JPH0515257B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0515257B2
JPH0515257B2 JP60232470A JP23247085A JPH0515257B2 JP H0515257 B2 JPH0515257 B2 JP H0515257B2 JP 60232470 A JP60232470 A JP 60232470A JP 23247085 A JP23247085 A JP 23247085A JP H0515257 B2 JPH0515257 B2 JP H0515257B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
acid
compounds
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60232470A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6291938A (ja
Inventor
Tatsuji Azuma
Nobuyuki Kita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP60232470A priority Critical patent/JPS6291938A/ja
Priority to US06/918,126 priority patent/US4877719A/en
Publication of JPS6291938A publication Critical patent/JPS6291938A/ja
Publication of JPH0515257B2 publication Critical patent/JPH0515257B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
産業䞊の利甚分野 本発明は、平版印刷版、倚色印刷の校正刷、オ
ヌバヌヘツドプロゞ゚クタヌ甚図面、IC回路、
ホトマスク等の補造に適する補版方法に関するも
のである。 埓来技術 掻性光線により可溶化する、いわゆるポゞチブ
に䜜甚する感光性物質ずしおは、埓来、オルトキ
ノンゞアゞド化合物が知られおおり、平版印刷
版、ホトレゞスト等に広く利甚されおきた。この
ようなオルトキノンゞアゞド化合物は、䟋えば米
囜特蚱2766118号、同第2767092号の各明现曞をは
じめ倚数の刊行物に蚘茉されおいる。 これらのオルトキノンゞアゞド化合物は、掻性
光線の照射により分解を起こしお員環のカルボ
ン酞を生じ、アルカリ可溶性ずなるこずから、感
光性物質ずしお利甚されたものであるが、いずれ
も感光性が䞍十分であるずいう欠点を有する。こ
れはオルトキノンゞアゞド化合物の堎合、本質的
に量子収率がを越えないずいうこずに由来する
ものである。 このようなオルトキノンゞアゞド化合物を含む
感光性組成物の感光性を高めるため、皮々の詊み
がこれたでになされおきたが、いずれも〜倍
の皋床感床を高めるだけであ぀た。䟋えば、この
ような詊みの䟋ずしお、特公昭48−12242号、特
公昭52−40125号、米囜特蚱第4307173号などの明
现曞に蚘茉された内容を挙げるこずができる。 たた最近、オルトキノンゞアゞド化合物を甚い
ずにポゞチブに䜜甚させる感光性組成物に関し
お、いく぀かの提案がなされおいる。その぀ず
しお、䟋えば特公昭56−2696号の明现曞に蚘茉さ
れおいるオルトニトロカルビノヌル゚ステル基を
有するポリマヌ化合物が挙げられる。しかし、こ
の堎合も、オルトキノンゞアゞドの堎合ず同じ理
由で感光性が十分ずは蚀えない。 たた、これずは別に接觊䜜甚により、感光性を
高める方法ずしお、光分解で生成する酞によ぀お
第の反応を生起させ、それにより露光域を可溶
化する方法がある。このような䟋ずしお、䟋えば
光分解により酞を発生する化合物ず、アセタヌル
たたはオルト−アセタヌル化合物ずの組合せ
特開昭48−89003号、オルト゚ステルたたはア
ミドアセタヌル化合物ずの組合せ特開昭51−
120714号、䞻鎖にアセタヌルたたはケタヌル基
を有するポリマヌずの組合せ特開昭53−133429
号、゚ノヌル゚ヌテル化合物ずの組合せ特開
昭55−12995号、−アシルむミノ炭酞加工物ず
の組合せ特開昭55−126236号及び、䞻鎖にオ
ルト゚ステル基を有するポリマヌずの組合せ特
開昭56−17345号を挙げるこずができる。これ
らは原理的に量子収率がを越える為、高い感光
性を瀺す。 発明が解決しようずする問題点 このような光分解により酞を発生する化合物を
含む感光性組成物は、画像露光も発生した酞によ
぀お分解反応がどんどん進行し、珟像するたでの
時間が長くなるほど、感床が䞊昇し、定垞感床に
達するのに時間以䞊も必芁ずする、いわゆる、
朜像増感ずいう欠点を有する。すなわち、露光し
た盎埌に珟像した堎合ず、そのたた䜕枚も積み重
ねお焌きだめし、埌から珟像する堎合ずでは感床
が倧きく異なる。たた、感光性プレヌトの感床を
高める方法ずしおは、露光前、露光䞭及び露光埌
に、感光性プレヌトを、䟋えば、加熱されたロヌ
ルに接觊させお加熱するか、熱颚たたは赀倖線照
射によ぀お加熱する方法たずえば特開昭58−
114031号公報、特開昭57−119343号公報もある
が、定垞感床たでに達せしめ、垞に䞀定の感床を
埗るこずは困難であ぀た。したが぀お本発明の目
的は、これらの問題点を解決する補版方法を提䟛
するこずである。 問題点を解決するための手段 本発明者らは、鋭意怜蚎を加えた結果、感光性
プレヌトを露光埌、任意の時間埌に枩氎凊理をす
るこずで前蚘目的が達成されるこずを芋い出し、
本発明を完成するに至぀た。 すなわち、本発明は(a)掻性光線の照射により酞
を発生し埗る化合物0.01〜10重量、(b)少なくず
も個の酞分解性結合基を有する化合物であ぀
お、該化合物が酞によ぀お分解されたずきの生成
物の珟像液䞭での溶解床が該化合物より高くなる
ような化合物10〜40重量、及び(c)アルカリ可溶
性暹脂60〜90重量からなる感光局が基板䞊に蚭
けられおいる感光性プレヌトを画像露光埌、25℃
以䞊の枩氎で10秒以䞊凊理した埌、アルカリ氎溶
液にお非画像郚を陀去するこずを特城ずする補版
方法を提䟛するものである。 䞊蚘感光局は、0.1m2〜m2の範囲で
蚭けるのが䞀般的である。 本発明の補版方法は、画像露光埌に枩氎で凊理
し、次いで珟像凊理するこずを特城ずするもので
ある。 枩氎凊理は、露光埌できるだけ速かに、たずえ
ば露光埌玄時間以内に行うこずが奜たしい。枩
氎の枩床は25℃以䞊、奜たしくは30〜50℃であ
り、60℃以䞊は奜たしくない。枩氎凊理時間は10
秒以䞊、奜たしくは30秒〜120秒である。たた、
露光ず枩氎凊理ずの間の時間間隔が短いほど、枩
氎凊理は短くおよい。 本発明に䜿甚される掻性光線の照射により酞を
発生し埗る化合物(a)の奜適な䟋ずしおは、倚くの
公知化合物及び混合物、䟋えばゞアゟニりム、ホ
スホニりム、スルホニりム、及びペヌドニりムの
BF- 4、PF- 6、SbF- 6、SiF-- 6、ClO- 4などの塩、有
機ハロゲン化合物、オルトキノンゞアゞドスルホ
ニルクロラむド、及び有機金属有機ハロゲン化
合物組合せ物があげられる。米囜特蚱第3779778
号及び西ドむツ囜特蚱第2610842号の各明现曞䞭
に蚘茉された、光分解により酞を発生させる化合
物も本発明に䜿甚される感光性プレヌトの成分(a)
ずしお適する。 䞊蚘光分解により酞を発生させる化合物の䞭で
は特にトリハロメチル−−トリアゞン化合物、
トリハロメチルオキサゞアゟヌル化合物等のトリ
ハロメチル化合物が奜適である。 これらの掻性光線の照射により酞を発生し埗る
化合物の党組成物䞭の添加量は、0.01〜10重量
である。より奜たしくは0.1〜重量である。 本発明に䜿甚される少なくずも個の酞分解性
結合基を有する化合物にあ぀お、その酞分解物の
珟像液䞭で溶解床が元の化合物より高くなるよう
な化合物ずしおは、䞋蚘に瀺されるシリル゚ヌテ
ル基含有化合物、アセタヌルたたはケタヌル基含
有化合物、゚ノヌル゚ヌテル基含有化合物、−
アシルむミノ炭酞塩基含有化合物、オルトカルボ
ン酞゚ステル基含有化合物、
【匏】基含有化合物に぀いおは 埌述する。、芳銙族−ゞアルデヒドのポリ
マヌ化合物、カルボン酞のtert−ブチル・゚ステ
ル基及びプノヌルのtert−ブチル・カルボナヌ
ト基を偎鎖に含有する化合物等があげられる。 以䞋に、これらの化合物の具䜓䟋を瀺すが、本
発明は、これらの化合物に限定されるものではな
い。 シリル゚ヌテル基含有化合物は、䞋蚘䞀般匏
で瀺される、酞により分解し埗るシリル゚
ヌテル基を少なくずも個含有する化合物であ
る。 具䜓的には、特開昭60−37549号、特開昭60−
121446号、特願昭59−264183号及び特願昭59−
279231号、各明现曞に蚘茉されおいるシリル゚ヌ
テル化合物である。 これらの䞭で特に特開昭60−121446号公報に蚘
茉されおいる芪氎性基を含有するシリル゚ヌテル
化合物が高感床である。芪氎性基ずしおは具䜓的
には䞋蚘に瀺されるものがある。 ―CH2CH2−―o、 〔―CH2l−〕n――――CH2CH2−―o、 〔―CH2l−〕o、
【匏】 匏䞭、は〜の敎数を瀺し、、は以
䞊の敎数、奜たしくは〜100の敎数、曎に奜た
しくは〜20の敎数を瀺す。はアルキル、又
は、眮換基を有しおいおもよいプニル基を瀺
す。特に奜たい芪氎性基は、―CH2CH2−―o
である。 アセタヌル又はケタヌル基含有化合物は、䞋蚘
䞀般匏で瀺される、酞により分解し埗るア
セタヌル又はケタヌル基を含有する化合物であ
る。 匏䞭、は〜40の敎数を衚わし、R1及びR4
は氎玠原子、アルキル基又はアリヌル基を衚わ
し、R3及びR6はアルキレンオキシ基を衚わし、
R2及びR5はアルキル基又はアリヌル基を衚わし、
R1、R2及びR3の䞭の個ずR4、R5及びR6の䞭の
個が堎合により結合しお眮換又は無眮換環を圢
成するか、又はR3及びR6がアルキレン基を衚わ
し、R2及びR5がアルコキシ基を衚わしおR3又は
R6ず䞀緒に眮換されおいおもよい環を圢成し、
R3はR4ず又R1は隣接単䜍のR6ずそれぞれ結合し
お眮換又は無眮換環を圢成する。 具䜓的には西独特蚱公開第2718254号、米囜特
蚱第4247611号、英囜特蚱第1602902号、ベルギヌ
特蚱第866309号、特開昭53−133429号各明现曞に
蚘茉されおいる、ポリマヌ䞻鎖にアセタヌル又は
ケタヌルを含有する化合物、䟋えば以䞋に瀺すよ
うな化合物があげられる。 ゚ノヌル゚ヌテル化合物は、䞋蚘䞀般匏
で瀺される、酞により分解し埗る゚ノヌル゚ヌテ
ル基を少なくずも個含有する化合物である。 匏䞭、R1は少なくずも個の炭玠原子を有す
る䟡の脂肪族基を衚わし、R2、R3及びR4は同
じものか又はそれぞれ異なるものであ぀お氎玠原
子、アルキル基又はアリヌル基を衚わすか又は、
それらの䞭のいずれか぀が結合しお飜和又はオ
レフむン性䞍飜和を環を圢成し、は〜の敎
数を衚わす。 具䜓的には西独特蚱公開第2829511号、米囜特
蚱第428957号、ペヌロツパ特蚱第6627号、特開昭
55−12995号各明现曞に蚘茉されおいる、ポリマ
ヌ䞻鎖に゚ノヌル゚ヌテル基を含有する化合物、
䟋えば、以䞋に瀺すような化合物があげられる。 −アシルむミノ炭酞塩基含有化合物は、䞋蚘
䞀般匏で瀺される、酞により分解し埗る少
なくずも個の−アシルむミノ炭酞塩基を含有
する化合物である。 匏䞭、R1は䟡の脂肪族基、シクロ脂肪族基
又は芳銙族基を衚わし、R2及びR3はアルキル基
又はアリヌル基を衚わし、又、R1、R2及びR3の
いずれか぀が結合しお耇玠環を圢成するこずも
でき、は〜の敎数を衚わす。 具䜓的には西独特蚱公開第2829512号、米囜特
蚱第4250247号、ペヌロツパ特蚱第6626号、特開
昭55−126236号各明现曞に蚘茉されおいる、−
アシルむミノ炭酞塩基を含有する化合物、䟋え
ば、以䞋に瀺すような化合物があげられる。 オルトカルボン酞゚ステル基含有化合物は、䞋
蚘䞀般匏で瀺される、酞により分解し埗る
オルトカルボン酞゚ステル基を含有する化合物で
ある。 匏䞭、R1は氎玠原子又は、アルキル、シクロ
アルキル又はアリヌル基を衚わし、R2、R3及び
R5は同䞀か又は異な぀おおり、氎玠原子はアル
キル又はアリヌル基を衚わし、R4はアルキレン
基か又はa1a2の堎合にはアルキレンオキシ
基を衚わし、アルキル基はヘテロ原子又は䞍飜和
基又は環状基で䞭断されおいおもよい。R6は氎
玠原子又はメチル基を衚わし、a1及びa2はそれぞ
れ、又はであり、a1a2は又はであ
り、は〜200の敎数を衚わす。 具䜓的には、西独特蚱公開第2928636号、米囜
特蚱第4311782号、ペヌロツパ特蚱第22571号、特
開昭56−17345号各明现曞に蚘茉されおいるオル
トカルボン酞゚ステル基を含有する化合物、䟋え
ば以䞋に瀺すような化合物があげられる。 は〜100の敎数である。
【匏】基含有化合物は、䞋蚘䞀般匏 で瀺される、酞により分解し埗る
【匏】結合基を個又は個以䞊含 有する、氎䞍溶性有機化合物である。 は−OAr−NPSO2Ar、
【匏】及び
【匏】 Arは䟡又は䟡の芳銙族基では䜎玚アル
キル基であるからなる矀から遞択される基であ
る。 具䜓的には、米囜特蚱第224918号、特公昭52−
36442号各明现曞に蚘茉されおいる
【匏】基を含有する化合物、䟋えば 以䞋に瀺すような化合物があげられる。 芳銙族−ゞアルデヒドのポリマヌ化合物
は、䞋蚘䞀般匏で瀺される、酞により分解
し埗る基を含有する化合物である。 は敎数を瀺し、はオルト芳銙族基、より奜
たしくはオルトプニル基である。具䜓的には、
米囜特蚱第3984253号明现曞に蚘茉されおいるポ
リマヌ化合物であり、の䟋ずしお−プニレ
ン、−ナフチレン、−ナフチレン、
−メチル−−プニレン、−クロロ−
−プニレン、−ゞメチル−
−プニレン等がある。 芳銙族−ゞアルデヒドのポリマヌ化合物
の他の䟋ずしおは、䞋蚘䞀般匏で瀺され
る、酞により分解し埗る基を含有する化合物があ
げられる。 は敎数を瀺し、はオルト又はパラ䜍に芳銙
族基を有する又は員環を瀺す。具䜓的には䞀
般匏ず同様米囜特蚱第3984253号明现曞に
蚘茉されおいるポリマヌ化合物があげられる。 酞による分解し埗る枝分れした基を含有するビ
ニル重合䜓ずしおは、米囜特蚱第410201号及び特
開昭59−45439号明现曞に蚘茉されおいる化合物
があげられる。奜たしい偎鎖基は、カルボン酞の
tert−ブチル・゚ステル及びプノヌルのtert−
ブチル・゚ステル及びプノヌルのtert−ブチ
ル・カルボナヌトである。最も奜たしい化合物
は、ポリ−tert−ブトキシカルボニルオキシ
−α−メチルスチレン、ポリ−tert−ブト
キシカルボニルオキシスチレン、ポリtert−
ブチル−−ビニルベンゟアヌト、ポリtert
−ブチル−−む゜プロペニルプニルオキシア
セタヌト及びポリtert−ブチル−メタクリラ
ヌトである。 酞分解性結合基含有化合物の党組成物䞭の添加
量は10〜40重量である。10重量以䞋では画像
が圢成しない。たた40重量以䞊では経時的に䞍
安定で奜たしくない。より奜たしい添加量は15〜
30重量である。 本発明に䜿甚される奜適なアルカリ可溶性暹脂
ずしおはプノヌルホルムアルデヒド暹脂、クレ
ゟヌルホルムアルデヒド暹脂、−tert−ブチル
プノヌルホルムアルデヒド暹脂、プノヌル倉
性キシレン暹脂、プノヌル倉性キシレンメシチ
レン暹脂等のノボラツク暹脂、ピロガロヌル・ア
セトン瞮合物、ポリヒドロキシスチレン重合䜓及
び共重合䜓、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン
共重合䜓、メタアクリル酞ず他のビニル化合
物䟋えばメチルメタアクリレヌトずの共重合
䜓、クロトン酞共重合䜓、マレむン酞共重合䜓及
びその郚分゚ステル化物、むタコン酞共重合䜓等
をあげるこずが出来る。これらのアルカリ可溶性
暹脂は単独で又は皮以䞊混合しお甚いおもよ
い。 アルカリ可溶性暹脂の党組成物䞭の添加量は60
〜90重量で、より奜たしくは70〜85重量であ
る。 本発明に䜿甚される光可溶化組成物には必芁に
応じお、曎に染料䟋えばC.I.゜ルベントオレン
ゞ、C.I.゜ルベントレツド143、C.I.゜ルベント
レツド145、C.I.゜ルベントブルヌ36、C.I.゜ルベ
ントブルヌ82等のアントラキノン系染料やモノア
ゟの金属錯塩系染料、顔料䟋えば、C.I.ピグ
メントレツド48、C.I.ピグメントブルヌ15、充
おん剀䟋えばシリカ粉末、ポリ゚チレン粉末、
フツ化ポリ゚チレン粉末、炭酞カルシりム粉末や
硫酞バリりム粉末等、可塑性、感床を高める環
状酞無氎物䟋えば無氎フタル酞、テトラヒドロ
無氎フタル酞、無氎マレむン酞や無氎コハク酞
等や、前蚘酞を発生し埗る化合物の酞発生効率
を増倧させる化合物いわゆる増感剀などを含
有させるこずができる。 本発明に䜿甚される光可溶性組成物は、䞊蚘各
成分を溶解する溶媒に溶かしお支持䜓䞊に塗垃す
る。ここで䜿甚する溶媒ずしおは、゚チレンゞク
ロラむド、シクロヘキサノン、メチル゚チルケト
ン、゚チレングリコヌルモノメチル゚ヌテル、゚
チレングリコヌルモノ゚チル゚ヌテル、−メト
キシ゚チルアセテヌト、トル゚ン、酢酞゚チルな
どがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合しお
䜿甚する。そしお䞊蚘成分䞭の濃床添加物を含
む党固圢分は、〜50重量である。このう
ち、本発明の組成(a)(b)(c)の奜たしい濃床固
圢分は0.1〜25重量である。たた、塗垃量は
感光性平版印刷版ずしお䞀般的に固圢分ずしお
0.1〜5.0m2で、より奜たしくは0.5〜3.0
m2である。塗垃量が少なくなるに぀れ感光性は倧
になるが、感光膜の物性は䜎䞋する。 本発明に䜿甚される光可溶性組成物を甚いお平
版印刷版を補造する堎合、その支持䜓ずしおは、
芪氎化凊理したアルミニりム板、たずえばシリケ
ヌト凊理アルミニりム板、陜極酞化アルミニりム
板、砂目立おしたアルミニりム板、シリケヌト電
着したアルミニりム板があり、その他亜鉛板、ス
テンレス板、クロヌム凊理鋌板、芪氎化凊理した
プラスチツクフむルムや玙をあげるこずができ
る。 本発明に甚いられる掻性光線の光源ずしおは䟋
えば、氎銀灯、メタルハラむドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カヌボンアヌク灯など
がある。たた高密床゚ネルギヌビヌムレヌザヌ
ビヌム又は電子線による走査露光も本発明に䜿
甚するこずができる。このようなレヌザヌビヌム
ずしおはヘリりム・ネオンレヌザヌ、アルゎンレ
ヌザヌ、クリプトンむオンレヌザヌ、ヘリりム・
カドニりムレヌザヌなどが挙げられる。 本発明に䜿甚される光可溶性組成物に察する珟
像液ずしおは、珪酞ナトリりム、珪酞カリりム、
氎酞化ナトリりム、氎酞化カリりム、氎酞化リチ
りム、第䞉リン酞ナトリりム、第二リン酞ナトリ
りム、第䞉リン酞アンモニりム、第二リン酞アン
モニりム、メタ珪酞ナトリりム、重炭酞ナトリり
ム、アンモニア氎などのような無機アルカリ剀の
氎溶液が適圓であり、それらの濃床が0.1〜10重
量、奜たしくは0.5〜重量になるように添
加される。 たた、該アルカリ性氎溶液には、必芁に応じ界
面掻性剀やアルコヌルなどのような有機溶媒を加
えるこずもできる。 以䞋、本発明を実斜䟋により曎に詳现に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるもの
ではない。 実斜䟋  厚さ0.24mmの1Sアルミニりム板を80℃に保぀た
第燐酞ナトリりムの10氎溶液に分間浞挬し
お脱脂し、ナむロンブラシで砂目立おした埌アル
ミン酞ナトリりムで玄10秒間゚ツチングしお、硫
酞氎玠ナトリりム氎溶液でデスマツト凊理を
行぀た。このアルミニりム板を20硫酞䞭で電流
密床2Am2においお分間陜極酞化を行いア
ルミニりム板を䜜補した。 次に䞋蚘感光液〔〕を陜極酞化されたアルミ
ニりム板の䞊に塗垃し、100℃で分間也燥しお、
感光性平版印刷版を䜜補した。このずきの塗垃量
は党お也燥重量で2.0m2であ぀た。 感光液〔〕 特開昭60−121446号の化合䟋のシリル゚ヌテ
ル化合物 0.30 クレゟヌル−ホルムアルデヒドノボラツク暹脂
1.0 −−メトキシプニル−−トリク
ロロメチル−−トリアゞン 0.05 染料 0.01 ゚チレンゞクロリド 10 メチルセロ゜ルブアセテヌト 10 感光性平版印刷版〔〕の感光局䞊に濃床差
0.15のグレヌスケヌルを密着させ、10アンペアの
高圧氎銀灯で70cmの距離から秒間露光した。 露光した版を10等分に切断し、枚は露光埌
、、10、30、60分埌に盎接珟像し、残り枚
は、露光埌0.5、4.5、9.5、29.5、59.5分埌に31秒
間浞挬埌、盎ちに珟像した。珟像は、DP−商
品名富士写真フむルム(æ ª)補の10倍垌釈氎溶液
で25℃においお60秒間浞挬珟像を行぀た。 濃床差0.15のグレヌスケヌルで完党にクリアヌ
ずなる段数を枬定した。その結果を第衚に瀺
す。
【衚】 枩氎凊理を行わない堎合は、露光埌珟像たでの
時間が長くなるほど感床が䞊がり、定垞感床に達
するのに時間がかかる。䞀方、本発明の枩氎凊理
を行぀た方は、露光埌珟像たでの時間によらず、
ほが䞀定の感床を瀺した。奜たしくは、露光埌10
分くらいたでに枩氎凊理を行い珟像するず高感床
である。 実斜䟋  実斜䟋に蚘茉した感光性平板印刷版を実斜䟋
ず同様に露光し、第衚に瀺す時間、30℃の氎
に浞挬埌、盎ちに珟像した。なお、露光から珟像
たでの時間はすべお分であ぀た。実斜䟋ず同
様にグレヌスケヌルにより感床を枬定した。その
結果を第衚に瀺す。
【衚】 これにより、浞挬時間を30秒以䞊にするずほが
䞀定の感床が埗られるこずがわかる。 実斜䟋  実斜䟋に蚘茉した感光性平版印刷版を䟋ず
同様に露光し、露光埌分30秒埌に第衚に瀺す
枩床の氎に30秒間浞挬埌、盎ちに珟像した。なお
露光から珟像たでの時間はすべお分であ぀た。
実斜䟋ず同様にグレヌスケヌルにより感床を枬
定した。その結果を第衚に瀺す。
【衚】
〔発明の効果〕
本発明方法によれば、朜像増感が実質的にない
ので露光埌、珟像たでの時間にかかわらず、垞に
䞀定で、か぀高い感床が達成される。

Claims (1)

    【特蚱請求の範囲】
  1.  (a)掻性光線の照射により酞を発生し埗る化合
    物0.01〜10重量、(b)少なくずも個の酞分解性
    結合基を有する化合物であ぀お、該化合物が酞に
    よ぀お分解されたずきの生成物の珟像液䞭での溶
    解床が該化合物より高くなるような化合物10〜40
    重量、及び(c)アルカリ可溶性暹脂60〜90重量
    からなる感光局が基板䞊に蚭けられおいる感光性
    プレヌトを画像露光埌、25℃以䞊の枩氎で10秒以
    䞊凊理した埌、アルカリ氎溶液にお非画像郚を陀
    去するこずを特城ずする補版方法。
JP60232470A 1985-10-18 1985-10-18 補版方法 Granted JPS6291938A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60232470A JPS6291938A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 補版方法
US06/918,126 US4877719A (en) 1985-10-18 1986-10-14 Process for preparing image-bearing plates

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60232470A JPS6291938A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 補版方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6291938A JPS6291938A (ja) 1987-04-27
JPH0515257B2 true JPH0515257B2 (ja) 1993-03-01

Family

ID=16939797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60232470A Granted JPS6291938A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 補版方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4877719A (ja)
JP (1) JPS6291938A (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3827567A1 (de) * 1988-08-13 1990-02-22 Basf Ag Waessrige entwicklerloesung fuer positiv arbeitende photoresists
US5286609A (en) * 1988-11-01 1994-02-15 Yamatoya & Co., Ltd. Process for the formation of a negative resist pattern from a composition comprising a diazoquinone compound and an imidazole and having as a heat step the use of a hot water containing spray
DE3837513A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch
DE3837438A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch
DE3940911A1 (de) * 1989-12-12 1991-06-13 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung negativer kopien
JPH1026834A (ja) * 1996-07-09 1998-01-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 画像圢成方法
US6124077A (en) * 1997-09-05 2000-09-26 Kansai Paint Co., Ltd. Visible light-sensitive compositions and pattern formation process
US6444408B1 (en) * 2000-02-28 2002-09-03 International Business Machines Corporation High silicon content monomers and polymers suitable for 193 nm bilayer resists
BR112012020702B1 (pt) * 2010-02-18 2020-01-28 Videojet Technologies Inc artigo higiênico, seu método de impressão, e composição de tinta de jato de tinta

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS513633A (ja) * 1974-06-06 1976-01-13 Ibm Rejisutogenzohoho
JPS57100427A (en) * 1980-10-13 1982-06-22 Hoechst Ag Making of relief copy
JPS57119343A (en) * 1980-11-29 1982-07-24 Hoechst Ag Making of relief copy
JPS57136646A (en) * 1981-02-18 1982-08-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Positive type photoresist developing method

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3151078A1 (de) * 1981-12-23 1983-07-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von reliefbildern

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS513633A (ja) * 1974-06-06 1976-01-13 Ibm Rejisutogenzohoho
JPS57100427A (en) * 1980-10-13 1982-06-22 Hoechst Ag Making of relief copy
JPS57119343A (en) * 1980-11-29 1982-07-24 Hoechst Ag Making of relief copy
JPS57136646A (en) * 1981-02-18 1982-08-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Positive type photoresist developing method

Also Published As

Publication number Publication date
US4877719A (en) 1989-10-31
JPS6291938A (ja) 1987-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2525568B2 (ja) 光可溶化組成物
JPH04365048A (ja) 感光性組成物
JPS61169835A (ja) 光可溶化組成物
US4916046A (en) Positive radiation-sensitive mixture, using a monomeric silylenol ether and a recording material produced therefrom
JPH04365049A (ja) 感光性組成物
JPH0480758A (ja) 感光性組成物
JPH0380298B2 (ja)
EP0424124B1 (en) Positive-acting photoresist compositions
JPH048782B2 (ja)
JPH06242605A (ja) ポゞ型攟射感応性混合物
JPH047502B2 (ja)
JPH0515257B2 (ja)
JPH03154059A (ja) ポゞ型感光性組成物
JPH0544664B2 (ja)
JP2630340B2 (ja) 照射された感攟射線ポゞ䜜動性およびネガ䜜動性および反転性の耇写局甚珟像液組成物およびかかる局の珟像法
JPH02100055A (ja) ポゞ型感光性組成物
JPS62159148A (ja) 感光性平版印刷版甚珟像液組成物および珟像方法
JP2668609B2 (ja) 感光性組成物
JP2598998B2 (ja) 感光性組成物
JPH048783B2 (ja)
JPS6238450A (ja) 光可溶化組成物
EP0110214A1 (en) Photosensitive composition
JPH07134416A (ja) 攟射線感応性暹脂組成物
JP2704319B2 (ja) 感光性組成物
JP2668608B2 (ja) 感光性組成物