JPH0344644A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPH0344644A JPH0344644A JP1180738A JP18073889A JPH0344644A JP H0344644 A JPH0344644 A JP H0344644A JP 1180738 A JP1180738 A JP 1180738A JP 18073889 A JP18073889 A JP 18073889A JP H0344644 A JPH0344644 A JP H0344644A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkyl
- tables
- formulas
- aryl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 40
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 30
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- -1 diene compound Chemical class 0.000 claims description 77
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 19
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 abstract 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 abstract 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 35
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 17
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 5
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BUXKULRFRATXSI-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypyrrole-2,5-dione Chemical compound ON1C(=O)C=CC1=O BUXKULRFRATXSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC=CC1=O WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVZCOQQFPCMIPO-UHFFFAOYSA-N 2-Methoxyxanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(OC)=CC=C3OC2=C1 DVZCOQQFPCMIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 2
- KFOZNPPBKHYHQD-UHFFFAOYSA-N ethenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C=C KFOZNPPBKHYHQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- DDSSLJHUWRMSSP-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-methylbenzamide Chemical compound CN(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 DDSSLJHUWRMSSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005649 substituted arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N tetraazanium;phosphonato phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000183 1,3-benzoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- CRGSUAQLKYRWDA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]-3-(4-methylphenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C=CC1=CC=C(C)C=C1 CRGSUAQLKYRWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- RBPGISZOPGTNMV-UHFFFAOYSA-N 2-chlorofluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C2=C1 RBPGISZOPGTNMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHTIRPSWNPNDDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-10h-anthracen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3CC2=C1 JHTIRPSWNPNDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004204 2-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXXOMIPLRDTZCC-UHFFFAOYSA-N 2-methylfluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C2=C1 KXXOMIPLRDTZCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHSVIYYROIHDN-UHFFFAOYSA-N 2-methylxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3OC2=C1 UWHSVIYYROIHDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 3-chlorofuran-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)OC1=O CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REWLXMVGEZMKSG-UHFFFAOYSA-N 3-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC(O)=C1 REWLXMVGEZMKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- 125000004801 4-cyanophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(C#N)=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoselenazole Chemical compound ClC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTSFYTDPSSFCLU-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=C2SC=NC2=C1 YTSFYTDPSSFCLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzoxazole Chemical compound CC1=CC=C2OC=NC2=C1 UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C=1C=C2OC=NC2=CC=1C1=CC=CC=C1 NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBQGOMAISTKSR-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=C2N=CSC2=C1 AIBQGOMAISTKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 7-benzo[a]phenalenone Chemical compound C1=CC(C(=O)C=2C3=CC=CC=2)=C2C3=CC=CC2=C1 HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000710187 Conus radiatus Conantokin-R Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005698 Diels-Alder reaction Methods 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical group CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine hydrochloride Chemical compound Cl.ON WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N N=S(=O)=O Chemical group N=S(=O)=O QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N [(1-diazonioimino-3,4-dioxonaphthalen-2-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound C1=CC=C2C(=N[N+]#N)C(=NN=[N-])C(=O)C(=O)C2=C1 ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N [4-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZKBNUGBJQTESV-UHFFFAOYSA-N [nitro(phenoxy)methyl]benzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C([N+](=O)[O-])OC1=CC=CC=C1 ZZKBNUGBJQTESV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- ZXKINMCYCKHYFR-UHFFFAOYSA-N aminooxidanide Chemical compound [O-]N ZXKINMCYCKHYFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- RDVQTQJAUFDLFA-UHFFFAOYSA-N cadmium Chemical compound [Cd][Cd][Cd][Cd][Cd][Cd][Cd][Cd][Cd] RDVQTQJAUFDLFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000006849 chlorophenylene group Chemical group 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Chemical group 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical group 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- AOCYHPQXGJBAQQ-UHFFFAOYSA-N ethyl n-sulfonylcarbamate Chemical group CCOC(=O)N=S(=O)=O AOCYHPQXGJBAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RGZRSLKIOCHTSI-UHFFFAOYSA-N hydron;n-methylhydroxylamine;chloride Chemical compound Cl.CNO RGZRSLKIOCHTSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical group 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMHYSJPEMLTPD-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2,3-diphenylprop-2-enamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C(=O)N(C)C)=CC1=CC=CC=C1 LZMHYSJPEMLTPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQAWGTOHYUGFGZ-UHFFFAOYSA-N n-(benzenesulfonyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 NQAWGTOHYUGFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M sodium bisulfate Chemical compound [Na+].OS([O-])(=O)=O WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000342 sodium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005106 triarylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、更には半導体素子の集積回
路を製造する際に微細なレジストパターンを形成するこ
とが可能なポジ型感光性組成物に関する。
ッドプロジェクタ−用図面、更には半導体素子の集積回
路を製造する際に微細なレジストパターンを形成するこ
とが可能なポジ型感光性組成物に関する。
[従来の技術]
平版印刷版等の用途において活性光線により可溶化する
、いわゆるポジチブに作用する感光性物質としては、従
来オルトキノンジアジド化合物が知られており、実際平
版印刷版等に広く利用されてきた。この2つなオルトキ
ノンジアジド化合物の例は、例えば米国特許第2.76
6.118号、同第2.767.092号、同第2.7
72.972号、同第2,859.112号、同第2,
907,665号、同第3.046.110号、同第3
.046.111号、同第3.046,115号、同第
3.046,118号、同第3.046.119号、同
第3.046.120号、同第3,046,121号、
同第3,046,122号、同第3,046,123号
、同第3.061.430号、同第3,102,809
号、同第3.106,465号、同第3,635,70
9号、同第3.647.443号の各明細書をはじめ、
多数の刊行物に記されている。
、いわゆるポジチブに作用する感光性物質としては、従
来オルトキノンジアジド化合物が知られており、実際平
版印刷版等に広く利用されてきた。この2つなオルトキ
ノンジアジド化合物の例は、例えば米国特許第2.76
6.118号、同第2.767.092号、同第2.7
72.972号、同第2,859.112号、同第2,
907,665号、同第3.046.110号、同第3
.046.111号、同第3.046,115号、同第
3.046,118号、同第3.046.119号、同
第3.046.120号、同第3,046,121号、
同第3,046,122号、同第3,046,123号
、同第3.061.430号、同第3,102,809
号、同第3.106,465号、同第3,635,70
9号、同第3.647.443号の各明細書をはじめ、
多数の刊行物に記されている。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となる性質が利用されるものであるが、い
ずれも感光性が不十分であるという欠点を有する。これ
は、オルトキノンジアジド化合物の場合、光化学的な増
感が困難であり、本質的に量子収率が1を越えないとい
うことに由来するものである。また、感光波長が限定さ
れるため、使用できる光源の範囲が限定され、光源適性
に対する許容度が小さい。このため、白燈下での長時間
の使用が困難であり、白燈安全性に欠ける。更に、約2
00〜300nmのDee−UV領域での吸収が大きい
ため、低波長光の使用によるフォトレジストの解像力向
上を目的とした用途には適さないなど問題となっていた
。
射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となる性質が利用されるものであるが、い
ずれも感光性が不十分であるという欠点を有する。これ
は、オルトキノンジアジド化合物の場合、光化学的な増
感が困難であり、本質的に量子収率が1を越えないとい
うことに由来するものである。また、感光波長が限定さ
れるため、使用できる光源の範囲が限定され、光源適性
に対する許容度が小さい。このため、白燈下での長時間
の使用が困難であり、白燈安全性に欠ける。更に、約2
00〜300nmのDee−UV領域での吸収が大きい
ため、低波長光の使用によるフォトレジストの解像力向
上を目的とした用途には適さないなど問題となっていた
。
そのため、オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組
成物の感光性を高める方法については、今までいろいろ
と試みられてきたが、現像時の現像許容性を保持したま
ま感光性を高めることは非常に困難であった。例えば、
このような試みの例は、特公昭48−12242号、特
開昭52−40125号、米国特許第4,307,17
3号などの公報及び明細書に記載されている。
成物の感光性を高める方法については、今までいろいろ
と試みられてきたが、現像時の現像許容性を保持したま
ま感光性を高めることは非常に困難であった。例えば、
このような試みの例は、特公昭48−12242号、特
開昭52−40125号、米国特許第4,307,17
3号などの公報及び明細書に記載されている。
また、最近オルトキノンジアジド化合物を用いずにボジ
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号公報に記載されているオルトニトロカルビノ
ールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられる。
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号公報に記載されているオルトニトロカルビノ
ールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられる。
しかしながら、この場合も、オルトキノンジアジドの場
合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。更に、特開
昭60−260942号及び同62−35404号の各
公報に記載されている露光によりスルホン酸を発生する
化合物を挙げることができる。しかしながら、これらの
化合物は合成が困難であるなど問題となっていた。
合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。更に、特開
昭60−260942号及び同62−35404号の各
公報に記載されている露光によりスルホン酸を発生する
化合物を挙げることができる。しかしながら、これらの
化合物は合成が困難であるなど問題となっていた。
一方、半導体素子、磁気バブルメモリ、集積回路等の電
子部品を製造するためのパターン形成法としては、従来
より、紫外線又は可視光線に感光するフォトレジストを
利用する方法が幅広く実用に供されている。フォトレジ
ストには、光照射により被照射部が現像液に不溶化する
ネガ型と、反対に可溶化するポジ型とがあるが、ネガ型
はポジ型に比べて感度が良く、湿式エツチングに必要な
基板との接着性および耐薬品性にも優れていることから
、近年までフォトレジストの主流を占めていた。しかし
、半導体素子等の高密度化、高集積化に伴ない、パター
ンの線幅や間隔が極めて小さくなり、また、基板のエツ
チングにはドライエツチングが採用されるようになった
ことから、フォトレジストには高解像度および高ドライ
エツチング耐性が望まれるようになり、現在ではポジ型
フォトレジストが大部分を占めるようになった。特に、
ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像度、ドライ
エツチング耐性に優れることから、例えばジェー・シー
・ストリエータ著、コダック・マイクロエレクトロニク
ス・セミナー・ブロシーデインダス、第116頁(I9
76年> (J、 C。
子部品を製造するためのパターン形成法としては、従来
より、紫外線又は可視光線に感光するフォトレジストを
利用する方法が幅広く実用に供されている。フォトレジ
ストには、光照射により被照射部が現像液に不溶化する
ネガ型と、反対に可溶化するポジ型とがあるが、ネガ型
はポジ型に比べて感度が良く、湿式エツチングに必要な
基板との接着性および耐薬品性にも優れていることから
、近年までフォトレジストの主流を占めていた。しかし
、半導体素子等の高密度化、高集積化に伴ない、パター
ンの線幅や間隔が極めて小さくなり、また、基板のエツ
チングにはドライエツチングが採用されるようになった
ことから、フォトレジストには高解像度および高ドライ
エツチング耐性が望まれるようになり、現在ではポジ型
フォトレジストが大部分を占めるようになった。特に、
ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像度、ドライ
エツチング耐性に優れることから、例えばジェー・シー
・ストリエータ著、コダック・マイクロエレクトロニク
ス・セミナー・ブロシーデインダス、第116頁(I9
76年> (J、 C。
5trieter、 Kodak Microelec
tronics SeminarProceeding
s 、 116 (I976) )等に挙げられる
、アルカリ可溶性のノボラック樹脂をベースにしたアル
カリ現像型のポジ型フォトレジストが現行プロセスの主
流となっている。
tronics SeminarProceeding
s 、 116 (I976) )等に挙げられる
、アルカリ可溶性のノボラック樹脂をベースにしたアル
カリ現像型のポジ型フォトレジストが現行プロセスの主
流となっている。
しかしながら、近年電子機器の多機能化、高度化に伴な
い、更に高密度、ならびに高集積化を図るべくパターン
の微細化が強く要請されている。
い、更に高密度、ならびに高集積化を図るべくパターン
の微細化が強く要請されている。
即ち、集積回路の横方向の寸法の縮小に比べてその縦方
向の寸法はあまり縮小されていかないために、レジスト
パターンの幅に対する高さの比は大きくならざるを得な
かった。このため、複雑な段差構造を有するウェハー上
でレジストパターンの寸法変化を押さえていくことは、
パターンの微細化が進むにつれてより困難になってきた
。更に、各種の露光方式においても、最小寸法の縮小に
伴ない問題が生じてきている。例えば、光による露光で
は、基板の段差に基づく反射光の干渉作用が、寸法精度
に大きな影響を与えるようになり、一方電子ビーム露光
においては、電子の後方散乱によって生ずる近接効果に
より、微細なレジストパターンの高さと幅の比を大ぎく
することができなくなった。
向の寸法はあまり縮小されていかないために、レジスト
パターンの幅に対する高さの比は大きくならざるを得な
かった。このため、複雑な段差構造を有するウェハー上
でレジストパターンの寸法変化を押さえていくことは、
パターンの微細化が進むにつれてより困難になってきた
。更に、各種の露光方式においても、最小寸法の縮小に
伴ない問題が生じてきている。例えば、光による露光で
は、基板の段差に基づく反射光の干渉作用が、寸法精度
に大きな影響を与えるようになり、一方電子ビーム露光
においては、電子の後方散乱によって生ずる近接効果に
より、微細なレジストパターンの高さと幅の比を大ぎく
することができなくなった。
これらの多くの問題は多層レジストシステムを用いるこ
とにより解消されることが見出された。
とにより解消されることが見出された。
多層レジストシステムについては、ソリッドステート・
テクノロジー、74 (I981)[5olid 5
tate Technology 、 74 (I9
81) ]に概説が掲載されているが、この他にもこの
システムに関する多くの研究が発表されている。−船釣
に多層レジスト法には3層レジスト法と2層レジスト法
がある。3層レジスト法は、段差基板上に有機平坦化膜
を塗布し、その上に、無機中間層、レジストと重ね、レ
ジストをバターニングした後、これをマスクとして無機
中間層をドライエツチングし、さらに、無機中間層をマ
スクとして有機平坦化膜をO□RI8(リアクティブイ
オンエツチング)によりバターニングする方法である。
テクノロジー、74 (I981)[5olid 5
tate Technology 、 74 (I9
81) ]に概説が掲載されているが、この他にもこの
システムに関する多くの研究が発表されている。−船釣
に多層レジスト法には3層レジスト法と2層レジスト法
がある。3層レジスト法は、段差基板上に有機平坦化膜
を塗布し、その上に、無機中間層、レジストと重ね、レ
ジストをバターニングした後、これをマスクとして無機
中間層をドライエツチングし、さらに、無機中間層をマ
スクとして有機平坦化膜をO□RI8(リアクティブイ
オンエツチング)によりバターニングする方法である。
この方法は、基本的には、従来からの技術が使用できる
ために、早くから検討が開始されたが、工程が非常に複
雑である、あるいは有、機膜、無機膜、有機膜と三層物
性の異なるものが重なるために中間層にクラックやピン
ホールが発生しやすいといったことが問題点になってい
る。この3層レジスト法に対して、2層レジスト法では
、3層レジスト法でのレジストと無機中間層の両方の性
質を兼ね備えたレジスト、すなわち、酸素プラズマ耐性
のあるレジストを用いるために、クラックやピンホール
の発生が抑えられ、また、3層法から2層になるので工
程が簡略化される。しかし、3層レジスト法では、上層
レジストに従来のレジストが使用できるのに対して、2
層レジスト法では、新たに酸素プラズマ耐性のあるレジ
ストを開発しなければな占ないという課題があった。
ために、早くから検討が開始されたが、工程が非常に複
雑である、あるいは有、機膜、無機膜、有機膜と三層物
性の異なるものが重なるために中間層にクラックやピン
ホールが発生しやすいといったことが問題点になってい
る。この3層レジスト法に対して、2層レジスト法では
、3層レジスト法でのレジストと無機中間層の両方の性
質を兼ね備えたレジスト、すなわち、酸素プラズマ耐性
のあるレジストを用いるために、クラックやピンホール
の発生が抑えられ、また、3層法から2層になるので工
程が簡略化される。しかし、3層レジスト法では、上層
レジストに従来のレジストが使用できるのに対して、2
層レジスト法では、新たに酸素プラズマ耐性のあるレジ
ストを開発しなければな占ないという課題があった。
以上の背景から、2層レジスト法等の上層レジストとし
て使用できる酸素プラズマ耐性に優れた、高感度、高解
像度のポジ型フォトレジスト、特に、現行プロセスを変
えることなく使用できるアルカリ現像方式のレジストの
開発が望まれていた。
て使用できる酸素プラズマ耐性に優れた、高感度、高解
像度のポジ型フォトレジスト、特に、現行プロセスを変
えることなく使用できるアルカリ現像方式のレジストの
開発が望まれていた。
これに対し、従来のオルトキノンジアジド感光物に、ア
ルカリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシル
メチレン等のシリコンポリマーを組合せた感光性組成物
、例えば特開昭61−144639号、同61−256
347号、同62−159141号、同62−1918
49号、同62−220949号、同62−22913
6号、同63−90534号、同63−91654号、
並びに米国特許第4722881号記載の感光性組成物
が提示されている。
ルカリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシル
メチレン等のシリコンポリマーを組合せた感光性組成物
、例えば特開昭61−144639号、同61−256
347号、同62−159141号、同62−1918
49号、同62−220949号、同62−22913
6号、同63−90534号、同63−91654号、
並びに米国特許第4722881号記載の感光性組成物
が提示されている。
しかしながら、これらのシリコンポリマーは何れもフェ
ノール性OH基又はシラノール基(esi−OH)導入
により、アルカリ可溶性を付与するもので、フェノール
性○H基導入によりアリカリ可溶性を付与する場合は、
製造が著しく困難となり、またシラノール基によりアル
カリ可溶性を付与する場合は経時安定性が必ずしも良好
ではない、という問題点があった。
ノール性OH基又はシラノール基(esi−OH)導入
により、アルカリ可溶性を付与するもので、フェノール
性○H基導入によりアリカリ可溶性を付与する場合は、
製造が著しく困難となり、またシラノール基によりアル
カリ可溶性を付与する場合は経時安定性が必ずしも良好
ではない、という問題点があった。
またオルトキノンジアジドを用いない系として、特開昭
62−136638号記載のポリシロキサン/カーボネ
ートのブロック共重合体に有効量のオニウム塩を組合せ
た感光性組成物更には特開昭63−146038号記載
のニトロベンジルフェニルエーテル基を有するシリコン
ポリマーが挙げられるが、これらは同じく製造が著しく
困難であり、露光部のアルカリ溶解性も十分ではなかっ
た。
62−136638号記載のポリシロキサン/カーボネ
ートのブロック共重合体に有効量のオニウム塩を組合せ
た感光性組成物更には特開昭63−146038号記載
のニトロベンジルフェニルエーテル基を有するシリコン
ポリマーが挙げられるが、これらは同じく製造が著しく
困難であり、露光部のアルカリ溶解性も十分ではなかっ
た。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は、上記問題点が解決された新規なポジ型
感光性組成物を提供することである。即ち、増感剤を使
用することにより感度を高めることのできる新規なポジ
型感光性組成物を提供することである。
感光性組成物を提供することである。即ち、増感剤を使
用することにより感度を高めることのできる新規なポジ
型感光性組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、白燈安全性にすぐれた新規なポジ
型感光性組成物を提供することである。
型感光性組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、酸素プラズマ耐性に優れた、アル
カリ現像方式によるポジ型感光性組成物を提供すること
である。
カリ現像方式によるポジ型感光性組成物を提供すること
である。
更に本発明の別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規なポジ型感光性組成物を提供することである。
る新規なポジ型感光性組成物を提供することである。
[課題を解決するための手段]
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果、新規なシロキサンポリマー組成物を見い出し、本発
明に到達した。
果、新規なシロキサンポリマー組成物を見い出し、本発
明に到達した。
即ち本発明は、下記一般式(I)又は(n)で表わされ
るジエン化合物と、一般式(III)、(rV)、又は
(V)で表わされるオレフィン又はアセチレン化合物と
の環状熱付加生成物から由来される構造単位を少なくと
も1モル%有するシロキサンポリマーを含有することを
特徴とするポジ型感光性組成物を提供するものである。
るジエン化合物と、一般式(III)、(rV)、又は
(V)で表わされるオレフィン又はアセチレン化合物と
の環状熱付加生成物から由来される構造単位を少なくと
も1モル%有するシロキサンポリマーを含有することを
特徴とするポジ型感光性組成物を提供するものである。
本発明は、更にアルカリ可溶性ポリマーを含有する上記
のポジ型感光性組成物を提供するものである。
のポジ型感光性組成物を提供するものである。
(III)
(IV)
式中R’−R’は同一でも相異していてもよく、水素原
子、アルキル、アリール、又はアルコキシ基を示し、好
ましくは水素原子、炭素数1〜10個の直鎮、分枝又は
環状アルキル、炭素数6〜15個の単環又は多環アリー
ル、炭素数1〜8個のアルコキシ基である。
子、アルキル、アリール、又はアルコキシ基を示し、好
ましくは水素原子、炭素数1〜10個の直鎮、分枝又は
環状アルキル、炭素数6〜15個の単環又は多環アリー
ル、炭素数1〜8個のアルコキシ基である。
R6〜R−9は同一でも相異していてもよく、水素原子
、ハロゲン原子、シアノ、カルボニル、アルキル、アリ
ール、アルコキシ基、−5L−R13−3O3−R13
−CD−R13−CD−NH−R13−COD−R”又
は−Y−Aを示し、好ましくは水素原子、塩素原子、シ
アノ、炭素数1〜6個の直鎮、分枝又は環状アルキル、
炭素数6〜lO個の単環又は多環アリール、又は炭素数
1〜6個のアルコキシ基、−SO□−R13−3O。
、ハロゲン原子、シアノ、カルボニル、アルキル、アリ
ール、アルコキシ基、−5L−R13−3O3−R13
−CD−R13−CD−NH−R13−COD−R”又
は−Y−Aを示し、好ましくは水素原子、塩素原子、シ
アノ、炭素数1〜6個の直鎮、分枝又は環状アルキル、
炭素数6〜lO個の単環又は多環アリール、又は炭素数
1〜6個のアルコキシ基、−SO□−R13−3O。
−R” −CO−R” −CD−NH−R” −
Con−R”又は−Y−Aであり、更に好ましくは水素
原子、−5O□−R13−3Q、−R′3−CO−R”
−CD−NH−R” −COO−R′3又は−Y
−八である。RIGはアルキル、又はアリール基を示し
、好ましくは炭素数1〜10個の直鎮、分枝又は環状ア
ルキル、炭素数6〜15個の単環又は多環アリール基を
示す。R11、R12は水素原子、アルキル又はアリー
ル基を示し、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4個の
直鎖又は分枝アルキル基を示す。またR6−R8及びY
の2つ、又はR11〜11112が結合して環を形成し
てもよい。Yは単結合、二価の芳香族又は脂肪族炭化水
素基を示し、好ましくは単結合、炭素数1〜4個の直鎮
又は分枝アルキレン、炭素数6〜10個の単環又は多環
アリーレン基を示す。またY中にケトン、エーテル、エ
ステル、アミド、ウレタン、ウレイドなどの基を含有し
てもよい。
Con−R”又は−Y−Aであり、更に好ましくは水素
原子、−5O□−R13−3Q、−R′3−CO−R”
−CD−NH−R” −COO−R′3又は−Y
−八である。RIGはアルキル、又はアリール基を示し
、好ましくは炭素数1〜10個の直鎮、分枝又は環状ア
ルキル、炭素数6〜15個の単環又は多環アリール基を
示す。R11、R12は水素原子、アルキル又はアリー
ル基を示し、好ましくは水素原子又は炭素数1〜4個の
直鎖又は分枝アルキル基を示す。またR6−R8及びY
の2つ、又はR11〜11112が結合して環を形成し
てもよい。Yは単結合、二価の芳香族又は脂肪族炭化水
素基を示し、好ましくは単結合、炭素数1〜4個の直鎮
又は分枝アルキレン、炭素数6〜10個の単環又は多環
アリーレン基を示す。またY中にケトン、エーテル、エ
ステル、アミド、ウレタン、ウレイドなどの基を含有し
てもよい。
RI3〜RISは同一でも相異していてもよく、アルキ
ル又はアリール基を示し、好ましくは炭素数1〜10個
の直鎮、分枝又は環状アルキル、又は炭素数6〜15個
の単環又は多環アリール基を示す。
ル又はアリール基を示し、好ましくは炭素数1〜10個
の直鎮、分枝又は環状アルキル、又は炭素数6〜15個
の単環又は多環アリール基を示す。
また該アリール基上に炭素数1〜6個のアルキル、炭素
数1〜8個のアルコキシ、ハロゲン[子、カルボキシ、
カルボキシエステル、シアノ、ジアルキルアミノ又はニ
トロ基などが置換したものも好ましい。Bは二価のアル
キレン又はアリーレン基を示し、好ましくは炭素数1〜
12個の直鎖、分枝又は環状アルキレン、又は炭素数6
〜15個の単環又は多環アリーレン基を示す。Zは三価
のアルキレン、又はアリーレン基を示し、好ましくは炭
素数6〜10個の単環又は多環アリーレン基を示す。x
l、x2、×3は同一でも相異していてもよく、ハロゲ
ン原子、ヒドロキシ、カルボキシ、オキシム、アミド、
ウレイド、アミノ、アルキル、アリール、アラルキル、
アリーロキシ、−Y−A。
数1〜8個のアルコキシ、ハロゲン[子、カルボキシ、
カルボキシエステル、シアノ、ジアルキルアミノ又はニ
トロ基などが置換したものも好ましい。Bは二価のアル
キレン又はアリーレン基を示し、好ましくは炭素数1〜
12個の直鎖、分枝又は環状アルキレン、又は炭素数6
〜15個の単環又は多環アリーレン基を示す。Zは三価
のアルキレン、又はアリーレン基を示し、好ましくは炭
素数6〜10個の単環又は多環アリーレン基を示す。x
l、x2、×3は同一でも相異していてもよく、ハロゲ
ン原子、ヒドロキシ、カルボキシ、オキシム、アミド、
ウレイド、アミノ、アルキル、アリール、アラルキル、
アリーロキシ、−Y−A。
の各基を示し、好ましくは、塩素原子、炭素数1〜10
個の直鎖、分枝又は環状アルキル、炭素数6〜15個の
単環又は多環アリール、炭素数7〜15個のアラルキル
、炭素数l〜8個のアルコキシ、又は炭素数6〜10個
のアリーロキシ基を示す。但し、xl、 x2、×3の
うち少なくとも2つは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カ
ルボキシ、オキシム、アミド、ウレイド、アミノ、アル
コキシ又はアリーロキシ基を示す。
個の直鎖、分枝又は環状アルキル、炭素数6〜15個の
単環又は多環アリール、炭素数7〜15個のアラルキル
、炭素数l〜8個のアルコキシ、又は炭素数6〜10個
のアリーロキシ基を示す。但し、xl、 x2、×3の
うち少なくとも2つは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カ
ルボキシ、オキシム、アミド、ウレイド、アミノ、アル
コキシ又はアリーロキシ基を示す。
本発明のシロキサンポリマーはN−オキシアミドスルホ
ネート (−3O□−0−〜−F−)又はN−オキシる
新規なシロキサンポリマーである。該シロキサンポリマ
ー自体は本来、良好なアルカリ可溶性を示さないが、活
性光線又は放射線の照射によりN−オキジアミドスルホ
ネート又はN−オキシイミドスルホネート基が分解し、
N−ヒドロキシアミド、N−ヒドロキシイミド又はスル
ホン酸基を生成してアルカリ可溶性となる。
ネート (−3O□−0−〜−F−)又はN−オキシる
新規なシロキサンポリマーである。該シロキサンポリマ
ー自体は本来、良好なアルカリ可溶性を示さないが、活
性光線又は放射線の照射によりN−オキジアミドスルホ
ネート又はN−オキシイミドスルホネート基が分解し、
N−ヒドロキシアミド、N−ヒドロキシイミド又はスル
ホン酸基を生成してアルカリ可溶性となる。
また本発明のシロキサンポリマーは、“基本的に一般式
(I)又は(II)で表わされる化合物と、一般式(I
II)、(rV)又は(V)で表わされる化合物の熱付
加反応、及びシロキサン骨格形成の為の縮合反応の2段
階で台底することができる。またその合成過程でレジス
ト性能上好ましくない金属触媒 (例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム化合物など)を使用する必要が
ない。
(I)又は(II)で表わされる化合物と、一般式(I
II)、(rV)又は(V)で表わされる化合物の熱付
加反応、及びシロキサン骨格形成の為の縮合反応の2段
階で台底することができる。またその合成過程でレジス
ト性能上好ましくない金属触媒 (例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム化合物など)を使用する必要が
ない。
以下に本発明の成分について詳細に説明する。
(シロキサンポリマー)
本発明のシロキサンポリマーは、一般式(I)又は(I
I)で表わされるシリル基置換のジエン化合物と、一般
式(III)、(I’V)又は(V)で表わされるN−
オキジアミドスルホネート又はN−オキシイミドスルホ
ネート基を有するオレフィン又はアセチレン化合物との
環状熱付加生成物、所謂Diels−Alder反応生
成物(VI)、(■)、(■)、(IX)、〈X〉、又
は(XI)から由来される構造を有するシロキサンポリ
マーである。
I)で表わされるシリル基置換のジエン化合物と、一般
式(III)、(I’V)又は(V)で表わされるN−
オキジアミドスルホネート又はN−オキシイミドスルホ
ネート基を有するオレフィン又はアセチレン化合物との
環状熱付加生成物、所謂Diels−Alder反応生
成物(VI)、(■)、(■)、(IX)、〈X〉、又
は(XI)から由来される構造を有するシロキサンポリ
マーである。
(VI)
(■)
(■)
(IX)
(但し、R1〜RI2、XM3、YSAは、上記と同義
である。) 本発明のシロキサンポリマーの製造法としては、式(I
)又は(II)の化合物を単独又は数種類配合し、加水
分解、あるいはアルコキシ化した後、縮合し、式(I[
I)、(■)、又は(V)の化合物を熱付加させる方法
と、先に式(I)又は(II)の化合物と、式(III
)、(■)、又は(V)の化合物を熱付加させ、式(V
I)、(■)、(■)、(IX)、(X)又は(XI)
の化合物を合成した後、各々単独又は数種類混合の条件
で、加水分解、あるいはアルコキシ化、その後縮合させ
る方法とがある。
である。) 本発明のシロキサンポリマーの製造法としては、式(I
)又は(II)の化合物を単独又は数種類配合し、加水
分解、あるいはアルコキシ化した後、縮合し、式(I[
I)、(■)、又は(V)の化合物を熱付加させる方法
と、先に式(I)又は(II)の化合物と、式(III
)、(■)、又は(V)の化合物を熱付加させ、式(V
I)、(■)、(■)、(IX)、(X)又は(XI)
の化合物を合成した後、各々単独又は数種類混合の条件
で、加水分解、あるいはアルコキシ化、その後縮合させ
る方法とがある。
またN−オキシアミドスルホネート、N−オキシイミド
スルホネート基を有しないオレフィン又はアセチレン化
合物を式(III)、(rV)又は(V)の化合物と共
存させ、本発明のシロキサンポリマーの構造中に導入す
ることができる。
スルホネート基を有しないオレフィン又はアセチレン化
合物を式(III)、(rV)又は(V)の化合物と共
存させ、本発明のシロキサンポリマーの構造中に導入す
ることができる。
更に下記式(XII)、(XII[)、(XrV)、(
XV)又は(XVI)の1種又は2種以上を共存させ、
共縮合させることにより、性能の改善を図ることもでき
る。
XV)又は(XVI)の1種又は2種以上を共存させ、
共縮合させることにより、性能の改善を図ることもでき
る。
これらの場合、式(VI)、(■)、(■〉、(IX)
、(X)又は(XI)の化合物から由来される構造単位
の含量は少なくとも1モル%、好ましくは5〜95モル
%、更に好ましくは10〜80モル%である。
、(X)又は(XI)の化合物から由来される構造単位
の含量は少なくとも1モル%、好ましくは5〜95モル
%、更に好ましくは10〜80モル%である。
R”−3i →X〉。
(XII)
17
−3i−X
111
(XIIr)
R19R21
X−3i−R”−3i−X
R20R22
(XrV)
R26R2″′
(X+ 2 3+ R” Si→X )2(XVI
)式中はR16〜R22、R24〜R26、及びR28
〜R29は同一でも相異していても良く、水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリル基、シリ
ル基、@換シリル基、シロキシ基、もしくは置換シロキ
シ基を示す。具体的には、アルキル基としては直鎖、分
枝または環状のものであり、好ましくは炭素原子数が約
1ないし約IOのものである。具体的には、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチルM
、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基などが含まれる。また、置換アルキル基は、
上記のようなアルキル基に例えば塩素原子のようなハロ
ゲン原子、例えばメトキシ基のような炭素原子数1〜6
個のアルコキシ基、例えばフェニル基のようなアリール
基、例えばフェノキシ基のようなアリールオキシ基など
の置換したものが含まれ、具体的にはモノクロロメチル
基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメ
チル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、フェニル
メチル基、ナフチルメチル基、フェノキシメチル基など
が挙げられる。また、アリール基は単環あるいは2環の
ものが好ましく、例えばフェニル基、α−ナフチル基、
β−ナフチル基などが挙げられる。置換アリール基は上
記のようなアリール基に、例えばメチル基、エチル基な
どの炭素原子数1〜6個のアルキル基、例えばメトキシ
基、エトキシ基などの炭素原子数1〜6個のアルコキシ
基、例えば塩素電子などのハロゲン原子、ニトロ基、フ
ェニル基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アミド基、イ
ミド基、シアノ基などが置換したものが含まれ、具体的
には4−クロロフェニル基、2−クロロフェニル基、4
−ブロモフェニル基、4−ニトロフェニル基、4−ヒド
ロキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、4−メチ
ルフェニル基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェ
ニル基、4−メトキシフェニル基、2−メトキシフェニ
ル基、4−エトキシフェニル基、2−カルボキシフェニ
ル基、4−シアノフェニル基、4−メチル−1−ナフチ
ル基、4−クロロ−1−ナフチル基、5−ニトロ−■−
ナフチル基、5−ヒドロキシ−1−ナフチル基、6−ク
ロロ−2−ナフチル基、4−ブロモ−2−ナフチル基、
5−ヒドロキシ−2−ナフチル基などがあげられる。ア
ルケニル基は例えばビニル基であり、置換アルケニル基
は、ビニル基に例えばメチル基のようなアルキル基、例
えばフェニル基のようなアリール基などの置換したもの
が含まれ、具体的にはl−メチルビニル基、2−メチル
ビニル基、1゜2−ジメチルビニル基、2−フェニルビ
ニル基、2−(p−メチルフェニル)ビニル基、2−(
p−メトキシフェニル)ビニル基、2−(p−クロロフ
ェニル)ビニル基、2− (o−90ロフエニル)ビニ
ル基などが挙げられる。シリル基、置換シリル基として
は例えばトリアルキルシリル基、トリアリールシリル基
などのようなアルキル、アリール置換シリル基であり、
このようなアルキル、アリール基としては上記に示した
ものが挙げられる。また、シロキシ基もしくは置換シロ
キシ基である場合には、下記に示すように、これらの基
が隣接する構造単位のシロキシ基もしくは置換シロキシ
基と結合した構造、または、他の分子中のシロキシ基も
しくは置換シロキシ基と結合した構造などの二次元もし
くは三次元的構造のものであってもよい。
)式中はR16〜R22、R24〜R26、及びR28
〜R29は同一でも相異していても良く、水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリル基、シリ
ル基、@換シリル基、シロキシ基、もしくは置換シロキ
シ基を示す。具体的には、アルキル基としては直鎖、分
枝または環状のものであり、好ましくは炭素原子数が約
1ないし約IOのものである。具体的には、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチルM
、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基などが含まれる。また、置換アルキル基は、
上記のようなアルキル基に例えば塩素原子のようなハロ
ゲン原子、例えばメトキシ基のような炭素原子数1〜6
個のアルコキシ基、例えばフェニル基のようなアリール
基、例えばフェノキシ基のようなアリールオキシ基など
の置換したものが含まれ、具体的にはモノクロロメチル
基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメ
チル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、フェニル
メチル基、ナフチルメチル基、フェノキシメチル基など
が挙げられる。また、アリール基は単環あるいは2環の
ものが好ましく、例えばフェニル基、α−ナフチル基、
β−ナフチル基などが挙げられる。置換アリール基は上
記のようなアリール基に、例えばメチル基、エチル基な
どの炭素原子数1〜6個のアルキル基、例えばメトキシ
基、エトキシ基などの炭素原子数1〜6個のアルコキシ
基、例えば塩素電子などのハロゲン原子、ニトロ基、フ
ェニル基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アミド基、イ
ミド基、シアノ基などが置換したものが含まれ、具体的
には4−クロロフェニル基、2−クロロフェニル基、4
−ブロモフェニル基、4−ニトロフェニル基、4−ヒド
ロキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、4−メチ
ルフェニル基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェ
ニル基、4−メトキシフェニル基、2−メトキシフェニ
ル基、4−エトキシフェニル基、2−カルボキシフェニ
ル基、4−シアノフェニル基、4−メチル−1−ナフチ
ル基、4−クロロ−1−ナフチル基、5−ニトロ−■−
ナフチル基、5−ヒドロキシ−1−ナフチル基、6−ク
ロロ−2−ナフチル基、4−ブロモ−2−ナフチル基、
5−ヒドロキシ−2−ナフチル基などがあげられる。ア
ルケニル基は例えばビニル基であり、置換アルケニル基
は、ビニル基に例えばメチル基のようなアルキル基、例
えばフェニル基のようなアリール基などの置換したもの
が含まれ、具体的にはl−メチルビニル基、2−メチル
ビニル基、1゜2−ジメチルビニル基、2−フェニルビ
ニル基、2−(p−メチルフェニル)ビニル基、2−(
p−メトキシフェニル)ビニル基、2−(p−クロロフ
ェニル)ビニル基、2− (o−90ロフエニル)ビニ
ル基などが挙げられる。シリル基、置換シリル基として
は例えばトリアルキルシリル基、トリアリールシリル基
などのようなアルキル、アリール置換シリル基であり、
このようなアルキル、アリール基としては上記に示した
ものが挙げられる。また、シロキシ基もしくは置換シロ
キシ基である場合には、下記に示すように、これらの基
が隣接する構造単位のシロキシ基もしくは置換シロキシ
基と結合した構造、または、他の分子中のシロキシ基も
しくは置換シロキシ基と結合した構造などの二次元もし
くは三次元的構造のものであってもよい。
−5i−0−3i−0
0
Si−51−0−3
i−0、R27、及びR31+は同一でも相異していて
も良く、単結合、二価のアルキレン、置換アルキレン、
アリーレン、又は置換アリーレン基を示す。
も良く、単結合、二価のアルキレン、置換アルキレン、
アリーレン、又は置換アリーレン基を示す。
具体的には、アルキレン基としては、直鎖、分枝、環状
のもの、より好ましくは直鎖のものであり、好ましくは
炭素原子数が1〜10個のものであって、例えばメチレ
ン、エチレン、ブチレン、オクチレンなどの各基が含ま
れる。置換アルキレン基は、上記アルキレン基に、例え
ば塩素原子のようなハロゲン原子、炭素原子数1〜6個
のアルコキシ基、炭素原子数6〜10個のアリーロキシ
基などが置換されたものである。アリーレン基は、好ま
しくは単環および2環のものであって、例えばフェニレ
ン基、ナフチレン基などが含まれる。
のもの、より好ましくは直鎖のものであり、好ましくは
炭素原子数が1〜10個のものであって、例えばメチレ
ン、エチレン、ブチレン、オクチレンなどの各基が含ま
れる。置換アルキレン基は、上記アルキレン基に、例え
ば塩素原子のようなハロゲン原子、炭素原子数1〜6個
のアルコキシ基、炭素原子数6〜10個のアリーロキシ
基などが置換されたものである。アリーレン基は、好ま
しくは単環および2環のものであって、例えばフェニレ
ン基、ナフチレン基などが含まれる。
また置換アリーレン基は、上記のようなアリーレン基に
、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜6個
のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭
素原子数1〜6個のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子などが置換したものが含まれる。具体的
にはクロロフェニレン基、ブロモフェニレン基、ニトロ
フェニレン基、フェニルフェニレン基、メチルフェニレ
ン基、エチルフェニレン基、メトキシフェニレン基、エ
トキシフェニレン基、シアノフェニレン基、メチルナフ
チレン基、クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基、
ニトロナフチレン基などがあげられる。
、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜6個
のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭
素原子数1〜6個のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子などが置換したものが含まれる。具体的
にはクロロフェニレン基、ブロモフェニレン基、ニトロ
フェニレン基、フェニルフェニレン基、メチルフェニレ
ン基、エチルフェニレン基、メトキシフェニレン基、エ
トキシフェニレン基、シアノフェニレン基、メチルナフ
チレン基、クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基、
ニトロナフチレン基などがあげられる。
Xは加水分解可能な基であり、好ましくは塩素原子、臭
素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基などのような炭素原子数1〜10個のアル
コキシ基、フェノキシ基などのような炭素原子数6〜1
0個のアリーロキシ基、アセトキシ基などのような炭素
原子数1〜IO個のカルボキシル基、メチルアルドキシ
ムなどのような炭素原子数l〜6個のオキシム基、更に
は、アミド基、ウレイド基、アミン基などが含まれる。
素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基などのような炭素原子数1〜10個のアル
コキシ基、フェノキシ基などのような炭素原子数6〜1
0個のアリーロキシ基、アセトキシ基などのような炭素
原子数1〜IO個のカルボキシル基、メチルアルドキシ
ムなどのような炭素原子数l〜6個のオキシム基、更に
は、アミド基、ウレイド基、アミン基などが含まれる。
以下に本発明に使用されるシロキサンポリマーの具体例
を示す。
を示す。
(24)
(25)
化合物側中nは1以上の整数、XS’/1及び2は、0
又は1以上の整数を示す。
又は1以上の整数を示す。
本発明のシロキサンポリマーの分子量は縮合条件を変え
ることで、任意に変化させることができるが、好ましい
分子量としては、重量平均で500以上、更に好ましく
は1.000〜500.000である。
ることで、任意に変化させることができるが、好ましい
分子量としては、重量平均で500以上、更に好ましく
は1.000〜500.000である。
これらのシロキサンポリマーの添加量は、全組成物の固
形分に対して5〜100wt%が適当であり、好ましく
は20〜55wt%、更に好ましくは30〜9Qwt%
である。
形分に対して5〜100wt%が適当であり、好ましく
は20〜55wt%、更に好ましくは30〜9Qwt%
である。
(アルカリ可溶性ポリマー)
本発明のポジ型感光性組成物は、本質的に本発明のシロ
キサンポリマーのみで使用できるが、更にアルカリ可溶
性ポリマーを添加して使用してもよい。
キサンポリマーのみで使用できるが、更にアルカリ可溶
性ポリマーを添加して使用してもよい。
このようなアルカリ可溶性ポリマーは、好ましくはフェ
ノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基、イミド
基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、N−
スルホニルウレタン基、活性メチレン基等のpKa11
以下の酸性水素原子を有するポリマーである。好適なア
ルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラック型フェノー
ル樹脂、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹脂、
0−クレゾール−ホルムアルデヒドm脂、m−クレゾー
ル−ホルムアルデヒドmJ]L p−クレゾールホルム
アルデヒド樹脂、キシレノール−ホルムアルデヒド樹脂
、またこれらの共縮合物などがある。
ノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基、イミド
基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、N−
スルホニルウレタン基、活性メチレン基等のpKa11
以下の酸性水素原子を有するポリマーである。好適なア
ルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラック型フェノー
ル樹脂、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹脂、
0−クレゾール−ホルムアルデヒドm脂、m−クレゾー
ル−ホルムアルデヒドmJ]L p−クレゾールホルム
アルデヒド樹脂、キシレノール−ホルムアルデヒド樹脂
、またこれらの共縮合物などがある。
更に特開昭50−125806号公報に記されている情
に上記のようなフェノール樹脂と共に、tブチルフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアル
キル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮合物とを併用してもよい。またN−
(4−ヒドロキシフェニル〉メタクリルアミドのような
フェノール性ヒドロキシ基含有モノマーを共重合成分と
するポリマー p−ヒドロキシスチレン、0−ヒドロキ
シスチレン、m−イソプロペニルフエ/−ル、p−イソ
プロペニルフェノール等の単独又は共重合のポリマー、
更にまたこれらのポリマーを部分エーテル化、部分エス
テル化したポリマーも使用できる。
に上記のようなフェノール樹脂と共に、tブチルフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアル
キル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮合物とを併用してもよい。またN−
(4−ヒドロキシフェニル〉メタクリルアミドのような
フェノール性ヒドロキシ基含有モノマーを共重合成分と
するポリマー p−ヒドロキシスチレン、0−ヒドロキ
シスチレン、m−イソプロペニルフエ/−ル、p−イソ
プロペニルフェノール等の単独又は共重合のポリマー、
更にまたこれらのポリマーを部分エーテル化、部分エス
テル化したポリマーも使用できる。
更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含
有モノマーを共重合成分とするポリマー特開昭61−2
67042号公報記載のカルボキシル基含有ポリビニル
アセタール樹脂、特開昭63−124047号公報記載
のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用さ
れる。
有モノマーを共重合成分とするポリマー特開昭61−2
67042号公報記載のカルボキシル基含有ポリビニル
アセタール樹脂、特開昭63−124047号公報記載
のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用さ
れる。
更にまた、N−(4−スルファモイルフェニル)メタク
リルアミド、N−フェニルスルホニルメタクリルアミド
、マレイミドを共重合成分とするポリマー、特開昭63
−127237号公報記載の活性メチレン基含有ポリマ
ーも使用できる。
リルアミド、N−フェニルスルホニルメタクリルアミド
、マレイミドを共重合成分とするポリマー、特開昭63
−127237号公報記載の活性メチレン基含有ポリマ
ーも使用できる。
これらのアルカリ可溶性ポリマーは単一で使用できるが
、数種の混合物として使用してもよい。
、数種の混合物として使用してもよい。
感光性組成物中の好ましい添加量は、感光性組成物全固
形分に対し、10〜90wt%、更に好ましくは30〜
3Qwt%の範囲である。
形分に対し、10〜90wt%、更に好ましくは30〜
3Qwt%の範囲である。
(その他の好ましい成分)
本発明のポジ型感光性組成物には必要に応じて、更に染
料、顔料、可塑剤及び光分解効率を増大させる化合物(
所謂増感剤)などを含有させることができる。
料、顔料、可塑剤及び光分解効率を増大させる化合物(
所謂増感剤)などを含有させることができる。
このような増感剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオ
レノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−
9−フルオレノン、9−アントロン、2−7’ロモー9
−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9.10
−アントラキノン、2−エチル−9,10−アントラキ
ノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2
゜6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサント
ン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、
チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−
(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジ
メチルアミノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ベ
ンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、ベンズアントロンなどをあげることがで
きる。これらの化合物のうち、ミヒラーケトンを用いた
場合が特に好ましい。
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオ
レノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−
9−フルオレノン、9−アントロン、2−7’ロモー9
−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9.10
−アントラキノン、2−エチル−9,10−アントラキ
ノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2
゜6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサント
ン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、
チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−
(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジ
メチルアミノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ベ
ンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、ベンズアントロンなどをあげることがで
きる。これらの化合物のうち、ミヒラーケトンを用いた
場合が特に好ましい。
さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公
昭51−48516号公報中に記載されている下記一般
式(X■)で表わされる化合物があげられる。
昭51−48516号公報中に記載されている下記一般
式(X■)で表わされる化合物があげられる。
ff1
式中、lplはアルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば
、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カ
ルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表
わす。
基、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば
、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カ
ルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表
わす。
R32はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など
)、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒド
ロキシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表
わす。
)、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒド
ロキシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表
わす。
Dは通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核
を形成するのに必要な非金属原子群、例えば、ベンゾチ
アゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチア
ゾール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチ
アゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾ
ールなど〉、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾー
ル、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メドキシベン
ゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナ
フトセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベ
ンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチル
ベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール
など)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾー
ル、β−ナフトオキサゾールなど)を表わす。
を形成するのに必要な非金属原子群、例えば、ベンゾチ
アゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチア
ゾール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチ
アゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾ
ールなど〉、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾー
ル、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メドキシベン
ゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナ
フトセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベ
ンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチル
ベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール
など)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾー
ル、β−ナフトオキサゾールなど)を表わす。
一般式(X■)で表わされる化合物の具体例としては、
これらDSR”およびR32を組合せた化学構造を有す
るものであり、多くのものが公知物質として存在する。
これらDSR”およびR32を組合せた化学構造を有す
るものであり、多くのものが公知物質として存在する。
従って、これら公知のものから適宜選択して使用するこ
とができる。
とができる。
更に、本発明における好ましい増感剤としては、米国特
許4.062.686号記載の増感剤、例えば、2−〔
ビス(2−フロイル)メチレンツー3−メチルベンゾチ
アゾリン、2−〔ビス(2−チエノイル)メチレンツー
3−メチルベンゾチアゾリン、2−〔ビス(2−フロイ
ル)メチレンツー3−メチルナフト[1,2−d〕チア
ゾリンなどが挙げられる。
許4.062.686号記載の増感剤、例えば、2−〔
ビス(2−フロイル)メチレンツー3−メチルベンゾチ
アゾリン、2−〔ビス(2−チエノイル)メチレンツー
3−メチルベンゾチアゾリン、2−〔ビス(2−フロイ
ル)メチレンツー3−メチルナフト[1,2−d〕チア
ゾリンなどが挙げられる。
これらの増感剤と一般式(Vl)、(■)、(■)、(
7■)、(X)又は(XI)から由来する構造単位との
割合は、モル比で0.01/1〜5/lであり、好まし
くは0.1/1〜2/1の範囲で使用される。
7■)、(X)又は(XI)から由来する構造単位との
割合は、モル比で0.01/1〜5/lであり、好まし
くは0.1/1〜2/1の範囲で使用される。
また、着色剤として染料を用いることができるが、好適
な染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体
的には、オイルイエロー#10hオイルイエロー#13
0、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBO3,オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上、オリエント化学工業株式会社製)クリスタル
バイオレット (CI42555)、メチルバイオレッ
) (CI42535) 、ローダミンB (CI4
5i70B)、マラカイトグリーン(CI42000)
、メチレンブルー(CI52015)などをあげること
ができる。
な染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体
的には、オイルイエロー#10hオイルイエロー#13
0、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBO3,オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上、オリエント化学工業株式会社製)クリスタル
バイオレット (CI42555)、メチルバイオレッ
) (CI42535) 、ローダミンB (CI4
5i70B)、マラカイトグリーン(CI42000)
、メチレンブルー(CI52015)などをあげること
ができる。
本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、そ
の他のフィラーなどを加えることができる。環状酸無水
物としては米国特許第4、115.128号明細書に記
載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−ニンドオ
キシー△4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル
無水フタル酸、ffX水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、ピ
ロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成
物中の固形分に対してlから15重量%含有させること
によって感度を最大3倍程度に高めることができる。露
光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光に
よって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機
染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的
には特開昭50〜36209号号公報、特開昭53−8
128号公報に記載されている0−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組
合せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−7
4728号公報に記載されているトリハロメチル化合物
と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。
無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、そ
の他のフィラーなどを加えることができる。環状酸無水
物としては米国特許第4、115.128号明細書に記
載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−ニンドオ
キシー△4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル
無水フタル酸、ffX水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、ピ
ロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成
物中の固形分に対してlから15重量%含有させること
によって感度を最大3倍程度に高めることができる。露
光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光に
よって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機
染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的
には特開昭50〜36209号号公報、特開昭53−8
128号公報に記載されている0−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組
合せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−7
4728号公報に記載されているトリハロメチル化合物
と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。
(溶 媒)
本発明のポジ型感光性組成物を、平版印刷版用の材料と
して使用する場合は上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。また半導体等のレジスト材料用
としては、溶媒に溶解したままで使用する。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール
、プロパツール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、1−メトキシ−2−プロパツール、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、2−エトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル
、乳酸エチル、N、 N −ジメチルアセトアミド、
N、N−ジメチルホルム了ミド、テトラメチルウレア、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、T−ブチロラクトン、トルエン、酢酸エチルなど
があり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する
。そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形分)は
、2〜50重量%である。また、塗布して使用する場合
塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版
についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g
/m″が好ましい。塗布量が少くなるにつれて感光性は
大になるが、感光膜の物性は低下する。
して使用する場合は上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。また半導体等のレジスト材料用
としては、溶媒に溶解したままで使用する。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール
、プロパツール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、1−メトキシ−2−プロパツール、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、2−エトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル
、乳酸エチル、N、 N −ジメチルアセトアミド、
N、N−ジメチルホルム了ミド、テトラメチルウレア、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、T−ブチロラクトン、トルエン、酢酸エチルなど
があり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する
。そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形分)は
、2〜50重量%である。また、塗布して使用する場合
塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版
についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g
/m″が好ましい。塗布量が少くなるにつれて感光性は
大になるが、感光膜の物性は低下する。
(平版印刷版等の製造)
本発明のポジ形感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば、紙、プラスチ
ックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど)がラミネートされた紙、例えばアルミニウ
ム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよう
なプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。
する場合、その支持体としては、例えば、紙、プラスチ
ックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど)がラミネートされた紙、例えばアルミニウ
ム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよう
なプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。
これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著し
く安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更
に、特公昭48−18327号公報に記されているよう
なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウ
ムシートが結合された複合体シートも好ましい。アルミ
ニウム板の表面はワイヤブラシグレイニング、研磨粒子
のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブ
ラシダレイニング、ボールダレイニング、溶体ホーニン
グによるグレイニング、パフダレイニング等の機械的方
法、HFやAlCR3、HCflをエッチャントとする
ケミカルダレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電
解グレイニングやこれらの粗面化法を複合させて行なっ
た複合グレイニングによって表面を砂目立てした後、必
要に応じて酸又はアルカリによりエツチング処理され、
引続き硫酸、リン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルフ
ァミン酸またはこれらの混酸中で直流又は交流電源にて
陽極酸化を行いアルミニウム表面に強固な不動態皮膜を
設けたものが好ましい。この様な不動態皮膜自体でアル
ミニウム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じ
て米国特許第2.714.066号明細書や米国特許第
3.181.461号明細書に記載されている珪酸塩処
理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、米国特許第
2.946.638号明細書に記載されている弗化ジル
コニウム酸カリウム処理、米国特許第3.201.24
7号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、
英国特許第1.108.559号明細書に記載されてい
るアルキルチタネート処理、独国特許第1.091.4
33号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独
国特許第1.134.093号明細書や英国特許第1.
230.447号明細書に記載されているポリビニルホ
スホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載され
ているホスホン酸処理、米国特許第3.307.951
号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58
−16893号や特開昭58−18291号の各公報に
記載されている親水性有機高分子化合物と2価の金属よ
りなる複合処理、特開昭59−101651号公報に記
載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗
によって親水化処理を行ったものは特に好ましい。その
他の親水化処理方法としては米国特許第3.658.6
62号明細書に記載されているシリケート電着をもあげ
ることが出来る。
く安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更
に、特公昭48−18327号公報に記されているよう
なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウ
ムシートが結合された複合体シートも好ましい。アルミ
ニウム板の表面はワイヤブラシグレイニング、研磨粒子
のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブ
ラシダレイニング、ボールダレイニング、溶体ホーニン
グによるグレイニング、パフダレイニング等の機械的方
法、HFやAlCR3、HCflをエッチャントとする
ケミカルダレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電
解グレイニングやこれらの粗面化法を複合させて行なっ
た複合グレイニングによって表面を砂目立てした後、必
要に応じて酸又はアルカリによりエツチング処理され、
引続き硫酸、リン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルフ
ァミン酸またはこれらの混酸中で直流又は交流電源にて
陽極酸化を行いアルミニウム表面に強固な不動態皮膜を
設けたものが好ましい。この様な不動態皮膜自体でアル
ミニウム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じ
て米国特許第2.714.066号明細書や米国特許第
3.181.461号明細書に記載されている珪酸塩処
理(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、米国特許第
2.946.638号明細書に記載されている弗化ジル
コニウム酸カリウム処理、米国特許第3.201.24
7号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、
英国特許第1.108.559号明細書に記載されてい
るアルキルチタネート処理、独国特許第1.091.4
33号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独
国特許第1.134.093号明細書や英国特許第1.
230.447号明細書に記載されているポリビニルホ
スホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載され
ているホスホン酸処理、米国特許第3.307.951
号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58
−16893号や特開昭58−18291号の各公報に
記載されている親水性有機高分子化合物と2価の金属よ
りなる複合処理、特開昭59−101651号公報に記
載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗
によって親水化処理を行ったものは特に好ましい。その
他の親水化処理方法としては米国特許第3.658.6
62号明細書に記載されているシリケート電着をもあげ
ることが出来る。
また砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は有機
塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって
行われる。
も好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は有機
塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって
行われる。
(活性光線又は放射線)
本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。放射線として
は電子線、X線、イオンビーム、遠紫外線などがある。
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。放射線として
は電子線、X線、イオンビーム、遠紫外線などがある。
好ましくはフォトレジスト用の光源として、g線、1線
、Deep −U V光が使用される。また高密度エネ
ルギービーム(レーザービーム又は電子線)による走査
露光も本発明に使用することができる。このようなレー
ザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ−アルゴン
レーザー、クリプトンイオンレーザ−ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマ−レーザーなどが挙げら
れる。
、Deep −U V光が使用される。また高密度エネ
ルギービーム(レーザービーム又は電子線)による走査
露光も本発明に使用することができる。このようなレー
ザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ−アルゴン
レーザー、クリプトンイオンレーザ−ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマ−レーザーなどが挙げら
れる。
(現像液)
本発明のポジ形感光性組成物に対する現像液としては、
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤及
びテトラアルキルアンモニウム○H塩などのような有機
アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が0.
1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるよ
う添加される。
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤及
びテトラアルキルアンモニウム○H塩などのような有機
アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が0.
1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるよ
う添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
水酸化ナトリウム42g(I,05モル)の水50〇−
溶液に、ヒドロキシアミン塩酸塩73.0g(I,05
モル)を添加した。引き続き無水フタル酸148 g
(I,0−[−ル)を加え、90℃にT1時間撹拌した
。淡黄色固体が析出した反応混合物に濃硫酸30gの水
100ml溶液を加え、更に30分間撹拌した。淡黄色
固体を濾別し、ベンゼン/エタノール混合溶媒より再結
晶して、N−ヒドロキシフタルイミド132gを得た。
溶液に、ヒドロキシアミン塩酸塩73.0g(I,05
モル)を添加した。引き続き無水フタル酸148 g
(I,0−[−ル)を加え、90℃にT1時間撹拌した
。淡黄色固体が析出した反応混合物に濃硫酸30gの水
100ml溶液を加え、更に30分間撹拌した。淡黄色
固体を濾別し、ベンゼン/エタノール混合溶媒より再結
晶して、N−ヒドロキシフタルイミド132gを得た。
合成例1の無水フタル酸を無水マレイン酸98gに置き
換え、同様に90℃にて1時間、更に70℃にて3時間
撹拌した。室温にて放置し、析出した淡褐色結晶を濾別
して、N−ヒドロキシマレイミド75gを得た。
換え、同様に90℃にて1時間、更に70℃にて3時間
撹拌した。室温にて放置し、析出した淡褐色結晶を濾別
して、N−ヒドロキシマレイミド75gを得た。
合成例3. N−ベンゾイル−N−メチルヒドロキN
−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩10.0 gをテト
ラヒドロフラン100−に投入し、これにピリジン19
.8 gを加えた。これを室温にて撹拌しながらベンゾ
イルクロリド16.8 gをテトラヒドロフラン100
dに溶解させた溶液を1時間で滴下した。さらに、室温
にて撹拌を8時間続けて反応を進めた。希塩酸を50m
1加えた後に減圧下にてテトラヒドロフランを除去し、
酢酸エチルにより抽出を行なった。抽出液を無水硫酸マ
グネシウムにより脱水した後減圧下に酢酸エチルを除去
した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフ(充填
剤ニジリカゲル。展開液:酢酸エチル、ヘキサン)によ
り精製し、N−ベンゾイル−N−メチルヒドロキシルア
ミン(融点20℃以下のオイル)8.5gを得た。
−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩10.0 gをテト
ラヒドロフラン100−に投入し、これにピリジン19
.8 gを加えた。これを室温にて撹拌しながらベンゾ
イルクロリド16.8 gをテトラヒドロフラン100
dに溶解させた溶液を1時間で滴下した。さらに、室温
にて撹拌を8時間続けて反応を進めた。希塩酸を50m
1加えた後に減圧下にてテトラヒドロフランを除去し、
酢酸エチルにより抽出を行なった。抽出液を無水硫酸マ
グネシウムにより脱水した後減圧下に酢酸エチルを除去
した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフ(充填
剤ニジリカゲル。展開液:酢酸エチル、ヘキサン)によ
り精製し、N−ベンゾイル−N−メチルヒドロキシルア
ミン(融点20℃以下のオイル)8.5gを得た。
合lff1例4. N−ヒドロキシフタルイミド−ビ
ニルスルホン酸エステル N−ヒドロキシフタルイミド3.3gとビニルスルホニ
ルクロリド2.6gにアセトン50n+j!を添加し、
室温(約20℃)にて撹拌しながらトリエチルアミン2
.0gを1o分間で滴下し、さらに室温にて1時間撹拌
した後、氷水200g中に投入し、得られる沈殿をベン
ゼン/エタノール混合溶媒より再結晶化して、N−ヒド
ロキシフタルイミド−ビニルスルホン酸エステル4.0
gを得た。
ニルスルホン酸エステル N−ヒドロキシフタルイミド3.3gとビニルスルホニ
ルクロリド2.6gにアセトン50n+j!を添加し、
室温(約20℃)にて撹拌しながらトリエチルアミン2
.0gを1o分間で滴下し、さらに室温にて1時間撹拌
した後、氷水200g中に投入し、得られる沈殿をベン
ゼン/エタノール混合溶媒より再結晶化して、N−ヒド
ロキシフタルイミド−ビニルスルホン酸エステル4.0
gを得た。
合成例5 N−ヒドロキシマレイミドー1−(4−エト
キシ−ナフタレン)スルホン酸 エステル N−ヒドロキシマレイミド5.7gと1−(4−エトキ
シ−ナフタレン)スルホニルクロリド13.5gにアセ
トン120m1を添加し、以下合成例4と同じ方法で、
N−ヒドロキシマレイミド−1−(4エトキシ−ナフタ
レン)スルホン酸エステル12、4 gを得た。
キシ−ナフタレン)スルホン酸 エステル N−ヒドロキシマレイミド5.7gと1−(4−エトキ
シ−ナフタレン)スルホニルクロリド13.5gにアセ
トン120m1を添加し、以下合成例4と同じ方法で、
N−ヒドロキシマレイミド−1−(4エトキシ−ナフタ
レン)スルホン酸エステル12、4 gを得た。
合、511J6. ○−ビニルスルホニルーN−ベン
ゾイル−N−メチルヒドロキシアミン N−ベンゾイル−N−メチルヒドロキシルアミン7.6
g#よびビニルスルホニルクロリド6、3 gにテトラ
ヒドロフラン130−を加え、撹拌しながらトリエチル
アミン5.1gをテトラヒドロフラン20−に溶解させ
た溶液を反応液が25℃以上にならぬよう冷却しながら
2時間で滴下した。
ゾイル−N−メチルヒドロキシアミン N−ベンゾイル−N−メチルヒドロキシルアミン7.6
g#よびビニルスルホニルクロリド6、3 gにテトラ
ヒドロフラン130−を加え、撹拌しながらトリエチル
アミン5.1gをテトラヒドロフラン20−に溶解させ
た溶液を反応液が25℃以上にならぬよう冷却しながら
2時間で滴下した。
15℃〜25℃にてさらに2時間反応させた後、合a例
4と同様にして、○−ビニルスルホニルーN−ベンゾイ
ル−N−メチルヒドロキシルアミン9.2gを得た。
4と同様にして、○−ビニルスルホニルーN−ベンゾイ
ル−N−メチルヒドロキシルアミン9.2gを得た。
合成例7. 化合物例(30)の台底
2−(トリメトキシシリル)−1,3−ブタジェン8.
7g(0,05モル)、N−ヒドロキシフタルイミド−
ビニルスルホン酸エステル12.7 g(0,05モル
)をジオキサン100m12に溶解し、100℃で1時
間加熱撹拌した。室温まで冷却しり後、トリメトキシフ
ェニルシラン9.9 g (0,05モル)を添加した
。更に蒸留水10m1と濃塩酸0.1gを加え30分間
撹拌した。その後、溶媒のジオキサンを加熱、濃縮した
。awj物を水11中に撹拌しながら投入し、析出した
固体を真空下乾燥した。褐色がかった白色樹脂24gを
得た。NMRによりこの樹脂が化合物例(30)である
ことをmglした。またゲルパーミェーションクロマト
グラフィー(GPC)により分子量を測定したところ、
重量平均(ポリスチレン標準)で3.500であった。
7g(0,05モル)、N−ヒドロキシフタルイミド−
ビニルスルホン酸エステル12.7 g(0,05モル
)をジオキサン100m12に溶解し、100℃で1時
間加熱撹拌した。室温まで冷却しり後、トリメトキシフ
ェニルシラン9.9 g (0,05モル)を添加した
。更に蒸留水10m1と濃塩酸0.1gを加え30分間
撹拌した。その後、溶媒のジオキサンを加熱、濃縮した
。awj物を水11中に撹拌しながら投入し、析出した
固体を真空下乾燥した。褐色がかった白色樹脂24gを
得た。NMRによりこの樹脂が化合物例(30)である
ことをmglした。またゲルパーミェーションクロマト
グラフィー(GPC)により分子量を測定したところ、
重量平均(ポリスチレン標準)で3.500であった。
合成例8.化合物例(38)の台底
2−(トリメトキシシリル)−1,3−ブタジェン8.
7g、N−ヒドロキシマレイミド−1−(4−エトキシ
−ナフタレン)スルホン酸エステル17.4 gをジオ
キサン100Inf!に溶解し、100℃で1時間加熱
撹拌した。その後、室温下、トリメトキシフェニルシラ
ン9.9gを添加し、以下合成例7.と同様に反応、後
処理を行なった。黄色がかった白色樹脂28gを得た。
7g、N−ヒドロキシマレイミド−1−(4−エトキシ
−ナフタレン)スルホン酸エステル17.4 gをジオ
キサン100Inf!に溶解し、100℃で1時間加熱
撹拌した。その後、室温下、トリメトキシフェニルシラ
ン9.9gを添加し、以下合成例7.と同様に反応、後
処理を行なった。黄色がかった白色樹脂28gを得た。
分子量は重量平均(GPC,ポリスチレン標準)で4.
200であった。
200であった。
実施例1〜6
厚さ0.24 mmの2Sアルミニウム板を80℃に保
った第3燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸
ナトリウムで約10分間エツチングして、硫酸水素ナト
リウム3%水溶液でデスマット処理を行った。このアル
ミニウム板を20%硫酸中で電流密度2 A / d
m’において2分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作
成した。
った第3燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸
ナトリウムで約10分間エツチングして、硫酸水素ナト
リウム3%水溶液でデスマット処理を行った。このアル
ミニウム板を20%硫酸中で電流密度2 A / d
m’において2分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作
成した。
次に下記感光液〔A〕の本発明のシロキサンポリマーの
種類を変えて、6種類の感光1 [:A〕−1〜〔A)
−6を調製し、この感光液を陽極酸化されたアルミニウ
ム板の上に塗布し、100℃で2分間乾燥して、それぞ
れの感光性平版印刷版(A)−1〜[:Al−6を作成
した。このときの塗布量は全て乾燥重量で1.5g/m
”であった。
種類を変えて、6種類の感光1 [:A〕−1〜〔A)
−6を調製し、この感光液を陽極酸化されたアルミニウ
ム板の上に塗布し、100℃で2分間乾燥して、それぞ
れの感光性平版印刷版(A)−1〜[:Al−6を作成
した。このときの塗布量は全て乾燥重量で1.5g/m
”であった。
また感光液1:Al−1〜[Al−6に用いた本発明の
シロキサンポリマーは第1表に示す。
シロキサンポリマーは第1表に示す。
感光液[A)
感光性平版印刷版[Al−1〜[:Al−6の感光層上
に濃度差0.15のグレースケールを密着させ、2kw
の高圧水銀灯で・50cmの距離から2分間露光を行っ
た。露光した感光性平版印刷版〔A〕−1〜[A)−6
をDP−4(商品名:富士写真フィルム■製)の8倍希
釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現像したところ
、鮮明な青色のポジ画像が得られた。
に濃度差0.15のグレースケールを密着させ、2kw
の高圧水銀灯で・50cmの距離から2分間露光を行っ
た。露光した感光性平版印刷版〔A〕−1〜[A)−6
をDP−4(商品名:富士写真フィルム■製)の8倍希
釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現像したところ
、鮮明な青色のポジ画像が得られた。
なお、使用した本発明の有機ポリシロキサン化合物の分
子量は、重量平均(G P C、ポリスチレン標準)で
何れも2. OOO〜8.000であった。
子量は、重量平均(G P C、ポリスチレン標準)で
何れも2. OOO〜8.000であった。
また使用した化合物例(30)、(35)、(38)、
及び(43)のシロキサンポリマー中のN−オキジアミ
ドスルホネート、又はN−オキシイミドスルホネート基
含有シロ牛サン単位の含量は何れも50モル%であった
。
及び(43)のシロキサンポリマー中のN−オキジアミ
ドスルホネート、又はN−オキシイミドスルホネート基
含有シロ牛サン単位の含量は何れも50モル%であった
。
第 1 表
実施例7〜12
実施例1〜6で使用した感光液〔Al−1〜[:A:]
−6に増感剤としてエチルミヒラーケトン(4,4’
−ビス(ジエチルアミノ〉ベンゾフェノン)O,’05
gを各々添加した下記感光液[Bl]−1〜CBI−6
を用い、実施例1〜6と同様にして感光性平版印刷版C
B]−1〜[B] −6を作成した。塗布量は全て乾燥
重量で15g/m’であった。
−6に増感剤としてエチルミヒラーケトン(4,4’
−ビス(ジエチルアミノ〉ベンゾフェノン)O,’05
gを各々添加した下記感光液[Bl]−1〜CBI−6
を用い、実施例1〜6と同様にして感光性平版印刷版C
B]−1〜[B] −6を作成した。塗布量は全て乾燥
重量で15g/m’であった。
感光液〔B〕
(メチルセロソルブ 15g感光性平版
印刷版CB:l−1〜[BI−6を実施例1〜6と同様
にして、露光、現像したところ、何れも鮮明な青色のポ
ジ画像を形成した。ここで、実施例1〜6の感光性平版
印刷版[A]−1〜[:A]−6と[:B]−1〜[B
]−6の相対感度比を得られたグレースケールのクリア
一部の段数から算出すると、 表−2に示すとおりとなった。
印刷版CB:l−1〜[BI−6を実施例1〜6と同様
にして、露光、現像したところ、何れも鮮明な青色のポ
ジ画像を形成した。ここで、実施例1〜6の感光性平版
印刷版[A]−1〜[:A]−6と[:B]−1〜[B
]−6の相対感度比を得られたグレースケールのクリア
一部の段数から算出すると、 表−2に示すとおりとなった。
表
表−2かられかるように、
エチルミヒラーケト
ンを添加することにより、
感度が何れも大きく増
加した。
実施例13〜1
感光液〔A〕
の本発明のシロキサンポリマーの
代わりに、m−タレゾール−ホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂の1,2−ナフトキノンジアジド5−スルホン酸
エステル0.40gを添加した感光液〔C〕を用い、実
施例1〜6と同様にして比較例の感光性平版印刷版[C
]を作成した。塗布量は乾燥重量で1.5g/m’であ
った。
ク樹脂の1,2−ナフトキノンジアジド5−スルホン酸
エステル0.40gを添加した感光液〔C〕を用い、実
施例1〜6と同様にして比較例の感光性平版印刷版[C
]を作成した。塗布量は乾燥重量で1.5g/m’であ
った。
実施例1〜6で作成した感光性平版印刷版〔A)−1〜
[A:]−6、及び[C]を白色蛍光灯下10分間放置
した。実施例1〜6と同様に露光、現像し、白色蛍光灯
下放置前後の感度変化を調べたところ、比較例〔C〕で
は感度変化が見られたものの、本発明の[A]−1〜〔
A] −6では感度変化はなかった。即ち本発明の感光
性平版印刷版は白灯安全性が大きく良化したことを確認
した。
[A:]−6、及び[C]を白色蛍光灯下10分間放置
した。実施例1〜6と同様に露光、現像し、白色蛍光灯
下放置前後の感度変化を調べたところ、比較例〔C〕で
は感度変化が見られたものの、本発明の[A]−1〜〔
A] −6では感度変化はなかった。即ち本発明の感光
性平版印刷版は白灯安全性が大きく良化したことを確認
した。
実施例19〜24
シリコンウェハー上に実施例7〜12の感光液CB]−
1〜CBI −6からオイルブルー#603のみを除去
した感光液[:D]−1〜[D] −6をスピナーで塗
布し、ホットプレート上で90℃において2分間、乾燥
させた。膜厚はり、0μmであった。
1〜CBI −6からオイルブルー#603のみを除去
した感光液[:D]−1〜[D] −6をスピナーで塗
布し、ホットプレート上で90℃において2分間、乾燥
させた。膜厚はり、0μmであった。
次に365nmの単色光の縮小投影露光装置(ステッパ
ー)により露光し、90℃で1分間、後加熱した。その
後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキシドの2.
4%水溶液で60秒間現像することによりレジストパタ
ーンを形成させた。その結果、0.7μmのライン&ス
ペースの良好なパターンが得られた。
ー)により露光し、90℃で1分間、後加熱した。その
後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキシドの2.
4%水溶液で60秒間現像することによりレジストパタ
ーンを形成させた。その結果、0.7μmのライン&ス
ペースの良好なパターンが得られた。
実施例25〜26
シリコンウェハー上に、ノボラック系市販レジストHP
R−204(富士ハントケミカル■製)をスピナーで塗
布し、220℃で1時間乾燥させて下層を形成した。下
層の膜厚は2.0μmであった。
R−204(富士ハントケミカル■製)をスピナーで塗
布し、220℃で1時間乾燥させて下層を形成した。下
層の膜厚は2.0μmであった。
その上に下記感光液[E]をスピナーで塗布し、ホット
プレート上で90℃において2分間乾燥させ、厚さ0.
5μmの塗膜を形成させた。
プレート上で90℃において2分間乾燥させ、厚さ0.
5μmの塗膜を形成させた。
感光液
CEI
なお使用した本発明のシロキサンポリマーは化合物例(
30)及び(37)のシロキサンポリマーであり、分子
量は重量平均(GPC、ポリスチレン標準)で各々3.
500.5.000であった。
30)及び(37)のシロキサンポリマーであり、分子
量は重量平均(GPC、ポリスチレン標準)で各々3.
500.5.000であった。
またシロキサンポリマー中のN−オキシアミドスルホネ
ート又はN−オキシイミドスルホネート基含有シロキザ
ン単位の含量は何れも50モル%であった。
ート又はN−オキシイミドスルホネート基含有シロキザ
ン単位の含量は何れも50モル%であった。
実施例19〜24と同様に露光、現像を行なったところ
、0.7μmのライン&スペースの良好なパターンが得
られた。次いで平行平板型リアクティブイオンエツチン
グ装置を用いて02ガス圧20ミリTorr RFパワ
ー200 mW/cn!の条件下で20分間エツチング
すると上層のレジストパターン(ま完全に下層のHPR
−204に転写され、上下2層から成る高いアスペクト
比のレジストパターンを得ることができた。
、0.7μmのライン&スペースの良好なパターンが得
られた。次いで平行平板型リアクティブイオンエツチン
グ装置を用いて02ガス圧20ミリTorr RFパワ
ー200 mW/cn!の条件下で20分間エツチング
すると上層のレジストパターン(ま完全に下層のHPR
−204に転写され、上下2層から成る高いアスペクト
比のレジストパターンを得ることができた。
即ち本レジストが2層レジスト法の上層レジストとして
使用できることが確S忍された。
使用できることが確S忍された。
[発明の効果]
本発明の感光性組成物は、白灯安全性及び酸素プラズマ
耐性に優れ、増感剤の使用により感度を向上させること
ができ、アルカリ現像可能であり、製造も容易である。
耐性に優れ、増感剤の使用により感度を向上させること
ができ、アルカリ現像可能であり、製造も容易である。
手
続
補
正
書
1.8.21
L$件の表示
平成1年特許願第180738号
2、発明の名称
感
光
性
組
成
物
3、補正をする者
事件との関係
出
願人
名
称
(520)
富士写真フィルム株式会社
4、代
理
人
6、補正の対象
明at書の発明の詳細な説明の欄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )又は(II)で表わされるジエン化合
物と、一般式(III)、(IV)又は(V)で表わされる
オレフィン又はアセチレン化合物との環状熱付加生成物
から由来される構造単位を少なくとも1モル%有するシ
ロキサンポリマーを含有することを特徴とするポジ型感
光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I )▲数式、化
学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III)▲数式、化
学式、表等があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 式中R^1〜R^5は同一でも相異していてもよく、水
素原子、アルキル、アリール、又はアルコキシ基を示し
、R^6〜R^9は同一でも相異していてもよく、水素
原子、ハロゲン原子、シアノ、カルボニル、アルキル、
アリール、アルコキシ基、−SO_2R^1^3、−S
O_3−R^1^3、−CO−R^1^3、−CO−N
H−R^1^3、−COO−R^1^3、又は−Y−A
を示し、R^1^0はアルキル、又はアリール基を示す
。R^1^1、R^1^2は水素原子、アルキル、又は
アリール基を示す。Yは単結合、二価の芳香族又は脂肪
族炭化水素基を示し、Aは▲数式、化学式、表等があり
ます▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、又は ▲数式、化学式、表等があります▼を示す。R^1^3
〜R^1^5は同一でも相異していてもよく、アルキル
又はアリール基を示す。Bは二価のアルキレン、又はア
リーレン基を示し、Zは三価のアルキレン、又はアリー
レン基を示す。X^1、X^2、X^3は同一でも相異
していてもよく、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カルボキ
シ、オキシム、アミド、ウレイド、アミノ、アルキル、
アリール、アラルキル、アルコキシ、アリーロキシ、−
Y−A、▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼の各基を示す。但し
、X^1、X^2、X^3のうち少なくとも2つはハロ
ゲン原子、ヒドロキシ、カルボキシ、オキシム、アミド
、ウレイド、アミノ、アルコキシ又はアリーロキシ基を
示す。 またR^6〜R^8及びYの2つ、又はR^1^1〜R
^1^2が結合して環を形成してもよい。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1180738A JPH0344644A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 感光性組成物 |
DE69029104T DE69029104T2 (de) | 1989-07-12 | 1990-07-11 | Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse |
EP90307611A EP0410606B1 (en) | 1989-07-12 | 1990-07-11 | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
US07/550,446 US5216105A (en) | 1989-07-12 | 1992-07-10 | Silicone polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
US07/936,644 US5252686A (en) | 1989-07-12 | 1992-08-28 | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
US07/936,788 US5338640A (en) | 1989-07-12 | 1992-08-28 | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
US08/003,501 US5278273A (en) | 1989-07-12 | 1993-01-12 | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
US08/003,465 US5276124A (en) | 1989-07-12 | 1993-01-12 | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1180738A JPH0344644A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 感光性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0344644A true JPH0344644A (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=16088450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1180738A Pending JPH0344644A (ja) | 1989-07-12 | 1989-07-13 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0344644A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0359667A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
-
1989
- 1989-07-13 JP JP1180738A patent/JPH0344644A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0359667A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2547626B2 (ja) | モノマーの製造方法 | |
JPH04365049A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH04365048A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0480758A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2648969B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2547627B2 (ja) | ポジ型感光性組成物 | |
EP0410606B1 (en) | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same | |
JP2597163B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH047502B2 (ja) | ||
JP2607162B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2598998B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0344644A (ja) | 感光性組成物 | |
US5252686A (en) | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same | |
JPH03206461A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH048783B2 (ja) | ||
US5276124A (en) | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same | |
JP2736939B2 (ja) | 機能性基含有ポリシロキサンの合成法 | |
JP2704319B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0346663A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0297948A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH05100429A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2684246B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH02105156A (ja) | 感光性組成物 | |
JP2704331B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0297949A (ja) | 感光性組成物 |