JPH09204049A

JPH09204049A - 感光性樹脂層体

Info

Publication number: JPH09204049A
Application number: JP3013396A
Authority: JP
Inventors: Toshiki Okui; 俊樹奥井; Takeshi Iwai; 武岩井; Hiroshi Komano; 博司駒野
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 1996-01-25
Filing date: 1996-01-25
Publication date: 1997-08-05

Abstract

(57)【要約】【課題】露光時に露光エネルギー量の増減や温度変化に
よるパターン幅の細りや太りがなく、露光後のホールド
時間に対するマージンが大きい上に、ＰＥＢの熱マージ
ンの大きい感光性樹脂積層体を提供すること。【解決手段】支持体上に、光重合性感光層、および酸素
遮断膜が順次積層された感光性樹脂層体において、前記
酸素遮断膜が（イ）平均ケン化度７０以上８５％未満の
ポリ酢酸ビニル樹脂、および（ロ）平均ケン化度８５以
上１００％以下のポリ酢酸ビニル樹脂で形成され、前記
（イ）成分と（ロ）成分とのケン化度の差が絶対値で少
なくとも５以上で、かつ（イ）成分と（ロ）成分との合
計平均ケン化度および配合比が下記数１および数２で表
わされる範囲にあることを特徴とする感光性樹脂層体。【数１】８０≦ａ×Ａ＋ｂ×Ｂ≦９０【数２】０．２５≦Ａ／Ｂ≦４

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂層体、
さらに詳しくは感光性平版などの原版材料である感光性
樹脂層体に関する。

【０００２】

【従来技術】従来、オフセット印刷等の分野において感
光性平版印刷版が広く用いられているが、前記感光性平
版印刷版としては陽極酸化処理が施されたアルミニウム
支持体上に、光重合性感光層、および酸素遮断膜を順次
積層した平版印刷版が多く用いられている。この感光性
平版印刷版をはじめとし凸版、凹版等を使用する印刷分
野においてはＦＡ化が進行し、原稿や画像データの入
力、編集、校正までをコンピュータ上で行うことができ
るデスクトップパブリッシングが実用化され、高速の画
像編集が可能となった。この高速の画像編集の実施とと
もに感光性平版印刷版もコンピュータ操作により製版で
きる版材であることが望まれ、ネガマスク不要のレーザ
ーダイレクト印刷版が注目を集め、特に露光域の広さか
ら、アルゴンレーザー、ＹＡＧレーザーにより露光可能
な樹脂層体の実用化が望まれている。こうしたレーザー
ダイレクト印刷版の作成に適する感光性樹脂組成物が例
えば、特開昭６０−２３９７３６号公報、特開平５−７
８４１０号公報、特開平５−１０７７５８号公報、特開
平６−１４８８８５号公報、特開平６−３４１９８号公
報等で提案されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記各公報
記載の感光性樹脂組成物を用いて作成した版材は高感度
ではあるがレーザー露光時の露光量の僅かな変化によっ
てパターン幅が大きく変わったり、或は露光機内の僅か
な温度増減によって感度が大きく変化したりする上に、
露光後のホールド時間に対するマージンやＰＥＢ（ｐｏ
ｓｔｅｘｐｏｓｕｒｅｂａｋｅ）のマージンが小さ
く、製版作業所内での僅かな環境の変化により作成され
た版面が大きく変化してしまい、取り扱いが極めて難し
いといった欠点があった。

【０００４】そこで、本発明者等は上記欠点を解消すべ
く鋭意研究を重ねた結果、特定のケン化度を有するポリ
酢酸ビニル樹脂を２種以上組み合わせて形成した酸素遮
断膜を光重合性感光層の上にトップコート層として設け
ることで、大気中の酸素による感度低下がなく、温度や
露光後のホールド時間、ＰＥＢ時間の変化による感度変
化の少ない感光性樹脂層体が得られることを見出し、本
発明を完成したものである。

【０００５】すなわち、本発明は、露光時に露光エネル
ギー量の増減や温度変化によるパターン幅の細りや太り
がなく、露光後のホールド時間に対するマージンが大き
い上にＰＥＢの熱マージンの大きい感光性樹脂積層体を
提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、支持体上に、光重合性感光層、および酸素遮断膜
が順次積層された感光性樹脂層体において、前記酸素遮
断膜が（イ）平均ケン化度７０以上８５％未満のポリ酢
酸ビニル樹脂、および（ロ）平均ケン化度８５以上１０
０％以下のポリ酢酸ビニル樹脂で形成され、前記（イ）
成分と（ロ）成分とのケン化度の差が絶対値で少なくと
も５以上で、かつ（イ）成分と（ロ）成分との合計平均
ケン化度および配合比が下記数３および数４で表わされ
る範囲にあることを特徴とする感光性樹脂層体

【数３】８０≦ａ×Ａ＋ｂ×Ｂ≦９０

【数４】０．２５≦Ａ／Ｂ≦４に係る。

【０００７】以下、本発明を詳しく説明する。本発明の
感光性樹脂層体は上述の通り支持体上に、光重合性感光
層、および酸素遮断膜を順次積層した構造を有するが、
前記支持体としては、寸法的に安定な板状物が用いられ
る。前記寸法的に安定な板状物としては、紙、プラスチ
ックがラミネートされた紙、アルミニウム、亜鉛、鉛な
どの金属板、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリカーボネートなどのプラスチ
ックフィルムなどが挙げられる。特に陽極酸化処理が施
されたアルミニウム支持体が好ましい。前記陽極酸化処
理が施されたアルミニウム支持体は従来公知の種々の方
法により作成されるが、例えば、アルミニウム板上に機
械的粗面化、化学的エッチング、電解研磨を施したの
ち、硫酸、燐酸、シュウ酸、クロム酸、アミドスルホン
酸などの電解液により陽極酸化処理することにより製造
できる。さらに、前記陽極酸化処理が施されたアルミニ
ウム支持体は米国特許第２，７１４，０６６号明細書な
どに記載するように陽極酸化後に表面を親水化処理する
ことができる。前記親水化処理としてはアルカリ金属シ
リケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液になどに陽極酸
化したアルミニウム支持体を浸積する方法などが挙げら
れる。

【０００８】本発明の感光性樹脂層体において支持体上
に積層される光重合性感光層は、感光性樹脂組成物を支
持体上に塗布することで形成されるが、前記感光性樹脂
組成物としてはレーザー露光可能な感光性樹脂組成物で
あれば使用でき、特に上記各公報記載の感光性樹脂組成
物が好ましい。前記レーザー露光可能な感光性樹脂組成
物としては、基本的にはエチレン性不飽和結合含有化合
物の少なくとも１種、好ましくは２種以上を重合したバ
インダー樹脂、モノマー、光重合開始剤に、さらに必要
に応じて可塑剤、熱重合禁止剤、消泡剤、染料などの添
加成分からなる。前記バインダー樹脂はエチレン性不飽
和結合を含有する化合物を重合してなる樹脂であるが、
前記エチレン性不飽和結合を含有する化合物としては、
エチレン性不飽和基を有するモノマー、プレポリマーす
なわち２量体、３量体およびオリゴマーまたはそれらの
混合物が挙げられる。特にアルカリ現像可能の樹脂が好
ましく、かかる樹脂としては、具体的にアクリル酸、メ
タクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマーと、
アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル、２−ヒドロキシエチルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、Ｎ−ブチルアクリ
レート、Ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリ
ート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレー
ト、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレ
ート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリ
ル等との共重合体やフェノールノボラック型エポキシア
クリレート樹脂、フェノールノボラック型エポキシメタ
クリレート樹脂、クレゾールノボラック型エポキシアク
リレート樹脂、クレゾールノボラック型エポキシメタク
リレート樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレー
ト樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシアクリレート樹脂
など樹脂中にアクリロイル基、メタクリロイル基を有す
る樹脂が好ましい。

【０００９】また、モノマーとしては、具体的にアクリ
ル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、フマル酸
モノメチル、フマル酸モノエチル、２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、エチレングリコールモノメチルエーテルアクリレー
ト、エチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレ
ート、エチレングリコールモノエチルエーテルアクリレ
ート、エチレングリコールモノエチルエーテルメタクリ
レート、グリセロールアクリレート、グリセロールメタ
クリレート、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート等の単官能モノマ
ー、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコ
ールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテト
ラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、カルドエポキシジア
クリレート等の多官能モノマーが挙げられる。

【００１０】さらに、光重合開始剤としては、チタノセ
ン化合物などのメタロセン化合物、トリアジン化合物、
アクリジン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合
物、（ｐ−ジアルキルアミノベンジリデン）ケトンの単
独またはそれらの組合せ、或は前記化合物とメロシアニ
ン色素との組合せ、有機過酸化物と色素との組合せ、ト
リアジン化合物とクマリン色素との組合せなどが挙げら
れる。特にメタロセン化合物とトリアジン化合物との組
合せ、メタロセン化合物とアクリジン化合物との組合
せ、メタロセン化合物とトリアジン化合物とアクリジン
化合物との組合せ、トリアジン化合物とヘキサアリール
ビイミダゾール化合物との組合せ、ヘキサアリールビイ
ミダゾール化合物と（ｐ−ジアルキルアミノベンジリデ
ン）ケトンとの組合せなどが好ましい。前記光重合開始
剤の組み合わせにさらに増感剤として知られる１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメト
キシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチ
ル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフ
ォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチ
ルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン
−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニ
ルプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾ
イルジフェニルホスフィンオキシド、１−〔４−（２−
ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−プロパン−１−オン、２，４−ジエチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−
ジメチルチオキサントン、３，３−ジメチル−４−メト
キシベンゾフェノン、ベンゾフェノン、１−クロロ−４
−プロポキシチオキサントン、１−（４−イソプロピル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−
４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ
安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジ
メチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息
香酸ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチル
ヘキシルエステル、４−ジメチルアミノ安息香酸−２−
イソアミルエステル、２，２−ジエトキシアセトフェノ
ン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキ
シエチルアセタール、１−フェニル−１，２−プロパン
ジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ｏ
−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−ジメチルアミ
ノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベ
ンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、ベ
ンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ｐ−ジメ
チルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリ
クロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロ
アセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサ
ントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾス
ベロン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェ
ノン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、イ
オシンＢ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４００）、イオシンＢ
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５３８０）、アルコール可溶性イオ
シン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５３８６）、シアノシン（Ｃ．
Ｉ．Ｎｏ．４５４１０）、ベンガル・ローズ、エリスロ
シン（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４３０）、２，３，７−トリ
ヒドロキシ−９−フェニルキサンテン−６−オン、およ
びローダミン６Ｇなどのキサンテン色素、チオニン
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５２０００）、アズレＡ（Ｃ．Ｉ．Ｎ
ｏ．５２００５）、およびアズレＣ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５
２００２）などのチアジン色素、ピロニンＢ（Ｃ．Ｉ．
Ｎｏ．４５００５）、およびピロニンＧＹ（Ｃ．Ｉ．Ｎ
ｏ．４５００５）などのピロニン色素などの増感色素を
併用し光重合速度を増大させることができる。

【００１１】上記各成分は溶剤に溶解して使用すること
ができるが、該溶剤としては、具体的にアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケ
トン、メチルアニルケトン、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、２−メト
キシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテー
ト、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３−
メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ
ブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルア
セテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキ
シブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテー
ト、２−メトキシペンチルアセテートなどを挙げること
ができる。

【００１２】上記感光性樹脂組成物を用いた光重合性感
光層の形成方法としては、バインダー樹脂、モノマーお
よび光重合開始剤などを含有する感光性樹脂組成物を上
記溶剤に溶解し、それを寸法的に安定な板状物からなる
支持体上に、ホイラー、バーコーター、スピンコーター
等の塗布装置を用いて塗布し、それを室温で数時間〜数
日放置するか、または温風ヒーター、赤外線ヒーター中
に数十分〜数時間入れて溶剤を除去し、乾燥後の塗布量
を０．５〜１０ｇ／ｍ²とする方法などが挙げられる。

【００１３】本発明を構成する酸素遮断膜は（イ）平均
ケン化度７０以上８５％未満のポリ酢酸ビニル樹脂およ
び（ロ）平均ケン化度８５以上１００％以下のポリ酢酸
ビニル樹脂であって、（イ）成分と（ロ）成分のケン化
度の差が絶対値で少なくとも５以上で、かつ（イ）成分
と（ロ）成分との合計平均ケン化度および配合比が下記
数５および数６で表わされる

【数５】８０≦ａ×Ａ＋ｂ×Ｂ≦９０

【数６】０．２５≦Ａ／Ｂ≦４範囲内にあるポリ酢酸ビニル樹脂で形成される。この酸
素遮断膜のトップコート層を光重合感光層の上に設ける
ことにより本発明の感光性樹脂層体は露光の際に露光量
や温度の増減による感度変化が起こりにくく、ホールド
時のマージンやＰＥＢ時の熱マージンの大きな感光性樹
脂層体となる。前記酸素遮断膜は（イ）成分および
（ロ）成分の混合物で形成されてもまた前記（イ）成分
および（ロ）成分が２層をなして形成されてもよい。酸
素遮断膜を２層に形成する場合には、（イ）成分層が
（ロ）成分層の上になるように形成するのがよい。これ
により感度変化が一段と抑えられる。また、酸素遮断膜
はトップコート層を形成するところからその厚さは光重
合性感光層より薄い層であるのがよく、光重合性感光層
が重量で０．５〜１０ｇ／ｍ²に対し酸素遮断膜は重量
で０．１〜５ｇ／ｍ²の範囲が最適である。

【００１４】上記（イ）成分および（ロ）成分のケン化
度の差が絶対値で５未満、Ａ／Ｂの値が０．２５未満、
またはケン化度の差が絶対値で５を超え、（イ）成分と
（ロ）成分との平均ケン化度が８０未満、あるいは９０
を超えると熱的影響により感度変化が起こり易く、また
は酸素減感により感度が低下する。

【００１５】上記（イ）成分および（ロ）成分のポリ酢
酸ビニル樹脂の重合度は１００〜２０００の範囲で選択
されるのが好ましい。

【００１６】上記酸素遮断膜の形成は、（イ）成分およ
び（ロ）成分を水、メタノールまたはエタノール等のア
ルコールなどの溶剤に溶解したものをホイラー、バーコ
ーター、スピンコーター等を用いて乾燥後の重量が０．
１〜５ｇ／ｍ²となるように塗布、乾燥するか、または
前記（イ）成分および（ロ）成分を溶解した塗布液を順
次塗布することで形成される。

【００１７】本発明の感光性樹脂層体は、波長４８８ｎ
ｍのアルゴンレーザーやＹＡＧレーザー等を用いて０．
１〜１５ｍＪ／ｃｍ²のエネルギー量で露光したのち、
アルカリ現像液で現像して感光性平版印刷版や感光性凹
版印刷版などに製版される。前記アルカリ現像液として
は、リチウム、ナトリウム、カリウム等アルカリ金属の
水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸
塩、ベンジルアミン、ブチルアミン等の第１級アミン、
ジメチルアミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミ
ン等の第２級アミン、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリエタノールアミンなどの第３級アミン、モル
ホリン、ピペラジン、ピリジンなどの環状アミン、、エ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのポリア
ミン、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメ
チルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフ
ェニルベンジルアンモニウムヒドロキシドなどのアンモ
ニウムヒドロキシド類、トリメチルスルホニウムヒドロ
キシド、ジエチルメチルスルホニウムヒドロキシド、ジ
メチルベンジルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホ
ニウムヒドロキシド類からなる水溶液やコリン、ケイ酸
塩含有緩衝液などが挙げられる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例及び比較例
により詳細に説明するが、本発明はこれらの例により限
定されるものではない。

【００１９】〈感光性樹脂層体の製造例１〜１５〉（ｉ）感光性樹脂組成物の調製下記１〜９の成分をかき混ぜて感光性樹脂組成物を調製
した。１．アクリル酸／メタクリル酸メチル／２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体（２０／６０／２０重量比、重量平均分子量約２００００）６０重量部２．トリメチロールプロパントリアクリレート１０重量部３．２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｍ−ブロモ−ｐ− メトキシ）フェニル−１，３，５−ｓ−トリアジン３重量部４．ビス（シクロペンタジエニル）−ビス〔２，６−ジフルオロ −３−（ピル−１−イル）フェニル〕チタン１０重量部５．９−フェニルアクリジン３重量部６．７−ジエチルアミノ−３−（２−ベンゾイミダゾリル）クマリン１重量部７．トリクロロアセトアミド０．１重量部８．メチルエチルケトン１００重量部９．３−メトキシブチルアセテート５０重量部

【００２０】（ｉｉ）感光性樹脂層体の製造陽極酸化処理が施された０．３ｍｍのアルミニウム板上
にホイラーを用いて上記感光性樹脂組成物を乾燥後の重
量が３ｇ／ｍ²となるように塗布し、６０℃で５分間乾
燥させて光重合感光層を積層した支持体を作成した。前
記光重合感光層の上に、表１に示す製造例１〜１５の組
成のケン化ポリ酢酸ビニル樹脂を水／メタノール＝７０
／３０の水溶液８０重量部に溶解させた組成物を乾燥時
の重量が０．５ｇ／ｍ²となる塗布量にホイラーを用い
て塗布し、６０℃で５分間乾燥して感光性樹脂層体を製
造した。

【００２１】

【表１】

【００２２】

【実施例】

実施例１〜７、比較例１〜８上記製造例１〜７で製造した感光性樹脂層体を実施例１
〜７とし、製造例８〜１５にて製造した感光性樹脂層体
を比較例１〜８として、アルゴンレーザー露光機（「Ｌ
ＰＳプロッター」シンクラボラトリー社製）にセット
し、それぞれ２０℃、３０℃および３５℃の雰囲気中で
波長４８８ｎｍのアルゴンレーザーを１ｍＪ／ｃｍ²の
エネルギー量で照射して画像露光を行い、露光直後の酸
素遮断膜上の温度を測定した。

【００２３】上記露光後、炭酸ナトリウム０．５％水溶
液で２５℃、６０秒間スプレー現像し、１００℃で２分
間乾燥したのち、さらに超高圧水銀灯を用いて１分間紫
外線による全面露光を行って平版印刷版を完成し、熱カ
ブリによる画像の太りの有無を確かめた。

【００２４】上記実施例１〜７、および比較例１〜８に
ついて、露光直後の酸素遮断膜の表面温度、現像性、熱
カブリの有無について調べ、その結果を表２に示す。

【００２５】

【表２】現像性の評価について ○：現像液による露光部の膜減りがほとんどなく、未露
光部には感光性樹脂組成物の浅さがない。 ×：現像液による膜減りが大きく、一部に欠け、剥がれ
がみられ、未露光部には感光性樹脂組成物の浅さがみら
れる。熱カブリの評価についてなし：マスクパターンに忠実な再現性の高いパターンが
得られた。有り：マスクパターンよりもパターン幅が太くなり、部
分的にパターン同士が結合し、画像にツブレがみられ
た。

【００２６】実施例８〜１４、比較例９〜１６上記製造例１〜７で製造した感光性樹脂層体を実施例８
〜１４とし、製造例８〜１５にて製造した感光性樹脂層
体を比較例９〜１６として、上記実施例１〜７、比較例
１〜８と同様にしてアルゴンレーザー露光機にセット
し、露光直後の温度が２５℃となるように、アルゴンレ
ーザーを照射し、画像描画を行った後、それぞれ３分
間、５分間、１０分間ホールド（保持）し、炭酸ナトリ
ウム０．５％水溶液で現像、乾燥、全面露光を行った。

【００２７】上記実施例８〜１４、比較例９〜１６につ
いてホールド時間によるパターンの太りの有無について
調べた結果を表３に示す。

【００２８】

【表３】ホールド時間によるパターンの太りの評価なし：マスクパターンに忠実な再現性の高いパターンが
得られた。有り：マスクパターンよりもパターン幅が太くなり、部
分的にパターン同士が結合し、画像にツブレがみられ
た。

【００２９】実施例５〜２１、比較例１７〜２４上記製造例１〜７で製造した感光性樹脂層体を実施例１
５〜２１とし、製造例８〜１５にて製造した感光性樹脂
層体を比較例１７〜２１として、上記実施例１〜７、比
較例１〜８と同様にしてアルゴンレーザー露光機にセッ
トし、露光直後の温度が２５℃となるように、アルゴン
レーザーを照射し、画像描画を行った後、８５℃のホッ
トプレート上でそれぞれ３０秒、６０秒、９０秒間ＰＥ
Ｂを行い、炭酸ナトリウム０．５％水溶液で現像、乾
燥、全面露光を行った。

【００３０】上記実施例１５〜２１、比較例１７〜２４
についてＰＥＢ時間によるパターンの太りの有無につい
て調べた結果を表４に示す。

【００３１】

【表４】ＰＥＢ時間によるパターンの太りの評価なし：マスクパターンに忠実な再現性の高いパターンが
得られた。有り：マスクパターンよりもパターン幅が太くなり、部
分的にパターン同士が結合し、画像にツブレがみられ
た。

【００３２】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂層体は、従来のレー
ザーダイレクト印刷版と同等の感度を有しながら、露光
時の熱的影響により感度変化が起こりにくく、熱マージ
ンや露光後のホールド時間、ＰＥＢ時間の大きい感光性
樹脂層体である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、光重合性感光層、および酸素
遮断膜が順次積層された感光性樹脂層体において、前記
酸素遮断膜が（イ）平均ケン化度７０以上８５％未満の
ポリ酢酸ビニル樹脂、および（ロ）平均ケン化度８５以
上１００％以下のポリ酢酸ビニル樹脂で形成され、前記
（イ）成分と（ロ）成分とのケン化度の差が絶対値で少
なくとも５以上で、かつ（イ）成分と（ロ）成分との合
計平均ケン化度および配合比が下記数１および数２で表
わされる範囲にあることを特徴とする感光性樹脂層体。【数１】８０≦ａ×Ａ＋ｂ×Ｂ≦９０【数２】０．２５≦Ａ／Ｂ≦４
【請求項２】光重合性感光層の重量が０．５〜１０ｇ／
ｍ²であり、酸素遮断膜の重量が０．１〜５ｇ／ｍ²であ
ることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂層体。
【請求項３】支持体が陽極酸化処理を施したアルミニウ
ム板であることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂
層体。
【請求項４】酸素遮断膜が（イ）成分および（ロ）成分
の２層からなることを特徴とする請求項１に記載の感光
性樹脂層体。