JPH1026834A - 画像形成方法 - Google Patents

画像形成方法

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JPH1026834A
JPH1026834A JP8198304A JP19830496A JPH1026834A JP H1026834 A JPH1026834 A JP H1026834A JP 8198304 A JP8198304 A JP 8198304A JP 19830496 A JP19830496 A JP 19830496A JP H1026834 A JPH1026834 A JP H1026834A
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JP
Japan
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image forming
forming method
exposure
printing plate
photosensitive layer
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JP8198304A
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Toshiki Okui
俊樹 奥井
Takeshi Iwai
武 岩井
Hiroshi Komano
博司 駒野
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0082Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam

Abstract

(57)【要約】 【課題】露光エネルギー量の増減によるレリーフパター
ンの細りや太りが少なく再現性に優れ、露光温度に対す
るマージンの大きな画像形成方法を提供すること。 【解決手段】感光層を可視レーザー光で選択的に露光し
た後、36〜48℃の加熱温度で10秒ないし3分間加
熱し、現像することを特徴とする画像形成方法であり、
感光性平版印刷版の製版方法において有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像形成方法に関
し、詳しくは露光エネルギー量の増減によるレリーフパ
ターンの細りや太りが少なく高再現性を有し、露光温度
に対するマージンの大きい画像形成方法に関する。
【0002】
【従来技術】従来よりオフセット印刷等の分野において
は、感光性平版印刷版が広く用いられてきたが、この感
光性平版印刷版は、陽極酸化処理が施されたアルミニウ
ム支持体上に、光重合性感光層、および酸素遮断膜が順
次積層された構造を有しているのが一般的である。この
感光性平版印刷版においても、近年、電子デバイスの発
達により、原稿や画像データの入力、編集、校正までを
コンピュータ上で行うことができるデスクトップパブリ
ッシングが実用化され、高速で画像編集が可能となっ
た。その結果、製版においてもコンピュータ上で管理で
きることが望まれ、使用する印刷版を、可視レーザ光を
走査することにより画像露光しネガマスクの不必要なレ
ーザーダイレクト印刷版とすることが注目されるように
なった。中でも露光域の広さから、波長488nmのア
ルゴンレーザー、波長532nmのYAGレーザーによ
り露光可能な印刷版の実用化が強く望まれている。こう
したレーザー光の露光に適合する感光性印刷版としては
例えば、特開昭60−239736号公報、特開平5−
78410号公報、特開平5−107758号公報、特
開平6−148885号公報、特開平6−34198号
公報などに記載する平版印刷版を挙げることができる。
【0003】上記公報記載の感光性平版印刷版は高感度
ではあるが、可視レーザー露光時の露光エネルギー量の
僅かな変動によってパターン太さが大きく変化する傾向
があり、また露光温度に対するマージンが小さく、再現
性の高いレリーフパターンを得ることが難しく、かつ取
り扱いが極めて困難であるという欠点を有している。
【0004】上記感光性平版印刷版の有する欠点を解消
する製版方法として、露光後の感光性平版印刷版を室温
にて10〜30分ホールド(保持)した後現像する方法
や特開昭57−119343号公報に記載のように感光
層を露光の間または露光後に50〜180℃で5秒〜1
0分加熱する方法等が提案された。しかしながら、前記
各製版方法では部分的にパターンのつぶれが発生し、高
精度のレリーフパターンを形成することが難しいという
欠点があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】こうした現状に鑑み、
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、可視レーザー光に
よる選択的露光後、特定の温度で、特定な時間加熱する
ことで露光エネルギー量の増減によるレリーフパターン
の細りや太りが少なく高再現性を有し、露光温度に対す
るマージンも大きい画像形成方法を見出し、本発明を完
成したものである。
【0006】すなわち、本発明は、露光エネルギー量の
増減によるレリーフパターンの細りや太りが少なく再現
性に優れ、かつ露光温度に対するマージンの大きな画像
形成方法を提供することを目的とする。
【0007】また、本発明は、上記画像形成方法を使用
した平版印刷版の製版方法を提供することを目的とす
る。
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、感光層を可視レーザー光で選択的に露光した後、
36〜48℃の加熱温度で10秒ないし3分間加熱し、
現像することを特徴とする画像形成方法に関するもので
ある。
【0008】以下、本発明を詳しく説明する。本発明の
画像形成方法は平版、凹版、凸版等の各種印刷版、印刷
配線板やIC、LSI等のホトレジストによる画像形成
方法に有効に使用できるが、特に平版印刷版の製版にお
ける画像形成に有効である。前記平版印刷版としては上
記各公報に記載するような支持体上に可視レーザー光に
対し硬化性の感光層を有する平版印刷版が挙げられる。
前記支持体としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム
などの金属板又は前記金属のメッキ板、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリ塩化ビニル、セルロースアセテート
などのプラスチックフィルム等が挙げられ、特に、機械
的粗面化、化学的エッチング又は電解研磨を施したの
ち、硫酸、燐酸、シュウ酸、クロム酸、アミドスルホン
酸などの電解液により陽極酸化処理が施されたアルミニ
ウム板や、前記陽極酸化後にその表面をさらに親水化処
理を施したアルミニウム板が好適である。前記親水化処
理においては珪酸ナトリウム水溶液などが好ましく使用
できる。
【0009】また、上記支持体の上に積層される感光層
は、高分子バインダー、光重合性モノマー及び光重合開
始剤を主成分として含有する感光性組成物で形成される
が、さらに必要に応じて可塑剤、熱重合禁止剤、消泡
剤、染料などの添加剤を添加することができる。感光性
組成物の成分である高分子バインダーとしては、アクリ
ル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノ
マーと、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、メタクリル酸エチル、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、N−ブチ
ルアクリレート、N−ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルア
クリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアク
リレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルア
クリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジル
メタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロ
ニトリル等の共重合体、フェノールノボラック型エポキ
シアクリレート樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
メタクリレート樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ
アクリレート樹脂、クレゾールノボラック型エポキシメ
タクリレート樹脂、ビスフェノールA型エポキシアクリ
レート樹脂、ビスフェノールS型エポキシアクリレート
樹脂などが使用できる。中でもフェノールノボラック型
エポキシアクリレート樹脂など、分子中にアクリロイル
基、メタクリロイル基を有する樹脂は、露光感度を高め
ることができて特に好ましい。前記高分子バインダーは
単独でもまた2種以上の組合せで使用してもよい。
【0010】また、光重合性モノマーとしては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、フマル酸
モノメチル、フマル酸モノエチル、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレー
ト、エチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレ
ート、エチレングリコールモノエチルエーテルアクリレ
ート、エチレングリコールモノエチルエーテルメタクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタ
クリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルメタクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート等の単官能モノマ
ー、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコ
ールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテト
ラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、カルドエポキシジア
クリレート等の多官能モノマーを挙げることができ、単
独でもまた2種以上を組合せて使用してもよい。
【0011】さらに、光重合開始剤としては、チタノセ
ン化合物、トリアジン化合物、アクリジン化合物、イミ
ダゾール化合物など可視レーザー光の低エネルギー線で
も重合可能な光重合開始剤および前記光重合開始剤の組
合わせ、或は前記重合開始剤と他の重合開始剤および/
または増感剤との併用が挙げられる。光重合開始剤の組
合わせとしては、チタノセン化合物とトリアジン化合物
との組み合わせ、チタノセン化合物とトリアジン化合物
およびアクリジン化合物との組み合わせ、トリアジン化
合物とヘキサアリールビイミダゾール化合物との組み合
わせ、ヘキサアリールビイミダゾール化合物と(p−ジ
アルキルアミノベンジリデン)ケトンとの組み合わせ、
トリアジン化合物とメロシアニン色素との組み合わせ、
トリアジン化合物とクマリン色素との組み合わせなどが
挙げられる。中でも、チタノセン化合物、トリアジン化
合物又はアクリジン化合物の少なくとも2種の組み合わ
せが好適である。前記チタノセン化合物としては、ビス
(シクロペンタジエニル)−ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(ピル−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)−ビス〔2,6−ジフルオロ−2
−(ピル−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)−ビス(2,3,4,5,6−ペンタ
フルオロフェニル)チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)−ビス〔2,5−ジフルオロ−3−(ピル−1−イ
ル)フェニル〕チタンなどが挙げられ、また、トリアジ
ン化合物としては、具体的に2,4−ビス−トリクロロ
メチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−
s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6
−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリア
ジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブ
ロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジ
ン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロ
モ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン
などが挙げられる。さらに、アクリジン化合物として
は、具体的に9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−
(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−
アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリ
ジニル)プロパンなどが挙げられる。
【0012】上記増感剤としては、具体的にはイオシン
B(C.I.No.45400)、イオシンJ(C.
I.No.45380)、アルコール可溶性イオシン
(C.I.No.45386)、シアノシン(C.I.
No.45410)、ベンガル・ローズ、エリスロシン
(C.I.No.45430)、2,3,7−トリヒド
ロキシ−9−フェニルキサンテン−6−オン、およびロ
ーダミン6Gなどのキサンテン色素、チオニン(C.
I.No.52000)、アズレA(C.I.No.5
2005)及びアズレC(C.I.No.52002)
などのチアジン色素、ピロニンB(C.I.No.45
005)及びピロニンGY(C.I.No.4500
5)などのピロニン色素、7−ジエチルアミノ−3−
(2−ベンゾイミダゾリル)クマリンなどのクマリン系
色素などが挙げられる。
【0013】上記光重合開始剤にさらに感度向上のため
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2
−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、
2−メチル−−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−
2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−
2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニ
ル)−ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、1−
〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2,
4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサント
ン、2,4−ジメチルチオキサントン、3,3−ジメチ
ル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、1
−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、1−(4−
イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル
プロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−
2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−
ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジ
メチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メ
チル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチ
ルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ安息香酸
−2−エチルヘキシルエステル、4−ジメチルアミノ安
息香酸−2−イソアミルエステル、2,2−ジエトキシ
アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル
−β−メトキシエチルアセタール、1−フェニル−1,
2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)
オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス(4−
ジメチルアミノフェニル)ケトン、4,4’−ビスジエ
チルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾ
フェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテ
ル、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert
−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブ
チルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メ
チルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、ジベンゾスベロン、α,α−ジクロロ−4−フェノ
キシアセトフェノン、ペンチル−4−ジメチルアミノベ
ンゾエートなどを添加してもよい。
【0014】上記感光性組成物中の高分子バインダーの
含有量は、光重合性組成物の総和100重量部中10〜
75重量部の範囲が好ましく、また光重合性単量体の含
有量は、光重合性組成物の総和100重量部中5〜60
重量部の範囲がよい。さらに光重合開始剤の含有量は、
光重合性組成物の総和100重量部中1〜35重量部の
範囲が好ましい。
【0015】感光性組成物から感光層を形成するに当た
っては、均一な層とするため感光性組成物を溶剤に溶解
するのがよい。前記溶剤としては、具体的にはアセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
エチルケトン、メチルアニルケトン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、2−
メトキシブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテ
ート、4−メトキシブチルアセテート、2−メチル−3
−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキ
シブチルアセテート、3−エチル−3−メトキシブチル
アセテート、2−エトキシブチルアセテート、4−エト
キシブチルアセテート、4−プロポキシブチルアセテー
ト、2−メトキシペンチルアセテートなどが挙げられ、
それらの単独でもまたは2種以上の組合せてもよい。
【0016】上記感光性組成物を用いる平版印刷版の製
造は、前記感光性組成物を好ましくは溶剤に溶解し、そ
れをホイラー、バーコーター、スピンコーター等の塗布
装置を用いて支持体上に乾燥後の塗布量が0.5〜10
g/m2となるように塗布し、次いで室温にて数時間〜
数日放置するか、温風ヒーター、赤外線ヒーター中に数
十分〜数時間入れて乾燥することで実施される。前記感
光層の上には必要によりさらに酸素減感作用を防ぐため
に酸素遮断膜を設けることができる。前記酸素遮断膜
は、平均ケン化度70以上ポリ酢酸ビニル樹脂又は水溶
性ポリアミド樹脂を水、またはエタノール、メタノール
等のアルコールなどの溶剤に溶解し、それをホイラー、
バーコーター、スピンコーター等を用いて乾燥後の重量
が0.1〜5g/m2となるように塗布、乾燥して形成
される。
【0017】本発明の画像形成方法では、波長488n
mのアルゴンレーザーや波長532nmのYAGレーザ
ー等を用いて0.1〜10mJ/cm2のエネルギー量
の光で選択的に露光し、露光後で現像処理前に10秒な
いし3分間、好ましくは、15秒ないし90秒間、36
〜48℃の温度、好ましくは38〜43℃の温度で加熱
処理をすることを必須とする。前記加熱処理により、比
較的露光エネルギー量が小さくとも露光硬化が可能とな
り、露光エネルギー量の増減によるレリーフパターンの
細りや太りが少なく高い再現性を実現できるとともに、
露光温度に対するマージンの大きな平版印刷版を得るこ
とができる。前記加熱時間が10秒未満あるいは加熱温
度が36℃未満では、部分的にレリーフパターの膜減り
の大きな部分が現れたり、場合によっては欠けを生じる
ことがあり、また加熱時間が3分間を超えるか、あるい
は加熱温度が48℃を超えるとレリーフパターンに部分
的なツブレがみられることがある。
【0018】上記現像処理に当たっては、環境や人体へ
の配慮からアルカリ現像液、すなわちリチウム、ナトリ
ウム、カリウム等アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重
炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、ベンジルアミン、ブ
チルアミン等の第1級アミン、ジメチルアミン、ジベン
ジルアミン、ジエタノールアミン等の第2級アミン、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールア
ミン等の第3級アミン、モルホリン、ピペラジン、ピリ
ジン等の環状アミン、、エチレンジアミン、ヘキサメチ
レンジアミン等のポリアミン、テトラエチルアンモニウ
ムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒ
ドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類、トリメチ
ルスルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニ
ウムヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒド
ロキシド等のスルホニウムヒドロキシド類からなる水溶
液やコリン、ケイ酸塩含有緩衝液等にて30〜300秒
程度スプレーあるいは浸漬現像するのがよい。
【0019】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施例について述べ
るがこれによって本発明はなんら限定されるものではな
い。
【0020】
【実施例】下記に示される各成分をかき混ぜて感光性組
成物を得た。 (1)メタクリル酸/メタクリル酸メチル/2−ヒドロキシエチル メタクリレート/ベンジルメタクリレート共重合体 (50/20/20/10重量比、重量平均分子量 約20000) 60重量部 (2)トリメチロールプロパントリアクリレート 10重量部 (3)2,4−ビス(トリクロロメチル)−6− (3−クロロ−4−メトキシ)スチリル−1,3,5 −s−トリアジン 3重量部 (4)ビス(シクロペンタジエニル)−ビス〔2,6− ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)フェニル〕 チタン 10重量部 (5)9−フェニルアクリジン 3重量部 (6)7−ジエチルアミノ−3−(2−ベンゾイミダゾリル) クマリン 1重量部 (7)トリクロロアセトアミド 0.1重量部 (8)プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート 50重量部 (9)メチルイソブチルケトン 100重量部
【0021】上記感光性組成物を、予め陽極酸化処理が
施された0.3mmのアルミニウム板上にホイラーを用
いて乾燥後の重量が3g/m2となるように感光層を形
成し、60℃で5分間乾燥させて25枚の感光性平版印
刷版を作成した。次いでケン化度90の部分ケン化ポリ
酢酸ビニル樹脂とケン化度80の部分ケン化ポリ酢酸ビ
ニル樹脂からなり重量比で1:1の混合物を水/メタノ
ール=70/30の水溶液に80重量部溶解し、前記感
光性平版印刷版の感光層上に乾燥時0.5g/m2の塗
布量にホイラーを用いて塗布し、60℃で5分間乾燥し
た。
【0022】次に、上記に得られた感光性平版印刷版を
アルゴンレーザー露光機(「LPSプロッター」シンク
ラボラトリー社製)にセットし、25℃の雰囲気中で波
長488nmのアルゴンレーザーを0.5mJ/cm2
のエネルギー量で1%〜99%までの網点レリーフを形
成し得るように照射して画像露光を行った。露光後、4
0℃で30秒間加熱処理し、続いて炭酸ナトリウム0.
5%水溶液で25℃、60秒間スプレー現像し、100
℃で2分間乾燥したのち、さらに超高圧水銀灯を用いて
1分間紫外線による全面露光を行った。
【0023】上記製版方法における加熱条件を変えて網
点レリーフの再現性を測定した。その結果を表1に示
す。
【0024】また、露光エネルギー量を0.75mJ/
cm2、1mJ/cm2とした場合について表2、3に示
す加熱温度、加熱時間で処理し網点レリーフの再現性を
測定した。その結果を表2、3に示す。
【0025】表1〜3の評価方法は以下による。 A:網点レリーフが1%〜99%の範囲で再現できた。 B:網点レリーフが2%〜98%の範囲で再現できた。 C:網点レリーフの再現性が3%を超えるか、あるいは
97%未満の範囲までしか再現できなかった。 D:網点レリーフの再現性が4%を超えるか、あるいは
96%未満の範囲までしか再現できなかった。 E:網点レリーフの再現性が5%を超えるか、あるいは
95%未満の範囲までしか再現できなかった。
【0026】
【表1】 (露光部の露光エネルギー量0.5mJ/
cm2
【0027】
【表2】 (露光部の露光エネルギー量0.75mJ
/cm2
【0028】
【表3】 (露光部の露光エネルギー量1mJ/cm
2
【0029】また、露光部の露光エネルギー量0.75
mJ/cm2とし、露光機内の温度を20℃、30℃と
したものについて同様に、網点レリーフの再現性を測定
した。その結果を表4、5に示す。なお、測定法は表1
〜3の測定法と同様である。
【0030】
【表4】 (露光時の温度20℃
【0031】
【表5】 (露光時の温度30℃)
【0032】上記表から明らかなように感光性平版印刷
版を可視レーザーで露光後、36〜48℃の温度で、1
0秒ないし3分間の加熱処理を行ったのち、現像処理す
ると網点レリーフが再現性よく形成できることがわか
る。
【0023】
【発明の効果】本発明の画像形成方法では、露光エネル
ギー量の増減によるレリーフパターンの細りや太りが少
なく高い再現性を実現でき、露光温度に対するマージン
の大きな画像を形成できる。特に本発明の画像形成方法
は平版印刷版の製版に良好に応用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038 G03F 7/038 7/20 505 7/20 505

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感光層を可視レーザー光で選択的に露光し
    た後、36〜48℃の加熱温度で10秒ないし3分間加
    熱し、現像することを特徴とする画像形成方法。
  2. 【請求項2】加熱温度が38〜43℃であることを特徴
    とする請求項1記載の画像形成方法。
  3. 【請求項3】感光層が、高分子バインダー、光重合性モ
    ノマー及び光重合開始剤を含有する感光性組成物で形成
    されていることを特徴とする請求項1記載の画像形成方
    法。
  4. 【請求項4】光重合開始剤が、チタノセン化合物、トリ
    アジン化合物又はアクリジン化合物の少なくとも2種の
    組み合わせであることを特徴とする請求項1記載の画像
    形成方法。
  5. 【請求項5】画像形成方法が平版印刷版の製版方法であ
    ることを特徴とする請求項1ないし4記載の画像形成方
    法。
  6. 【請求項6】平版印刷版が支持体、感光層及び酸素遮断
    膜がこの順序で積層した印刷版であることを特徴とする
    請求項5記載の画像形成方法。
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