ、ヘキストＡＧ製）、０．０２重
量％のクロロアセトアミド、および合計１００重量％と
なる量の十分に脱イオン化した水。１２５℃で１分間乾
燥後、このバリヤー層の層重量は２．０ｇ／ｍ2 であ
る。
【００３７】この様にして得られた予め感光性付与した
平版印刷板を実施例１と同様にして３５秒間露光し、次
いで実施例１と同様の現像装置中で、前もって前面を十
分に脱イオン化した水ですすいでＰＶＡｌ被覆層を除去
し、総アルカリ金属含有量が０．５５ mol/lであり、非
イオン系湿潤剤［約８オキシエチレン単位を含むココナ
ッツバターアルコールポリオキシエチレン（ゲナポール
Ｇ０８０、ヘキストＡＧ製）］の含有量が１ g/lである
ケイ酸カリウム現像剤中で０．６ m/minの処理速度で現
像する。
平版印刷板を実施例１と同様にして３５秒間露光し、次
いで実施例１と同様の現像装置中で、前もって前面を十
分に脱イオン化した水ですすいでＰＶＡｌ被覆層を除去
し、総アルカリ金属含有量が０．５５ mol/lであり、非
イオン系湿潤剤［約８オキシエチレン単位を含むココナ
ッツバターアルコールポリオキシエチレン（ゲナポール
Ｇ０８０、ヘキストＡＧ製）］の含有量が１ g/lである
ケイ酸カリウム現像剤中で０．６ m/minの処理速度で現
像する。
【００３８】酸化物劣化を実施例１と同様に採点する。
【００３９】 表３ 実施例 塩濃度 酸化物劣化 ３−１ ０．０２ mol/l − ３−２ ０．０４ mol/l − ３−３ ０．１０ mol/l − ３−４ ０．２０ mol/l − ３−５ ０．４０ mol/l − 比較例 塩濃度 酸化物劣化 ３−６ すすぎなし ＋ ３−７ ０ mol/l ＋ ３−８ ０．００１ mol/l ０ ３−９ ０．０１ mol/l ０ １リットルあたり３ m2 までの印刷板を現像する多くの
処理により、現像剤消耗試験を行う。比較例３−７で
は、その後にスクイズローラー上に大量の被覆が見ら
れ、３−８では軽度の被覆が見られるのに対し、実施例
３−３では被覆は見られない。実施例４ 親水性化後に同じ塩溶液で酸化物層を様々な
時間処理する電子写真印刷板 実施例１と同様に処理した平版印刷板を、親水性化の後
に、０．０２〜０．４モルＳｒ塩溶液中に様々な時間
（表４）浸漬し、次いで下記の成分を含む溶液で被覆す
る。 ａ）有機光伝導体、 ｂ）アルカリに可溶な重合体結合剤、 ｃ）染料および ｄ）沸点１００℃未満の溶剤または溶剤混合物。
処理により、現像剤消耗試験を行う。比較例３−７で
は、その後にスクイズローラー上に大量の被覆が見ら
れ、３−８では軽度の被覆が見られるのに対し、実施例
３−３では被覆は見られない。実施例４ 親水性化後に同じ塩溶液で酸化物層を様々な
時間処理する電子写真印刷板 実施例１と同様に処理した平版印刷板を、親水性化の後
に、０．０２〜０．４モルＳｒ塩溶液中に様々な時間
（表４）浸漬し、次いで下記の成分を含む溶液で被覆す
る。 ａ）有機光伝導体、 ｂ）アルカリに可溶な重合体結合剤、 ｃ）染料および ｄ）沸点１００℃未満の溶剤または溶剤混合物。
【００４０】この実施例では、被覆溶液は下記の成分を
含む。５．００重量％の２，５−ビス（４' −ジエチル
アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、
５．００重量％のクレゾール−ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂（実施例１と同じ）、０．０１重量％のローダ
ミンＦＢ（Ｃ．Ｉ．４５１７０）、および合計１００重
量％となる量のエチレングリコールモノメチルエーテ
ル。
含む。５．００重量％の２，５−ビス（４' −ジエチル
アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、
５．００重量％のクレゾール−ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂（実施例１と同じ）、０．０１重量％のローダ
ミンＦＢ（Ｃ．Ｉ．４５１７０）、および合計１００重
量％となる量のエチレングリコールモノメチルエーテ
ル。
【００４１】これらの層を１２５℃で２分間乾燥させ、
層重量が５ g/m2 になる。
層重量が５ g/m2 になる。
【００４２】この様にして製造し、電子写真原理に基付
いて処理した平版印刷板を暗所でコロナ放電で−５００
Ｖに帯電させ、各５００ワットの８個のハロゲンランプ
を有する投影装置で３０秒間露光する。形成された帯電
潜像を、磁気ローラーを使用し、市販のトナー／担体混
合物で調色する。トナーを熱定着させた後、非画像区域
を下記の溶液で除去する。
いて処理した平版印刷板を暗所でコロナ放電で−５００
Ｖに帯電させ、各５００ワットの８個のハロゲンランプ
を有する投影装置で３０秒間露光する。形成された帯電
潜像を、磁気ローラーを使用し、市販のトナー／担体混
合物で調色する。トナーを熱定着させた後、非画像区域
を下記の溶液で除去する。
【００４３】 Ｎａ2 ＳｉＯ3 ２．０重量％ ＮａＯＨ ０．２重量％ エチレングリコール １５．０重量％ ｎ−プロパノール １０．０重量％ ５分間の除去工程により、基材の酸化物層が攻撃される
程度を調べる。
程度を調べる。
【００４４】 表４から分かる様に、塩溶液による処理を省略した場合
にのみ著しい酸化物劣化が起こるのに対し、塩溶液中に
非常に短い時間（１秒間）浸漬するだけでも酸化物劣化
が抑制される。
にのみ著しい酸化物劣化が起こるのに対し、塩溶液中に
非常に短い時間（１秒間）浸漬するだけでも酸化物劣化
が抑制される。
Claims (20)
- 【請求項１】砂目立てし、陽極酸化し、親水性化した、
放射線感応性被覆を施した平版印刷板を露光し、アルカ
リ性水溶液中で現像することによって平版印刷版を製造
する方法であって、その平版印刷板を、親水性化の後、
０．０２ mol/l以上の濃度の二価または多価陽イオンを
含む塩溶液で処理することを特徴とする方法。 - 【請求項２】塩溶液が、吹き付け、浸漬、またはすすぎ
により、前面の親水性化の後、放射線感応性被覆を施す
前に平版印刷板上に塗布されることを特徴とする、請求
項１に記載の方法。 - 【請求項３】平版印刷板の裏面が前面と同時に塩溶液で
すすがれることを特徴とする、請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】平版印刷板の裏面が、親水性化の後で、放
射線感応性被覆を施した後に、塩溶液ですすがれること
を特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】塩溶液の濃度範囲が０．０４〜０．４ mol
/lであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項６】塩溶液の温度が２０〜９０℃の温度である
ことを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】塩溶液の作用時間が１秒間〜１分間である
ことを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項８】塩溶液の陽イオンが、周期律表の第二およ
び第三主族および第三副族の元素のイオンであることを
特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項９】陽イオンがカルシウムであることを特徴と
する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１０】塩溶液の陽イオンが、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、ＳｎおよびＰｂからなる群か
ら選択された元素のイオンであることを特徴とする、請
求項１に記載の方法。 - 【請求項１１】親水性化がポリビニルホスホン酸で行わ
れることを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１２】アルカリ性水溶液がケイ酸塩を含むこと
を特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項１３】塩溶液が、ＭｇＣｌ2 、Ｍｇ（ＮＯ3 ）
2 、ＣａＣｌ2 、Ｃａ（ＮＯ3 ）2 、Ｃａ酢酸塩、Ｓｒ
Ｃｌ2 、Ｓｒレブリン酸塩、ＢａＣｌ2 、Ｂａ（Ｎ
Ｏ3 ）2 、ＳｃＣｌ3 、Ｓｃ2 （ＳＯ4 ）3 、ＬａＣｌ
3 、Ｌａ（ＮＯ3 ）3 、ＴｉＣｌ3、ＶＳＯ4 、ＣｒＣ
ｌ2 、ＭｎＢｒ2 、ＮｉＣｌ2 、ＣｕＣｌ2 、ＺｎＳＯ
4 、ＡｌＣｌ3 、ＳｎＣｌ2 またはＰｂ酢酸塩からなる
群から選択された塩を含むことを特徴とする、請求項１
に記載の方法。 - 【請求項１４】放射線感応性被覆を施す前に、平版印刷
板を、０．０２モルを超える濃度のＣａ塩溶液に、２０
〜９０℃の温度で、１〜６０秒間浸漬することを特徴と
する、請求項９に記載の方法。 - 【請求項１５】放射線感応性被覆を施した後、平版印刷
板の裏面に、０．０２〜０．４０ mol/lの濃度のＣａ塩
溶液を、２０〜９０℃の温度で、１〜６０秒間吹き付け
ることを特徴とする、請求項９に記載の方法。 - 【請求項１６】親水性化の後で、放射線感応性被覆を施
す前に、平版印刷板を、０．０２〜０．４モルのＳｒ塩
溶液に、１〜６０秒間浸漬することを特徴とする、請求
項１に記載の方法。 - 【請求項１７】請求項１〜１６のいずれか１項により製
造された平版印刷版であって、平版印刷板のアルミニウ
ム基材が１〜３ g/m2 のフィルム重量を有するフォトレ
ジストで被覆されていること、およびそのフォトレジス
トフィルムが、 ａ）クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂、 ｂ）（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−ま
たは−５−スルホニルクロリドとフェノール誘導体のエ
ステル化生成物、 ｃ）照射により強酸を形成する化合物、 ｄ）陽イオン系染料、および ｅ）２００℃未満の沸点を有する溶剤または溶剤混合物 の成分を含むフォトレジスト溶液を乾燥させることによ
り形成されることを特徴とする平版印刷版。 - 【請求項１８】請求項１〜１６のいずれか１項により製
造された平版印刷版であって、平版印刷板のアルミニウ
ム基材が１〜３ g/m2 のフィルム重量を有するフォトレ
ジストで被覆されていること、およびそのフォトレジス
トフィルムが、 ａ）クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂、 ｂ）（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド）−４−ま
たは−５−スルホニルクロリドとフェノール誘導体のエ
ステル化生成物、 ｃ）照射により強酸を形成する化合物、 ｄ）陽イオン系染料、 ｅ）粒子径３〜５μm の充填材、 ｆ）ジメチルシロキサンおよびエチレンオキシド単位か
らなる界面活性剤、および ｇ）２００℃未満の沸点を有する溶剤または溶剤混合物 の成分を含むフォトレジスト溶液を乾燥させることによ
り形成されることを特徴とする平版印刷版。 - 【請求項１９】請求項１〜１６のいずれか１項により製
造された平版印刷版であって、平版印刷板のアルミニウ
ム基材がフォトレジストで被覆されていること、および
そのフォトレジストフィルムが、 ａ）少なくとも一つのオレフィン性二重結合を含む化合
物、 ｂ）酸価が１０を超える、アルカリに可溶な重合体の結
合剤、 ｃ）光反応開始剤、 ｄ）染料、および ｅ）沸点が２００℃未満の溶剤または溶剤混合物 の成分を含むフォトレジスト溶液を乾燥させることによ
り形成されることを特徴とする平版印刷版。 - 【請求項２０】請求項１〜１６のいずれか１項により製
造された平版印刷版であって、平版印刷板のアルミニウ
ム基材が放射線感応性電子写真層で被覆されているこ
と、および前記層が、 ａ）有機光伝導体、 ｂ）アルカリに可溶な重合体結合剤、 ｃ）染料および ｄ）沸点１００℃未満の溶剤または溶剤混合物 の成分を含む被覆溶液を乾燥させることにより形成され
ることを特徴とする平版印刷版。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4134143.0 | 1991-10-16 | ||
| DE4134143A DE4134143A1 (de) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | Verfahren zur herstellung von flachdruckformen und danach hergestellte flachdruckformen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221178A true JPH05221178A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=6442739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4277432A Pending JPH05221178A (ja) | 1991-10-16 | 1992-10-15 | 平版印刷版の製造方法およびその方法により製造された平版印刷版 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5314787A (ja) |
| EP (1) | EP0537633B1 (ja) |
| JP (1) | JPH05221178A (ja) |
| DE (2) | DE4134143A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7087361B2 (en) | 2002-09-13 | 2006-08-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate, method of preparing the support and presensitized plate |
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| DE69901642T3 (de) | 1998-03-14 | 2019-03-21 | Agfa Nv | Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus einem wärmeempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial |
| ATE327097T1 (de) † | 2000-04-07 | 2006-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Wärmeempfindlicher lithographischer druckplattevorläufer |
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