DE19729441A1 - Verfahren zur Bilderzeugung - Google Patents

Verfahren zur Bilderzeugung

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DE19729441A1
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photosensitive
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Toshiki Okui
Takeshi Iwai
Hiroshi Komano
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bilderzeugung. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren, mit dem ein Bild von hoher Reproduktionsfähigkeit erzeugt werden kann, wobei sein Reliefmuster abhängig von der Belichtungsstärke nur geringfügigen Stärkeschwankungen unterworfen ist und breite Belichtungstemperaturspannen aufweist.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Eine lichtempfindliche Offsetdruckplatte, deren Verwendung auf dem Gebiet des Offset-Drucks verbreitet ist, umfaßt im allgemeinen ein eloxiertes Aluminiumsubstrat, auf dem sich eine photopolymerisationsfähige lichtempfindliche Schicht und darüber ein Sauerstoffsperrfilm befindet. Aufgrund der in jüngster Zeit entwickelten elektronischen Hilfsmittel hat das sogenannte Desktop-Publishing praktische Anwendung gefunden, wobei die Dateneingabe, z. B. von Manuskripten und Abbildungen, das Bearbeiten und Korrekturlesen am Computer durchgeführt werden, wodurch eine schnelle Bearbeitung von Abbildungen ermöglicht wird.
Aufgrund dessen entstand das Interesse an einer Möglichkeit zur Plattenherstellung am Computer, und die Aufmerksamkeit richtete sich auf eine Laser-Direktdruckplatte, die durch direkte Belichtung einer lichtempfindlichen Druckplatte durch Scanning mit einem sichtbaren Laserstrahl ohne Verwendung einer Negativmaske erzeugt werden kann. Insbesondere bestand ein starkes Interesse an der Entwicklung einer Druckplatte zur Belichtung mit einem Argon-Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 488 nm sowie mit einem YAG-Laser mit einer Wellenlänge von 532 nm, ausgehend von einem breiten Belichtungsbereich. Lichtempfindliche Druckplatten, die für die Belichtung mit einem solchen Laserstrahl geeignet sind, umfassen Offsetdruckplatten, die in JP-A-60-239736, JP-A-5-78410, JP-A-5-107758, JP-A-6-148885 und JP-A-6-34198 offenbart sind (der hier verwendete Begriff "JP-A" bezeichnet eine "ungeprüfte japanische Offen­ legungsschrift").
Diese herkömmlichen lichtempfindlichen Offsetdruck­ platten sind sehr lichtempfindlich, neigen jedoch bei leichter Veränderung der Belichtungsstärke des sichtbaren Laserstrahls zu großen Stärkeschwankungen des Musters und haben enge Belichtungstemperaturspannen. Sie sind kaum in der Lage, ein Reliefmuster von hoher Reproduktionsfähigkeit zu erzeugen und sind schwierig zu handhaben.
Zur Lösung dieser Probleme wurde vorgeschlagen, eine belichtete Druckplatte vor dem Entwickeln 10 bis 30 Minuten lang auf Zimmertemperatur zu halten, oder die lichtempfindliche Schicht während oder nach dem Entwickeln bei 50 bis 180°C für 5 Sekunden bis 10 Minuten zu erwärmen, wie in JP-A-57-119343 offenbart ist. Es ist jedoch schwierig, mit diesen Verfahren ein Reliefmuster von hoher Präzision zu erzeugen, da sie mit einem teilweisen Zusammenbruch des Musters verbunden sind.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Bilderzeugung, mit dem eine hervorragende Reproduktionsfähigkeit erzielt werden kann, geringfügige Stärkeschwankungen eines Reliefmusters bei Änderung der Belichtungsstärke verursacht werden, und das breite Belichtungstemperaturspannen aufweist.
Eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung einer Offsetdruckplatte unter Verwendung des obengenannten Verfahrens zur Bilderzeugung.
Diese und andere Aufgaben der vorliegenden Erfindung wurden durch ein Verfahren zur Bilderzeugung gelöst, umfassend:
  • (a) selektives Belichten einer lichtempfindlichen Schicht mit einem sichtbaren Laserstrahl,
  • (b) Erwärmen der belichteten lichtempfindlichen Schicht bei einer Temperatur von 36 bis 48°C über einen Zeitraum von 10 Sekunden bis 3 Minuten, und
  • (c) Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht.
Darüber hinaus wurden diese und andere Aufgaben der vorliegenden Erfindung durch ein dem obengenannten Verfahren zur Bilderzeugung entsprechenden Verfahren zur Herstellung einer Offsetdruckplatte gelöst.
Angesichts der obengenannten Umstände kam man zu dem Ergebnis, daß ein Verfahren zur Bilderzeugung, das die Erwärmung einer selektiv belichteten Druckplatte bei einer spezifischen Temperatur über einen spezifischen Zeitraum umfaßt, ein Reliefmuster von hoher Reproduktionsfähigkeit bereitstellt, welches eine verminderte Stärkeschwankung des Reliefmusters bei Änderung der Belichtungsstärke verursacht sowie breite Belichtungstemperaturspannen aufweist.
Das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung ist in der Bilderzeugung effektiv anwendbar unter der Verwendung eines Photoresists bei der Herstellung verschiedener Druckplatten, wie für Offsetdruck, Tiefdruck und Buchdruck, eine Leiterplatte, IC und LSI, und ist besonders effektiv in der Herstellung einer Offsetdruckplatte. Zu den Offsetdruckplatten zählen diejenigen, die ein Substrat mit darüberliegender lichtempfindlicher Schicht umfassen, die durch einen sichtbaren Laserstrahl härtbar sind, wie in den vorangehenden Veröffentlichungen beschrieben.
Beispiele für das Substrat sind Metallplatten (z. B. Aluminium, Zink, Kupfer, Chrom), Platten, die mit diesen Metallen beschichtet sind; und Kunststoffolien (z. B. Polyethylenterephthalat, Polyvinylchlorid, Zelluloseacetat). Ein Aluminiumsubstrat, das durch mechanisches Oberflächenaufrauhen, chemisches Ätzen oder Elektropolieren und anschließendes Eloxieren in einer Elektrolytlösung, die Schwefel-, Phosphor-, Oxal-, Chrom- und Amidoschwefelsäure o. ä. enthält, gewonnen wird, und ein Aluminiumsubstrat, das durch Hydrophilierung der Oberfläche des eloxierten Aluminiumsubstrats gewonnen wird, werden besonders bevorzugt. Bei der Behandlung zur Hydrophilierung der Oberfläche des eloxierten Aluminiumsubstrats wird vorzugsweise eine wäßrige Natriumsilicatlösung o. a. verwendet.
Die lichtempfindliche Schicht auf dem Substrat umfaßt eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend ein polymeres Bindemittel, ein photopolymerisationsfähiges Mono­ mer und einen Photopolymerisationsinitiator. Gegebenenfalls kann die lichtempfindliche Zusammensetzung noch Zusatzstoffe enthalten, z. B. einen Weichmacher, einen thermischen Polymerisationshemmer, einen Schaumverhüter und einen Farbstoff.
Die Beispiele polymerer Bindemittel umfassen Copolymere umfassend ein Monomer mit einer Carbonsäuregruppe (z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure), und Methylacrylat, Methyl­ methacrylat, Ethylacrylat, Ethylmethacrylat, 2-Hydroxy­ ethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropyl­ methacrylat, N-Butylacrylat, N-Butylmethacrylat, Isobutylacrylat, Isobutylmethacrylat, Benzylacrylat, Benzylmethacrylat, Phenoxyacrylat, Phenoxymethacrylat, Isobornylacrylat, Isobornylmethacrylat, Glycidylmethacrylat, Styrol, Acrylamid oder Acrylonitril; Epoxyacrylatharze des Phenolnovolaktyps; Epoxymethacrylatharze des Phenol­ novolaktyps; Epoxyacrylatharze des Cresolnovolaktyps; Epoxymethacrylatharze des Cresolnovolaktyps; Epoxyacrylat­ harze des Bisphenol-A-Typs; und Epoxyacrylatharze des Bisphenol-S-Typs. Bevorzugt werden diejenigen mit einer Acryloyl- oder Methacryloylgruppe, wie Epoxyacrylatharze des Phenolnovolaktyps, da eine bessere Belichtungs­ empfindlichkeit erreicht werden kann. Diese polymeren Bindemittel können einzeln oder als Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
Beispiele für das photopolymerisationsfähige Monomer sind monofunktionelle Monomere (Monomere mit einer funktionellen Gruppe, z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Fumarsäure, Maleinsäure, Monomethylfumarat, Monoethylfumarate, 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, Ethylen­ glycolmonomethyletheracrylat, Ethylenglycolmonomethyl­ ethermethacrylat, Ethylenglycolmonoethyletheracrylat, Ethylenglycolmonoethylethermethacrylat, Glycerolacrylat, Glycerolmethacrylat, Acrylamid, Methacrylamid, Acrylonitril, Methacrylonitril, Methylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylacrylat, Ethylmethacrylat, Isobutylacrylat, Isobutyl­ methacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Benzylacrylat, Benzylmethacrylat); und polyfunktionelle Monomere (Monomere mit mindestens 2 funktionellen Gruppen, z. B. Ethylenglycoldiacrylat, Ethylenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldiacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Tetraethylenglycoldiacrylat, Tetraethylenglycol­ dimethacrylat, Butylenglycoldimethacrylat, Propylen­ glycoldiacrylat, Propylenglycoldimethacrylat, Trimethylol­ propantriacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Tetra­ methylolpropantetraacrylat, Tetramethylolpropantetrameth­ acrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritol­ trimethacrylat, Pentaerylthritoltetraacrylat, Penta­ erythritoltetramethacrylate, Dipentaerythritolpentaacrylat, Dipentaerythritolpentamethacrylat, Dipentaerythritol­ hexaacrylat, Dipentaerythritolhexamethacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat, 1,6-Hexandioldimethacrylat, Carbo­ epoxydiacrylat). Diese Monomere können einzeln oder als Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden.
Beispiele für den Photopolymerisationsinitiator umfassen Photopolymerisationsinitiatoren, die bei Anwendung eines sichtbaren Laserstrahls mit geringer Stärke polymerisationsfähig sind (z. B. Titanocenverbindungen, Triazinverbindungen, Acridinverbindungen, Imidazol­ verbindungen); Kombinationen dieser Initiatoren; und Kombinationen dieser Initiatoren mit anderen Initiatoren und/oder Sensibilisierungsmitteln. Bevorzugte Kombinationen des Photopolymerisationsinitiators umfassen eine Kombination aus einer Titanocen- und einer Triazinverbindung; eine Kombination aus einer Titanocen-, einer Triazin- und einer Acridinverbindung; eine Kombination aus einer Triazin- und einer Hexaarylbiimidazolverbindung; eine Kombination aus einer Hexaarylbiimidazolverbindung und einem (p-Dialkylaminobenzyliden)keton; eine Kombination aus einer Triazinverbindung und einem Merocyaninfarbstoff; und eine Kombination aus einer Triazinverbindung und einem Cumarinfarbstoff. Eine Kombination aus mindestens zwei der drei Verbindungen Titanocenverbindung, Triazinverbindung und Acridinverbindung wird besonders bevorzugt. Die Titanocenverbindung wird vorzugsweise in einer Menge von 3 bis 20 Gewichtsanteilen, bezogen auf 100 Gewichtsanteile des Gesamtgewichts des polymeren Bindemittels, des photo­ polymerisationsfähigen Monomers und des Photopoly­ merisationsinitiators, zugegeben; die Triazinverbindung wird in einer Menge von 1 bis 5 Gewichtsanteilen, bezogen auf 10 Gewichtsanteile der Titanocenverbindung, zugegeben; und die Acridinverbindung wird in einer Menge von 0 bis 3 Gewichtsanteilen, bezogen auf 10 Gewichtsanteile der Titanocenverbindung, zugegeben.
Beispiele der Titanocenverbindung umfassen Bis(cyclopentadienyl)-bis[2,6-difluor-3-(pyr-1-yl)phenyl]- titan, Bis(cyclopentadienyl)-bis[2,6-difluor-2-(pyr-1-yl)- phenyl]titan, Bis(cyclopentadienyl)-bis(2,3,4,5,6-penta­ fluorphenyl)titan und Bis(cyclopentadienyl)bis[2,5-difluor-3-(pyr-1-yl)phenyl]titan.
Beispiele für die Triazinverbindung umfassen 2,4-Bistrichlormethyl-6-(3-brom-4-methoxy)phenyl-s-triazin, 2,4-Bistrichlormethyl-6-(2-brom-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-Bistrichlormethyl-6-(3-brom-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine und 2,4-Bistrichlormethyl-6-(2-brom-4-methoxy)- styrylphenyl-s-triazine.
Beispiele für die Acridinverbindung umfassen 9-Phenylacridin, 1,7-Bis(9-acridinyl)heptan, 1,5-Bis(9-acridinyl)pentan, und 1,3-Bis(9-acridinyl)propan.
Beispiele für das Sensibilisierungsmittel umfassen Xanthenfarbstoffe, z. B. Eosine B (C.I. Nr. 45400), Eosine J (C.I. Nr. 45380), alkohollösliches Eosine (C.I. Nr. 45386), Cyanosine (C.I. Nr. 45410), Rose Bengal, Erythrosine (C.I. Nr. 45430), 2,3,7-Trihydroxy-9-phenylxanthen-6-on, Rhodamine 6G); Thiazinfarbstoffe (z. B. Thionine (C.I. Nr. 52000), Azule A (C.I. Nr. 52005), Azule C (C.I. Nr. 52002)); Pyroninfarbstoffe (z. B. Pyronine B (C.I. Nr. 45005), Pyronine GY (C.I. Nr. 45005); und Cumarinfarbstoffe (z. B. 7-Diethylamino-3-(2-benzimidazolyl)cumarin).
Das Sensibilisierungsmittel wird vorzugsweise in einer Menge von 1 bis 3 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichts­ teile des Gesamtgewichts des polymeren Bindemittels, des photopolymerisationsfähigen Monomers und des Photopolymeri­ sationsinitiators zugegeben.
Um die Lichtempfindlichkeit weiter zu erhöhen, kann die photopolymerisationsfähige Zusammensetzung 1-Hydroxycyclo­ hexylphenylketon, 2,2-Dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-on, 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinpropan-1-on, 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinphenyl)-butan-1-on, 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-on, 2,4,6-Trimethyl­ benzoyldiphenylphosphinoxid, 1-[4-(2-Hydroxyethoxy)phenyl]-2-hy­ droxy-2-methyl-1-propan-1-on, 2,4-Diethylthioxanthon, 2-Chlorthioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon, 3,3-Dimethyl-4-meth­ oxybenzophenon, Benzophenon, 1-Chlor-4-pro­ poxythioxanthon, 1-(4-Isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methyl­ propan-1-on, 1-(4-Dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-Benzoyl-4′-methyldimethylsulfid, 4-Dimethylamino­ benzoesäure, Methyl-4-dimethylaminobenzoat, Ethyl-4-di­ methylaminobenzoat, Butyl-4-dimethylaminobenzoat, 2-Ethyl­ hexyl, 4-Dimethylaminobenzoat, 2-Isoamyl-4-dimethyl­ aminobenzoat, 2,2-Diethoxyacetophenon, Benzyldimethylketal, Benzyl-β-methoxyethylacetal, 1-Phenyl-1,2-propandion-2-(o-eth­ oxycarbonyl)oxim, Methyl-o-benzoylbenzoat, Bis-(4-di­ methylaminophenyl)keton, 4,4′-Bisdiethylaminobenzophenon, 4,4′-Dichlorbenzophenon, Benzil, Benzoin, Benzoinmethyl­ ether, Benzoinethylether, Benzoinisopropylether, Benzoin-n-bu­ tylether, Benzoinisobutylether, Benzoinbutylether, p-Dimethylaminoacetophenon, p-tert-Butyltrichloracetophenon, p-tert-Butyldichloracetophenon, Thioxanthon, 2-Methyl­ thioxanthon, 2-Isopropylthioxanthon, Dibenzosuberon, α-α- Dichlor-4-phenoxyacetophenon, und Pentyl-4-dimethylamino­ benzoat enthalten.
Vorzugsweise umfaßt die lichtempfindliche Zusammen­ setzung:
  • (a) 10 bis 75 Gewichtsteile eines polymeren Bindemittels,
  • (b) 5 bis 60 Gewichtsteile eines photopolymerisationsfähigen Monomers, und
  • (c) 1 bis 35 Gewicht steile eines Photopolymeri­ sationsinitiators, jeweils bezogen auf 100 Gewichtsteile des Gesamtgewichtes der Zusammensetzung.
Um eine gleichmäßige lichtempfindliche Schicht zu erzeugen, kann die lichtempfindliche Zusammensetzung in einem Lösungsmittel gelöst sein. Beispiele für ein Lösungsmittel umfassen Aceton, Methylethylketon, Methyliso­ butylketon, Diethylketon, Methylamylketon, Ethylenglycol­ monomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, Propylengly­ colmonomethylether, Propylenglycolmonoethylether, Diethylen­ glycolmonomethylether, Diethylenglycolmonoethylether, Di­ ethylenglycoldimethylether, Diethylenglycoldiethylether, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Propylenglycolmono­ ethyletheracetat, 2-Methoxybutylacetat, 3-Methoxybutyl­ acetat, 4-Methoxybutylacetat, 2-Methyl-3-methoxybutylacetat, 3-Methyl-3-methoxybutylacetat, 3-Ethyl-3-methoxybutylacetat, 2-Ethoxybutylacetat, 4-Ethoxybutylacetat, 4-Propoxybutylacetat und 2-Methoxypentylacetat. Diese Lösungsmittel können einzeln oder als Kombination zweier oder mehrerer davon verwendet werden. Das Lösungsmittel wird vorzugsweise in einer Menge von 200 bis 1500 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile des Gesamtgewichts des polymeren Bindemittels, des photopolymerisationsfähigen Monomers und des Photopolymerisationsinitiators zugegeben.
Eine Offsetdruckplatte kann durch Auftragen der lichtempfindlichen Zusammensetzung, bevorzugt in obenge­ nanntem Lösungsmittel gelöst, auf ein Substrat mittels eines Applikators wie zum Beispiel eines Schleuderapparates, eines Streichbeschichters oder einen Schleuderbeschichters, bis zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von 0,5 bis 10 g/m², gefolgt von Trocknen durch mehrstündigem bis mehrtägigem Stehenlassen bei Zimmertemperatur oder etwa 20 Minuten bis mehrere Stunden im Warmlufterhitzer oder Infraroterhitzer, hergestellt werden. Wenn nötig, kann ein Sauerstoffsperrfilm zur Vermeidung von Sauerstoff-Desensibilisierung auf der lichtempfindlichen Schicht bereitgestellt werden. Eine Sauerstoffsperrschicht kann durch Beschichten der lichtempfindlichen Schicht mit einer Zusammensetzung umfassend ein Polyvinylacetatharz mit einer durchschnitt­ lichen Verseifungszahl von 70 oder höher oder ein wasserlösliches Polyamidharz und ein Lösungsmittel wie Wasser oder ein Alkohol (z. B. Ethanol, Methanol) mittels eines Schleuderapparates, eines Streichbeschichters, eines Schleuderbeschichters o.a. bis zu einem Trockenbe­ schichtungsgewicht von 0,1 bis 5 g/m², gefolgt von Trocknen, hergestellt werden.
Gemäß dem Verfahren zur Bilderzeugung der vorliegenden Erfindung wird eine lichtempfindliche Schicht selektiv mittels eines Argon-Lasers mit einer Wellenlänge von 488 nm, eines YAG-Lasers mit einer Wellenlänge von 532 nm etc. mit einer Stärke von 0,1 bis 10 mJ/cm² belichtet. Nach der Belichtung und vor der Entwicklung wird die belichtete lichtempfindliche Schicht 10 Sekunden bis 3 Minuten, vorzugsweise 15 bis 90 Sekunden, einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 36 bis 48°C, vorzugsweise 38 bis 43°C, unterzogen. Diese Wärmebehandlung ermöglicht eine Härtung der lichtempfindlichen Schicht bei relativ niedriger Belichtungsstärke, wobei ein Reliefbild mit einem hohen Grad an Reproduktionsfähigkeit sowie einer reduzierten Abhängigkeit der Stärke von der Belichtungsstärke und breiten Belichtungstemperaturspannen erzeugt wird. Wenn die Erwärmungszeit weniger als 10 Sekunden oder die Erwärmungs­ temperatur weniger als 36°C beträgt, unterliegt die Reliefmusterschicht häufig einer starken Reduzierung der Stärke an manchen Stellen, was manchmal zum Verlust einzelner Musterteile führen kann. Wenn die Erwärmungszeit 3 Minuten oder die Erwärmungstemperatur 48°C übersteigt, fällt das Reliefmuster oft teilweise in sich zusammen.
Das Entwickeln der belichteten lichtempfindlichen Schicht kann durch 30 bis 300 Sekunden andauerndes Einsprühen oder Eintauchen mit bzw. in eine Entwicklerlösung durchgeführt werden. Aus Rücksichtnahme auf Umwelt oder Gesundheit wird vorzugsweise ein alkalischer Entwickler verwendet. Beispiele für alkalische Entwickler umfassen wäßrige Lösungen eines Hydroxids, Carbonats, Hydro­ gencarbonats, Phosphats oder Pyrophosphats eines Alkali­ metalles (z. B. Lithium, Natrium, Kalium); wäßrige Lösungen eines primären Amins (z. B. Benzylamin, Butylamin), eines sekundären Amins (z. B. Dimethylamin, Dibenzylamin, Diethanolamin), eines tertiären Amins (z. B. Trimethylamin, Triethylamin, Triethanolamin), eines cyclischen Amins (z. B. Morpholin, Piperazin, Pyridin), oder eines Polyamins (z. B. Ethylendiamin, Hexamethylendiamin); wäßrige Lösungen einer Ammoniumhydroxidverbindung (z. B. Tetraethylammoniumhydroxid, Trimethylbenzylammoniumhydroxid, Trimethylphenylbenzyl­ ammoniumhydroxid); wäßrige Lösungen einer Sulfoniumhydroxid­ verbindung (z. B. Trimethylsulfoniumhydroxid, Diethylmethyl­ sulfoniumhydroxid, Dimethylbenzylsulfoniumhydroxid); und Pufferlösungen, die Cholin oder ein Silikat enthalten.
Mit dem Verfahren der vorliegenden Erfindung kann ein hoher Grad an Bildreproduktionsfähigkeit bei gleichzeitiger Abnahme der Abhängigkeit der Stärke von Änderungen der Belichtungsstärke und breite Belichtungstemperaturspannen erreicht werden. Das Verfahren zur Bilderzeugung der vorliegenden Erfindung eignet sich besonders zur Herstellung einer Offsetdruckplatte.
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden mit Bezug auf Beispiele näher erläutert, es wird jedoch darauf hingewiesen, daß die Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt ist. Wenn nicht anders angegeben, beziehen sich alle Teile, Prozentangaben und Verhältnisse auf das Gewicht.
BEISPIEL
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten hergestellt.
(1) Methacrylsäure/Methylmethacrylat/2-Hydroxyethylmethacrylat/Benzylmet-hacrylat Copolymer (50/20/20/10; Gewichtsmittel des Molekulargewichts: etwa 20 000)
60 Teile
(2) Trimethylolpropantriacrylat 10 Teile
(3) 2,4-Bis(trichlormethyl)-6-(3-chlor-4-methoxy)styryl-1,3,5-s-triazin 3 Teile
(4) Bis(cyclopentadienyl)-bis[2,6-difluor-3-(pyr-1-yl)phenyl]titan 10 Teile
(5) 9-Phenylacridin 3 Teile
(6) 7-Diethylamino-3-(2-benzimidazolyl)-cumarin 1 Teil
(7) Trichloracetamid 0,1 Teile
(8) Propylenglycolmonoethyletheracetat 50 Teile
(9) Methylisobutylketon 100 Teile
Die lichtempfindliche Zusammensetzung wurde mittels eines Schleuderapparates bis zu einem Trockenbeschichtungs­ gewicht von 3 g/m² auf eine eloxierte Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm aufgebracht und bei 60°C 5 Minuten getrocknet, wobei eine lichtempfindliche Schicht gebildet wurde.
80 Teile eines 1 : 1 Gemisches von teilweise verseiftem Polyvinylacetat (Verseifungszahl: 90) und teilweise verseiftem Polyvinylacetat (Verseifungszahl: 80) wurden in einem Wasser/Methanol (70/30) Lösungsmittelgemisch gelöst und die Lösung wurde mittels eines Schleuderapparates bis zu einem Trockenbeschichtungsgewicht von 0,5 g/m2 auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht und bei 60°C 5 Minuten getrocknet, wobei eine lichtempfindliche Offsetdruckplatte erhalten wurde.
Jede Platte wurde in einen Argon-Laser-Belichter (LPS Plotter, hergestellt von Think Laboratory Co., Ltd.; Wellenlänge: 488 nm) gegeben und bildweise mit einem Argon-Laser mit einer Stärke von 0,5 mJ/cm² bei 25°C belichtet, so daß ein Punktreliefbild mit einem zwischen 1 und 99% variierendem Flächenverhältnis erhalten wurde. Nach der Belichtung wurde die Platte 30 Sekunden lang bei 40°C erhitzt, dann durch 60 Sekunden langes Einsprühen mit einer 0,5% wäßrigen Lösung von Natriumcarbonat bei 25°C entwickelt und daraufhin 2 Minuten bei 100°C getrocknet. Schließlich wurde die gesamte Oberfläche der entwickelten lichtempfindlichen Schicht eine Minute lang ultraviolettem Licht einer Ultrahochdruck-Quecksilberlampe ausgesetzt.
Offsetdruckplatten wurden wie oben beschrieben hergestellt, mit dem Unterschied, daß die Erwärmungsbedingungen variiert wurden, um die Reproduktions­ fähigkeit des Punktreliefbildes zu vergleichen. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle 1 aufgeführt.
Weiterhin wurden Offsetdruckplatten wie oben beschrieben hergestellt, mit dem Unterschied, daß die Belichtungsstärke auf 0,75 mJ/cm² oder 1 mJ/cm² und auch die Erwärmungsbedingungen wie nachstehend in Tabelle 2 und 3 gezeigt geändert wurden, um die Reproduktionsfähigkeit des Punktreliefbildes zu vergleichen. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 2 und 3 aufgeführt.
Die Bildreproduktionsfähigkeit wurde anhand des folgenden Bewertungssystems ausgewertet.
A Punkte mit einem Flächenverhältnis von 1 bis 99% wurden reproduziert.
B Punkte mit einem Flächenverhältnis von 2 bis 98% wurden reproduziert.
C Punkte mit einem Flächenverhältnis von mehr als 3 und weniger als 97% wurden reproduziert.
D Punkte mit einem Flächenverhältnis von mehr als 4 und weniger als 96% wurden reproduziert.
E Punkte mit einem Flächenverhältnis von mehr als 5 und weniger als 95% wurden reproduziert.
TABELLE 1
Belichtungsstärke: 0,5 mJ/cm²
TABELLE 2
Belichtungsstärke: 0,75 mJ/cm²
TABELLE 3
Belichtungsstärke 1 mJ/cm²
Weiterhin wurden in der gleichen Weise wie oben beschrieben Offsetdruckplatten hergestellt, außer daß die Belichtungsstärke auf 0,75 mJ/cm² und die Temperatur auf 20°C oder 30°C geändert wurde. Die Reproduktionsfähigkeit des Punktreliefs wurde wie oben ausgewertet. Die Ergebnisse werden in den nachstehenden Tabellen 4 und 5 gezeigt.
TABELLE 4
Belichtungstemperatur: 20°C
TABELLE 5
Belichtungstemperatur: 30°C
Wie aus den Ergebnissen in den Tabellen 1 bis 5 ersichtlich ist, bewirkt eine Wärmebehandlung von 10 Sekunden bis 3 Minuten bei 36 bis 48°C nach Belichten mit einem sichtbaren Laserstrahl und vor der Entwicklung eine Verbesserung der Reproduktionsfähigkeit eines Punktrelief­ bildes.
Diese Patentanmeldung basiert auf der in Japan eingereichten Anmeldung Nr. Hei 8-198304, auf deren gesamten Inhalt hiermit Bezug genommen wird.

Claims (9)

1. Verfahren zur Bilderzeugung umfassend:
  • (a) selektives Belichten einer lichtempfindlichen Schicht mit einem sichtbaren Laserstrahl,
  • (b) Erwärmen der belichteten lichtempfindlichen Schicht bei einer Temperatur von 36 bis 48°C über einen Zeitraum von 10 Sekunden bis 3 Minuten, und
  • (c) Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Erwärmung bei einer Temperatur von 38 bis 43°C durchgeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die lichtempfindliche Schicht eine lichtempfindliche Zusammen­ setzung, umfassend ein polymeres Bindemittel, ein photopolymerisationsfähiges Monomer und einen Photopolymerisationsinitiator, umfaßt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, wobei der Photopolymerisationsinitiator eine Kombination aus mindes­ tens zwei Verbindungen, gewählt aus Titanocenverbindungen, Triazinverbindungen und Acridinverbindungen, ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Verfahren ein Verfahren zur Herstellung einer Offsetdruckplatte darstellt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei die Offsetdruckplatte die lichtempfindliche Schicht auf einem Substrat und einen Sauerstoffsperrfilm auf der lichtempfindlichen Schicht umfaßt.
7. Verfahren nach Anspruch 3, wobei das polymere Bindemittel, das photopolymerisationsfähige Monomer und der Photopolymerisationsinitiator in der lichtempfindlichen Zusammensetzung in einer Menge von 10 bis 75, 5 bis 60 bzw. 1 bis 35 Gewichtsanteilen, bezogen auf 100 Gewichtsanteile des Gesamtgewichtes der Zusammensetzung, enthalten ist.
8. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die lichtempfindliche Schicht unter Verwendung eines Argon-Lasers mit einer Wellenlänge von 488 nm oder eines YAG-Lasers mit einer Wellenlänge von 532 nm selektiv einer Belichtung der Stärke 0,1 bis 10 mJ/cm² ausgesetzt wird.
9. Druckplatte, erhältlich gemäß dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8.
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