JPS63236029A - 光可溶化組成物 - Google Patents

光可溶化組成物

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JPS63236029A
JPS63236029A JP62071043A JP7104387A JPS63236029A JP S63236029 A JPS63236029 A JP S63236029A JP 62071043 A JP62071043 A JP 62071043A JP 7104387 A JP7104387 A JP 7104387A JP S63236029 A JPS63236029 A JP S63236029A
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acid
compound
group
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compd
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Toshiaki Aoso
利明 青合
Tatsuji Azuma
達治 東
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する新規な先回溶化組成物に関する。
「従来の技術」 活性光線により可溶化する、いわゆるポジチブに作用す
る感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化合
物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第2.766、118
号、同第2.767、092号、同第2.772.97
2号、同第2.859.112号、同第2、907.6
65号、同第3.046.110号、同第3.046.
111号、同第3.046.115号、同第3.046
.118号、同第3、046.119号、同第3.04
6.120号、同第3.046.121号、同第3.0
46.122号、同第3.046.123号、同第3、
061.430号、同第3.102.809号、同第3
.106.465号、同第3.635.709号、同第
3.647.443号の各明細書をはじめ、多数の刊行
物に記されている。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子収
率が1を越えないということに由来するものである。
オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感光
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性を
高めることは非常に困難であった。例えば、このような
試みの例として、特公昭48−12242号、特開昭5
2−40125号、米国特許第4.307.173号な
どの公報及び明細書に記載された内容を挙げることがで
きる。
また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポジ
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号公報に記載されているオルトニトロカルビノ
ールエステル基を有スるポリマー化合物が挙げられる。
しかし、この場合も、オルトキノンジアジド化合物の場
合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これ
とは別に接触作用により活性化される感光系を使用し、
感光性を高める方法として、光分解で生成する酸によっ
て第2の反応を生起させ、それにより露光域を可溶化す
る公知の原理が適用されている。
このような例として、例えば光分解により酸を発生する
化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物と
の組合せ(特開昭48−89003号)、オルトエステ
ル又はアミドアセタール化合物との組合せく特開昭51
−120714号)、主鎖にアセタール又はケタール基
を有するポリマーとの組合せ(特開昭53−13342
9号)、エノールエーテル化合物との組合せく特開昭5
5−12995号)、N−アシルイミノ炭酸化合物との
組合せ(特開昭55−126236号)、主鎖にオルト
エステル基を有するポリマーとの組合せ(特開昭56−
17345号)、シリルエステル化合物との組合せ(特
開昭60−10247号)及びシリルエーテル化合物と
の組合せ(特開昭60−3’1549号、特開昭60〜
121446号)などを挙げることができる。これらは
原理的に量子収率が1を越える為、高い感光性を示す可
能性があるが、アセタール又は0.N−アセクール化合
物の場合、及び主鎖にアセタール又はケタール基を有す
るポリマーの場合、光分解で生成する酸による第2の反
応の速度が遅い為、実際の使用に十分な感光性を示さな
い。またオルトエステル又はアミドアセタール化合物の
場合及び、エノールエーテル化合物の場合、更にN−ア
シルイミノ炭酸化合物の場合は確かに高い感光性を示す
が、経時での安定が悪く、長期に保存することができな
い。主鎖にオルトエステル基を有するポリマーの場合も
、同じく高感度ではあるが、現像時の現像許容性が狭い
という欠点を有する。上記シリルエステル化合物の場合
、他の化合物及びポリマーに比べ高密度であり、現像許
容性に優れてはいるが、実際に使用するには感度、現像
許容性が十分とは言えない。
更に、これらのどの化合物においても、露光後現像まで
に経時すると、感度が徐々に増大するという問題があっ
た。
「発明が解決しようとする問題点」 本発明の目的は、新規な光可溶性高分子化合物を使用し
、上記問題点が解決された新規な売可溶化組成物を提供
することである。即ち高い感光性を有し、現像時の現像
許容性が広い新規な売可溶化組成物を提供することであ
る。
本発明の別の目的は、露光後現像までの経時における増
感を抑えた新規な売可溶化組成物を提供することである
本発明の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規な売可溶化組成物を提供することである。
「問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果、新規な売可溶化組成物を見い出し、本発明に到達し
た。
即ち、本発明は、(a)活性光線の照射により酸を発生
し得る化合物、ら)下記一般式(I)、(n)、又は(
III)で示される、酸により分解し、現像液中でのそ
の溶解度が酸の作用により増大するシリルエーテル化合
物、及び(c)溶剤を除く全組成物に対して0.01〜
l Qwt%のエポキシ基を少なくとも1個有する化合
物、を含有することを特徴とする売可溶化組成物、を提
供するものである。
R,−e−o−sl−R,)、          (
I )2R2 R,0−(−3i−0七璽」」5−CI −Si =(
]h−+R5−[13rVRaR2R2R2R2 (III) 式中、R1は置換基を有していてもよいm価の脂肪族又
は芳香族炭化水素を示す。R2、R3。
R9は同一でも相異していてもよく、それぞれ水素原子
、アルキノペアルケニル、置換基を有していてもよいア
リールもしくはアラルキル、ハロゲン、又は−〇Raを
示す。好ましくは炭素数1〜4個のアルキル、クロル、
もしくは−0R6、更に好ましくは炭素数1〜4個のア
ルキル、又は−0R6を示す。R5; Rtは置換基を
有していてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示
す。
好ましくは、親水性基(具体的には後に記載する)、ウ
レタン基、ウレイド基、アミド基、エステル基を有する
2価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。
R6は置換基を有していてもよいアルキル、アリール、
もしくはアラルキル基、好ましくは炭素数1〜8個のア
ルキノペ又は炭素数6〜15のアリール基を示す。また
R5とR6が結合して脂肪族環又は芳香族環の一部を形
成してもよい。
R6は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル、
アリール、もしくはアシル基、又はHl m、  nは正の整数、好ましくはmは1−1000゜
nは1〜500の整数を示す。a、  bはそれぞれ0
又は1を示す。
なお前記の親水性基としては、具体的には下記に示され
るものがある。
(−[:H2CH2−0−)−; −E−(−CH2h−0+7士ClI2CH2−0−)
−=−(cHCH2−OL11イl−12CL −0−
)−=R′ + CH2CHCH20h 叶 モ十CH71「0 +。
式中、lは1〜4の整数を示し、m、  nは2以上の
整数、好ましくは2〜100の整数、更に好マシ<は2
〜20の整数を示す。R9はアルキル、又は置換基を有
していてもよいフェニル基を示す。
特に好ましい親水性基は+C112C112−0−h 
である。
本発明は、前記の(c)の化合物を添加することで驚く
べきことに、前記問題点の露光後現像までの経時におけ
る増感を大きく改良できることを見い出したものである
(a)の化合物 本発明の(a)における活性光線の照射により酸を発生
し得る化合物としては、多くの公知化合物及び混合物、
例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、
及びヨードニウムのBF、−、PP6−。
SbF、−、5iF6− 、Cj704−などの塩、有
機ハロゲン化合物、オルトキノンジアジドスルホニルク
ロリド、及び有機金属/有機ハロゲン化合物組合せ物が
適当である。もちろん、米国特許第3.779.778
号、西ドイツ国特許第2.610.842号及び欧州特
許第126712号の明細書中に記載された光分解によ
り酸を発生させる化合物も本発明の組成物として適する
。更に適当な染料と組合せて露光の際、未露光部と露光
物の間に可視的コントラストを与えることを目的とした
化合物、例えば特開昭55−77742号、同57−1
63234号の公報に記載された化合物も本発明の組成
物として使用することができる。
上記光分解により酸を発生し得る化合物の中で、代表的
なものについて以下に説明する。
(I))リハロメチル基が置換した下記の一般式(IV
)で表わされるオキサジアゾール誘導体又は一般式(V
)で表わされるS−トリアジン誘導体。
ここで式中、Rloは置換もしくは無置換のアリール、
アルケニル基、R11はRo。、−CX3又は、置換も
しくは無置換のアルキル基を示す。Xは塩素原子又は臭
素原子を示す。
具体的には以下に示すものが挙げられる。
(rV−1) (IV−2) (IV−3) (IV−4) (IV−6) (IV−8) (V−1) (V−2) (V−3> CA3 (V−5) CZ3 ccp3 CCA3 (V〜10) CCZ 3 (2)下記の一般式(VI)で表わされるヨードニウム
塩又は一般式(■)で表わされるスルホニウム塩。
ここで式中Ar、、Ar2は同一でも相異していてもよ
く、置換又は無置換の芳香族基を示す。Rl 2、R1
3、R14は同一でも相異していてもよく置換又は無置
換のアルキル基、芳香族基を示す。X−はBF6−1P
F、−、AsF6−.5bF6−1CZO,−を示す。
また、R12、R13、R14のうちの2つ及びAr、
、Ar2はそれぞれ単結合又は置換基を介して結合して
もよい。
一般式(VI)で示される化合物としては、例えば特開
昭50−158680号、特開昭51−100716号
、及び特公昭52−14277号公報記載の化合物が挙
げられる。また一般式(■)で示される化合物としては
、例えば特開昭51−56885号、特公昭52−14
278号、米国特許第4.442.197号、西独特許
第2.904.626号の各公報または明細書中に記載
の化合物が挙げられる。
具体的には以下に示すものが含まれる。
(Vl−1) (Vl−2) (Vl−3) (Vl−4) (VI−5) (VI−6) (Vl−7) (VI−8) (VI−9) (VI−10) (■〜11) + (Vl−12) A (■−1) (■−2) (■−3) (■−4) 乙9 (■−5) (■−6) (■−9) (■−10) (■−11) (■−12) (■−13) (■−14) (■−15) (3)下記の一般式(■)で表わされるジスルホン誘導
体又は一般式(IX)で表わされるイミドスルホネート
誘導体。
Ar3−3O2−3O2−八r、          
   (■)ここで式中、Ar3、Ar、は同一でも相
異していてもよく、置換又は無置換のアリール基を示す
R+ sは置換又は無置換のアルキル、アリール基を示
す。Aは置換又は無置換のアルキレン、アルケニレン、
アリーレン基を示す。
具体的には以下に示す化合物が挙げられる。
(■−2) (■−3) (■−4) (■−5) (■−6) (■−8) (■−9) (■−10) (IX−1) (IX−2) (IX−3) (IX−4) (IX−5) (IX−6) (IX、−7) (IX−8) (IX−10) (IX−11) (IX−12) これらの光照射により酸を発生し得る化合物の添加量は
、全組成物に対し、0.01〜lQwt%、好ましくは
0.1〜5wt%の範囲で使用される。
(b)の化合物 本発明(b)における一般式(I)、(II)、又は(
III)で示されるシリルエーテル化合物の具体例とし
ては次に示すものがあるが、これに限定されるものでは
ない。
No、 1 No、 4 No、 7 No、 8 No、 9 No、 1O No、11 No、 12 No、 14 No、 16 O Nα17 No、 18 No、21 x、y No、 22 No、 23 No、 24 No、25 No、 26 No33 Nα34 H3 No、 42 No、 43 No、47 1↓; 上 ;′t″    、、−1−コ ゛−−斗一一′なお具
体例中のnは2以上の整数を示す。またx、  y、 
 zはモル比を示し、化合物例No、45〜47ではx
−10〜85モル%、y−5〜80モル%、z=10〜
85モル%である。また化合物例No3〜4.7〜19
.21.26.37、及び41〜44.49では、x=
5〜90モル%、y−10〜95モル%を示す。
酸により分解し得る、これらのシリルエーテル化合物の
添加量は全組成物に対し、5〜7Qwt%、好ましくは
15〜5Qwt%の範囲で使用される。
(c)の化合物 本発明の(c)における、エポキシ基を少なくとも1個
有する化合物としては、多くの既知の脂肪族又は芳香族
エポキシ化合物が含まれる。具体的には以下に示すもの
が含まれる。
エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレン
グリコールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグ
リシジルエーテノペジグリセロールポリグリシジルエー
テル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、アリルグ
リシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテノヘブチル
グリシジルエーテノペフェニルグリシジルエーテル、ク
レジルグリシジルエーテJペレゾルシンジグリシジルエ
ーテル、1.4−ブタンジオールジグリシジルエーテル
、1,5−ペンタンジオールジグリシジルエーテノペ 
1.6−ヘキサンシオールジグリシジルエーテル、l、
7−ペフタンジオールジグリシジルエーテル、1.8−
オクタンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレング
リコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ネ
オペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチ
ロールエタントリクリシジルエーテノヘトリメチロール
プロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジ
グリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエ
ーテル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸
ジグリシジルエステル、スピログリコールジグリシジル
エステルなどが挙げられる。
これらのエポキシ化合物の添加量は、全組成物に対し0
.01〜10wt%、好ましくは0.03〜5wt%の
範囲で使用される。
その他の成分 本発明の先回溶化組成物は、上記(a)、(b)、(c
)の化合物の組合せのみで使用することができるが、ア
ルカリ可溶性樹脂と混合して用いた方が好ましい。好適
なアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック型フェノー
ル樹脂、具体的にはフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
、0−クレゾール−ホルムアルテヒドItllLm−タ
レゾール−ホルムアルデヒド樹)lLp−タレゾール−
ホルムアルデヒド樹脂、またこれらの共縮合物などがあ
る。更に特開昭50−125806号公報に記されてい
る様に上記のようなフェノール樹脂と共に、t−ブチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8
のアルキル基で置換されたフェノールまた・五〇 ハクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用す
ると、一層好ましい。またカルボキシル基含有ポリアク
リレート、ポリメタクリレート、ポリエステル、ポリウ
レタン、及びポリアミドなども使用することができる。
本発明の光可溶化組成物には必要に応じて、更に染料、
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発生効
率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有させる
ことができる。
このような増感剤として、例えば一般式(Vl)、(■
)で示される酸発生剤に対しては米国特許第4、250
.053号、同第4.442.197号の明細書中に記
載された化合物を挙げることができる。具体的にはアン
トラセン、フェナンスレン、ペリレン、ピレン、り!ノ
セン、1,2−ベンゾアントラセン、コロネン、1.6
−ジフェニル−1,3,5−ヘキサトリエン、1. 1
. 4. 4−テトラフェニル−1,3−ブタジェン、
2. 3. 4. 5−テトラフェニルフラン、215
−ジフェニルチオフェン、チオキサントン、2−クロロ
チオキサントン、フエッチアジン、1,3−ジフェニル
ピラゾリン、1.3−ジフェニルイソベンゾフラン、キ
サントン、ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、アンスロン、ニンヒドリン、9−フルオレ/ン、
2,4.7−トリニトロフルオレノン、インダノン、フ
エナンスラキノン、テトラロン、7−メドキシー4−メ
チルクマリン、3−ケト−ビス(7−ジニチルアミノク
マリン)、ミヒラーケトンなどが含まれる。
これらの増感剤と光分解により酸を発生し得る化合物と
の割合は、モル比で0.01/1〜20/1であり、好
ましくは0.1 / 1〜5/1の範囲で使用される。
また着色剤として染料を用いることができるが、好適な
染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体的
には、オイルイエロー#101.,4−イルイエロー#
130、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、
オイルブルーBO3,オイルブルー#603、オイルブ
ラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−
505(以上、オリエント化学工業株式会社製)クリス
タルバイオレット (c142555)、メチルバイオ
レッ) (cI42535) 、ローダミンB (c 
I4517OB)、マラカイトグリーン(cI4200
0)、メチレンブルー(cI52015)などをあげる
ことができる。
溶   媒 本発明の光可溶化組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
を溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノーノヘエタノール、プロパツ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メ
トキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メ
トキシ−2−プロピルアセテート、トルエン、酢酸エチ
ルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使
用する。そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形
分)は、2〜50重量%である。また、塗布量は用途に
より異なるが、例えば感光性平版印刷版についていえば
一般的に固形分として0,5〜3.0g/m’が好まし
い。塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、感光
膜の物性は低下する。
平版印刷版等への応用 本発明の光可溶化組成物を用いて平版印刷版を製造する
場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他面鉛板、
ステンレス板、クローム処理銅板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。
また印刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクタ−用フ
ィルム第2原図用フィルムの製造に適する支持体として
はポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテー
トフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチック
フィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化した
ものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの製
造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウム
合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレート
フィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレー
トフィルムをあげることが出来る。
まtこホトレジストとして上記以外の種々の支持体、例
えば銅板、銅メツキ板、ガラス板上に本発明の売可溶化
組成物を塗布して使用される。
本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による走
査露光も本発明に使用することができる。このようなレ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ−、アル
ゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ−、ヘリウム・
カドミウムレーザーなどが挙げられる。
本発明の売可溶化組成物に対する現像液としては、珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
ニリン酸ナトリウム、第三lllll11 リン酸アンモニウム、第ニリン酸アンモニウム、メタ珪
酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などの
ような無機アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの
濃度が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量
%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
「実施例」 以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれに限定されるものではない。
合成例1 (化合物例No、 27の原料合成)エチレ
ングリコールIIlに触媒量のピリジンを加え、これに
2.4−)リレンージイソシアナー)139gを、撹拌
しながら滴下ロートより約40分間かけて添加した。添
加後70℃にて、更に2時間撹拌を続けた。その後、反
応溶液を氷−メタノール浴にて冷却し、白色固体を析出
せしめた。濾別後、約21の水で再結晶し、白色結晶ζ
 C 214g(収率90%)を得た。NMR及び元素分析に
より、この白色結晶が、ビス−(2−ヒドロキシエチル
)2.4−)リレンジカルバメートを確8忍した。
合成例2(化合物例N027の合成) 合成例1にて得たビス(2−(ヒドロキシエチル)2.
4−)リレンジカルバメート29.8 g(0,100
mole) 、ピリジン17.4 g (0,220モ
ル)を酢酸エチル180m1中で室温下撹拌し、ジクロ
ロジメチルシラン12.9g(0,100モル)のトル
エン20m1溶液を滴下ロートより添加した。添加に約
30分間を要した。添加後、50℃で5時間撹拌を続け
た。
生成したピリジンのHCl2塩を濾別した後、反応溶液
を5%NaHCO+水溶液200m1、更に飽和b 食塩水20On+j!で洗浄し、Na25O,にて乾燥
させた。その後反応溶液を濃縮乾枯した結果、無色の樹
脂31gを得た。NMRにより、その構造が化合物例N
o、27であることを確認した。更にGPC(Gel 
Permeation Chromatography
) により分子量を測定したところ、ポリスチレン標準
で4’、 500であった。
合成例3(化合物例N025の合成) ビス−(2−ヒドロキシエチル)イソフタレー【0.1
00モル)、ピリジン17.4 g (0,220モル
)のトルエン100m7溶1にジクロロジエチルシラン
15.7g(0,100モル)のトルエン2 Q’、 
m 1!溶液を室温下、撹拌しながら滴下ロートより約
30分間かけて添加した。添加後50℃にて8時間撹拌
を続けた。生成したピリジンのHC1塩を濾別後、合成
例2に示した方法と同様に後処理を行い、無色の粘稠な
液体27gを得た。NMRにより、その構造が化合物例
No、25であることを確認し、更にGPCにより分子
量を測定したところ、ポリスチレン標準で3.000で
あった。
合成例4 (化合物例No、48の合成)p−キシリレ
ングリコール13.8g(0,100モル)、ピリジン
17.4 g (0,220モル)、をメチルエチルケ
トン100m1!に溶解し、これにビス(クロロジメチ
ルシリル)エタン21.5 g(0,100モル)のト
ルエン2Qmj!溶液を撹拌しながら滴下ロートより3
0分間かけて添加した。
添加後50℃にて、5時間撹拌を続けた。生成した白色
の塩(ピリジンの塩酸塩)を濾別し、メチルエチルケト
ン溶液を3%重炭酸ナトリウム水溶液100mj!、続
いて飽和食塩水100mj!にて洗浄したこれを無水硫
酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去させると
淡褐色粘稠固体が得られた。収量20.2g、NMRに
より、その構造が化合物例No、48であることを確認
した。更にゲルバーミエーションクロマトクラフィー(
GPC。
ポリスチレン標準)により分子量を測定したところ重量
平均でv1w= 35 Q Qであった。
実施例1〜4 厚さ0.24 mmの28アルミニウム板を80℃に保
った第3燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸
ナトリウムで約10秒間エツチングして、硫酸水素ナト
リウム3%水溶液でデスマット処理を行った。このアル
ミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A/c1m2に
おいて2分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作製した
次に下記感光液〔A)の化合物(c)の種類を変えて、
4種類の感光液[Al−1〜(Al−4を調整し、この
感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、
100℃で2分間乾燥して、それぞれの感光性平版印刷
版(A)−1〜〔A〕−4を作製した。このときの塗布
量は全て乾燥重量で1.5g/m’であった。
また感光液[A〕−1〜[Al−4を用いた化合物(c
)は第1表に示す。
感光液CA〕 次に比較例として下記の感光液CB)を感光液(A)と
同様に塗布し、感光性平版印刷版CB〕を作製した。
感光液[C,] 乾燥後の塗布重量は1.5g/m’であった。感光性平
版印刷版[:Al−1〜(A)−4、及びCB)の感光
層上に濃度差0.15のグレースケールを密着させ、3
0アンペアのカーボンアーク灯で70amの距離から露
光を行った。
本発明の優れた感光性を示す為に露光された感光性平版
印刷版(A)−1〜(A)−4、及び[B]をDP−4
(商品名:富士写真フィルム−製)の8希釈水溶液で2
5℃において60秒間浸漬現像し、濃度差0.15のグ
レースケールで5段目が完全にクリアーとなる露光時間
を求めたところ第1表に示すとおりとなった。
第  1  表 第1表かられかるように化合物(c)を用0た感光性平
版印刷版[A)−1〜[A)−4はl、NずれもCB)
より露光時間が少く、感度が高(I)。
なお感光液〔A〕中のシリルエーテル化合物No。
14の分子量は重量平均で5.700 (GPC、ポリ
スチレン標準)であった。またn=3であり、x/y比
はモル比で50150であった。
実施例5〜8 実施例1の感光液〔A〕において、化合物(c)のみを
含まない感光液CC)を実施例1と同様に塗布し、感光
性平版印刷版〔C〕を作製した。乾燥後の塗布重量は1
.5g/m’であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (a)活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、(
    b)下記一般式( I )、(II)、又は(III)で示され
    る、酸により分解し、現像液中でのその溶解度が酸の作
    用により増大するシリルエーテル化合物、及び(c)溶
    剤を除く全組成物に対して0.01〜10wt%の、エ
    ポキシ基を少なくとも1個有する化合物、を含有するこ
    とを特徴とする光可溶化組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R_1は置換基を有していてもよいm価の脂肪族
    又は芳香族炭化水素を示す。R_2、R_3、R_4は
    同一でも相異していてもよく、それぞれ水素原子、アル
    キル、アルケニル、置換基を有していてもよいアリール
    もしくはアラルキル、ハロゲン、又は−OR_6を示す
    。R_5、R_7は置換基を有していてもよい2価の脂
    肪族又は芳香族炭化水素を示す。 R_6は置換基を有していてもよいアルキル、アリール
    、もしくはアラルキル基を示す。またR_5とR_6が
    結合して脂肪族環又は芳香族環の一部を形成してもよい
    。 R_8は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
    、アリール、もしくはアシル基、又は▲数式、化学式、
    表等があります▼を示す。 m、nは正の整数を示し、a、bはそれぞれ0又は1を
    示す。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5240813A (en) * 1989-11-15 1993-08-31 Fujitsu Limited Polysilphenylenesiloxane, production process thereof, and resist material and semiconductor device formed thereof
JP2012226239A (ja) * 2011-04-22 2012-11-15 Fujifilm Corp 化学増幅型ポジ感光性組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53141026A (en) * 1977-05-14 1978-12-08 Toyo Boseki Sensitive resin composite forming relief
JPS58149041A (ja) * 1982-03-01 1983-09-05 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
JPS58160950A (ja) * 1982-02-22 1983-09-24 ミネソタ・マイニング・アンド・マニユフアクチユアリング・コンパニ− ポジ的に作用する感光性組成物
JPS59162542A (ja) * 1983-03-04 1984-09-13 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
JPS59184220A (ja) * 1983-03-31 1984-10-19 セリコル・グル−プ・リミテツド 水性光重合性組成物
JPS6037547A (ja) * 1983-08-11 1985-02-26 Toshiba Corp ゴム系フオトレジスト組成物
JPS6037549A (ja) * 1983-08-10 1985-02-26 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS60207136A (ja) * 1984-03-31 1985-10-18 Nitto Electric Ind Co Ltd 画像形成材料
JPS61141442A (ja) * 1984-12-14 1986-06-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61151643A (ja) * 1984-12-26 1986-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61295549A (ja) * 1985-06-25 1986-12-26 Dainippon Ink & Chem Inc 感光性組成物
JPS6238452A (ja) * 1985-08-14 1987-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53141026A (en) * 1977-05-14 1978-12-08 Toyo Boseki Sensitive resin composite forming relief
JPS58160950A (ja) * 1982-02-22 1983-09-24 ミネソタ・マイニング・アンド・マニユフアクチユアリング・コンパニ− ポジ的に作用する感光性組成物
JPS58149041A (ja) * 1982-03-01 1983-09-05 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
JPS59162542A (ja) * 1983-03-04 1984-09-13 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
JPS59184220A (ja) * 1983-03-31 1984-10-19 セリコル・グル−プ・リミテツド 水性光重合性組成物
JPS6037549A (ja) * 1983-08-10 1985-02-26 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS6037547A (ja) * 1983-08-11 1985-02-26 Toshiba Corp ゴム系フオトレジスト組成物
JPS60207136A (ja) * 1984-03-31 1985-10-18 Nitto Electric Ind Co Ltd 画像形成材料
JPS61141442A (ja) * 1984-12-14 1986-06-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61151643A (ja) * 1984-12-26 1986-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61295549A (ja) * 1985-06-25 1986-12-26 Dainippon Ink & Chem Inc 感光性組成物
JPS6238452A (ja) * 1985-08-14 1987-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5240813A (en) * 1989-11-15 1993-08-31 Fujitsu Limited Polysilphenylenesiloxane, production process thereof, and resist material and semiconductor device formed thereof
US5484687A (en) * 1989-11-15 1996-01-16 Fujitsu Limited Polysilphenylenesiloxane, production process thereof, and resist material and semiconductor device formed thereof
JP2012226239A (ja) * 2011-04-22 2012-11-15 Fujifilm Corp 化学増幅型ポジ感光性組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜

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