JPH02100055A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents

ポジ型感光性組成物

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JPH02100055A
JPH02100055A JP25326588A JP25326588A JPH02100055A JP H02100055 A JPH02100055 A JP H02100055A JP 25326588 A JP25326588 A JP 25326588A JP 25326588 A JP25326588 A JP 25326588A JP H02100055 A JPH02100055 A JP H02100055A
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aryl group
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acid
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Toshiaki Aoso
利明 青合
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、平板印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーへ
7ドプロジ工クター用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する新規なポジ型感光性組成物に関する。
〔従来の技術及びその解決すべき課題〕活性光線により
可溶化する、いわゆるポジチプに作用する感光性物質と
しては、従来オルトキノンジアジド化合物が知られてお
り、実際平版印刷版、ホトレジスト等に広く利用されて
きた。このようなオルトキノンジアジド化合物としては
、例えば米国特許第2,766、118号、同第2,7
67.092号、同第2.772.972号、同第2,
859,112号、同第2.907,665号、同第3
,046,110号、同第3,046,111号、同第
3,046.115号、同第3,046.118号、同
第3.046,119号、同第3,046.120号、
同第3,046.121号、同第3,046.122号
、同第3,046,123号、同第3.061,430
号、同第3.102,809号、同第3,106.46
5号、同第3,635,709号、同第3,647,4
43号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記載されて
いる。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、光化学的な増悪
は困難であり、本質的に量子収率が1を越えないという
ことに由来するものである。また、感光波長が限定され
るため、使用できる光源の範囲が限定され、光源適性に
対する許容度が小さい。このため、白燈下での長時間の
使用が困難であり、白燈安全性に欠ける。更に、約20
0〜300nmのDeep −IJV領域での吸収が大
きいため、低波長光の使用によるフォトレジストの解像
力向上を目的とした用途には通さないなど問題となって
いた。
そのため、オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組
成物の感光性を高める方法については、今までいろいろ
と試みられてきたが、現像時の現像許容性を保持したま
ま感光性を高めることば非常に困難であった。例えば、
このような試みの例として、特公昭48−12242号
、特開昭52−40125号、米国特許第4.307.
173号などの公報及び明細書に記載された内容を挙げ
ることができる。
また、最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにボ
ジチブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの
提案がされている。その1つとして、例えば、特公昭5
6−2696号公報に記載されているオルトニトロカル
ビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられ
る。しかしながら、この場合も、オルトキノンジアジド
の場合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。更に、
特開昭60−260947号、同62−36404号の
各公報に記載されている露光によりスルホン酸を発生す
る化合物を挙げることができる。しかしながら、これら
の化合物は合成が困難であるなど問題となっていた。
本発明の目的は、増感剤を使用することにより感度を高
めることのできるポジ型感光性組成物を提供することに
ある。
本発明の別の目的は、白燈安全性にすぐれた新規なポジ
型感光性組成物を提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果、新規な先回溶化組成物を見い出し、本発明に到達し
た。
即ち、本発明は、下記−殺伐(1)、(Il)、(II
I)又は(IV)で表わされる化合物の少なくとも一種
と、アルカリ可溶性ポリマーとからなるポジ型感光性組
成物に関する。
以下、本発明について詳述する。
(−形式(1)、(II)、(III)又は(IV)で
表わされる化合物) 上記−形式において、R,はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基又は置換アリール基を示す。
具体的には、R,のアルキル基は、直鎖、分枝、環状の
もの、より好ましくは直鎖のものであり、好ましくは炭
素原子数が1〜18個のものであって、例えばメチル、
エチル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル、ヘキ
サデシルなどの各基が含まれる。また、R1の置換アル
キル基は、上記のようなアルキル基に、例えば塩素原子
のようなハロゲン原子、例えばメトキシ基のような炭素
原子数1〜6個のアルコキシ基などが置換されたもので
あって、具体的には2−クロロエチル基、2−メトキシ
エチル基などが含まれる。また、R。
のアリール基には、好ましくは単環及び2環のものであ
って、例えばフェニル基、ナフチル基などが含まれる。
また、R,の置換アリール基は、上記のようなアリール
基に、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜
6個のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基など
の炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、例えば、塩素原
子などのハロゲン原子などが置換したものが含まれ、具
体的にはメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、メト
キシフェニル基、クロロフェニル基、メトキシナフチル
基などが挙げられる。
Rt、Ra及びRsは各々同一でも相異していてもよい
、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換了り−ル基を示す。
具体的には、アルキル基としては直鎖、分枝及び/又は
環状のものであり、好ましくは炭素原子数が約1ないし
約10のものである。具体的には、例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、イソプロピル基、1so−ブチル基、
tert−ブチル基、2エチルヘキシル基、シクロヘキ
シル基などが含まれる。また、R7、R4及びR5の置
換アルキル基は、上記のようなアルキル基に例えば、塩
素原子のようなハロゲン原子、例えばメトキン基のよう
な炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、例えばフェニル
基のようなアリール基、例えばフェノキシ基のようなア
リールオキシ基などの置換したものが含まれ、具体的に
はモノクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロ
メチル基、ブロモメチルL 2−クロロエチル基、2−
ブロモエチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシ
エチル基、フェニルメチル基、ナフチルメチル基、フェ
ノキシメチル基などが挙げられる。また、R2、R9及
びR3のアリール基は単環あるいは2環のものが好まし
く、例えばフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル
基などが挙げられる。R2、R4及びR3の置換アリー
ル基は上記のようなアリール基に、例えばメチル基、エ
チル基などの炭素原子数1〜6個のアルキル基、例えば
メトキシ基、エトキシ基などの炭素原子数1〜6個のア
ルコキシ基、例えば、塩素原子などのハロゲン原子、ニ
トロ基、フェニル基、カルボキシ基、シアノ基などが置
換したものが含まれ、具体的には4−クロロフェニル基
、2−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−
ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−フヱニ
ルフェニルi、4−メチルフェニル基、2−メチルフェ
ニル基、4−エチルフェニル基、4−メトキシフェニル
基、2−メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基
、2−カルボキシフェニル基、4−シアノフェニル基、
4−メチル−1−ナフチル基、4−クロロ−1−ナフチ
ル基、5−ニトロ−1−ナフチル基、6−クロロ−2−
ナフチル基、4−ブロモ−2−ナフチル基、5−ニトロ
−2−ナフチル基などが挙げられる。Rz、R4及びR
1のアルケニル基は例えば、ビニル基であり、Rz 、
R,及びR5の置換アルケニル基は、ビニル基に、例え
ばメチル基のようなアルキル基、例えばフェニル基のよ
うなアリール基などの置換したものが含まれ、具体的に
は1−メチルビニル基、2−メチルビニル基、1.2−
ジメチルビニル基、2−フェニルビニル基、2−(p−
メチルフェニル)ビニル基、2−(p−メトキシフェニ
ル)ビニルi、2−(p−クロロフェニル)ビニル基、
2−(0−クロロフェニル)ビニル基などが挙ケラレル
R3は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、ハロゲン原子又はアルコキシ基
を示す。具体的には、アルキル基としては炭素原子数1
〜6個のものが好ましく、メチル基、エチル基などが含
まれる。R3の置換アルキル基は、上記のようなアルキ
ル基に、例えば塩素原子のようなハロゲン原子、例えば
メトキシ基のような炭素原子数1〜6個のアルコキシ基
などが置換されたものであって、具体的には2−クロロ
エチル基、2−メトキシエチル基などが含まれる。R1
のアリール基は好ましくは単環のものであって、例えば
、フェニル基などが含まれる。
R3の置換アリール基は、上記のようなアリール基に、
例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜6個の
アルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭素
原子数1〜6個のアルコキシ基、例えば塩素原子などの
ハロゲン原子が110したものが含まれ、具体的にはメ
チルフェニル基、ジメチルビニル基、メトキシフェニル
基、クロロフェニル基などがあげられる。
R3のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子などがあり、アルコキシ基としては炭素原子数
1〜6個の、例えばメトキシ基、エトキシ基などが好ま
しい。また、2個のR1で互いに結合しベンゼン環を形
成するのに必要な原子群を表わす。
Art及びArtは各々同一でも相異していてもよい、
アリール基又は置換アリール基を示す。具体的にはアリ
ール基としては、単環及び2環のものが好ましく、例え
ばフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基などが
含まれる。^r、及びAr2の置換アリール基は、上記
のようなアリール基に、例えばメチル基、エチル基など
を炭素原子数1〜6個のアルキル基、例えばメトキシ基
、エトキシ基などの炭素原子数1〜6個のアルコキシ基
、例えば塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニト
ロ基、フェニル基、カルボキシ基、シアノ基などが置換
したものが含まれ、具体的には4−クロロフェニル基、
2−クロロフェニル!、4−ブロモフェニル基、4−ニ
トロフェニル基、3−ニトロフェニル基、4−フェニル
フェニル基、4−メチルフェニル基、2−メチルフェニ
ル基、4−エチルフェニル基、4−メトキシフェニル基
、2−メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、
2−カルボキシフェニル基、4−シアノフェニル基、4
−メチル−1−ナフチル基、4−クロロ−1−ナフチル
基、5−ニトロ−1−ナフチル基、6−クロロ−2−ナ
フチル基、4−ブロモー2−ナフチル基、5−ニトロ−
2−ナフチル基などが挙げられる。
nはOl又は1〜4の整数を示す。
本発明の一般式(+)で示される化合物はり、Harr
isonら著、Journal of the Che
micalSociety 、第2157〜2160頁
(1960)記載の方法に従い合成される一般式(V)
で示される2−置換−3−ヒドロキシ−4(31−()
−キナヅリノン誘導体: (ここで、R2及びR3は一般式(1)の場合と同義。
)と、R,−So□−(J  (ここで1、R,は−形
式(I)の場合と同義。) で表わされる有機スルホン酸クロリドと、を脱塩化水素
剤共存下、脱塩化水素縮合反応させることにより合成す
ることができる。本反応は、脱塩化水素剤共存下であれ
ば、水溶媒中、有JRi8媒中いずれでも進行する。
本発明の一般式(If)で示される化合物は、N−ヒト
oキシー2−アミノベンズアミド化合物ジアゾ化するこ
とにより合成される下記−形式(IX)で示される化合
物(ここで、R4は一般式(II)の場合と同義。)と
R,−3o□−C70(ここで、R3は一般式(II)
の場合と同義。)を−形式(1)の場合と同様に反応さ
せることにより合成することができる。
一般式([Il)で示される化合物は、E、E、Smi
Smlssら著、Journal of Organi
c Chemistry、Vol、  37.1847
〜1849ページ(1972)に記載の方法、H,E、
Baumgartenら著、Journal of O
rganicChemistry、Vol、 30.1
203〜1206ページ(1965)に記載の方法、S
、 A、!、tartlin ら著、Journal 
of Chemical 5ociety、Perki
n I、  2481〜2487ページ(1979)に
記載の方法、あるいはP、 G、 Mattingly
 ら著、Journal of OrganicChe
mistry、Vol、 45.410〜415ページ
(1980)に記載の方法などに従い合成される一般式
(VI) (ここで、R4およびR3は一般式(II[)の場合と
同義) で表わされる化合物と、R,−3Q2−Cβ (ここで
、R9は一般式(III)の場合と同義。)で表わされ
る有機スルホン酸クロリドとを上記と同様に反応させる
ことにより合成することができる。
−形式(TV)で示される化合物は、G、 C,Den
ser。
Jr、  ら著、Journal of Organi
c Chemistry、  31.3418〜341
9 (1966)記載の方法、T、 P、 Hildi
tch著、Journal of Chemical 
5ociety。
エユ、1524〜1527 (1908)記載の方法、
あるいはO,Hinsberg著、Berichte 
derDeutschen  Chemischen 
 Ge5e!1schafL、49.2593〜259
4 (1916)記載の方法等にしたがい合成できる。
即ち、硫酸水溶液中において、硫酸コバルト([)を用
い、−FIQ式(■)で示されるスルフィン酸より合成
する方法、キサントゲン酸エチルを用い、−1’Q式(
■)で示されるスルホン酸クロリドより合成する方法、
あるいは塩基性条件下、−形式(■)で示されるスルフ
ィン酸と一般式(〜1)で示されるスルホン酸クロリド
を反応させ合成する方法等があげられる。
Ar、−3O211(■) Arz−5OzCj2        <’+x>(こ
こで、Ar、及びArzは一般式(IV)で定義された
Ar、及びAr2と同一の意味である。)以下に本発明
に使用される一般式(1)、([I)(III)及び(
TV)で示される具体的な化合物を例示する。
(■ (I (■ l) (■ (■ (■ (■ (II −3) (II −4) (II −5) (■ (III−5) (■ (I[I −7) (■ (■ (■ (III−14) (■ ■) (rV−2) (DI−10) (■ (■ (IV−3) (IV−4) (IV−5) (IV−6) <1’/−7) CHi (TV−8) Ox (■ (■ (■ < IV −15) (1”/−10) (■−11) (IV −12) (IV−16) C’1I2 (IV −17) 一殴式(1)、(II)、(III)又は(IV)で示
される化合物の感光性組成物中の含量は、感光性 組成物の全固型分に対し、 1〜70重量%、 好ま しくは3〜50重量%、 更に好ましくは5〜40 重量%の範囲である。
(アルカリ可溶性ポリマー) 本発明に使用されるアルカリ可溶性ポリマーは、好まし
くはフェノール性水酸基、カルボンaL、スルホンHG
、イミド基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド
基、N−スルホニルウレタン基、活性メチレン基等のp
Ka11以下の酸性水素原子を有するポリマーである。
好適なアルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラック型
フェノール樹脂、具体的にはフェノール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、0−タレゾール−ホルムアルデヒドM脂、m
−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、p−タレゾール
−ホルムアルデヒド樹脂、またこれらの共縮合物などが
ある。更に、特開昭50125806号公弗に記されて
いるように、上記のようなフェノール樹脂と共に、t−
ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数
3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用すると、
−N好ましい。また、N−(4−ヒドロキシフェニル)
メタクリルアミドのようなフェノール性ヒドロキシ基含
有モノマーを共重合成分とするポリマー、p−ヒドロキ
シスチレンのポリマーも使用できる。
また、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含
有上ツマ−を共重合成分とするポリマー特開昭61−2
67042号公報記載のカルボキシル基含有ポリビニル
アセクール樹脂、特開昭63−124047号公報記載
のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用さ
れる。
更に、N−(4−スルファモイルフェニル)メタクリル
アミド、N−フェニルスルホニルメタクリルアミド、マ
レイミドを共重合成分とするポリマー、特開昭63−1
27237号公報記載の活性メチレン基含有ポリマーも
使用できる。
これらのアルカリ可溶性ポリマーは単一で使用できるが
、数種の混合物として使用してもよい。
感光性組成物中の含量は、感光性組成物全固型分に対し
、30〜99重量%、好ましくは50〜97重量%の範
囲である。
(その他の好ましい成分) 本発明のポジ型怒光性組成物には、必要に応じて染料、
顔料、可塑剤及び−船人(1)、(II)、(III)
又は(IV)の化合物の光分解を増大させる化合物(所
謂、増感剤)などを含有させることができる。
このような増感剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、9−フルオ
レノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−
9−フルオレノン、9−アントロン、2−プロモー9−
アントロン、2−エチル−9−アントロン、9.10−
アントラキノン、2−エチル−9,10−アントラキノ
ン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2゜
6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン
、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、チ
オキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(
ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメ
チルアミノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ヘン
シフエノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(
またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノン、ヘンズアントロンなどを挙げることができ
る。これらの化合物のうち、ミヒラーケトンを用いた場
合が特に好ましい。
さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公
昭51−48516号公報中に記載されている下記−船
人(IX)で表わされる化合物があげられる。
式中、R6はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
、プロピル基など)、又は置換アルキル基(例えば、2
−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カルボ
キシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表わす
R7はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)
、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロ
キシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表わ
す。
Zは通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核
を形成するのに必要な非金属原子群、例えばベンゾチア
ゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾ
ール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチア
ゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾー
ルなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール
、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メドキシベンゾ
セレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフ
トセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベン
ゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチルベ
ンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾールな
ど)、ナフトオキサゾール類(ct−ナフトオキサゾー
ル、β−ナフトオキサゾールなど)を表わす。
−flQ式(IX)で表わされる化合物の具体例として
は、これらZ、R4およびR7を組合せた化学構造を有
するものであり、多くのものが公知物質として存在する
。従って、これら公知のものから適宜選択して使用する
ことができる。
更に、本発明における好ましい増感剤としては、米国特
許筒4,062,686号記載の増悪剤、例えば2−〔
ビス(2−フロイル)メチレン〕−3−メチルベンゾチ
アゾリン、2−〔ビス(2−チノイル)メチレン〕−3
−メチルベンゾチアゾリン、2〔ビス(2−フロイル)
メチレンツー3−メチルナフト(1,2−d)チアゾリ
ンなどが挙げられる。
これらの増悪剤と一般式(1)、(11)、(III)
又は(■)の化合物との割合は、モル比で0.01/1
〜5/1であり、好ましくは0.1/1〜2/1の範囲
である。
着色剤として染料を用いることができるが、好適な染料
としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体的には
、オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブ
ルーBO5,オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(
以上、オリエント化学工業株式会社製)クリスタルバイ
オレフト(CI42555)、メチルバイオレフト(C
I42535)、ローダミンB(CI45170B)、
マラカイトグリーン(C142000)、メチレンブル
ー(CI52015)などをあげることができる。
本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し2剤、
その他のフィラーなどを加えることができる。環状酸無
水物としては米国特許筒4.115.128号明細書に
記載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水
フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−ニンド
オキシーΔ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロ
ル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン
酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、ピロ
メリット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成物
中の1から15重量%含有させることによって感度を最
大3倍程度に高めることができる。露光後直ちに可視像
を得るための焼出し剤としては露光によって酸を放出す
る感光性化合物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代
表としてあげることができる。具体的には特開昭50−
36209号公報、特開昭53−8128号公報に記載
されている0−ナフトキノンジアジド−4スルホン酸ハ
ロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや特開昭53−3
6223号公報、特開昭54−74728号公報に記載
されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の
組合せをあげることができる。
(溶 媒) 本発明のポジ型怒光性組成物は、上記各成分を溶解する
溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン
、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロ
パツール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1
−メトキシ2−プロパツール、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、■−
メトキシー2−プロピルアセテート、乳酸メチル、乳酸
エチル、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメ
チルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブ
チロラクトン、トルエン、酢酸エチルなどがあり、これ
らの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そして上記
成分中の濃度(添加物を含む全固形分)は4.2〜50
重量%である。また、塗布量は用途により異なるが、例
えば感光性平版印刷版についていえば一般的に固形分と
して0.5〜3.0g/n(が好ましい。塗布量が少く
なるにつれて感光性は大になるが、感光膜の物性は低下
する。
(平版印刷版等の製造) 本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば、紙、プラスチ
ックス(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)がラミネートされた紙、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよ
うな金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネ
ート、もしくは蒸着された祇もしくはプラスチックフィ
ルムなどが含まれる。これらの支持体のうち、アルミニ
ウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価である
ので特に好ましい。更に、特開昭48−18327号公
報に記されているようなポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シー
トも好ましい。アルミニウム板の表面はワイヤブラシグ
レイニング、で研磨粒子のスラリーを注ぎながらナイロ
ンブラシ粗面化するブラシグレイニング、ボールグレイ
ニング、液体ホーニングによるグレイニング、バフグレ
イニング等の機械的方法、HFやAlC1,、)ICβ
をエッチャントとするケミカルグレイニング、硝酸又は
塩酸を電解液とする電解グレイニングやこれらの粗面化
法を複合させて行なった複合グレイニングによって表面
を砂目立てした後、必要に応じて酸又はアルカリにより
工・7チング処理され、引続き硫酸、リン酸、蓚酸、ホ
ウ酸、クロム酸、フルファミン酸またはこれらの混酸中
で直流または交流電源にて陽極酸化を行いアルミニウム
表面に強固な不動態皮膜を設けたものが好ましい。この
様な不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水化されて
しまうが、更に必要に応じて米国特許箱2.714,0
66号明細書や米国特許箱3,181.461号明細書
に記載されている珪酸塩処理(ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム)、米国特許箱2,946,638号明細書
に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米
国特許箱3,201,247号明細書に記載されている
ホスホモリズデート処理、英国特許第1,108,55
9号明細書に記載されているアルキルチタネート処理、
独国特許第1,091,433号明細書に記載されてい
るポリアクリル酸処理、独国特許第1.134,093
号明細書や英国特許第1,230,447号明細書に記
載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−
6409号公報に記載されているホスホン酸処理、米国
特許箱3,307,951号明細書に記載されているフ
ィチン酸処理、特開昭5816893号や特開昭58−
18291号の各公報に記載されている親水性有機高分
子化合物と2価の金属よりなる複合処理、特開昭59−
101651号公報に記載されているスルホン酸基を有
する水溶性重合体の下塗によって親水化処理を行ったも
のは特に好ましい。その他の親水化処理方法としては米
国特許箱3,658,662号明細書に記載されている
シリケート電着をもあげることが出来る。
また、砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したも
のも好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は有
機塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによっ
て行われる。
(活性光線) 本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。フォトレジス
ト用の光源として、g線(436nmの単色光)、i線
(365nmの単色光)、Deep −UV光が使用さ
れる。また、高密度エネルギービーム(レーザービーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・
ネオンレーザ−、アルゴンレーザー、クリプトンイオン
l/−ザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエ
キシマ−レーザーなどが挙げられる。
(現像液) 本発明のポジ型感光性組成物に対する現(&液としては
、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウ
ム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、
第ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤
、及びテトラアルキルアンモニウムOH塩などのような
有機アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が
0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%にな
るよう添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
〔実施例〕
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
合成例1 2−メチル−3−エタンスルホニルオキシ−4(3H)
−キナゾリノン(化合物例(I−1)の合成: ヒドロキシルアミン塩酸塩11.8gを水20mlに溶
解させ、これに20重量%水酸化ナトリウム水溶液65
mjl!を加えた。この溶液の5Qm#をN−アセチル
アントラニル酸メチルエステル9.7gをメタノール4
0m2に溶解させた溶液に加え、室温にて48時間攪拌
した。減圧下にて溶媒を除去させた後、水100m6を
加え溶解させ、これに4塩酸5 mlを加え析出した結
晶を濾葉し、エタノール、水混合溶媒より再結晶化し、
2−メチル−3−ヒドロキシ−4(3H)−キナゾリノ
ン7.5gを得た。
2−メチル−3−ヒドロキシ−4(3H)−キナゾリノ
ン4.2gおよびエタンスルホニルクロリド3.・1g
をアセトン50mf中に加え、撹拌しながら液温を0〜
20°Cに保ちつつトリエチルアミン2.8gを滴下し
た。さらに、20〜30℃にて3時間撹拌を続けた後、
減圧下にて溶媒を除去した。残留物に水100IIll
を加え沈殿物を濾葉し、エタノール、ベンゼン混合溶媒
より再結晶化し、2−メチル−3−エタンスルホニルオ
キシ−4(3H)−キナゾリノン5.0g(融点111
〜112℃)を得た。
合成例2 2−フェニル−3−(p−トルエンスルホニルオキシ)
−4(3H)−キナゾリノン(化合物例(1−6)の合
成: ヒドロキシルアミン塩酸塩7.0gを水10+++j+
に溶解させ、これに20重量%水酸化ナトリウム水溶液
40m1を加えこの溶液の30mffをNベンヅイルア
ントラニル酸メチルエステル7.7gのメタノール25
m2に溶解させた溶液に添加し、室温にて攪拌し、反応
を3時間続けた。生成した沈殿を濾葉しこれを水50m
Aに溶解させた後、濃塩酸5 mlを加え生成した沈殿
を濾葉した。エタノール100fflNより再結晶化し
、2−フェニル−3−ヒドロキシ−4(3)1)−キナ
ゾリノン5.5gを得た。
炭酸ナトリウム1.9gを水30mj!に溶解させた溶
液に2−フェニル−3−ヒドロキシ−4(3H)−キナ
ゾリノン1.9gを加え、5〜15℃に冷却しながらp
−t−ルエンスルホニルクロリド3.0gを添加した。
添加後、反応温度15〜30℃にて5時間攪拌を続は生
成した沈殿物を濾葉した。ヘキサン80ffllにて沈
殿物を洗浄した後、ベンゼン、エタノール混合溶媒より
再結晶化し、2−フェニル−3−(p −トルエンスル
ホニルオキシ)−4(3H)−キナゾリノン2.5g(
融点169〜170℃)を得た。
合成例3 o−(4−クロロベンゼンスルホニル)−N−ラウロイ
ル−N−メチルヒドロキシルアミン(化合物例(II[
−3)の合成: N−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩10.0 gにテ
トラヒドロフラン100m1を加え、更にピリジン19
.0 gを加えて室温にて攪拌しながらラウリル酸クロ
リド26.2 gをテトラヒドロフラン100mfに溶
解させた溶液を1時間で滴下した。
更に、室温にて反応を8時間続けた。希塩酸50m1を
加えた後に減圧下にてテトラヒドロフランを除去した。
酢酸エチルにより抽出後、酢酸エチルを減圧下に除去し
て粗生成物を得た。粗生成物をヘキサンより再結晶化し
、N−ラウロイル−N−メチルヒドロキシルアミン10
.6 gを得た(融点48〜49℃)。
N−ラウロイル−N−メチルヒドロキシルアミン9.2
g及び4−クロロベンゼンスルホニルロリド8.4gに
テトラヒドロフラン100m1を加え、攪拌しながらト
リエチルアミン4.1gをテトラヒドロフラン20ca
lに溶解させた溶液を反応液が25℃以上にならぬよう
冷却しながら2時間で滴下した。15℃〜25℃にてさ
らに2時間反応させた後、反応液を水500m#に加え
生成した沈殿を濾葉した。エタノールより再結晶化し、
0−(4−クロロベンゼンスルホニル)−N−ラウロイ
ル−N−メチルヒドロキシルアミン10.0 gを得た
合成例4 o−(1−ナフタレンスルホニル)−N−ベンゾイル−
N−メチルヒドロキシルアミン(化合物例(III−5
)の合成: N−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩10.0 gにテ
トラヒドロフラン100 mβに投入し、これにピリジ
ン19.8 gを加えた。これを室温にて攪拌しながら
ベンゾイルクロリド16.8 gをテトラヒドロフラン
100mj’に溶解させた溶液を1時間で滴下した。更
に、室温にて攪拌を8時間続けて反応を進めた。希塩酸
を50m1加えた後に減圧下にてテトラヒドロフランを
除去し、酢酸エチルにより抽出を行なった。抽出液を無
水硫酸マグネシウムにより脱水した後、減圧下に酢酸エ
チルを除去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグ
ラフ(充填剤ニジリカゲル。展開液:酢酸エチル、ヘキ
サン)により精製し、N−ベンゾイル−N−メチルヒド
ロキシルアミン(融点20℃以下のオイル)8.5gを
得た。N−ベンゾイル−Nメチルヒドロキシルアミン7
.6gおよび1−ナフタレンスルホニルクロリド11.
3gにテトラヒドロフラン130mEを加え、攪拌しな
がらトリエチルアミン5.1gをテトラヒドロフラン2
0o+Aに溶解させた溶液を反応液が25℃以上になら
ぬよう冷却しながら2時間で滴下した。15℃〜25℃
にてさらに2時間反応させた後反応液を水700mAに
投入し、生成する沈殿を濾葉した。
アセトニトリルより再結晶化し、0−(1−ナフタレン
スルホニル)−N−ベンゾイル−N−メチルヒドロキシ
ルアミン9.5gを得た。
合成例5 ジ−p−クロロフエニルジスルホン(化合物例(IV−
2)の合成: 亜硫酸ナトリウム189gを水600mj!に溶解させ
60〜70℃に加温し、p−クロロベンゼンスルホニル
クロリド63gを添加した後、50〜60℃にて5時間
反応させた。不溶解物を濾別した後反応液を室温に戻し
濃塩酸を加え反応系を酸性にした。析出した沈殿物を濾
葉しp−クロロベンゼンスルフィン酸52gを得た。
p−クロロベンゼンスルフィン酸8.8gに水15m1
を加えこれに水酸化ナトリウム2gを水5Illに溶解
させた溶液を加えた。この溶液を室温にて攪拌しなから
アセトニトリル20m1にp−クロロベンゼンスルホニ
ルクロリド10.6gを溶解させた溶液を加え室温にて
さらに24時間攪拌反応させた。反応液を水300mj
!に注入し沈殿物を濾葉し、ベンゼン、エタノール混合
溶媒より再結晶化し、ジ−p−クロロフエニルジスルホ
ン3.0gを得た(融点193〜195℃)。
合成例6 l−(4−エトキシ)−ナフチル−p−クロロフエニル
ジスルホン(化合’111 (IV−13) ノ合成: 4−ヒドロキシ−1−ナフタレンスルホン酸ナトリウム
49.2 gと水酸化ナトリウム16.0 gを水15
0 ff+j!に溶かし、室温にて攪拌しながらジエチ
ル硫酸30.8 gを滴下し、更に40〜50℃にて2
時間反応させた。室温に戻した後塩化ナトリウム40g
を添加し、析出した沈殿を濾葉し4エトキシ−1−ナフ
タレンスルホン酸ナトリウム40gを得た。
オキシ塩化リン50gに五塩化リン25gを加え攪拌し
なから4−エトキシ−1−ナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム27.4 gを添加し、100〜110℃にて6時
間反応させた。室温に戻した後、氷水中に注入し得られ
る沈殿を濾葉し4−エトキシ−1りナフタレンスルホン
酸クロリド20gを得た。
合成例5において合成したp−クロロベンゼンスルフィ
ン66.2 gを水30m1に加え攪拌しながら炭酸ナ
トリウム1.5gを水10m!!に溶かした溶液を加え
、更に4−エトキシ−1−ナフタレンスルホン酸クロリ
ド8.1gを1.4−ジオキサン30III!に溶かし
た溶液を滴下した後室温にて24時間攪拌反応させた。
水200mffを投入した後沈殿物を濾葉し、ベンゼン
、エタノール混合溶媒より再結晶化し1−(4−エトキ
シ)ナフチル−p−クロロフエニルジスルホン2.5g
を得た(融点104〜106℃)。
合成例7 化合物例(II−4)の合成: N−ヒドロキシ−2−アミノベンズアミド26g及び3
5%塩酸45m1の水800nv水溶液に亜硝酸ナトリ
ウム12.5 gの水120n+4’溶液を50℃で、
添加し、その後室温下撹拌を続けた。
析出した固体を濾過し、メタノールで再結晶する得た。
これをTHF150mji!にt容解し、トリエチルア
ミン12.2 gを加えた。この溶液に10℃でベンゼ
ンスルホニルクロリド21.4 gを滴下し、更に室温
下1時間撹拌した。その後、酢酸エチル500mJを加
え、水で洗浄した後、Na5Onで酢酸エチル溶液を乾
燥した。酢酸エチル溶液を濃縮乾固させて得られた白色
固体を再度アセトンに溶解し、水4Nに攪拌上投入する
ことにより、化合物例(II−4) 、26.1 gが
得られた。
実施例1〜5 厚さ0.24 mmの28アルミニウム板を80℃に保
った第三燐酸す) IJウムの10%水溶液に3分間浸
漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、アル
ミン酸ナトリウムで約10分間エツチングして、硫酸水
素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行った。こ
のアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A/dm
tにおいて2分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作成
した。
次に下記感光?fl(A)で使用される本発明の一般式
で表わされる化合物の種類を変えて、5種類の感光液(
A)−1〜(A)−5を調製し、この感光液を陽極酸化
されたアルミニウム板の上に塗布L、100℃で2分間
乾燥して、それぞれの感光性平版印刷版(A)−1〜[
A)−5を作成した。このときの塗布量は全て乾燥重量
で1.5 g / mであった。
感光液(A) 感光液(A)−1〜(A)−5に用いた本発明の化合物
を表−1に示す。
表−1 の種類を変えて、3種類の感光液(A)−6〜(A)−
8を調製し、実施例1〜5と同様にして感光性平版印刷
版(A)−6〜(A)−8を作成した。このときの塗布
量は全て乾燥重量で1.5g/rrlであった。
感光液(B) 感光性平版印刷版(A)−1〜[A)−5の怒光層上に
濃度差0.15のグレースケールを密着させ、2KWの
高圧水銀灯で50cmの距離から2分間露光を行った。
露光した感光性平版印刷版(A)−1〜(A)−5をD
P−4(商品名:富士写真フィルム■製)の8希釈水溶
液で25°Cにおいて60秒間浸漬現像したところ、鮮
明な青色のポジ画像が得られた。
実施例6〜8 実施例1〜5で作成したアルミニウム板に、感光液[A
)の本発明の一般式で表わされる化合物感光液(A)−
6〜(A)−8に用いた本発明の化合物を表−2に示す
次に感光液(A)−6〜(A)−8に増感剤としてエチ
ルミヒラーケトン(4,4’−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン)を添加した感光液CB3を用い、同様
に感光性平版印刷版〔B〕−6〜CB)−8を作成した
。塗布量は回れも乾燥重量で1.5g/m’であった。
感光性平版印刷版[A)−6〜〔、へ〕−8、及び(B
)−6〜I:B)−8を実施例1〜5と同様にして、露
光、現像したところ、何れも鮮明な青色のポジ画像を形
成した。ここで、感光性平版印刷版[Al−6〜CA〕
−8とCB)−6〜CB〕8の相対感度比を得られたグ
レースケールのクリア一部の段数から算出すると、表−
2に示すとおりとなった。
表−2かられかるように、エチルミヒラーケトンを添加
することにより、感度は何れも大きく増加した。
表−2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )、(II)、(III)又は(IV)で表わ
    される化合物の少なくとも一種と、アルカリ可溶性ポリ
    マーとからなるポジ型感光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) Ar_1−SO_2−SO_2−Ar_2(IV)式中、
    R_1はアルキル基、置換アルキル基、アリール基又は
    置換アリール基を示す。R_2、R_4及びR_5は各
    々同一でも相異していてもよい、アルキル基、置換アル
    キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基
    又は置換アリール基を示す。R_3は水素原子、アルキ
    ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
    ハロゲン原子又はアルコキシ基を示す。Ar_1及びA
    r_2は各々同一でも相異していてもよい、アリール基
    又は置換アリール基を示す。nは0又は1〜4の整数を
    示す。
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