JPH10293400A

JPH10293400A - 可視露光可能な耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物、およびこれを用いたドライフィルム、並びにこれらを用いた被処理体の切削方法

Info

Publication number: JPH10293400A
Application number: JP11617097A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Obitani; 洋之帯谷
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 1997-04-18
Filing date: 1997-04-18
Publication date: 1998-11-04
Anticipated expiration: 2017-04-18
Also published as: JP3738867B2

Abstract

(57)【要約】【課題】可視光によって直接描画露光することができ
る耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物を用いて、被処
理体を簡便かつ低コストで切削する方法を提供する。【解決手段】（ａ）２個以上の（メタ）アクリロイル
基をもつ光重合可能なウレタン（メタ）アクリレート化
合物、（ｂ）酸価５０〜２５０ｍｇ／ＫＯＨのアルカリ
可溶性高分子化合物、（ｃ）光重合開始系成分として
チタノセン化合物、アクリジン化合物、トリアジン化
合物から選ばれる少なくとも１種、さらに好ましくは
ローダミン系化合物またはクマリン系化合物、および所
望により（ｄ）光重合性単量体を含有する可視露光可能
な耐サンドブラス性感光性樹脂組成物、またはこれを用
いたドライフィルムをマスク材として、被処理体をサン
ドブラスト処理により切削する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は可視光により露光可
能な耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物に関し、特
に、被処理体をサンドブラスト処理により切削するに際
して、マスク材として好適な物性を有するとともに、波
長ピークが４８８ｎｍ付近にあるアルゴンレーザー光や
波長ピークが５３２ｎｍ付近にあるＹＡＧ−ＳＨＧ（第
２次高調波）レーザー光等の可視光によって直接描画露
光することができる高感度な可視露光可能な耐サンドブ
ラスト性感光性樹脂組成物、およびこれを用いたドラフ
ィフィルム、並びにこれらを用いた被処理体の切削方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ガラス、大理石、プラスチック等
を切削し、レリーフ形成するに際しては、サンドブラス
ト処理による加工が行われている。また、近年、金属パ
ターンと絶縁パターンが混在する回路基板、特にプラズ
マディスプレイの金属配線パターン、セラミックや蛍光
体等の絶縁パターンの作成においては、被処理体上にマ
スク材としてホトリソグラフィー法等によりパターニン
グされた感光性樹脂層を設け、しかる後、研磨剤を吹き
付けて非マスク部を選択的に切削するサンドブラスト処
理方法が提案されている。

【０００３】このサンドブラスト処理用のマスク材とし
て用いられる感光性樹脂組成物としては、例えば特開昭
５５−１０３５５４号公報に提案されているような不飽
和ポリエステルと不飽和モノマーおよび光重合開始剤か
らなる感光性樹脂組成物や、特開平２−６９７５４号公
報に提案されているようなポリビニルアルコールとジア
ゾ樹脂からなる感光性樹脂組成物が知られている。本発
明者も、耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物としての
基本的な性能である弾性、柔軟性が高くサンドブラス
トマスク材として使用可能なこと、アルカリ水溶液に
よる現像性に優れていること、被処理体への密着性が
よいこと、ドライフィルムに形成できること、等を目
的として、特開平６−１６１０９７号公報、特開平６−
１６１０９８号公報等に記載の感光性樹脂組成物に関す
る発明を提案している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、最近では電
子デバイス技術の発達によりＦＡ化が進み、サンドブラ
スト等による切削作業においても、自動化が進む傾向に
あるが、このような事情に鑑み、作業時間やコストの低
減化を図るために、マスク材として可視レーザー光等に
より直接描画露光のできる感光性樹脂組成物が求められ
ており、例えば、露光強度の強さから実用的な波長ピー
クが４８８ｎｍ付近にあるアルゴンレーザー光、波長ピ
ークが５３２ｎｍ付近にあるＹＡＧ−ＳＨＧ（第２次高
調波）レーザー光により描画露光可能な耐サンドブラス
ト性感光性樹脂組成物が要求されている。しかしなが
ら、従来の耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物では可
視露光可能なほど高感度のものは得られておらず、これ
らの要求に対応することができなかった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は上記事情に鑑み
てなされたもので、その目的は、耐サンドブラスト性感
光性樹脂組成物として基本的な性能である、弾性、柔
軟性が高くサンドブラストマスク材として使用可能なこ
と、環境への配慮からアルカリ現像性に優れているこ
と、被処理体への密着性がよいこと、ドライフィル
ムに形成できること、に加えて、可視露光可能なこ
と、特に波長ピークが４８８ｎｍ付近にあるアルゴンレ
ーザー光や波長ピークが５３２ｎｍ付近にあるＹＡＧ第
２次高調波レーザー光などの可視光によって直接描画露
光することができる高感度な耐サンドブラスト性感光性
樹脂組成物、およびこれを用いたドライフィルム、並び
にこれらを用いた被処理体の切削方法を提供することに
ある。

【０００６】本発明者は、上記課題を解決するために鋭
意研究を重ねた結果、光重合開始系成分として、特定の
化合物を組み合わせて組成物中に含有させることによ
り、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成
するに至った。

【０００７】すなわち、本発明は、（ａ）少なくとも２
個の（メタ）アクリロイル基を有する光重合可能なウレ
タン（メタ）アクリレート化合物、（ｂ）酸価が５０〜
２５０ｍｇ／ＫＯＨであるアルカリ可溶性高分子化合
物、および（ｃ）光重合開始系成分として、（ｃ−１）
チタノセン化合物と、（ｃ−２）アクリジン化合物およ
びトリアジン化合物の中から選ばれる少なくとも１種、
を含有してなる、可視露光可能な耐サンドブラスト性感
光性樹脂組成物に関する。

【０００８】ここで、光重合開始系成分として、さらに
（ｃ−３）ローダミン系化合物またはクマリン系化合物
を含有するのが好ましい。

【０００９】また、上記（ａ）〜（ｃ）成分に加えて、
さらに（ｄ）光重合性単量体を含有するのが好ましい。

【００１０】また本発明は、上記可視露光可能な耐サン
ドブラスト性感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥
して耐サンドブラスト性感光性樹脂層を形成した後、該
層上に保護材層を積層してなる、可視露光可能な耐サン
ドブラスト性ドライフィルムに関する。

【００１１】さらに本発明は、上記可視露光可能な耐サ
ンドブラスト性感光性樹脂組成物を被処理体上に塗布、
乾燥して耐サンドブラスト性感光性樹脂層を形成した
後、この耐サンドブラスト性感光性樹脂層を可視光によ
り直接画像描画露光し、次いで現像し感光性樹脂層を選
択的に除去して感光性樹脂パターンを形成し、しかる
後、該パターンをマスクとして被処理体をサンドブラス
ト処理により切削することを特徴とする、被処理体の切
削方法に関する。

【００１２】さらに本発明は、上記可視露光可能な耐サ
ンドブラスト性ドライフィルムから保護材層を剥離除去
後、露出した感光性樹脂層表面が被処理体表面上に接す
るようにして該ドライフィルムを被処理体上に被着した
後、このドライフィルムの耐サンドブラスト性感光性樹
脂層を可視光により直接画像描画露光し、次いで支持体
を剥離除去した後、現像し、感光性樹脂層を選択的に除
去して感光性樹脂パターンを形成し、しかる後、該パタ
ーンをマスクとして被処理体をサンドブラスト処理によ
り切削することを特徴とする被処理体の切削方法に関す
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明について説明する。

【００１４】（ａ）成分である光重合可能なウレタン
（メタ）アクリレート化合物は、少なくとも２個の（メ
タ）アクリロイル基を有する。このウレタン（メタ）ア
クリレート化合物は、ジイソシアネート化合物とジオー
ル化合物とを両末端に−ＮＣＯ基（イソシアネート基）
が残るように反応させ、この−ＮＣＯ基にヒドロキシル
基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させるこ
とによって得ることができる。

【００１５】このウレタン（メタ）アクリレート化合物
は、カルボキシル基を導入してカルボキシ変性ウレタン
（メタ）アクリレート化合物としてもよく、この場合、
酸価は７０ｍｇ／ＫＯＨ以下であるのが好ましく、より
好ましくは２０〜５０ｍｇ／ＫＯＨである。酸価が７０
ｍｇ／ＫＯＨを超えると、柔軟性がなくなり、耐水性に
劣るなどして好ましくない。

【００１６】また、本発明の可視露光可能な耐サンドブ
ラスト性感光性樹脂組成物を、不電導体の被処理体、例
えばガラス、大理石、陶磁器、各種プラスチック等の切
削に適用する場合には、このウレタン（メタ）アクリレ
ート化合物の紫外線照射硬化後の電気（体積固有抵抗）
電気絶縁抵抗値が１．０×１０¹⁰Ω・ｃｍ以上、２．０
×１０¹²Ω・ｃｍ未満であるのが好ましく、より好まし
くは１．０×１０¹⁰Ω・ｃｍ以上、５．０×１０¹¹Ω・
ｃｍ未満である。電気絶縁抵抗値が２．０×１０¹²Ω・
ｃｍ以上になると、サンドブラスト処理時に静電気が帯
電しやすくなり、放電や落雷を起こしやすく、被処理体
を損傷することがある。

【００１７】このウレタン（メタ）アクリレート化合物
は、重量平均分子量５０００〜３００００程度のものが
好ましく、より好ましくは８０００〜２５０００程度で
ある。重量平均分子量が５０００未満では形成された感
光性樹脂パターンが硬くなることがあり、一方、重量平
均分子量が３００００を超えるとアルカリ水溶液に対す
る溶解性が低下しがちとなる。

【００１８】（ｂ）成分であるアルカリ可溶性高分子化
合物としては、（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル
酸エステルとの共重合物や、カルボキシル基含有セルロ
ース樹脂等が好ましく用いられる。

【００１９】（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸
エステルとの共重合物としては、アクリル酸またはメタ
クリル酸／メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレートまたはエチルメタクリレートの
組み合わせが好ましく、特に好ましくは、前記組み合わ
せにさらに、ｎ−ブチルアクリレートまたはｎ−ブチル
メタクリレート／アクリロニトリルまたはメタアクリロ
ニトリルを組み合わせたものが挙げられる。また、（メ
タ）アクリル酸と他の（メタ）アクリル酸エステル、ま
たは（メタ）アクリル酸とヒドロキシル基を含有する
（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸エス
テルを共重合したものにグリシジルメタクリレート、メ
タクリロイルオキシエチルイソシアネート等を反応さ
せ、二重結合を付加したものも使用することができる。

【００２０】カルボキシル基含有セルロース樹脂として
は、ヒドロキシエチル・カルボキシメチルセルロース、
ヒドロキシアセテートヘキサヒドロフタレート、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロースヘキサヒドロフタレー
ト、セルロースアセテートフタレート、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピル
メチルセルロースアセテートサクシネート等が好適であ
り、中でも、上記（ａ）成分のカルボキシ変性ウレタン
（メタ）アクリレート化合物との相容性がよく、ドライ
フィルムとしたときの被膜形成能に優れ、アルカリ水溶
液による現像性も良好なセルロースアセテートフタレー
ト、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート等
が好適に用いられる。

【００２１】前記（ａ）成分と（ｂ）成分との配合重量
比は、５：９５〜９５：５であるのが好ましく、より好
ましくは１０：９０〜８５：１５である。（ｂ）成分の
配合量が９５重量％を超えると電気絶縁抵抗値が上昇す
るとともに、耐サンドブラスト性が低下することがあ
り、一方、５重量％未満では、フィルム状とした時に形
成能に欠け、コールドフロー等の問題点を生ずることが
ある。

【００２２】本発明におけるアルカリ可溶性高分子化合
物の酸価は５０〜２５０ｍｇ／ＫＯＨであり、好ましく
は８０〜２００ｍｇ／ＫＯＨである。酸価が５０ｍｇ／
ＫＯＨ未満になると現像不良を起こすことがあり、一
方、２５０ｍｇ／ＫＯＨを超えると、柔軟性が低下した
り現像時の耐水性に劣るなど好ましくない。

【００２３】（Ｃ）成分である光重合開始系成分として
は、可視露光可能とするために（ｃ−１）チタノセン化
合物と、（ｃ−２）アクリジン化合物およびトリアジン
化合物の中から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせ
たものが用いられる。

【００２４】（ｃ−１）のチタノセン化合物としては、
特に限定されるものでないが、例えば特開昭５９−１５
２３８６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３
−４１４８３号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２
−２９１号、特開平３−１２４０３号、特開平３−２７
３９３号各公報等に記載されている各種チタノセン化合
物から適宜選んで好ましく用いることができる。

【００２５】具体的には、ビス（シクロペンタジエニ
ル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イ
ル）フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
−ビス［２，６−ジフルオロ−２−（ピル−１−イル）
フェニル］チタン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビ
ス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，５−
ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタン
等が好適で、これらは波長ピークが４８８ｎｍ付近にあ
るアルゴンレーザー光や波長ピークが５３２ｎｍ付近に
あるＹＡＧ−ＳＨＧレーザー光によって直接描画露光す
ることができる。中でもビス（シクロペンタジエニル）
−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）
フェニル］チタンは高感度のサンドブラスト用感光性樹
脂組成物とすることができ、好ましい。

【００２６】（ｃ−２）のアクリジン化合物またはトリ
アジン化合物としては、９−フェニルアクリジン、１，
７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビ
ス−（９−アクリジニル）ペンタン、１，７−ビス−
（９−アクリジニル）プロパン、２，４−ビス−トリク
ロロメチル−６−（３−ブロモ−４メトキシ）フェニル
−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−
６−（２−ブロモ−４メトキシ）フェニル−ｓ−トリア
ジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブ
ロモ−４メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジ
ン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロ
モ−４メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、
２，４−ビス−トリクロロメチル−６−［２−（４−ジ
メチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−ｓ−
トリアジン等が例示される。これらの中でも、上記ビス
（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ
−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタンとの組み合
わせとして、９−フェニルアクリジン、２，４−ビス−
トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４メトキシ）フ
ェニル−ｓ−トリアジンが感度向上の点から好ましく用
いられる。

【００２７】本発明では光重合開始系成分として、上記
に加えてさらに、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエ
タン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホ
リノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１
−オン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロ
チオキントン、２，４−ジメチルチオキサントン、３，
３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンゾフ
ェノン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、
１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−
２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィ
ド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ
安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、
４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミ
ノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４−ジメチルアミノ
安息香酸−２−イソアミル、２，２−ジエトキシアセト
フェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−
メトキシエチルアセタール、１−フェニル−１，２−プ
ロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシ
ム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−ジメチ
ルアミノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエチルア
ミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノ
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、
ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブ
チルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジ
ベンゾスベロン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシア
セトフェノン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエ
ート等の光重合開始剤や；エオシンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．
４５４００）、エオシンＪ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５３８
０）、アルコール可溶性エオシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５
３８６）、シアノシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４１０）、
ベンガルローズ、エリスロシン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４
３０）、２，３，７−トリヒドロキシ−９−フェニルキ
サンテン−６−オン、およびローダミン６Ｇ等のキサン
テン色素；チオニン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２０００）、ア
ズレＡ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２００５）、およびアズレＣ
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２００２）等のチアジン色素；ピロ
ニンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００５）、およびピロニン
ＧＹ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５００５）等のピロニン色素；
クマリン３１４、クマリン３３４、クマリン７、クマリ
ン６等のクマリン系色素など、各種染料等を添加するこ
とができる。

【００２８】中でも（ｃ−３）成分としてローダミン系
化合物やクマリン系化合物を配合することが好ましく、
特に、ローダミン６Ｇ｛すなわち、ｏ−（６−エチルア
ミノ−３−エチルイミノ−２，７−ジメチル−３Ｈ−キ
サンテン−９−イル）安息香酸エチルエーテルのクロラ
イドまたはパークロライド化合物｝は、露光光源として
ＹＡＧ−ＳＨＧレーザー光を用いたときに感度向上がみ
られ、また露光光源としてアルゴンレーザー光を用いた
ときには、クマリン６｛すなわち、３−（２−ベンゾチ
アゾリル）−７−Ｎ，Ｎ，−ジエチルアミノクマリン｝
を用いると、同様に感度向上が期待できる。

【００２９】光重合開始系成分は、上記（ａ）〜（ｃ）
成分の総和１００重量部中に０．５〜３０重量部の範囲
で含有するのが好ましく、より好ましくは２〜２５重量
部である。０．５重量部未満では、露光硬化不良を起こ
し、パターンが形成できないことがあり、一方、３０重
量部を超えると、柔軟性が低下し、耐サンドブラストマ
スクとして使用できなくなることがあり、好ましくな
い。

【００３０】本発明では、上記（ａ）〜（ｃ）成分に加
えて、必要により、（ｄ）光重合性単量体を配合するこ
とができる。この（ｄ）成分を添加することによって、
感度を向上させ、現像時の膜減りや膨潤を防ぐことがで
きる。

【００３１】このような光重合性単量体としては、具体
的には、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、
エチルアクリレート、エチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルア
クリレート、エチレングリコールモノメチルエーテルメ
タクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテル
アクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテル
メタクリレート、グリセロールアクリレート、グリセロ
ールメタクリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸
アミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−
エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタ
クリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリ
レート等の単官能モノマー、エチレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレ
ート、ブチレングリコールジメタクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパン
テトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタ
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、カルドエポキシジア
クリレート、カルドエポキシジメタクリレート等の多官
能モノマーの他、これら化合物の「〜アクリレート」、
「〜メタクリレート」を、「〜フマレート」、「〜マレ
エート」、「〜クロトネート」、「〜イタコネート」に
代えた、フマル酸エステル、マレイン酸エステル、クロ
トン酸エステル、イタコン酸エステルや、アクリル酸、
メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、イ
タコン酸、ヒドロキノンモノアクリレート、ヒドロキノ
ンモノメタクリレート、ヒドロキノンジアクリレート、
ヒドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレ
ート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールジア
クリレート、ピロガロールトリアクリレート、アクリル
酸とフタル酸およびジエチレングリコールとの縮合物、
アクリル酸とマレイン酸およびジエチレングリコールと
の縮合物、メタクリル酸とテレフタル酸およびペンタエ
リスリトールとの縮合物、アクリル酸とアジピン酸およ
びブタンジオールとグリセリンとの縮合物、エチレンビ
スアクリルアミド、エチレンビスメタクリルアミド、フ
タル酸ジアリルのアリルエステル、ジビニルフタレート
等が例示される。中でも、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート等が好まし
く用いられる。

【００３２】この光重合性単量体は、上記（ａ）〜
（ｄ）成分の総和１００重量部に対し、２０重量部を超
えない範囲で配合することが好ましい。２０重量部を超
えるとドライフィルムとしたときにコールドフローが起
こりやすくなるとともに、可視露光硬化後の感光性樹脂
組成物の弾性が少なくなるためサンドブラスト用の低下
をもたらし、好ましくない。

【００３３】またアルカリ可溶性性高分子化合物として
（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸エステルとの
共重合物を使用した場合には、電気絶縁抵抗値の上昇へ
の考慮から、（ａ）成分であるウレタン（メタ）アクリ
レート化合物：｛（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリ
ル酸エステルの共重合物＋光重合性単量体｝の配合重量
比が５：９５〜９５：５の範囲にあることが好ましく、
より好ましくは１０：９０〜９０：１０である。

【００３４】本発明の可視露光可能な耐サンドブラスト
性感光性樹脂組成物には、粘度調整などの目的で、溶剤
を添加することができる。このような溶剤としてはエチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピ
ルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコー
ルモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチル
エーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノフェニルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレング
リコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノフェニルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピ
レングリコールモノプロピルエーテルアセテート、２−
メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテ
ート、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３
−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキ
シブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチル
アセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エト
キシブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテー
ト、２−メトキシペンチルアセテート、３−メトキシペ
ンチルアセテート、４−メトキシペンチルアセテート、
２−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メ
チル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−
４−メトキシペンチルアセテート、４−メチル−４−メ
トキシペンチルアセテート、アセトン、メチルエチルケ
トン、ジエチルケトン、メチルシソブチルケトン、エチ
ルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、シクロヘキ
サノン、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プ
ロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２−
ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピ
オン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチル、メチル−
３−メトキシプロピオネート、エチル−３−メトキシプ
ロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート、
エチル−３−プロポキシプロピオネート、プロピル−３
−メトキシプロピオネート、イソプロピル−３−メトキ
シプロピオネート、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エ
チル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸イソプロピ
ル、乳酸ブチル、乳酸イソアミル、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、
酢酸イソアミル、炭酸メチル、炭酸エチル、炭酸プロピ
ル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチ
ル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢
酸メチル、アセト酢酸エチル、ベンジルメチルエーテ
ル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、酢
酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレ
イン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、シクロヘキサノン、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シ
クロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、グリセリン等を挙げることができる。

【００３５】該溶剤は、（ａ）〜（ｄ）成分の総和１０
０重量部に対して２０００重量部以下、好ましくは１０
００重量部以下の範囲で配合させることができる。

【００３６】この他にヒドロキノン、ヒドロキノンモノ
エチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ピロガロー
ル、カテコール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−
クレゾール、β−ナフトール等の熱重合禁止剤、ジオク
チルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレン
グリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレ
ート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペー
ト、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等の
可塑剤、アニオン系、カチオン系、ノニオン系などの各
種界面活性剤、シリコーン系、フッ素系等の各種消泡剤
等も必要に応じ適宜添加することができる。

【００３７】本発明の可視露光可能な耐サンドブラスト
性感光性樹脂組成物をサンドブラストマスク材として基
板上に形成する方法は、用途に応じて適宜選択すること
ができ、例えば、液状のまま被処理体の上に塗布、乾燥
して耐サンドブラスト性感光性樹脂層を形成する方法、
スクリーン印刷法によって形成する方法、前もってプラ
スチックフィルム間に耐サンドブラスト性感光性樹脂層
を形成、乾燥してドライフィルムとし、このドライフィ
ルムを被処理体に貼り付けてサンドブラスト処理する方
法等、いずれの方法によってもよい。特に、ドライフィ
ルムとして用いることは、電子部品等の精密な位置合わ
せを必要とする場合、あらかじめ形成された樹脂パター
ンを転写する必要がないため、正確な位置に樹脂パター
ンを形成することができ、より高精度の切削が実現でき
る。また、ペースト層などの切削の際には、ペースト層
中へ該感光性樹脂組成物がもぐり込まないため好適であ
る。

【００３８】本発明の感光性樹脂組成物を用いた可視露
光可能な耐サンドブラスト性ドライフィルムについて、
図１を参照しながら説明する、すなわち、図１に示すよ
うに、本発明の可視露光可能な耐サンドブラスト性ドラ
イフィルム１は、支持体２、耐サンドブラスト性感光性
樹脂層３、および保護材層４が順次積層された構造をな
し、一体化されて形成されている。

【００３９】支持体２は、耐サンドブラスト性感光性樹
脂層３を支持するものであり、適度な可撓性を有する必
要がある。具体的には、例えば１５〜１２５μｍ厚程度
のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好
ましく用いられるが、この他に、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル等の合成
樹脂フィルムも好ましく用いられる。

【００４０】保護材層４は、未使用時に感光性樹脂層３
の表面を安定して保護しておくためのものであり、使用
時に剥ぎ取られ除去される。したがって、未使用時には
剥がれ難く、使用に際しては容易に剥がすことのできる
適度な離型性を有する必要がある。このような条件を満
たす材料としては、シリコーンをコーティングまたは焼
き付けした厚さ１５〜１２５μｍ程度のＰＥＴフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等
が好適に用いられる。

【００４１】感光性樹脂組成物層３は、前述した耐サン
ドブラスト性感光性樹脂組成物の各成分を溶剤に溶解し
た溶液を、アプリケーター、バーコーター、ロールコー
ター、カーテンフローコーター等により、乾燥膜厚１０
〜１００μｍとなるように支持体２上に塗布することに
より得られる。

【００４２】次に、上記ドライフィルム１を用いた、本
発明の処理体の切削方法について、図２を参照しながら
説明する。

【００４３】まず、保護材層４を剥がし、露出した耐サ
ンドブラスト性を有する感光性樹脂層３側を被処理体５
にあてて被処理体５上にドライフィルム１を被着させる
（図２（ａ））。被着に際しては、通常、被処理体５を
あらかじめ加熱しておき、この上にドライフィルム１を
置いて押圧する、いわゆる熱圧着方式等が挙げられる。
感光性樹脂層３には、ウレタン（メタ）アクリレート化
合物が添加されているため、ドライフィルムに加工した
ものであっても、被処理体５との密着性は極めて良好と
なる。特にカルボキシ変性ウレタン（メタ）アクリレー
ト化合物を用いることにより密着性をより向上させるこ
とができる。

【００４４】次いで図２（ｂ）に示すように、支持体２
が積層された耐サンドブラスト性感光性樹脂層３に、波
長ピークが４８８ｎｍ付近にあるアルゴンレーザー光や
波長ピークが５３２ｎｍ付近にあるＹＡＧ−ＳＨＧレー
ザー光などの可視光を直接描画露光することにより、感
光性樹脂層３を選択的に露光させる。なお、可視光のみ
ならず、ネガマスク（図示せず）を介して、紫外線、エ
キシマレーザ等を照射することにより感光性樹脂層３を
選択的に硬化することができることはいうまでもない。

【００４５】上記露光後、支持体２を剥がし、現像を行
って感光性樹脂層３の未露光部を選択的に除去し、露光
部の感光性樹脂層３が残留したパターンを形成する（図
２（ｃ））。現像液としては、アルカリ現像液、すなわ
ちリチウム、ナトリウム、カリウム等アルカリ金属の水
酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩；
ベンジルアミン、ブチルアミン等の第１級アミン；ジメ
チルアミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミン等
の第２級アミン；トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン等の第３級アミン；モルホリ
ン、ピペラジン、ピリジン等の環状アミン；エチレンジ
アミン、ヘキサメチレンジアミン等のポリアミン；テト
ラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジ
ルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベン
ジルアンモニウムヒドロキシド等のアンモニウムヒドロ
キシド類；トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエ
チルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジ
ルスルホニウムヒドロキシド等のスルホニウムヒドロキ
シド類からなる水溶液；その他、コリン、ケイ酸塩含有
緩衝液等の汎用のアルカリ現像液を用いることができ
る。

【００４６】次いで、図２（ｄ）に示すように、パター
ン化された残留感光性樹脂層３をマスクとして、被処理
体５に対しサンドブラスト処理を行い、切削部７を形成
する。感光性樹脂層３は従来の紫外線露光の感光性樹脂
組成物と同程度の耐サンドブラスト性能を有するため、
目的の深さの食刻が終了する前に、膜減りによって樹脂
層３の下の被処理体が損傷してしまうということはな
い。

【００４７】サンドブラスト処理に用いるブラスト材と
してはガラスビーズ、アルミナ、シィカ、炭化ケイ素、
酸化ジルコニウム等の粒径２〜５００μｍ程度の微粒子
が用いられ、ブラスト圧０．５〜５ｋｇ／ｃｍ²の範囲
で吹き付けることによりサンドブラスト処理が行われ
る。感光性樹脂組成物層３は、通常の感光性樹脂に比べ
弾性、柔軟性が高く、サンドブラスト処理により耐磨耗
性が高いため、目的の深さの彫食刻が終了する前に磨耗
してしまうということはない。

【００４８】サンドブラスト処理後、図２（ｅ）に示す
ように、感光性樹脂組成物層３は、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、あるいは有機アミン類等のｐＨ１２〜
１４程度の水溶液により剥離除去され、被処理体５上に
所望のレリーフ８が形成される。

【００４９】なお、上記切削方法の説明において、マス
ク材としてドライフィルムとしたものを例にとって説明
したが、ドライフィルムとせずに、被処理体上に直接本
発明の耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物を塗布、乾
燥させて感光性樹脂層を形成し、これをマスク材として
サンドブラスト処理を行ってもよいことはもちろんであ
る。

【００５０】

【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれによってなんら限定されるもの
でない。

【００５１】（実施例１）可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物の調
製以下に示す（１）〜（７）の化合物をよく撹拌、混練
し、可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物
の溶液を調製した。（１）カルボキシル基含有ウレタンアクリレート（「ＫＲＭ７２２２」；ダイセル化学社製、重量平均分子量１万、酸価２０、溶剤として酢酸エチル２０％含有）３５重量部（２）カルボキシル基含有ウレタンアクリレート（「紫光ＵＴ−２３１３」；日本合成化学社製、重量平均分子量約２万、酸価０、溶剤として酢酸エチル３０％含有）３２重量部（３）セルロースアセテートフタレート（「ＫＣ−７１」；和光純薬社製、酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）３０重量部（４）ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６− ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタン６重量部（５）２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン１．２重量部（６）クマリン６０．２重量部（７）酢酸エチル（溶剤）３０重量部（８）テトラヒドロフラン（溶剤）１０重量部調製した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組
成物をドライフィルムに加工し、プラズマディスプレイ
パネルの絶縁層の切削に使用した。

【００５２】まず、ＰＥＴフィルム上に前記により調製
した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物
を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように塗布し、８０℃
の温風ヒーター中で６分間乾燥させて感光性樹脂層を形
成し、しかる後、この感光性樹脂層の上にＰＥＴフィル
ムを４０℃で被着してドライフィルムを作成した。

【００５３】次に、このドライフィルムのＰＥＴフィル
ムの片側を剥して除去した後、露出した感光性樹脂層面
を、電極パターンを覆ってバリアリブ層（ホウ珪酸鉛ガ
ラスフリット層）が設けられたプラズマディスプレイパ
ネル基板上に、８０℃で密着し積層させた。次いで、ア
ルゴンレーザー露光機（「ＬＰＳプロッター」、シンク
ラボラトリー社製）にセットし、２０℃の雰囲気中でア
ルゴンレーザーにより波長４８８ｎｍの光を２ｍＪ／ｃ
ｍ²のエネルギー量で照射して画像描画露光した。

【００５４】しかる後、残りの側のＰＥＴフィルムを剥
がし、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋ
ｇ／ｃｍ² のスプレー圧で６０秒間スプレー現像した。
水洗後、８０℃で１０分間乾燥し、さらに超高圧水銀灯
を用いて２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を全面照射し、パ
ターンを完全硬化させた。得られたパターンを目視観察
したが、パターンに欠けや剥がれ等は見られず、また膜
減りの少ない再現性に優れたものであった。

【００５５】次に、得られたパターンを耐サンドブラス
トマスクとし、研磨剤としてガラスビーズ＃８００を使
用し、ブラスト圧３ｋｇ／ｃｍ²で５分間サンドブラス
ト処理し、ガラス層を１５０μｍ切削したところで電極
パターンが表出したがサンドブラスト加工時のパターン
の欠けや剥がれは全くみられず、膜減りもほとんどなか
った。

【００５６】この積層フィルムを暗所にて６か月間放置
した後、同様にバリアリブ層の切削に用いたが、該感光
性樹脂組成物の変色や硬化等の変質もなく、サンドブラ
スト加工時のレジストパターンの膜減りも少なかった。

【００５７】（実施例２）以下に示す（１）〜（９）の
化合物をよく撹拌、混練し、可視露光可能なサンドブラ
スト用感光性樹脂組成物の溶液を調製した。（１）カルボキシル基含有ウレタンアクリレート（「ＫＲＭ７２２２」；ダイセル化学社製、重量平均分子量１万、酸価２０、溶剤として酢酸エチル２０％含有）２０重量部（２）カルボキシル基含有ウレタンアクリレート（「紫光ＵＶ−９５１０ＥＡ」；日本合成化学社製、重量平均分子量約２万、酸価３２、溶剤として酢酸エチル３０％含有）４０重量部（３）ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート（「ＨＰ−５５」；信越化学工業社製、酸価１２０、溶剤としてメチルエチルケトン７５％含有）４０重量部（４）ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６− ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタン５重量部（５）９−フェニルアクリジン１重量部（６）ローダミン６Ｇ０．５重量部（７）トリメチロールプロパントリアクリレート（光重合性モノマー）３重量部（８）酢酸エチル３０重量部（９）テトラヒドロフラン１０重量部調製した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組
成物をドライフィルムに加工し、プラズマディスプレイ
パネルの絶縁層の切削に使用した。

【００５８】まず、ＰＥＴフィルム上に前記により調製
した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物
を乾燥後の膜厚が２５μｍとなるように塗布し、８０℃
の温風ヒーター中で６分間乾燥させて感光性樹脂層を形
成し、しかる後、この感光性樹脂層の上にＰＥＴフィル
ムを４０℃で被着してドライフィルムを作成した。

【００５９】次に、このドライフィルムのＰＥＴフィル
ムの片側を剥して除去した後、露出した感光性樹脂層面
を、電極パターンを覆ってバリアリブ層（ホウ珪酸鉛ガ
ラスフリット層）が設けられたプラズマディスプレイパ
ネル基板上に、８０℃で密着し積層させた。次いで、Ｙ
ＡＧ−ＳＨＧレーザー露光機（「ＤＰＳＳ５３２」コ
ヒーレント社製）にセットし、２０℃の雰囲気中で波長
５３２ｎｍ付近にピークを有するＹＡＧ第２次高調波レ
ーザー光を２ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー量で照射して画
像描画露光した。

【００６０】しかる後、残りの側のＰＥＴフィルムを剥
がし、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋ
ｇ／ｃｍ² のスプレー圧で４５秒間スプレー現像した。
水洗後、８０℃で１０分間乾燥し、さらに超高圧水銀灯
を用いて２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を全面照射し、パ
ターンを完全硬化させた。得られたパターンを目視観察
したが、パターンに欠けや剥がれ等はみられず、また膜
減りの少ない再現性に優れたものであった。

【００６１】次に、得られたパターンを耐サンドブラス
トマスクとし、研磨剤としてガラスビーズ＃８００を使
用し、ブラスト圧３ｋｇ／ｃｍ²で５分間サンドブラス
ト処理し、ガラス層を１８０μｍ切削したところで電極
パターンが表出したがサンドブラスト加工時のパターン
の欠けや剥がれは全くみられず、膜減りもほとんどなか
った。

【００６２】この積層フィルムを暗所にて６か月間放置
した後、同様にバリアリブ層の切削に用いたが該感光性
樹脂組成物の変色や硬化等の変質もなく、サンドブラス
ト加工時のレジストパターンの膜減りも少なかった。

【００６３】（実施例３）以下に示す（１）〜（７）の
化合物をよく撹拌、混練し、可視露光可能なサンドブラ
スト用感光性樹脂組成物の溶液を調製した。（１）メタクリル酸／アクリル酸メチル共重合体（重量平均分子量１０万、酸価６０、溶剤としてメタノール５０％含有）３６重量部（２）カルボキシル基含有ウレタンアクリレート（「紫光ＵＶ−９５３２」；日本合成化学社製、重量平均分子量約２万、酸価５０、溶剤として酢酸エチル３０％含有）４０重量部（３）ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６− ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタン５重量部（４）９−フェニルアクリジン２重量部（５）ローダミン６Ｇ０．５重量部（６）トリメチロールプロパントリアクリレート（光重合性モノマー）１０重量部（７）酢酸エチル３０重量部調製した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組
成物をドライフィルムに加工し、プラズマディスプレイ
パネルの絶縁層の切削に使用した。

【００６４】まず、ＰＥＴフィルム上に前記により調製
した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物
を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように塗布し、８０℃
の温風ヒーター中で６分間乾燥させて感光性樹脂層を形
成し、しかる後、この感光性樹脂層の上にＰＥＴフィル
ムを４０℃で被着してドライフィルムを作成した。

【００６５】次に、このドライフィルムのＰＥＴフィル
ムの片側を剥して除去した後、露出した感光性樹脂層面
を、電極パターンを覆ってバリアリブ層（ホウ珪酸鉛ガ
ラスフリット層）が設けられたプラズマディスプレイパ
ネル基板上に、８０℃で密着し積層させた。次いで、前
出のＹＡＧ−ＳＨＧレーザー露光機にセットし、２０℃
の雰囲気中で波長５３２ｎｍ付近にピークを有するＹＡ
Ｇ−ＳＨＧレーザー光を２．２ｍＪ／ｃｍ²のエネルギ
ー量で照射して画像描画露光した。

【００６６】しかる後、残りの側のＰＥＴフィルムを剥
がし、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋ
ｇ／ｃｍ² のスプレー圧で６５秒間スプレー現像した。
水洗後、８０℃で１０分乾燥し、さらに超高圧水銀灯を
用いて２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を全面照射し、パタ
ーンを完全硬化させた。得られたパターンを目視観察し
たが、パターンに欠けや剥がれ等は見られず、また膜減
りの少ない再現性に優れたものであった。

【００６７】次に、得られたパターンを耐サンドブラス
トマスクとし、研磨剤としてガラスビーズ＃８００を使
用し、ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ² で３分間サンドブラス
ト処理したところ、ガラス層を２００μｍ切削したとこ
ろで電極パターンが表出したがサンドブラスト加工時の
パターンの欠けや剥がれは全くみられず、膜減りもほと
んどなかった。

【００６８】この積層フィルムを暗所にて６か月間放置
した後、同様にバリアリブ層の切削に用いたが該感光性
樹脂組成物の変色や硬化等の変質もなく、サンドブラス
ト加工時のレジストパターンの膜減りも少なかった。

【００６９】（実施例４）以下に示す（１）〜（７）の
化合物をよく撹拌、混練し、可視露光可能なサンドブラ
スト用感光性樹脂組成物の溶液を調製した。（１）カルボキシル基含有ウレタンアクリレート（「ＵＡＳ−Ｃ−９ＰＭＡ」；共栄社化学社製、重量平均分子量約１万、酸価２１、溶剤としてプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート３０％含有）１５重量部（２）ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート２０重量部（３）ジエチルチオキサントン０．５重量部（４）２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重量部（５）ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６− ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタン３重量部（６）２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン０．５重量部（７）テトラヒドロフラン１０重量部調製した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組
成物をドライフィルムに加工し、プラズマディスプレイ
パネルの絶縁層の切削に使用した。

【００７０】まず、ＰＥＴフィルム上に前記により調製
した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物
を乾燥後の膜厚が２５μｍとなるように塗布し、８０℃
の温風ヒーター中で６分間乾燥させて感光性樹脂層を形
成し、しかる後、この感光性樹脂層の上にＰＥＴフィル
ムを４０℃で被着してドライフィルムを作成した。

【００７１】次に、このドライフィルムのＰＥＴフィル
ムの片側を剥して除去した後、露出した感光性樹脂層面
を、電極パターンを覆ってバリアリブ層（ホウ珪酸鉛ガ
ラスフリット層）が設けられたプラズマディスプレイパ
ネル基板上に、８０℃で密着し積層させた。次いで、ア
ルゴンレーザー機（「ＬＰＳプロッター」シンクラボラ
トリー社製）にセットし、２０℃の雰囲気中で波長４８
８ｎｍ付近にピークを有するアルゴンレーザー光を２ｍ
Ｊ／ｃｍ²のエネルギー量で照射して画像描画露光し
た。

【００７２】しかる後、残りの側のＰＥＴフィルムを剥
がし、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋ
ｇ／ｃｍ² のスプレー圧で６０秒間スプレー現像した。
水洗後、８０℃で１０分乾燥し、さらに超高圧水銀灯を
用いて２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を全面照射し、パタ
ーンを完全硬化させた。得られたパターンを目視観察し
たが、パターンに欠けや剥がれ等は見られず、また膜減
りの少ない再現性に優れたものであった。

【００７３】次に、得られたパターンを耐サンドブラス
トマスクとし、研磨剤としてガラスビーズ＃８００を使
用し、ブラスト圧３ｋｇ／ｃｍ² で５分間サンドブラス
ト処理し、ガラス層を１５０μｍ切削したところで電極
パターンが表出したがサンドブラスト加工時のパターン
の欠けや剥がれは全くみられず、膜減りもほとんどなか
った。

【００７４】この積層フィルムを暗所にて６か月間放置
した後、同様にバリアリブ層の切削に用いたが該感光性
樹脂組成物の変色や硬化等の変質もなく、サンドブラス
ト加工時のレジストパターンの膜減りも少なかった。

【００７５】（比較例１）実施例１において、ビス（シ
クロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３
−（ピル−１−イル）フェニル］チタン６重量部の代わ
りにジメチルチオキサントン６重量部を加えた以外は、
実施例１と同様にして、可視露光可能なサンドブラスト
用感光性樹脂組成物の溶液を調製し、ドライフィルムを
形成した。このドライフィルムに加工し、プラズマディ
スプレイパネルの絶縁層の切削に使用した。

【００７６】まずドライフィルムの片側のＰＥＴフィル
ムを剥して除去した後、露出した感光性樹脂層面を、前
記電極パターン、誘電体パターンを覆ってバリアリブ層
（ホウ珪酸鉛ガラスフリット層）が設けられたプラズマ
ディスプレイパネル上に、８０℃で密着し積層させた。
その後、前述のアルゴンレーザー露光機にセットし、２
０℃の雰囲気中でアルゴンレーザーにより波長４８８ｎ
ｍの光を２ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー量で照射して画像
描画露光した。

【００７７】しかる後、残りの側のＰＥＴフィルムを剥
がし、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋ
ｇ／ｃｍ²のスプレー圧で４５秒間スプレー現像した
が、露光不良により感光性樹脂層がすべて流出してしま
った。露光硬化可能なエネルギー量は１５０ｍＪ／ｃｍ
²でありアルゴンレーザーによる露光には適さなかっ
た。

【００７８】（比較例２）以下に示す（１）〜（７）の
化合物をよく撹拌、混練し、可視露光可能なサンドブラ
スト用感光性樹脂組成物の溶液を調製した。（１）メタクリル酸／メタクリル酸メチル共重合体（重量平均分子量５万、酸価８５、溶剤としてメタノール５０％含有）４５重量部（２）ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６− ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）フェニル］チタン５重量部（３）９−フェニルアクリジン１重量部（４）ローダミン６Ｇ０．５重量部（５）テトラエチレングリコールジメタクリレート９重量部（６）トリエチレングリコールジメタクリレート（光重合性モノマー）１０重量部（７）酢酸エチル３０重量部調製した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組
成物をドライフィルムに加工し、プラズマディスプレイ
パネルの絶縁層の切削に使用した。

【００７９】まず、ＰＥＴフィルム上に前記により調製
した可視露光可能なサンドブラスト用感光性樹脂組成物
を乾燥後の膜厚が３０μｍとなるように塗布し、８０℃
の温風ヒーター中で６分間乾燥させて感光性樹脂層を形
成し、しかる後、この感光性樹脂層の上にＰＥＴフィル
ムを４０℃で被着してドライフィルムを作成した。

【００８０】次に、このドライフィルムのＰＥＴフィル
ムの片側を剥して除去した後、露出した感光性樹脂層面
を、電極パターンを覆ってバリアリブ層（ホウ珪酸鉛ガ
ラスフリット層）が設けられたプラズマディスプレイパ
ネル上に、８０℃で密着し積層させた。次いで、前出の
ＹＡＧ−ＳＨＧレーザー露光機にセットし、２０℃の雰
囲気中で波長５３２ｎｍ付近にピークを有するＹＡＧ−
ＳＨＧレーザー光を２ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー量で照
射して画像描画露光した。

【００８１】しかる後、残りの側のＰＥＴフィルムを剥
がし、０．２％炭酸ナトリウム水溶液を用いて１．５ｋ
ｇ／ｃｍ² のスプレー圧で４５秒間スプレー現像した。
水洗後、８０℃で１０分乾燥し、さらに超高圧水銀灯を
用いて２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を全面照射し、パタ
ーンを完全硬化させ、得られたパターンを耐サンドブラ
ストマスクとし、研磨剤としてガラスビーズ＃８００を
使用し、ブラスト圧４ｋｇ／ｃｍ²で２分間サンドブラ
スト処理したが、ガラス層を１２０μｍ切削したところ
でパターンが膜減りにより消失してしまった。

【００８２】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、サ
ンドブラスト用感光性樹脂組成物として基本的な性能で
ある、弾性、柔軟性が高くサンドブラストマスク材と
して使用可能なこと、環境への配慮からアルカリ現像
性に優れていること、被処理体への密着性がよいこ
と、ドライフィルムに形成できること、に加えて可
視露光可能なこと、特に波長ピークが４８８ｎｍ付近に
あるアルゴンレーザー光や波長ピークが５３２ｎｍ付近
にあるＹＡＧ第２次高調波レーザー光などの可視光によ
って直接描画露光することができる高感度なサンドブラ
スト用感光性樹脂組成物、およびこれを用いたドライフ
ィルムを提供することができ、さらに、これらを用いる
ことにより、被処理体を簡易に、かつ低コストで、精度
よく切削することができる被処理体の切削方法を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のドライフィルムの構成例を示す図であ
る。

【図２】図１に示すドライフフィルムを用いた本発明の
被処理体の切削方法を示す説明図である。

【符号の説明】

１耐サンドブラスト性ドライフィルム２支持体３耐サンドブラスト性感光性樹脂層４保護材層５被処理体７切削部８レリーフ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）少なくとも２個の（メタ）アクリ
ロイル基を有する光重合可能なウレタン（メタ）アクリ
レート化合物、（ｂ）酸価が５０〜２５０ｍｇ／ＫＯＨ
であるアルカリ可溶性高分子化合物、および（ｃ）光重
合開始系成分として、（ｃ−１）チタノセン化合物と、
（ｃ−２）アクリジン化合物およびトリアジン化合物の
中から選ばれる少なくとも１種、を含有してなる、可視
露光可能な耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物。
【請求項２】光重合開始系成分として、さらに（ｃ−
３）ローダミン系化合物またはクマリン系化合物を含有
してなる、請求項１記載の可視露光可能な耐サンドブラ
スト性感光性樹脂組成物。
【請求項３】さらに（ｄ）光重合性単量体を含有して
なる、請求項１または２記載の可視露光可能な耐サンド
ブラス性感光性樹脂組成物。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の可視露
光可能な耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物を支持体
上に塗布、乾燥して耐サンドブラスト性感光性樹脂層を
形成した後、該層上に保護材層を積層してなる、可視露
光可能な耐サンドブラスト性ドライフィルム。
【請求項５】請求項１〜３のいずれかに記載の可視露
光可能な耐サンドブラスト性感光性樹脂組成物を被処理
体上に塗布、乾燥して耐サンドブラスト性感光性樹脂層
を形成した後、この耐サンドブラスト性感光性樹脂層を
可視光により直接画像描画露光し、次いで現像し感光性
樹脂層を選択的に除去して感光性樹脂パターンを形成
し、しかる後、該パターンをマスクとして被処理体をサ
ンドブラスト処理により切削することを特徴とする、被
処理体の切削方法。
【請求項６】請求項４記載の可視露光可能な耐サンド
ブラスト性ドライフィルムから保護材層を剥離除去後、
露出した感光性樹脂層表面が被処理体表面上に接するよ
うにして該ドライフィルムを被処理体上に被着した後、
このドライフィルムの耐サンドブラスト性感光性樹脂層
を可視光により直接画像描画露光し、次いで支持体を剥
離除去した後、現像し、感光性樹脂層を選択的に除去し
て感光性樹脂パターンを形成し、しかる後、該パターン
をマスクとして被処理体をサンドブラスト処理により切
削することを特徴とする、被処理体の切削方法。