JPH0359667A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、更には半導体素子の集積回
路を製造する際に微細なレジストパターンを形成するこ
とが可能なポジ型感光性組放物に関する。

［従来の技術］ ０−ナフトキノンジアジド化合物とノボラック型フェノ
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印刷版の製造に用いられてきた。

しかし主体として用いられるノボラック型フェノール樹
脂の性質上、基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がも
ろいこと、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印
刷版に用いた時の耐刷力が十分でないこと等の問題点が
ある。

一方、半導体素子、磁気バブルメモリ、集積回路等の電
子部品を製造するためのパターン形成法としては、従来
より、紫外線又は可視光線に感光するフォトレジストを
利用する方法が幅広く実用に供されている。フォトレジ
ストには、光照射により被照射部が現像液に不溶化する
ネガ型と、反対に可溶化するポジ型とがあるが、ネガ型
はポジ型に比べて感度が良く、湿式エツチングに必要な
基板との接着性および耐薬品性にも優れていることから
、近年までフォトレジストの主流を占めていた。しかし
、半導体素子等の高密度化、高集積化に伴ない、パター
ンの線幅や間隔が極めて小さくなり、また、基板のエツ
チングにはドライエツチングが採用されるようになった
ことから、フォトレジストには高解像度および高ドライ
エツチング耐性が望まれるようになり、現在ではポジ型
フォトレジストが大部分を占めるようになった。特に、
ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像度、ドライ
エツチング耐性に優れることから、例えばジェー・シー
・ストリエータ著、コダック・マイクロエレクトロニク
ス・セミナー・プロシーデインゲス、第１１６頁（１９
７６年）　　（Ｊ、　　Ｃ。

５ｔｒｔｅｔｅｒ、Ｋｏｄａｋ　　Ｍｔｃｒｏｅｌｅｃ
ｔｒｏｎｉｃｓ　　ＳｅｍｉｎａｒＰｒｏｃｅｅｄｉｎ
ｇｓ　、　　１１６　（１９７６）　）等に挙げられる
、アルカリ可溶性のノボラック樹脂をベースにしたアル
カリ現像型のポジ型フォトレジストが現行プロセスの主
流となっている。

しかしながら、近年電子機器の多機能化、高度化に伴な
い、更に高密度、ならびに高集積化を図るべくパターン
の微細化が強く要請されている。

即ち、集積回路の横方向の寸法の縮小に比べてその縦方
向の寸法はあまり縮小されていかないために、レジスト
パターンの幅に対する高さの比は大きくならざるを得な
かった。このため、複雑な段差構造を有するウェハー上
でレジストパターンの寸法変化を押さえていくことは、
パターンの微細化が進むにつれてより困難になってきた
。更に、各種の露光方式においても、最小寸法の縮小に
伴ない問題が生じてきている０例えば、光による露光で
は、基板の段差に基づく反射光の干渉作用が、寸法精度
に大きな影響を与えるようになり、一方電子ビーム露光
においては、電子の後方散乱によって生ずる近接効果に
より、微細なレジストパターンの高さと幅の比を大きく
することができなくなった。

これらの多くの問題は多層レジストシステムを用いるこ
とにより解消されることが見出された。

多層レジストシステムについては、ソリッドステート・
テクノロジー、７４　（１９８１）［５ｏｌｉｄ　５ｔ
ａｔｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　、　７４　（１９８１
）　］に概説が掲載されているが、この他にもこのシス
テムに関する多くの研究が発表されている。−船釣に多
層レジスト法には３層レジスト法と２層レジスト法があ
る。３層レジスト法は、段差基板上に有機平坦化膜を塗
布し、その上に、無機中間層、レジストと重ね、レジス
トをバターニングした後、これをマスクとして無機中間
層をドライエツチングし、さらに、無機中間層をマスク
として有機平坦化膜を０ｔＲＩＥ　（リアクティブイオ
ンエツチング）によりパターニングする方法である。こ
の方法は、基本的には、従来からの技術が使用できるた
めに、早くから検討が開始されたが、工程が非常に複雑
である。あるいは有機膜、無機膜、有機膜と三層物性の
異なるものが重なるために中間層にクランクやピンホー
ルが発生しやすいといったことが問題点になっている。

この３層レジスト法に対して、２層レジスト法では、３
層レジスト法でのレジストと無機中間層の両方の性質を
兼ね備えたレジスト、すなわち、酸素プラズマ耐性のあ
るレジストを用いるために、クランクやピンホールの発
生が抑えられ、また、３層法から２層になるので工程が
簡略化される。しかし、３層レジスト法では、上層レジ
ストに従来のレジストが使用できるのに対して、２層レ
ジスト法では、新たに酸素プラズマ耐性のあるレジスト
を開発しなければならないという課題があった。

以上の背景から、２層レジスト法等の上層レジストとし
て使用できる酸素プラズマ耐性に優れた、高感度、高解
像度のポジ型フォトレジスト、特に、現行プロセスを変
えることなく使用できるアルカリ現像方式のレジストの
開発が望まれていた。

これに対し、従来のオルトキノンジアジド感光物に、ア
ルカリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシル
メチレン等のシリコンポリマーを組合せた感光性組成物
、例えば特開昭６１−１４４６３９号、同６１−２５６
３４７号、同６２−１５９１４１号、同６２−１９１８
４９号、同６２−２２０９４９号、同６２−２２９１３
６号、同６３−９０５３４号、同６３−９１６５４号、
並びに米国特許第４７２２８８１号記載の感光性組成物
、更には特開昭６２−１３６６３８号記載のポリシロキ
サン／カーボネートのブロック共重合体に有効量のオニ
ウム塩を組合せた感光性Ｕ酸物が提示されている。

しかしながら、これらのシリコンポリマーは何しモフェ
ノール性ＯＨ基又はシラノール基（３Ｓｉ−ＯＨ）導入
により、アルカリ可溶性を付与するもので、フェノール
性ＯＨ基導入によりアリカリ可溶性を付与する場合は、
製造が著しく困難となり、またシラノール基によりアル
カリ可溶性を付与する場合は経時安定性が必ずしも良好
ではない、という問題点があった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、上記問題点が解決された新規なポジ型
感光性組成物を提供することである。即ち基板との密着
性、塗布性に優れた新規な平版印刷版用ポジ型感光性組
成物を提供することである。

本発明の別の目的は、酸素プラズマ耐性に優れた、アル
カリ現像方式によるポジ型感光性組成物を提供すること
である。

更に本発明の別の目的は製造が簡便で、容易に取得でき
る新規なポジ型感光性組成物を提供することである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果、以下に述べる新規ポジ型感光性組成物を用いること
で上記目的が達成されることを見い出した。即ち本発明
は（ａ）一般式（１）、（ｎ）、（ＩＩＩ）、（ＩＩＩ
）で表される化合物（以下（Ａ）という）と、一般式（
Ｖ）、（ＶＩ）（ＶＩＩ）、（■）または（ＶＩＩＩ）
で表される化合物（以下（Ｂ）という）との環化熱付加
反応生成物から由来されるシロキサン単位を少なくとも
１モル％含有するポリシロキサン化合物と、 （ｂ） キノンジアジド化合物 とを含有する感光性組成物を提供するものである。

１（′′ Ｘ＋ Ｑ−Ｐ’−ＣミＣ−Ｒ’　　　　　　　（ＶＩＩＩ）（
式中Ｒ１，、Ｒ％は同一でも相異していても良く、水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、シリル基、置換シリル基、シロキシ基また
は置換シロキシ基を示す。具体的には、アルキル基とし
ては直鎖、分枝または環状のものであり、好ましくは炭
素原子数が約１ないし約１０のものである。さらに具体
的には、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、ｔｅｒ　ｔ−ブチル基、２−エチ
ルヘキシル基、シクロヘキシル基などが含まれる。

また、置換アルキル基は、上記のようなアルキル基に例
えば塩素原子のようなハロゲン原子、例えばメトキシ基
のような炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、例えばフ
ェニル基のようなアリール基、例えばフェノキシ基のよ
うなアリールオキシ基、ニトロ基、シアノ基などの置換
したものが含まれ、具体的にはモノクロロメチル基、ジ
クロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基
、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−メト
キシエチル基、２−エトキシエチル基、フェニルメチル
基、ナフチルメチル基、フェノキシメチル基、２−ニト
ロエチル基、２−シアノエチル基などが挙げられる。ま
た、アリール基は単環あるいは２環のものが好ましく、
例えばフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基な
どが挙げられる。

置換アリール基は上記のようなアリ−Ｊし基に、例えば
メチル基、エチル基などの炭素原子数１〜６個のアルキ
ル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭素原子数
１〜６個のアルコキシ基、例えば塩素原子などのハロゲ
ン原子、ニトロ基、フェニル基、カルボキシ基、ヒドロ
キシ基、アミド基、イミド基、シアノ基などが置換した
ものが含まれ、具体的には４−クロロフェニル基、２−
クロロフェニル基、４−ブロモフェニル基、４−ニトロ
フェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、４−フェニル
フェニル基、４−メチルフェニル基、２−メチルフェニ
ル基、４−エチルフェニル基、４−メトキシフェニル基
、２−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、
２−カルボキシフェニル基、４−シアノフェニル基、４
−メチル−１−ナフチル基、４−クロロ−１−ナフチル
基、５−ニトロ−１−ナフチル基、５−ヒドロキシ−１
−ナフチル基、６−クロロ−２−ナフチル基、４−ブロ
モ−２−ナフチル基、５−ヒドロキシ−２−ナフチル基
などがあげられる。シリル基、置換シリル基としては例
えばトリアルキルシリル基、トリアリールシリル基など
のようなアルキル、アリール置換シリル基であり、この
ようなアルキル、アリール基としては上記に示したもの
が挙げられる。

また、シロキシ基もしくは置換シロキシ基である場合に
は、下記に示すように、これらの基が隣接する構造単位
のシロキシ基もしくは置換シロキシ基と結合した構造、
または、他の分子中のシロキシ基もしくは置換シロキシ
基と結合した構造などの二次元もしくは三次元的構造の
ものであってもよい。

Ｒ６は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換子り−ル基、 アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基の具体例はそれぞれＲ１，Ｒ５の具体例と同様なも
のがあげられる。

Ｒ７−Ｒ９は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−−ＣＯ−−ｃｏ
ｏ−−ｏｃｏ−１ＣＯＮＲ”　　　　ＮＲ”ＣＯＳｏｗ
−または一５Ｏ１−を含んでいてもよい。このうちアル
キル基、置換アルキル基で好ましいのは、それぞれ炭素
数が１〜１０のものであり、アリール基、置換アリール
基についてはそれぞれ炭素数が６〜１４のもので、その
具体例としてはそれぞれＲ１−Ｒ５の具体例と同様のも
のが挙げられる。

ＲＩＯは水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基または置換アリール基を示し、好ましくは水素原
子、炭素数が１〜１０のアルキル基、炭素数が１−１０
の置換アルキル基、炭素数が６〜１４のアリール基、炭
素数が６〜１４の置換アリール基であり、アルキル基、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基の具体例
としてはそれぞれＲ’−Ｒ’の具体例と同様のものが挙
げられる。

Ｒ７とＲ１またはＲ７とｐ＋は結合して環を形成してい
ても良い。

Ｘ　ｌ、、Ｘ　２はヒドロキシ基または加水分解可能な
基であり、好ましくは塩素原子、臭素原子などのハロゲ
ン原子、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などの
ような炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基、フェノキ
シ基などのような炭素原子数６〜ＩＯ個のアリーロキシ
基、アセトキシ基などのような炭素原子数１〜１０個の
アシルオキシ基、メチルアルドキシムなどのような炭素
原子数１〜６個のオキシム基、更には、アミド基、ウレ
イド基、アくノ基などが含まれる。

Ｐ１〜Ｐ３は単結合、アルキレン基、置換アルキレン基
、アリーレン基または置換アリーレン基を示し、−〇−
１−ＣＯ−１−Ｃ○ｏ−−ｏｃｏ−ＣＯＮＲＩｏ　　　
ＮＲ”Ｃｏ　　　　５Ｃｈ−または−３０３−を含んで
いてもよい。

具体的には、アルキレン基としては、直鎖、分枝、環状
のもの、より好ましくは直鎖のものであり、好ましくは
炭素原子数が１〜１０個のものであって、例えばメチレ
ン、エチレン、ブチレン、オクチレンなとの多基が含ま
れる。置換アルキレン基は、上記アルキレン基に、例え
ば塩素原子のようなハロゲン原子、炭素原子数１〜６個
のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０個のアリーロキシ
基などが置換されたものである。アリーレン基は、好ま
しくは単環および２環のものであって、例えばフェニレ
ン基、ナフチレン基などが含まれる。

また置換アリーレン基は、上記のようなアリーレン基に
、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数１〜６個
のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭
素原子数１〜６個のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子などが置換したものが含まれる。具体的
にはクロロフェニレン基、ブロモフェニレン基、ニトロ
フェニレン基、フェニルフェニレン基、メチルフェニレ
ン基、エチルフェニレン基、メトキシフェニレン基、エ
トキシフェニレン基、シアノフェニレン基、メチルナフ
チレン基、クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基、
ニトロナフチレン基などがあげられる。

Ｙは３価の芳香環を示し、好ましくは炭素数が６〜１４
の芳香環である。

ＱはｐＫａが１２以下の酸基を示す。

具体的には、カルボン酸基、スルホン酸基、フェノール
性水酸基、イミド基、Ｎ−ヒドロキシイミド基、Ｎ−ス
ルホニルアミド基、スルホンアミドＬ　Ｎ−スルホニル
ウレタン基、Ｎ−スルホニルウレイド基あるいは活性メ
チレン基等を有する基であり、より具体的には ｃｏｚｔｒ ＯｓＨ （ｍは１〜５の整数を示す） −ＳＯ□ＮＨＲ”　　　　　　　−Ｃ０ＮＨＣＯ−Ｒ”
−ＣＯＮ　（ＯＨ）　ＧＯ−Ｒ’°　　　−５Ｏ２ＮＨ
ＣＯＮＨＲ１０，５Ｏ３ＮＨＣＯＯＲ”　　　　　ＮＨ
ＳＯｔＮＨＣＯＲ１０−Ｃ０Ｃ）Ｉ　ｚｃｏ　−Ｒ’。

がその例として挙げられる。

７ ） −ＣＯ−Ｎ−ＣＯ−−Ｙ””　　−（ＰＩ−Ｑ）ｎｌ　
　Ｑ を示す。Ｙ　ｎ　＊　２は（ｎ＋２）価の芳香環で好ま
しくは炭素数が６〜１ ４個の芳香環を示す。

ｎは１ 〜３の整数を示す。

以下Ｚの具体例を示す。

−ＣＯＮＨＣＯ− −ＣＯＮ　（ＯＨ）　ＧＯ− 以下に本発明の感光性組成物の成分について詳細に説明
する。

（ポリシロキサンヒム 本発明のポリシロキサン化合物は（Ａ）とＣＢ）の熱付
加反応、即ちＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応で得られる環
状生成物（ＩＸ）〜（ＸＸＩＶ）から由来されるシロキ
サン単位を少なくとも１モル％、好ましくは３モル％以
上さらに好ましくは５モル％以上有するポリシロキサン
である。

（ＩＸ） （ＸＩ） （Ｘ） （ＸＩｒ） （ＸＩ［Ｉ） （ＸＶ） （ＸＩＶ） （ＸＶＩ） （Ｘ■） （ＸＩＸ） （Ｘ■） （ＸＸ） ＜ＸＸＸ＞ （ＸＸＩＩ） （ＸＸＩ［Ｉ）　　　　　　　　　　　（ＸＸＩＶ）本
発明のポリシロキサン化合物の製造法としては、単独ま
たは複数の（Ａ）を加水分解、またはアルコキシ化した
後、縮合し、得られたポリシロキサンに単独または複数
の〔Ｂ〕を熱付加させる方法と、単独または複数の〔Ａ
〕と単独または複数の〔Ｂ〕を熱付加して（ＩＸ）〜（
ＸＸＩ’Ｖ）を台底した後、加水分解、またはアルコキ
シ化の後、縮合する方法があり、いずれの方法も簡便で
ある。

また、製造時に金属触媒を添加する必要がない。

本発明のポリシロキサンは（ＩＸ）〜（ＸＸＩＶ）に下
記（ＸＸＶ）〜（ＸＸＩＸ）の単独または複数を共存さ
せ、縮合させることにより性能の改善をはかることがで
きる。

この場合は〔Ａ〕とＣＢ〕の環化熱付加反応生成物から
由来されるシロキサン単位が共縮合後のポリシロキサン
中に少なくとも１モル％含まれていなければならないが
、アルカリ可溶性の観点から３モル％以上が好ましく、
さらに好ましくは５モル％以上である。

４ Ｒ”　−３ｉ−Ｘ’ ×６ （ＸＸＶ） ４ １１ 一５ｔ−Ｘ’ ｌ２ （ＸＸＶＩ） Ｒ１１〜Ｒ１４は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を示し具体的にはＲ”
と同様な例が挙げられる。

Ｘ４〜Ｘ７はヒドロキシル基あるいは、加水分解可能な
基を示し、具体的にはＸ１〜Ｘ３と同様な例が挙げられ
る。

Ｒ４は単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アリ
ーレン基、置換アリーレン基であり、−〇−１−ｃｏ−
−ｃｏｏ−−ｏｃｏ−−ＣＯＮＲＩｏ−１−ＮＲＩ’Ｃ
０−５−３Ｏ□−１−ＳＯ，−を含んでいてもよい。具
体的にはｐｌ〜Ｐ３と同様な例があげられる。

そのほか本発明のポリシロキサン化合物は（Ａ）とＣＢ
）の熱付加の際に下記（ＸＸＸ）あるいは（ＸＸＸＩ）
の化合物の単独または複数を共存させる事によっても性
能改善を図ることができる。

ＤＩ−Ｃ５Ｃ−Ｄ”　　　（ＸＸＸＩ）ＤＩ、Ｄ２は同
一であっても異なっていてもよく、結合して環を形成し
ていてもよいが、いずれもｐＫａが１２以下の酸性基を
有しない基で、好ましくは水素原子、アルキル基、置換
アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルコキシ
基、置換アルコキシ基、シリル基、置換シリル基、シロ
キシ基、置換シロキシ基、シアノ基、ニトロ基であり、
さらに好ましくは水素原子、炭素数が１〜１０のアルキ
ル基、炭素数が１〜１０の置換アルキル基、炭素数が６
〜１４のアリール基、炭素数が６〜１４の置換アリール
基である。なお、これらは−〇−１−ＣＯ−−ＣＯ０−
−〇Ｃ０−−ＣＯＮＲ”−１−ＮＲ”ＣＯ−−３ｏ、−
または一５Ｏ１−を含んでいてもよい。

この場合も（Ａ）とＣＢ）の熱付加反応生成物に由来す
るシロキサン単位がポリシロキサン化合物中に少なくと
も１モル％以上含まれており好ましくは３モル％以上さ
らに好ましくは５モル％以上である。

本発明のポリシロキサン化合物の分子量は好ましくは重
量平均で５００以上、さらに好ましくは１．０００〜５
００，０００である。

本発明のポリシロキサン化合物を台底する際に溶媒を用
いても良い。溶媒としては例えばシクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール
、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセ
テート、１−メトキシ−２−プロパツール、１−メトキ
シ−２−プロピルアセテ−）、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、γ−ブチロラクトン、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等が挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは２
種以上混合して用いられる。

本発明のポリシロキサン化合物は単独で用いても混合し
て用いても良い。感光性組成物中に含まれるこれらのポ
リシロキサン化合物の含有量は約５〜９５重量％であり
、好ましくは約２０〜８０重量％である。

以下本発明のポリシロキサン化合物の代表的な例を示す
。

）υ３ｔｌ （キノンジアジド化合物） 本発明に用いられるキノンジアジド化合物は一般にスル
ホニルクロライド等のハロゲノスルホニル基を４位又は
５位に有する１、２−ナフトキノン−２−ジアジド化合
物と、モノ又はポリヒドロキシフェニル化合物との化学
的な縮合で得られるスルホニル酸エステル化合物として
表わすことができる。このようなモノ又はポリヒドロキ
シフェニル化合物として代表的なものはヒドロキシ基を
有するベンゾフェノン化合物であり、−例を挙げると、
４−ヒドロキシベンゾフェノン、２．４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、２．２”−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、４．４′−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，３．
４−）ジヒドロキシベンゾフェノン、２．４．６−トリ
ヒドロキシベンゾフエノン、２，４．４’−）ジヒドロ
キシベンゾフェノン、２，３，４．４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン、２．２”、４．４”−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４．２’テトラヒドロ
キシベンゾフエノン、３．３’、４゜４′−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンの他、特開昭６２−１５０２４５
号公報に示されているようなヒドロキシ基を５個以上有
するベンゾフェノン、並びにその誘導体が含まれる。更
にｐ−クレゾール、ｐ−ｔ−７”チルフェノール、レゾ
ルシン、ピロガロールや２，３．４−）リヒドロキシア
セトフェノン、２，３．４−）ジヒドロキシフェニルペ
ンチルケトン、２，３．４−）ジヒドロキシフェニルへ
キシルケトン等のポリヒドロキシフェニルアルキルケト
ン類、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、
ビス（２，３，４−）ＩＪヒドロキシフェニル）メタン
、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン−１
、ビス（２゜３．４−）ジヒドロキシフェニル）プロパ
ン−１、ノルジヒドログアイアレチン酸等のビス（（ポ
リ）ヒドロキシフェニル）アルカン類、３，４．５−ト
リヒドロキシ安息香酸プロピル、２，３．４−トリヒド
ロキシ安息香酸フェニル、３，４．５−トリヒドロキシ
安息香酸フェニル等のポリヒドロキシ安息香酸エステル
類、ビス（２，３，４−）リヒドロキシベンゾイル）メ
タン、ビス（３−アセチル−４，５，６−トリヒドロキ
シフエニル）−メタン、ビス（２，３，４−）リヒドロ
キシベンゾイル）ベンゼン、−ビス（２，４，６−ト１
）ヒドロキシベンゾイル）ベンゼン等のビス（ポリヒド
ロキシベンゾイル）アルカン又はビス（ポリヒドロキシ
ベンゾイル）アリール類、エチレングリコールージ（３
，５−ジヒドロキシベンゾエート）、エチレングリコー
ルージ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾエート）等
のアルキレンージ（ポリヒドロキシベンゾエート）類、
２．３．４−ビフェニルトリオール、３，４．５−ビフ
ェニルトリオール、３，５．３”、５”−ビフェニルテ
トロール、２，４．２’、４”−ビフェニルテトロール
、２，４，６．３’、５”−ビフェニルベントール、２
，４，６．２”、４’、６”−ビフェニルヘキソール、
２．３，４．２’　　３’４′−ビフェニルヘキソール
等のポリヒドロキシビフェニル類、４．４′−チオビス
（１，３’ジヒドロキシ）ベンゼン等のビス（ポリヒド
ロキシ）スルフィド類、２．２′、４．４′−テトラヒ
ドロキシジフェニルエーテル等のビス（ポリヒドロキシ
フェニル）エーテル類、２．２’、４゜４′−テトラヒ
ドロキシジフェニルスルフオキシド等のビス（ポリヒド
ロキシフェニル）スルフオキシド類、２．２”、４．４
”−ジフェニルスルフォン等のビス（ポリヒドロキシフ
ェニル）スルフォン類、４．４’、３“、４“−テトラ
ヒドロキシ−３，５，３”、５”−テトラメチルトリフ
ェニルメタン、４．　　４”、２”、３’、４’ペンタ
ヒドロキシ−３，５，３’、５”−テトラメチルトリフ
ェニルメタン、２，３，４．２’３′　４′−へキサヒ
ドロキシ−５，５′−ジアセチルトリフェニルメタン、
２，３，４．２’３’　　４’　　３’　　４’−オク
タヒドロキシ−５゜５′−ジアセチルトリフェニルメタ
ン、２，４゜６．２”、４′、６”−へキサヒドロキシ
−５゜５′−ジブロビオニルトリフェニルメタン等のポ
リヒドロキシトリフェニルメタン類、３，３゜３′　３
′−テトラメチル−１，１′−スピロビーインダン−５
，６，５’、６’−テトロール、３．３．３’、３”−
テトラメチル−１，１′スピロビーインダン−５，６，
７，５’、６　′７′−へキソオール、３．３．３’、
３゛−テトラメチル−１，１゛−スピロビーインダン−
４゜５．６．４′、５”、６”−へキソオール、３゜３
．３’、３″−テトラメチル−１，１′−スピロビーイ
ンダン−４，５，６，５’、６”、７′−へキソオール
等のポリヒドロキシスピロビーインダンｉ、３．３−ビ
ス（３，４−ジヒドロキシフェニル）フタリド、３．３
−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）フタリ
ド、３′４’　　５’　　６”−テトラヒドロキシスピ
ロ〔フタリド−３，９′−キサンチン〕等のポリヒドロ
キシフタリド類、あるいはモリン、ケルセチン、ルチン
等のフラボノ色素類等を用いることができる。また更に
、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂または、０−１ｍ
−１又はｐ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂なども
本発明に使用できる。

また同じく特開昭５６−１０４５号公報、特開昭５６−
１０４４号公報、特公昭４３−２８４０３号公報および
特公昭４９−２４３６１号公報等に開示された多価フェ
ノール類とアルデヒド・ケトン類との縮合物、特開昭５
９−８４２３８号公報、特開昭５９−８４２３９号公報
に開示されたカテコール、レゾルシン、又はハイドロキ
ノンと置換フェノール類とのアルデヒド・ケトン類によ
る共縮合物、特開昭６０−３１１３８号公報記載の置換
フェノールとベンズアルデヒドとの縮合物のほか、フェ
ノールと０−５ｍ−１又はＰ−クレゾール等の置換フェ
ノールとのアルデヒド・ケトン類による共縮合物、ｐ−
ヒドロキシスチレンポリマー等も使用できる。

本発明に使用される１、２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−４−及び／又は５−スルホン酸エステル化合物は、
上記モノ又はポリヒドロキシフェニル化合物の１種又は
２種以上と、１．２−ナフトキノン−２−ジアジド−４
−及び／又は５−スルホニルハライドを反応媒質中、塩
基性触媒存在下で反応させることにより合成される。１
，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は５
−スルホニルハライドの使用量は、ポリヒドロキシフェ
ニル化合物の水酸基の数によって適宜調整され、特に限
定されるものではないが、通常、水酸基１当量に対して
０１１〜１モルである。

塩基性触媒としては、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド等のアミン類、または水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無
機アルカリ類が用いられる。

これらの塩基性触媒の使用量は、１．２−ナフトキノン
−２−ジアジド類１モル当たり、通常、０．８〜２．０
モル、好ましくは１．０〜１．５モルである。

前記反応において、通常、反応媒質として、例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状
エーテル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の
環状ケトンｌ、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトア
ミド等のアミド類、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン
、炭酸プロピレン等のエステル類、ピロリドン、Ｎ−メ
チルピロリドンまたは水が用いられる。これらの反応媒
質の使用量は、ヒドロキシフェニル化合物１００重量部
に対して、通常、１００〜１ｏｏｏ重量部である。また
、この反応の反応温度は、通常、−３０〜６０″Ｃ１好
ましくは０°Ｃ〜４０°Ｃである。

これらの１．２−ナフトキノン−２−ジアジド化合物の
添加量は全組成物の固形分に対し５〜７０ｗｔ％、好ま
しくは１０〜５０ｗｔ％である。

（アルカリ可溶性ポリマー） 本発明のポジ型感光性組底物には、上記ポリシロキサン
化合物及びキノンジアジド化合物に、更にアルカリ可溶
性ポリマーを添加してもよい。

このようなアルカリ可溶性ポリマーは、好ましくはフェ
ノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基、イミド
基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、Ｎ−
スルホニルウレタン基、活性メチレン基等のｐＫａ１１
以下の酸性水素原子を有するポリマーである。好適なア
ルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラック型フェノー
ル樹脂、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹脂、
０−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、キシレノール−ホルムアルデヒド樹脂、ま
たこれらの共縮合物などがある。

更に特開昭５０−１２５８０６号公報に記載されている
様に上記のようなフェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数３〜８の
アルキル基で置換されたフェノールまたはクレゾールと
ホルムアルデヒドとの縮合物とを併用してもよい。また
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドのよ
うなフェノール性ヒドロキシ基含有モノマーを共重合成
分とするポリマー　ｐ−ヒドロキシスチレン、Ｏ−ヒド
ロキシスチレン、ｍ−イソプロペニルフェノール、ｐ−
イソプロペニルフェノール等の単独又は共重合のポリマ
ー、更にまたこれらのポリマーを部分エーテル化、部分
エステル化したポリマーも使用できる。

更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含
有モノマーを共重合成分とするポリマー特開昭６１−２
６７０４２号公報記載のカルボキシル基含有ポリビニル
アセタール樹脂、時開［６３−１２４０４７号公報記載
のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用さ
れる。

更にまた、Ｎ−（４−スルファモイルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−フェニルスルホニルメタクリルアミド
、マレイミドを共重合成分とするポリマー、特開昭６３
−１２７２３７号公報記載の活性メチレン基含有ポリマ
ーも使用できる。

これらのアルカリ可溶性ポリマーは単独で使用できるが
、数種の混合物として使用してもよい。

感光性組成物中の好ましい添加量は、感光性組成物全固
形分に対し、１〜９０−ｔ％、更に好ましくは５〜８０
−ｔ％の範囲である。

（その他の好ましい成分） 本発明の組成物中には、感度を高めるために環状酸無水
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤としての染料やその他のフィラーなどを加えること
ができる。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５
．１２８号明細書に記載されているような無水フタル酸
、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、３，６−ニンドオキシーΔ４−テトラヒ６ドロ無水
フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸
、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸
、無水コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環
状酸無水物を全組成物の固形分に対して１から１５重量
％含有させることによって感度を最大３倍程度に高める
ことができる。露光後直ちに可視像を得るための焼出し
剤としては露光によって酸を放出する感光性化合物と塩
を形威し得る有機染料の組合せを代表として挙げること
ができる。具体的には特開昭５０−３６２０９号公報、
特開昭５３−８１２８号公報に記載されている０−ナフ
トキノンジアジド−４−スルホン酸ハライドと塩形成性
有機染料の組合せや特開昭５３−３６２２３号、同５４
−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３
７４８号、同６１−１５１６４４号、同６３−５８４４
０号公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形
成性有機染料の組合せを挙げることができる。画像の１
着色剤として前記の塩形成性有機染料以外に他の染料も
用いることができる。塩形成性有機染料を含めて好適な
染料として油溶性染料および塩基染料をあげることがで
きる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイ
エロー＃１３０．オイルピンク＃３１２゜オイルグリー
ンＢＧ、オイルブルーＢＯ３，オイルブルー＃６０３、
オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラ
ックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業株式会社製
）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット
（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５
３５）、ローダミンＢ　（Ｃ１１４５１７０Ｂ）、マラ
カイトグリーン（ＣＩ４２０００）メチレンブルー（Ｃ
Ｉ５２０１５）などをあげることができる。また、特開
昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特
に好ましい。

ユ’ａ　　Ｗ） 本発明のポジ型感光性組成物を、平版印刷版用の材料と
して使用する場合は上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。また半導体等のレジスト材料用
としては、溶媒に熔解したままで使用する。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、メタノール、エタノール、プロパツール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロ
パツール、エチレングリコールモノエチルエーテル、２
−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロ
ピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸
エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｔ−ブ
チロラクトン、トルエン、酢酸エチル、エチルセロソル
ブアセテートなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは
混合して使用する。そして上記成分中の濃度（添加物を
含む全固形分）は、２〜５０重量％である。また、塗布
して使用する場合塗布量は用途により異なるが、例えば
感光性平版印刷版についていえば一般的に固形分とし、
て０．５〜３．０ｇ／ボが好ましい。塗布量が少くなる
につれて感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する
。

（平版　刷版等の製゛告） 本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば、紙、プラスチ
ックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウ
ム（アルミニウム合金も含む。）、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよう
なプラスチックのフィルム、上記の如き金属がうξネー
ト、もしくは蒸着された祇もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。

これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著し
く安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更
に、特公昭４８−１８３２７号公報に記されているよう
なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウ
ムシートが結合された複合体シートも好ましい。アルミ
ニウム板の表面はワイヤブラシダレイニング、研磨粒子
のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブ
ラシグレイニング、ボールダレイニング、溶体ホーニン
グによるグレイニング、バフグレイニング等の機械的方
法、ＨＦやＡｌｃｌｚ　、ＨＣｌをエッチャントとする
ケミカルグレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電
解グレイニングやこれらの粗面化法を複合させて行なっ
た複合グレイニングによって表面を砂目室てした後、必
要に応じて酸又はアルカリによりエツチング処理され、
引続き硫酸、リン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルフ
ァミン酸またはこれらの混酸中で直流又は交流電源にて
陽極酸化を行いアルミニウム表面に強固な不動態皮膜を
設けたものが好ましい。この様な不動態皮膜自体でアル
ミニウム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じ
て米国特許第２．７１４，０６６号明細書や米国特許第
３．１８１．４６１号明細書、に記載されている珪酸塩
処理（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、米国特許
第２，９４６，６３８号明細書に記載されている弗化ジ
ルコニウム酸カリウム処理、米国特許第３．２０１，２
４７号明細書に記載されているホスホモリブデート処理
、英国特許第１．１０８．５５９号明細書に記載されて
いるアルキルチタネート処理、独国特許第１．０９１．
４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、
独国特許第１，１３４．０９３号明細書や英国特許第１
．２３０．４４７号明細書に記載されているポリビニル
ホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載さ
れているホスホン酸処理、米国特許第３．３０７．９５
１号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５
８−１６８９３号や特開昭５８−１８２９１号の各公報
に記載されている親水性有機高分子化合物と２価の金属
よりなる複合処理、特開昭５９−１０１６５１号公報に
記載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下
塗によって親水化処理を行ったものは特に好ましい、そ
の他の親水化処理方法としては米国特許第３，６５８．
６６２号明細書に記載されているシリケート電着をもあ
げることが出来る。

また砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は有機
塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって
行われる。

活　　　龜　　は　　・　　） 本発明の感光性組成物の露光に用いられる活性光線の光
源としては例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キ
セノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯など
がある。放射線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、
遠紫外線などがある。

好ましくはフォトレジスト用の光源として、ｇ線、ｉ線
、Ｄｅｅｐ　−Ｕ　Ｖ光が使用される。また高密度エネ
ルギービーム（レーザービーム又は電子、％％）による
走査露光も本発明の感光性組成物に使用することができ
る。このようなレーザービームとしてはヘリウム・ネオ
ンレーザ−、アルゴンレーザークリプトンイオンレーザ
−、ヘリウム・カドミウムレーザー、ＫｒＦエキシマ−
レーザーなどが挙げられる。

ユ」Ｉｌ建［ 本発明のポジ型感光性組放物に対する現像液としては、
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤及
びテトラアルキルアンモニウムＯＨ塩などのような有機
アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が０，
１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％になるよ
う添加される。

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。

〔発明の効果〕

本発明のポジ型感光性組酸物は基板との密着性、塗布性
、ならびに酸素プラズマ耐性に優れており、またアルカ
リ現像が可能である。また製造が簡便で、容易に取得で
きる。

〔実施例〕

以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。

合成例１゜ （本発明のポリシロキサン（化合物例５０））マレイミ
ド７．３ｇ、２−）リメトキシシリル−１，３−ブタジ
ェン１３．１　ｇをジオキサン５００−に溶解し、１０
０″Ｃで１時間反応させた。反応液にフェニルトリエト
キシシラン１０２ｇを加えた後、蒸留水１０ｄと塩酸０
．２　ｍを加えて３０分加熱濃縮した。

濃縮液を蒸留水２０００ｉｄに撹拌しながら投入し、析
出した固体を減圧下乾燥することにより目的のポリシロ
キサン５１ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ１２
００であった 合成例２゜ （本発明のポリシロキサン（化合物例３９））アセチレ
ンジカルボン酸１１．４ｇ、２−トＩＪメトキシシリル
ー１，３−ブタジェン１７．４ｇ、）リルトリメトキシ
シラン１２２．６　ｇをジオキサンを溶媒として合成例
１と同様な方法で反応させ、目的のポリシロキサン４３
ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ８６
００であった。

合成例３゜ （本発明のポリシロキサン（化合物例２５））Ｎ−（ｐ
−ヒドロキシフェニル）マレイミド１８．９ｇ、２−）
リフトキシシリル−１，３−ブタジエン１７．４　ｇを
エチレングリコールモノメチルエーテル５００−を溶媒
として合成例１と同様な方法で反応させて褐色の目的物
１８ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ３３
００であった。

金虞舊玉 （本発明のポリシロキサン（化合物例２７））Ｎ−（ｐ
−スルファモイル）マレイミド２５．２ｇ、２−トリメ
トキシシリル１，３−ブタジェン１７、４　ｇをＮ、Ｎ
−ジメチルアセトアミド５００−を溶媒として合成例１
と同様な方法で反応させ、褐色の目的物３６ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ２３
００であった。

合成例５゜ （本発明のポリシロキサン（化合物例（４４）　）Ｎ−
（ｐ−１ルエンスルホニル）アクリルアミド２２．５ｇ
、２−１リメトキシシリル−１，３−ブタジェン１７．
４　ｇ、４−クロロフェニルトリメトキシシラン６４ｇ
をエチレングリコールモノメチルエーテル５００ｒｕ１
を溶媒として合成例１と同様な方法で反応させて目的物
４０ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ４７
００であった。

合成例６゜ （本発明のポリシロキサン（化合物例（５７））アセト
アセトキシエチルアクリレート１０．０ｇ。

１−トリメトキシシリル−１□　３−ブタジェン１７．
４ｇ、Ｎ−フェニルアクリルアミド８．４ｇをジオキサ
ンを溶媒として合成例１と同様な方法で反応させ、目的
のポリシロキサン２５．１　ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより、この
ポリシロキサンの重量平均分子量を測定したところ１７
００であった。

大隻班エニｉ 厚さ０．２４ｍｍの２Ｓアルミニウム板を８０°Ｃに保
った第３燐酸ナトリウムの１０％水溶液に３分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸
ナトリウムで約１０分間工・ソチングして、硫酸水素ナ
トリウム３％水溶液でデスマット処理を行った。このア
ル果ニウム板を２０％硫酸中で電流密度２Ａ／ｄｒｒｆ
において２分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作成し
た。

次に下記感光液（Ａ）の本発明のポリシロキサン化合物
の種類を変えて、６種類の感光液（Ａ）−１〜（Ａ）−
６を調製し、この感光液を陽極酸化されたアルミニウム
板の上に塗布し、１００　”Ｃで２分間乾燥して、それ
ぞれの感光性平版印刷版（Ａ）−１〜（Ａ）−６を作成
した。このときの塗布量は全て乾燥重量で１．５ｇ／ｒ
ｙ？であった。

また感光液（Ａ）−１〜（Ａ）−６に用いた本発明のポ
リシロキサン化合物は第１表に示す。

感光液（Ａ） （メチルセロソルブ １０ｇ 感光性平版印刷版［Ａ］−１〜ＣＡ〕−６の感光層上に
濃度差０．１５のグレー名ケールを密着させ、２ｋｗの
高圧水銀灯で５０ｃｍの距離から２分間露光を行った。

露光した感光性平版印刷版〔Ａ〕−ｌ〜［：Ａ］　−６
をＤＰ−４（商品名：富士写真フィルム■製）の８倍希
釈水溶液で２５℃において６０秒間浸漬現像したところ
、鮮明な緑色のポジ画像が得られた。

第１表 実施例７〜１２ シリコンウェハー上に実施例１〜６の感光液ＣＡ〕−１
〜［Ａ］−６からオイルブルーを除いた感光液ＣＡ’　
Ｅ−１〜［Ａ’　）　−６をスピナーで塗布し、ホット
プレート上で９０℃において２分間、乾燥させた。膜厚
は１．０μｍであった。

次に波長４３６ｎｍの単色光を用いた縮小投影露光装置
（スッテパー）により露光し、テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキシドの２．４％水溶液で６０秒間現像す
ることによりレジストパターンを形成させた。その結果
、０．８μｍのライン＆スペースの良好なパターンが得
られた。

実施例１３ シリコンウェハー上に、ノボ゛ラック系市販レジストＨ
ＰＲ−２０４（富士ハントケミカル■製）をスピナーで
塗布し、２２０℃で１時間乾燥させて下層を形成した。

下層の膜厚は２．０μｍであった。

その上に下記感光液［Ｂ］をスピナーで塗布し、ホット
プレート上で９０℃において２分間乾燥させ、厚さ０．
５μｍ１７）塗膜を形成させた。

感光液ＣＢ） 次に実施例７〜１２と同様に露光、現像を行なったとこ
ろ、０．８μｍのライン＆スペースの良好なパターンが
得られた。

その後、酸素ガスプラズマ（２，ＯＸｌ０−”　Ｔｏｒ
ｒ、ＲＦ　０．０６　Ｗ／ａｆｌ）を用いて酸素プラズ
マエツチングを行なった結果、レジストパターンに覆わ
れていない部分の下層レジストは完全に消失した。

即ち本レジストが２層レジスト法の上層レジストとして
使用できることが確認された。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （ａ）一般式（ I ）、（II）、（III）または（IV）で
   表される化合物と、一般式（Ｖ）、（VI）（VII）また
   は（VIII）で表される化合物との環化熱付加反応生成物
   から由来されるシロキサン単位を少なくとも１モル％含
   有するポリシロキサン化合物と、 （ｂ）キノンジアジド化合物 とを含有する感光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）▲数式、化学
   式、表等があります▼（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） 式中Ｒ＾１〜Ｒ＾５は水素原子、アルキル基、置換アル
   キル基、アリール基、置換アリール基、シリル基、置換
   シリル基、シロキシ基、または置換シロキシ基を示す。 Ｒ＾６は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
   ール基、置換アリール基、▲数式、化学式、表等があり
   ます▼または ▲数式、化学式、表等があります▼を示す。 Ｒ＾７〜Ｒ＾９は水素原子、アルキル基、置換アルキル
   基、アリール基、置換アリール基、アルコキシ基、置換
   アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、−Ｐ＾１−Ｑまた
   は−Ｐ＾１−Ｙ＾３▲数式、化学式、表等があります▼
   Ｚであり、Ｐ３−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣ
   Ｏ−、−ＣＯＮＲ＾１＾０−、−ＮＲ＾１＾０ＣＯ−、
   −ＳＯ−または−ＳＯ＿３−を含んでいてもよい。 Ｒ＾１＾０は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
   アリール基、置換アリール基を示す。 Ｒ＾７とＲ＾８あるいはＲ＾７とＰ＾１は結合して環を
   形成していてもよい。 Ｘ＾１〜Ｘ＾３はヒドロキシ基または加水分解可能な基
   を示す。 Ｐ＾１〜Ｐ＾３は単結合、アルキレン基、置換アルキレ
   ン基、アリーレン基または置換アリーレン基を示し、−
   Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ
   ＾１＾０−、−ＮＲ＾１＾０ＣＯ−、−ＳＯ＿２−、ま
   たは−ＳＯ＿３−を含んでいてもよい。 Ｙは３価の芳香環を示す。 ＱはｐＫａが１２以下の酸基を示す。 Ｐ＾１−Ｑ Ｚは▲数式、化学式、表等があります▼、−ＣＯＮＨＣ
   Ｏ−、−ＣＯＮ（ＯＨ）ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｐ＾１−Ｑ
   ）ＣＯ−、▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。Ｙ＾ｎ＾＋＾２は（ｎ＋２）価の芳香環を示す
   。 ｎは１〜３の整数を示す。