JPH0346663A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、更には半導体素子の集積回
路を製造する際に微細なレジストパターンを形成するこ
とが可能なポジ型感光性組成物に関する。

［従来の技術］ 平版印刷版等の用途において活性光線により可溶化する
、いわゆるポジチブに作用する感光性物質としては、従
来オルトキノンジアジド化合物が知られており、実際平
版印刷版等に広く利用されてきた。このようなオルトキ
ノンジアジド化合物の例は、例えば米国特許第２，７６
６、１１８号、同第２，７６７．０９２号、同第２，７
７２，９７２号、同第２，８５９，１１２号、同第２，
９０７，６６５号、同第３，０４６．１　］、　Ｏ号、
同第３，０４６．１１１号、同第３，０４６．１１５号
、同第３，０４６．１１８号、同第３，０４６，１１９
号、同第３，０４６，１２０号、同第３，０４６，１２
１号、同第３，０４６，１２２号、同第３．’０４６．
１２３号、同第３，０６１．／１３０号、同第３．１０
２，８０９号、同第３．１０６，４６５号、同第３，６
３５，７０９号、同第３，６４７，４４３号の各明細書
をはしめ、多数の刊行物に記されている。

これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして５員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となる性質が利用されるものである。しか
るに、これらのオルトキノンジアジド化合物の多くは皮
膜形成性が充分でなく、多官能オルトキノンジアジド化
合物では特に溶剤に対する熔解性が充分でないという問
題があった。

一方、半導体素子、磁気バブルメモリ、集積回路等の電
子部品を製造するためのパターン形成法としては、従来
より、紫外線又は可視光線に感光するフォトレジストを
利用する方法が幅広く実用に供されている。フォトレジ
ストには、光照射により被照射部が現像液に不溶化する
ネガ型と、反対に可溶化するポジ型とがあるが、ネガ型
はポジ型に比べて感度が良く、湿式エツチングに必要な
基板との接着性および耐薬品性にも優れていることから
、近年までフォトレジストの主流を占めていた。しかし
、半導体素子等の高密度化、高集積化に伴ない、パター
ンの線幅や間隔が極めて小さくなり、また、基板のエツ
チングにはドライエツチングが採用されるようになった
ことから、フォトレジストには高解像度および高ドライ
エンチング耐性が望まれるようになり、現在ではポジ型
フォトレジストが大部分を占めるようになった。特に、
ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像度、ドライ
エツチング耐性に優れることから、例えばジェー・シー
・ストリエーク著、コダソク・マイクロエレクトロニク
ス・セミナー・プロシーデインゲス、第１１６頁（１９
７６年）　　（Ｊ、　　Ｃ。

５ｔｒｉｅｔｅｒ　Ｋｏｄａｋ　Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔ
ｒｏｎｉｃｓ　ＳｅｍｉｎａｒＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ
　、　　１１６　（１９７６）　）等に挙げられる、ア
ルカリ可溶性のノボラック樹脂をベースにしたアルカリ
現像型のポジ型フォトレジストが現行プロセスの主流と
なっている。

しかしながら、近年電子機器の多機能化、高度化に伴な
い、更に高密度、ならびに高集積化を図るべくパターン
の微細化が強く要請されている。

即ち、集積回路の横方向の寸法の縮小に比べてその縦方
向の寸法はあまり縮小されていかないために、レジスト
パターンの幅に対する高さの比は大きくならざるを得な
かった。このため、複雑な段差構造を有するウェハー上
でレジストパターンの寸法変化を押さえていくことは、
パターンの微細化が進むにつれてより困難になってきた
。更に、各種の露光方式においても、最小寸法の縮小に
伴ない問題が生してきている。例えば、光による露光で
は、基板の段差に基づく反射光の干渉作用が、寸法精度
に大きな影響を与えるようになり、一方電子ビーム露光
においては、電子の後方散乱によって生ずる近接効果に
より、微細なレジストパターンの高さと幅の比を大きく
することができなくなった。

これらの多くの問題は多層レジストシステムを用いるこ
とにより解消されることが見出された。

多層レジストシステムについては、ソリッドステート・
テクノロジー、７４　　（１９８１）［５ｏｌｉｄ　５
ｔａｔｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　、　７４　　（１９
８１）　　］に概説が掲載されているが、この他にもこ
のシステムに関する多くの研究が発表されている。−船
釣に多層レジスト法には３層レジスト法と２層レジスト
法がある。３層レジスト法は、段差基板上に有機平坦化
膜を塗布し、その上に、無機中間層、レジストと重ね、
レジストをバターニングした後、これをマスクとして無
機中間層をドライエツチングし、さらに、無機中間層を
マスクとして有機平坦化膜をＯ，ＲＩＥ（リアクティブ
イオンエツチング）によりパターニングする方法である
。この方法は、基本的には、従来からの技術が使用でき
るために、早くから検討が開始されたが、工程が非常に
複雑である、あるいは有機膜、無機膜、有機膜と三層物
性の異なるものが重なるために中間層にクランクやピン
ホールが発生しやすいといったことが問題点になってい
る。この３層レジスト法に対して、２層レジスト法では
、３層レジスト法でのレジストと無機中間層の両方の性
質を兼ね備えたレジスト、すなわち、酸素プラズマ耐性
のあるレジストを用いるために、クラックやピンホール
の発生が抑えられ、また、３層法から２層になるので工
程が簡略化される。しかし、３層レジスト法では、上層
レジストに従来のレジストが使用できるのに対して、２
層レジスト法では、新たに酸素プラズマ耐性のあるレジ
ストを開発しなければならないという課題があった。

以上の背景から、２層レジスト法等の上層レジストとし
て使用できる酸素プラズマ耐性に優れた、高感度、高解
像度のポジ型フォトレジスト、特に、現行プロセスを変
えることなく使用できるアルカリ現像方式のレジストの
開発が望まれていた。

これに対し、従来のオルトキノンジアジド感光物に、ア
ルカリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシル
メチレン等のシリコンポリマーを組合せた感光性組成物
、例えば特開昭６１１４４６３９号、同６１−２５６３
４７号、同６１−１５９１４１号、同６２−１９１８４
９号、同６２−２２０９４９号、同６２−２２９１３６
０ 号、同６３−９０５３４号、同６３−９１６５４号、並
びに米国特許第４７２２８８１号記載の感光性組成物が
提示されている。

しかしながら、これらのシリコンポリマーは何れもフェ
ノール性叶基又はシラノール５　（３Ｓｉ−Ｏｌｌ）導
入により、アルカリ可溶性を付与するもので、フェノー
ル性ＯＨ基導入によりアリカリ可溶性をイ１与する場合
は、製造が著しく困難となり、またシラノール基により
アルカリ可溶性を付与する場合は経時安定性が必ずしも
良好ではない、という問題点があった。更に併用するオ
ルトキノンジアジド化合物との相互作用が充分でなく、
その結果としてアルカリ現像液に対する未露光部の熔解
阻止効果が小さくなり、良好なレジストパターンが得ら
れないという問題点があった。

これに対し、上記シリコンポリマー中にオルトキノンジ
アジド基を導入する試みがなされている。

このような例は、特開昭５８−４８０４５号、同６２−
２１２６４５号、同６２−２３１２５０号、及び同６３
−１４３５３８号公報等に記載されている。しかしなが
ら、これらのいずれの場合も、ボリシロキ→ノ゛ン基本
骨格をはじめとする合成法が著しく困難であるという問
題点があった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、上記問題点が解決された新規なポジ型
感光性組成物を提供することである。即ち、皮膜形成性
が優れ、溶剤に対する溶解性が（Ｚれたオルトキノンシ
アシト化合物を有するポジ型感光性組成物を提供するこ
とである。

本発明の別の目的は、酸素プラズマ耐性に優れた、アル
カリ現像方式によるポジ型感光性組成物を提供すること
である。

更に本発明の別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規なポジ型感光性組成物を提供することである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者は、上記目的を遠戚すべく鋭意倹約を加えた結
果、新規な組成物を見い出し、本発明に到達した。

即ち、本発明は、下記一般式（１）又は（ＩＩ）で表わ
されるジエン化合物と、一般式（ＩＩＩ）、（１’Ｖ）
又は（Ｖ）で表わされるフェノール性ＯＨ、，Ｎヒドロ
キシアミド、Ｎ−ヒドロキシイミド又はアニリノ基を有
するオレフィン又はアセチレン化合物との環状熱付加生
成物から由来される構造単位を少なくとも１モル％有す
るシロキサンポリマーを１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−又は５−スルホニルハライドと反応させて
得られた縮合生成物を含有することを特徴とするポジ型
感光性組成物を提供するものである。

本発明は、更にアルカリ可溶性ポリマーを含有する上記
ポジ型感光性組成物、を提供するものである。

（１１） （Ｉ） ３ （ＩＩＩ） （ＩＶ） 式中Ｒ１，、−Ｒ５は同一でも相異していてもよく、水
素原子、アルキル、アリール、又はアルコキシ基を示し
、好ましくは水素原子、炭素数１〜１０個の直鎖、分枝
又は環状アルキル、炭素数６〜１５個の単環又は多環ア
リール、炭素数１〜８個のアルコキシ基である。

Ｒ６−Ｒ９は同一でも相異していてもよく、水素原子、
ハロゲン原子、シアノ、カルホニル、アルキル、アリー
ル、アルコキシ基、−５Ｑ２−Ｒ１２、−５ＯａＲ”　
　−Ｇｏ−Ｒ”　　−Ｃｏ−ＮＨ−ＲＩ２−Ｃｏｏ−Ｒ
′２又は−Ｙ−Ａ４ を示し、好ましくは水素原子、塩素原子、シアン、炭素
数１〜６個の直鎖、分枝又は環状アルキル、炭素数６〜
ＩＯ個の単環又は多環アリール、又は炭素数１〜６個の
アルコキシ基、−３Ｑ２−Ｒ１２、−５ＯｉＲ１２、−
ＣＯ−Ｒ′２、−Ｃｏ−Ｎｌｌ−Ｒ１２、−Ｃｏｏ−Ｒ
’２又は−Ｙ−Ａであり、更に好ましくは水素原子、−
５０２−Ｒ１２、ＳＱ、−Ｒ”、−ＣＯ−Ｒ”　、−Ｃ
ｏ−Ｎ１１−Ｒ１２、−Ｃｏｏ−Ｒ１２又はＹ−八であ
る。Ｒ１２はアルキル 示し、好ましくは炭素数１〜１０個の直鎖、分枝又は環
状アルキル、炭素数６〜１５個の単環又は多環アリール
基を示ず。ＲＩＧ、Ｒ１１は水素原子、アルキル又はア
リール基を示し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜４
個の直鎖又は分枝アルキル基を示ず。またＲ６−Ｒ８及
びＹの２つ、又はＲ１ｏ〜Ｒ１１が結合して環を形成し
てもよい。

Ｙば単結合、二価の芳香族又は脂肪族炭化水素基を示し
、好ましくは単結合、炭素数１〜４個の直鎖又は分校ア
ルキレン、炭素数６〜１０個の単環又は多環アリーレン
基を示す。またＹ中にケトン、エーテル、エステル、ア
ミド、ウレタン、つ５ レイ ドなどの基を含有してもよい。

Ａは ○Ｈ、 していてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニ
トロ、アルキル、アリール、アルコキシ基、ＣＯ−Ｒ′
５、−Ｃ００−Ｒ１５、−〇ーＣｏーＲ１５、−ＮＩＩ
ＣＯ−Ｒ”ＣＯＮｌｌ−Ｒ′５、−Ｎ＋ＩＣＯＮ１１−
Ｒ′５、−ＮＩＩＣＯＯ−Ｒ′５、又はＯＣＯＮＩＩ−
Ｒ　”を示し、好ましくは水素原子、塩素原子、ニトロ
、炭素数１〜８個の直鎖、分枝又は環状アルキル、炭素
数１〜６個のアルコキシ基、ＣＯ−Ｒ１５、−Ｃｏｏ−
Ｒ１５、−０−Ｃｏ−Ｒ”’　、−ＮＨＣＯ−＋７１５
ＣＯＮＨ−Ｒ１５、−Ｎ１１ＣＯＮＨ−１？１５、−Ｎ
ＩＩＣＯＯ−Ｒ＋５、又は、ＯＣＯＮＩＩ−１７′５を
示し、更に好ましくは水素原子、塩素原子、炭素数１〜
４個の直鎖又は分枝アルキル、炭素数１〜４個のアルコ
キシ基、−ＣＯ−Ｒ１５、Ｃｏｏ−Ｒ”−ＮＨＣＯ−Ｒ
１５−ＣＯＮｌｌ−Ｒ′５−ＮＨＣＯＮＩＩ−Ｒ１５６ 又は−〇ＣＯＮＩＩ−Ｒ＋５を示す。ＲＩ５はアルキル
又はアリル基を示し、好ましくは炭素数１〜１０個の直
鎖、分校又は環状アルキル、炭素数６〜１５個の単環又
は多環アリール基を示す。また該アリール基上に炭素数
１〜６個のアルキル、炭素数１〜８個のアルコキシ、ハ
ロゲン原子、カルボキシ、カルボキシエステル、シアノ
、又はニトロ基などが置換したものも好ましい。Ｂは二
価のアルキレン又はアリーレン基を示し、好ましくは、
炭素数１〜１２個の直鎖、分枝又は環状アルキレン又は
炭素数６〜１５個の単環又は多環アリーレン基を示す。

ａは１〜３の整数を示す。ｘｌ．　Ｎ２、Ｎ３は同一で
も相異していてもよく、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カ
ルボキシ、オキシム、アミド、ウレイド、アごノ、アル
キル、アリール、アラルキル、アルコキシ、アリーロキ
シ、 ■ の直鎖、分校又は環状アルキル、炭素数６〜１５個の単
環又は多環アリール、炭素数７〜１５個のアラルキル、
炭素数１〜８個のアルコキシ、又は炭素数６〜１０個の
アリーロキシ基を示す。但しＮ１、Ｎ２、Ｎ３のうち少
な（とも２つは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カルボキ
シ、オキシム、アミド、ウレイド、ア尖）、アルコキシ
又は了り一ロキシ基を示す。

本発明のシロキサンポリマーはオルトキノンジアジド基
を有する新規なシロキサンポリマーであり、活性光線の
照射によりオルトキノンジアジド基が分解し、カルボキ
シルル基を生成してアルカリ可溶性となる。

また本発明のシロキサンポリマーは、基本的に一般式（
■）又は（ＩＩ）で表わされる化合物と、一般式（Ｉｆ
ｆ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）で表わされる化合物の熱付加
反応、シロキサン骨格形成の為の縮合反応、更にオルト
キノンシアシト基導入反応の３段階で合成することがで
きる。またその合成過程でレジスト性能上好ましくない
金属触媒（例え８ ばナトリウム、カリウム、マグネシウム化合物など）を
使用する必要がない。

以下に本発明の成分について詳細に説明する。

（シロキサンポリマー） 本発明のシロキサンポリマーは、一般弐Ｎ）又は（ＩＩ
）で表わされるシリル基置換のジエン化合物と、一般式
（Ｉ［ｌ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）で表わされるフェノー
ル性ＯＲ，、Ｎ−ヒドロキシアミド、Ｎ−ヒドロキシア
ミド、又はアニリノ基を有するオレフィン又はアセチレ
ン化合物との環状熱付加生成物、所謂Ｄｉｅｌｓ−Ａｌ
ｄｅｒ反応生成物（Ｖｌ）、（■）、（■）、（ＩＸ）
、（Ｘ）、又は（ＸＩ）から由来される構造を有するシ
ロキサンポリマーにオルトキノンジアジド基を導入した
ものである。

９ （ＶＩ） （■） （■） （ＩＸ） ０ （Ｘ）　　　　　　　　　　　　　　　　（ＸＩ）（但
し、Ｒ１−Ｒ１１、ＸＩ〜Ｘ３、Ｙ、Ａは、上記と同義
である。） 本発明のシロキサンポリマーの製造法としては、弐（１
）又は（ＩＩ）の化合物を単独又は数種類配合し、加水
分解、あるいはアルコキシ化した後、縮合し、式（ＩＩ
［）、（■）、又は（Ｖ）の化合物を熱付加させ、更に
１，２−ナフトキノン−２ジアジド−４−又は５−スル
ホニルハライドと反応させる方法と、先に式（Ｉ）又は
（ＩＩ）の化合物と、式（ＩＩＩ）、（■）、又は（Ｖ
）の化合物を１ 熱付加させ、式（Ｖｌ）、（■）、（■）、（ＩＸ）、
（×）、又は（ＸＩ）の化合物を台底した後、各々単独
又は数種類混合の条件で、加水分解、あるいはアルコキ
シ化、その後縮合させ最後に１．２ナフトキノン−２−
ジアジド−４−又は５−スルホニルハライドと反応させ
る方法とがある。

またフェノール性０］１、Ｎ−ヒドロキシアミド、Ｎ−
ヒドロキシイくド、又はアニリノ基を有しないオレフィ
ン又はアセチレン化合物を式（Ｉ）、（■）、又は（Ｖ
）の化合物と共存させ、本発明のシロキサンポリマーの
構造中に導入することができる。

更に下記式（ＸＩ［）、（ＸＩ［ｌ）、（ＸＴＶ）、（
ＸＶ）又は（ＸＶＩ）の１種又は２種以上を共存させ、
共縮合させることにより、性能の改善を図ることもでき
る。

これらの場合、式（Ｖｌ）、（■）、（■）、（ＩＸ）
、（Ｘ）又は（ＸＩ）の化合物から由来される構造単位
の含量は少なくとも１モル％、好ましくは５〜９５モル
％、更に好ましくはｌＯ〜８０モ２ ル％である。

Ｒ ｉ →Ｘ）３ （ＸＴＩ） × ｉ （ＸＩＩＩ） ２１ Ｘ　−３ｉ　−Ｒ” ｉ （ＸｒＶ） Ｒ２゜ ２２ ＺＳ 式中はＲ 〜Ｒ２２ ２４ 〜Ｒ２６ 及びＲ２８〜Ｒ２９ ３ は同一でも相異していても良く、水素原子、アルキル基
、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アル
ケニル基、置換アルケニル基、アリル基、シリル基、置
換シリル基、シロキシ基、もしくは置換シロキシ基を示
す。具体的には、アルキル基としては直鎖、分枝または
環状のものであり、好ましくは炭素原子数が約１ないし
約ｌＯのものである。具体的には、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、Ｌｅｒ
ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル
基などが含まれる。また、置換アルキル基は、上記のよ
うなアルキル基に例えば塩素原子のようなハロゲン原子
、例えばメトキシ基のような炭素原子数１〜６個のアル
コキシ基、例えばフェニル基のようなアリール基、例え
ばフェノキシ基のようなアリールオキシ基などの置換し
たものが含まれ、具体的にはモノクロロメチル基、ジク
ロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、
２−クロロエチル基、２−ブロモエチ４ ル基、２−メ１〜キシエチル基、２−エトキシエチル基
、フェニルメチル基、ナフチルメチル基、フェノキシメ
チル基などが挙げられる。また、アリール基は単環ある
いは２環のものが好ましく、例えばフェニル基、α−ナ
フチル基、β−ナフチル基などが挙げられる。置換アリ
ール基は上記のようなアリール基に、例えばメチル基、
エチル基などの炭素原子数１〜６個のアルキル基、例え
ばメトキシ基、エトキシ基などの炭素原子数１〜６個の
アルコキシ基、例えば塩素電子などのハロゲン原子、ニ
トロ基、フェニル基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、ア
ミド基、イミド基、シアノ基などが置換したものが含ま
れ、具体的には４−クロロフェニル基、２−クロロフェ
ニル基、４−ブロモフェニル基、４−ニトロフェニル基
、４−ヒドロキシフェニル基、４−フェニルフェニル基
、４メチルフエニル基、２−メチルフェニル基、４エチ
ルフエニル基、４−メトキシフェニル基、２メｌ−キシ
フェニル基、４−エトキシフェニル基、２−カルボキシ
フェニル基、４−シアノフェニル５ 基、４−メチル−１−ナフチル基、４−クロロ１−ナフ
チル基、５−ニトロ−１−ナフチル基、５−ヒドロキシ
−１−ナフチル基、６−クロロ２−ナフチル基、４−ブ
ロモ−２−ナフチル基、５−ヒドロキシ−２−ナフチル
基などがあげられる。アルケニル基ば例えばビニル基で
あり、置換アルケニル基は、ビニル基に例えばメチル基
のようなアルキル基、例えばフェニル基のようなアリー
ル基などの置換したものが含まれ、具体的には１−メチ
ルビニル基、２−メチルビニル基、１２−ジメチルビニ
ル基、２−フェニルビニル基、２−（Ｐ−メチルフェニ
ル）ビニル基、２−（Ｐメトキシフェニル）ビニル基、
２−（ｐ−’７０ロフェニル）ビニル基、２−（Ｏ−ク
ロロフェニル）ビニル基などが挙げられる。シリル基、
置換シリル基としては例えばトリアルキルシリル基、ト
リアリールシリル基などのようなアルキル、アリール置
換シリル基であり、このようなアルキル、アリール基と
しては上記に示したものが挙げられる。また、シロキシ
基もしくは置換シロキシ基で６ ある場合には、下記に示すように、これらの基が隣接す
る構造単位のシロキシ基もしくは置換シロキシ基と結合
した構造、または、他の分子中のシロキシ基もしくは置
換シロキシ基と結合した構造などの二次元もしくは三次
元的構造のものであってもよい。

Ｓｉ−〇−３ｉ−０ ０ Ｓｉ−０−３ｉ−０ Ｒ２３、Ｒ２７、及びＲ３０は同一でも相異していても
良く、単結合、二価のアルキレン、置換アルキレン、ア
リーレン、又は置換アリーレン基を示す。

具体的には、アルキレン基としては、直鎖、分枝、環状
のもの、より好ましくは直鎖のものであり、好ましくは
炭素原子数が１〜ｌＯ個のものであって、例えばメチレ
ン、エチレン、ブチレン、オクチレンなとの多基が含ま
れる。置換アルキレン基は、上記アルキレン基に、例え
ば塩素原子の７ ようなハロゲン原子、炭素原子数１〜６個のアルコキシ
基、炭素原子数６〜１０個のアリーロキシ基などが置換
されたものである。アリーレン基ば、好ましくは単環お
よび２環のものであって、例えばフェニレン基、ナフチ
レン基などが含まれる。

また置換アリーレン基は、上記のようなアリーレン基に
、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数１〜６個
のアルキル基、例えばメトキシ基、工１−キシ基などの
炭素原子数１〜６個のアルコキシ基、例えば塩素原子な
どのハロゲン原子などが置換したものが含まれる。具体
的にはクロロフェニレン基、ブロモフェニレン基、ニト
ロフェニレン基、フェニルフェニレン基、メチルフェニ
レン基、エチルフェニレン基、メトキシフェニレン基、
エチルフェニレン基、シアノフェニレン基、メチルナフ
チレン基、クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基、
二）・ロナフチレン基などがあげられる。

χは加水分解可能な基であり、好ましくは塩素原子、臭
素原子などのハロゲン原子、メ１−キシ基、８ エトキシ基、プロポキシ基などのような炭素原子数１〜
１０個のアルコキシ基、フェノキシ基などのような炭素
原子数６〜１０個のアリーロキシ基、アセトキシ基など
のような炭素原子数１〜１０個のカルボキシル基、メチ
ルアルドキシムなどのような炭素原子数１〜６個のオキ
シム基、更には、アミド基、ウレイド基、アミノ基など
が含まれる。

本発明のシロキサンポリマーは、一般式（１）又は（Ｉ
Ｉ）で表わされるジエン化合物と、一般式（Ｉｎ）、（
ＴＶ）又は（Ｖ）で表わされるオレフィン又はアセチレ
ン化合物との環状熱付加生成物から由来される構造単位
を少なくとも１モル％有するシロキサンポリマー１種又
は２種以上と、１゜２−ナフトキノン−２−ジアジド−
４−及び／又は５−スルホニルハライドを反応媒質中、
塩基性触媒存在下で反応させることにより台底される。

１．２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は
５−スルホニルハライドの使用量は、フェノール性０１
１．　Ｎ−ヒドロキシアミド、Ｎ−ヒドロキシイミド、
又はアニリノ基の数によって適宜調９ 整され、特に限定されるものではないが、通常、王記基
１当量に対して０．１〜１モルである。

塩基性触媒としては、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、テトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド等のアミン類、また場合
により水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム等の無機アルカリ類が用いられる。

これらの塩基性触媒の使用量は、１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド類１モル当たり、通常、０．８〜２．０
モル、好ましくは１．０〜１．５モルである。

前記反応において、通常、反応媒質として、例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状
エーテル類、シクロペンクノン、シクロヘキサノン等の
環状ケトン類、ＮＮ−ジメチルホルムアミド、ＮＮ−ジ
メチルアセトアミド等のアミド類、Ｔ−プチロラク１−
ン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等のエステル類、０ ピＩ：ＪすＩ−ン、Ｎ−メチルピロリドンまたは水が用
いられる。これらの反応媒質の使用量は、前記シロキサ
ンポリマー１００重量部に対して、通常、１００〜１０
００重量部である。また、この反応の反応温度は、通常
、−３０〜６０°Ｃ１好ましくばＯ′Ｃ〜４０’Ｃであ
る。

以下に、本発明に使用されるシロキサンポリマの具体例
を示す。

２ ３ ＧＯ−Ｎ−０−Ｄ ３５ ＣＯ−Ｎ−０−Ｄ ６ ７ ＼Ｏ−Ｄ ８ （４５） ４９ へ １ 化合物例中りは水素原子又は、１．２−ナフトキノン−
２−ジアジド−４＝又は５−スルホニル基を示す。ここ
でＤとして水素原子と１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４＝又は５−スルホニル基が共存してもよい。但
し、Ｄ含有構造単位に対し、小なくとも５モル％はＤが
１．２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−又は５−ス
ルホニル基の構造である。

またｎは１以」二の整数を示し、ｘ、ｙ、及びＺはＯ又
は１以上の整数を示す。

本発明のシロキサンポリマーの分子量は縮合条件を変え
ることで、任意に変化させることができるが、好ましい
分子量としては、重量平均で５００以上、更に好ましく
は１，０００〜５００，０００である。

これらのシロキサンポリマーの添加量は、全組成物の固
形分に対し５〜１００ｗｔ％が適当であり、好ましくは
２０〜９５ｗｔ％、更に好ましくは３０〜９０ｗｔ％で
ある。

（アルカリ可溶性ポリマー） 本発明のポジ型感光性組成物は、本質的に木兄へ　っ 明のシロキサンポリマーのみで使用できるが、更にアル
カリ可溶性ポリマーを添加して使用してもよい。

このようなアルカリ可溶性ポリマーは、好ましくはフェ
ノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基、イミド
基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、Ｎ−
スルホニルウレタン基、活性メチレン基等のｐＫａ　１
１以下の酸性水素原子を有するポリマーである。好適な
アルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラック型フェノ
ール樹脂、Ｆ、　（＋　的にはフェノールホルムアルデ
ヒド’Ｍ脂、０−１レゾール−ホルムアルデヒド樹脂、
ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、キシレノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、またこれらの共縮合物などがある。

更に特開昭５０−１２５８０６号公報に記されている様
に上記のようなフェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数３〜８のア
ルキル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホ
ルムアルデヒドとの縮合物とを３ 併用してもよい。またＮ−（４−ヒドロキシフェニル）
メタクリルアミドのようなフェノール性ヒトｌコキシ基
含有モノマーを共重合成分とするポリマー、ｐ−ヒドロ
キシスチレン、Ｏ−ヒドロキンスチレン、ｍ−イソプロ
ペニルフェノール、ｐイソプロペニルフェノール等の単
独又は共重合のポリマー、更にまたこれらのポリマーを
部分エーテル化、部分エステル化したポリマーも使用で
きる。

更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボギシル基含
有七ツマ−を共重合成分とするポリマー特開昭６１−２
６７０４２号公報記載のカルボキシル基含有ポリビニル
アセクール樹脂、特開昭６３−１２４０４７号公報記載
のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用さ
れる。

更にまた、Ｎ−（４−スルファモイルフェニル）メタク
リルア旦ド、Ｎ−フェニルスルホニルメタクリルアミド
、マレイごドを共重合成分とするポリマー、特開昭６３
−１２７２３７号公報記載の活性メチレン基含有ポリマ
ーも使用できる。

４ これらのアルカリ可溶性ポリマーば単一で使用できるが
、数種の混合物として使用してもよい。

感光性組成物中の好ましい添加量は、感光性組成物全固
形分に対し、ｌ０〜９０ｗｔ％、更に好ましくは３０〜
８０ｗｔ％の範囲である。

（その他の好ましい成分） 本発明のポジ型感光性組成物には必要に応して、更に染
料、顔料、可塑剤及び光分解効率を増大させる化合物（
所謂増感剤）などを含有させることができる。

また着色剤として染料を用いることができるが、好適な
染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体的
には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１３
０、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＣ、オイ
ルブルーＢＯ３、オイルフルー＃６０３、オイルブラン
クＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブランクＴ−５０
５（以上、オリエント化学工業株式会社製）クリスクル
ハイオレット（ＣＩ４２５５５Ｌメチルバイオレツト（
Ｃ１４２５３５）、ｌ：ｌ−ダｉ　７　Ｂ　（ＣＩ４５
１７０Ｂ）、５ マラカイ（・グリーン（ＣＩ／１２０００）、メチレン
ブルー（ＣＩ５２０１５）などをあげることができる。

本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、そ
の他のフィラーなどを加えることができる。環状酸無水
物としては米国特許第４、１１５．１２８号明細書に記
載されているように無水フクル酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３．６−ニンドオ
キシーΔ４テトラヒドロ無水フクル酸、テトラクロル無
水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、
α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、ピロメリ
ット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成物中の
固形分に対して１から１５重量％含有させることによっ
て感度を最大３倍程度に高めることができる。露光後直
ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によって
酸を放出する感光性化合物と塩を形威し得る有機染料の
組合せを代表として挙げることができる。具体的には特
６ 開閉５０−３６２０９号公報、特開昭５３−８１２８号
公報に記載されているＯ−ナフトキノンジアジド−４−
スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや特
開昭５３−３６２２３号公報、特開昭５４−７４７２８
号公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成
性有機染料の組合せを挙げることができる。

（溶　媒） 本発明のポジ型感光性組成物を、平版印刷版用の材料と
して使用する場合は上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。また半導体等のレジスト材料用
としては、溶媒に溶解したままで使用する。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール
、プロパツール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、■−メトキシー２−プロパツール、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテ−
１・、２−エトキシエチルアセテート、１−メトキシ−
２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、Ｎ、Ｎ−７ ジメチルアセトアミド、ＮＮ−ジメチルホルムアミド、
テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチル
スルホキシド、スルホラン、γブチロラクトン、トルエ
ン、酢酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。そして上記成分中の濃度（添加物
を含む全固形分）は、２〜５０重量％である。また、塗
布して使用する場合塗布量は用途により異なるが、例え
ば感光性平版印刷版についていえば一般的に固形分とし
て０．５〜３．０ｇ／ｎ（が好ましい。塗布量が少くな
るにつれて感光性は大になるが、感光膜の物性は低下す
る。

（平版印刷版等の製造） 本発明のポジ形感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば、紙、プラスチ
ックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど）がラミネートされた紙、例えばアル短ニウ
ム（アルミニウム合金も含む。）、亜鉛、銅などのよう
な金属の板、例エハ二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロ８ ピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸醋酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー１−
、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネ−１−、ポリビニルアセタールなどのようなプ
ラスチックのフィルム、上記の如き金属がうごネート、
もしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムな
どが含まれる。

これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著し
く安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更
に、特公昭４８−１８３２７号公報に記されているよう
なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウ
ムシートが結合された複合体シートも好ましい。アルミ
ニウム板の表面はワイヤブラシダレイニング、研磨粒子
のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブ
ラシダレイニング、ボールグレイニング、？容体ホーニ
ングによるグレイニング、ハフグレイニング等の機械的
方法、ＨＦやＡｌＣｌ２．３、ＨＣｆｆｉをエッチャン
トとするケミカルグレイニング、硝酸又は塩酸を電解液
とする電解グレイニングやこれらの粗面化法を複９ 合させて行なった複合グレイニングによって表面を砂目
立てした後、必要に応して酸又はアルカリによりエツチ
ング処理され、引続き硫酸、リン酸、蓚酸、ホウ酸、ク
ロム酸、スルファごン酸またはこれらの混酸中で直流又
は交流電源にて陽極酸化を行いアルミニウム表面に強固
な不動態皮膜を設６：ｌたものが好ましい。この様な不
動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水化されてしまう
が、更に必要に応じて米国特許第２，７１４，０６６号
明細書や米国特許第３．１８Ｌ４６１号明細書に記載さ
れている珪酸塩処理（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム）、米国特許第２．９４６，６３８号明細書に記載さ
れている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第
３．２０１，２４７号明細書に記載されているホスホモ
リブデート処理、英国特許筒Ｌ１０８，５５９号明細書
に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第
１，０９１，４３３号明細書に記載されているポリアク
リル酸処理、独国特許第１，１３４，０９３号明細書や
英国特許筒１，２３０，４４７号明細書に記載されてい
るポリビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号
公０ 報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第３．３
０７，９５１号明細書に記載されているフィチン酸処理
、特開昭５８−１６８９３号や特開昭５８−１８２９１
号の各公報に記載されている親水性有機高分子化合物と
２価の金属よりなる複合処理、特開昭５９−１０１６５
１号公報に記載されているスルホン酸基を有する水溶性
重合体の下塗によって親水化処理を行ったものは特に好
ましい。その他の親水化処理方法としては米国特許第３
，６５８，６６２号明細書に記載されているシリケート
電着をもあげることが出来る。

また砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は有機
塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって
行われる。

（活性　線又は放射線） 本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。放射線として
は電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠紫外線などがある。

好ましくはフォトレ１ シスト用の光源として、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−Ｕ　Ｖ
光が使用される。また高密度エネルギービーム（レーザ
ービーム又は電子線）による走査露光も本発明に使用す
ることができる。このようなレーザービームとしてはヘ
リウム・ネオンレーザ−アルゴンレーザー、クリプトン
イオンレーザ−ヘリウム・カドごラムレーザー、ＫｒＦ
エキシマレーザ−などが挙げられる。

（現像液） 本発明のポジ形感光性組成物に対する現像液としては、
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第
ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤及
びテトラアルキルアンモニウムＯＨ塩などのような有機
アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が０．
１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％になるよ
う添加される。

２ また、該アルカリ性水溶液には、必要に応し界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。

〔実施例〕

以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。

合成例１．　化合物例（３０）の合成 ２−（トリメトキシシリルｌ−１，３−ブタジェン８．
７ｇ（０，０５モル）、Ｎ−ヒドロキシマレイミド５．
７ｇ（０，０５モル）をジオキサン１００ｍ乏に溶解し
、１００　’Ｃで１時間加熱撹拌した。

室温まで冷却した後、トリメトキシフェニルシラン９．
９ｇ（０，０５モル）を添加した。更に蒸留水１０ｍｊ
２と濃塩酸０．１　ｇを加え３０分間撹拌した。

その後、溶媒のジオキサンを加熱、濃縮した。濃縮物を
水１Ｅ中に撹拌しながら投入し、析出した固体を真空下
乾燥した。褐色がかった白色樹脂１８、２　ｇを得た。

ＮＭＲにより、この樹脂が化合物例（３０）（Ｄ＝Ｈ）
であることを確認した。

３ この樹脂をＴ−ブチロラクトン］、００ｍｆｆに再度溶
解し、１．２−ナフトキノン−２−ジアジ］。

５−スルホニルクロリド１．３．４　ｇ　（０，０５０
モル）を添加した。この溶液にトリエチルアごン５．１
．ｇ（０，０５０モル）を２０分間かりて滴下した。そ
の復水１５＋ｎｉ！、を加え、更にトリエチルア旦ンを
滴下しながら反応溶液のｐＨを約６．５に調整した。こ
の反応混合物を水３乏中に撹拌しながら投入した。析出
した樹脂を真空下乾燥した結果、黄色樹脂〔化合物例（
３０）（Ｄ＝１．２−ナフトギノンー２−ジアジド−５
−スルホニル基）］２６、５　ｇを得た。

ゲルパーミェーションクロマトクラフィー（ＧＰＣ）に
より分子量を測定したところ重量平均（ポリスチレン標
準）で４．８００であった。

合成例２．化合物例（３２）の台底 合成例１のＮ−ヒドロキシマレイミドの代わりにＮ−ヒ
ドロキシ−Ｎ−メチルアクリルアミド５．１ｇ（０，０
５０モル）を用い、合成例１と同様にして反応、後処理
を行なった。黄色樹脂２４．８４ ｇを得た。ＧＰＣにより分子量を測定したところ重量平
均（ポリスチレン標準）で３，８００であった。

合成例３．　化合物例（３４）の合戊 合成例１のＮ−ヒドロキシマレイミドの代わりに、Ｎ−
（ｐ−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド８．２ｇ（
０，０５０モル）を用い、合成例１と同様にして反応、
後処理を行なった。黄色樹脂２９、２　ｇを得た。ＧＰ
Ｃにより分子量を測定したところ、重量平均（ポリスチ
レン標＄）で５，５００であった。

実施例１〜６ 厚さ０．２４　ｍｍの２Ｓアル旦ニウム板を８０°Ｃに
保った第３燐酸ナトリウムの１０％水溶液に３分間浸漬
して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン
酸ナトリウムで約１０分間エツチングして、硫酸水素す
トリウム３％水溶液でデスマント処理を行った。このア
ルミニウム板を２０％硫酸中で電流密度２Ａ／ｄボにお
いて２分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作成した。

５ 次に下記感光液（Ａ）の本発明のシロキサンポリマーの
種類を変えて、６種類の感光液（Ａ、）１〜（Ａ）−６
を調製し、この感光液を陽極酸化されたアルミニウム板
の上に塗布し、ＬＯＯｏＣで２分間乾燥して、それぞれ
の感光性平版印刷版（Ａ）−１〜（Ａ’ｌ−６を作成し
た。このときの塗布量は全て乾燥重量で１．５ｇ／ｒｄ
であった。

また感光液（Ａ）−１〜（Ａ：ｌ−６に用いた本発明の
シロキサンポリマーは第１表に示す。

感光液（、Ａ） 感光性平版印刷版［：Ａ）−１〜［：Ａ）−６の感光層
上に濃度差０．１５のグレースケールを密着させ、２ｋ
ｗの高圧水銀灯で５０ｃｍの距離から１分６ 間露光を行った。露光した感光性平版印刷版ＣＡ）１〜
（Ａ）−６及び〔Ｂ〕をＤＰ−４（商品名：富士写真フ
ィルム０１製）の８倍希釈水溶液で２５°Ｃにおいて６
０秒間浸漬現像したところ、鮮明な緑色のポジ画像が得
られた。

なお、使用した本発明の有機ポリシロキサン化合物の分
子量は、重量平均（ｃｐｃ、ポリスチレン標準）で何れ
も３．０００〜７，０００であった。

また使用した化合物例（３０）、（３２）、（３４）、
及び（４４）のシロキザンボリマー中のフェノール性Ｏ
Ｈ，、Ｎ−ヒドロキシアミＩＪ又はＮ−ヒドロキシイミ
ド基含有シロキサン由来の構造単位の含量は何れも原料
仕込み量で５０モル％であった。

７ 第 表 シリコンウェハー上に実施例１〜６の感光液１：Ａ）−
１〜〔Ａ）−６からオイルブルー＃６０３のみを除去し
た感光液（Ｂ）−１〜ＣＢ）−６をスピナーで塗布し、
ホットプレート上で９０°Ｃにおいて２分間、乾燥させ
た。膜厚は１．０μｍであった。

次に４３６ｎｍの単色光の縮小投影露光装置（ステッパ
ー）により露光し、テトラメチルアンモニウムハイドロ
オキシドの２．４％水溶液で６０秒間現像することによ
りレジストパターンを形成させ８ た。その結果、０．８μｍのライン＆スペースの良好な
パターンが得られた。

実施例１３〜１４ シリコンウェハー上に、ノボラック系市販レジス１〜Ｈ
ＰＲ−２０４（富士ハントケミカル■製）をスピナーで
塗布し、２２０°Ｃで１時間乾燥させて下層を形成した
。下層の膜厚は２．０μｍであった。

その上に下記感光液（Ｃ３をスピナーで塗布し、ホット
プレート上で９０°Ｃにおいて２分間乾燥させ、厚さ０
．５μｍの塗膜を形成させた。

感光液〔Ｃ〕 なお使用した本発明のシロキザンボリマーは化合物例（
３０）及び（３４）のシロキザンポリマーであり、分子
量は重量平均（ｃｐｃ、ポリスチレン標準）で各々４．
８００．５，５００であった。

またシロキザンボリマー中のＮ−ヒドロキシアミ９ ド、又はフェノール性０）１．１含有シロキサン由来の
構造単位の含量は何れも５０モル％であった。

実施例７〜１２と同様に露光、現像を行なったところ、
０．８μｍのライン＆スペースの良好なパターンが得ら
れた。次いで平行平板型リアクティブイオンエツチング
装置を用いて０２ガス圧２０ミリＴｏｒｒ　ＲＦパワー
２００ｍＷ／ｃ＋Ｈの条件下で２０分間エツチングする
と上層のレジストパターンは完全に下層のＨＰＲ−２０
４に転写され、上下２層から戒る高いアスペクト比のレ
ジストパターンを得ることができた。

即ち本レジストが２層レジスト法の」二層レジストとし
て使用できることが確認された。

〔発明の効果〕

本発明の感光性組成物は、皮膜形成性、溶剤に対する溶
解性、酸素プラズマ耐性に優れており、アルカリ現像可
能であり、製造も容易である。

０

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式（ I ）又は（II）で表わされるジエ
   ン化合物と、一般式（III）、（IV）又は（Ｖ）で表わ
   されるフェノール性ＯＨ、Ｎ−ヒドロキシアミド、Ｎ−
   ヒドロキシイミド又はアニリノ基を有するオレフィン又
   はアセチレン化合物との環状熱付加生成物から由来され
   る構造単位を少なくとも１モル％有するシロキサンポリ
   マーに、１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−又
   は５−スルホニルハライドを反応させて得られた縮合生
   成物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ （ I ）（II） ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ （III）（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中Ｒ＾１〜Ｒ＾５は同一でも相異していてもよく、水
   素原子、アルキル、アリール、又はアルコキシ基を示し
   、Ｒ＾６〜Ｒ＾９は同一でも相異していてもよく、水素
   原子、ハロゲン原子、シアノ、カルボニル、アルキル、
   アリール、アルコキシ基、−ＳＯ＿２−Ｒ＾１＾２、−
   ＳＯ＿３−Ｒ＾１＾２、−ＣＯ−Ｒ＾１＾２、−ＣＯ−
   ＮＨ−Ｒ＾１＾２、−ＣＯＯ−Ｒ＾１＾２、又は−Ｙ−
   Ａを示し、Ｒ＾１＾２はアルキル、又はアリール基を示
   す。Ｒ＾１＾０、Ｒ＾１＾１は水素原子、アルキル又は
   アリール基を示す。Ｙは単結合、二価の芳香族又は脂肪
   族炭化水素基を示し、Ａは−ＯＨ、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   又は ▲数式、化学式、表等があります▼を示す。Ｒ＾１＾３
   〜Ｒ＾１＾４は同一でも相異していてもよく、水素原子
   、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、アルキル、アリール
   、アルコキシ基、−ＣＯ−Ｒ＾１＾５、−ＣＯＯ−Ｒ＾
   １＾５、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ＾１＾５、−ＮＨＣＯ−Ｒ＾１
   ＾５、−ＣＯＮＨ−Ｒ＾１＾５、−ＮＨＣＯＮＨ−Ｒ＾
   １＾５、−ＮＨＣＯＯ−Ｒ＾１＾５、又は−ＯＣＯＮＨ
   −Ｒ＾１＾５を示す。Ｒ＾１＾５はアルキル又はアリー
   ル基を示し、Ｂは二価のアルキレン又はアリーレン基を
   示す。ａは１〜３の整数を示す。 Ｘ＾１、Ｘ＾２、Ｘ＾３は同一でも相異していてもよく
   、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カルボキシ、オキシム、
   アミド、ウレイド、アミノ、アルキル、アリール、アラ
   ルキル、アルコキシ、アリーロキシ、▲数式、化学式、
   表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼基を示す。但し、Ｘ
   ＾１、Ｘ＾２、 Ｘ＾３のうち少なくとも２つはハロゲン原子、ヒドロキ
   シ、カルボキシ、オキシム、アミド、ウレイド、アミノ
   、アルコキシ又はアリーロキシ基を示す。またＲ＾６〜
   Ｒ＾８及びＹの２つ、又はＲ＾１＾０〜Ｒ＾１＾１が結
   合して環を形成してもよい。