JPH04215662A - 放射線感受性混合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、水に不溶性であるがア
ルカリ性水溶液に可溶性であるバインダー、放射線に露
光された時に酸を生成する化合物および酸による接触加
水分解を受け、その結果として混合物のアルカリ溶解性
が増大される有機化合物を含むポジ型に作用する放射線
感受性混合物に係るものである。これらの混合物は、紫
外線照射、電子線およびＸ−線に対して感受性があり、
特にレジスト材料として好適である。

【０００２】

【従来の技術】ポジ型の放射線感受性混合物は既知であ
り、特にアルカリ性水溶液中に可溶性であるバインダー
中にｏ−キノンジアジドを含むポジ型のレジスト材料、
例えばノボラックまたはポリ−ｐ−ビニルフェノール類
は、工業的に利用されている。しかしながら、これらの
システムのあるものの放射線に対する感度、特に短波放
射線に対する感度は不十分である。

【０００３】一次光反応で一種の種子化合物を生成し、
これが放射線の有無に関係なく接触二次反応を開始する
ような放射線感受性系の感度増加が発表されている。従
って、例えば米国特許第３９１５７０６号は光反応開始
剤を記載しており、これが強酸を生成しこの強酸がポリ
アルデヒド基のような酸に不安定な化合物を二次反応で
開裂している。

【０００４】別の既知放射線感受性混合物は酸開裂化合
物に基づく混合物であり、バインダーとしてアルカリ性
水溶液に可溶性のポリマー、および光化学反応において
強酸を生成する化合物、および酸開裂する結合を有して
いてそのアルカリ性現像液に対する溶解度が酸の作用に
より増加するさらなる化合物を含んでいる（参照、ドイ
ツ特許公開公報第３４０６９２７号）。光化学反応にお
いて強酸を生成する化合物は、ジアゾニウム、ホスホニ
ウム、スルホニウム、ヨードニウムおよびハロゲン化合
物である。レジスト材料において光反応による酸供与体
としてこれらのオニウム塩を使用することは、また例え
ば米国特許第４４９１６２８号中に開示されている。レ
ジスト材料でのオニウム塩使用の概要は、クリベロ（Ｃ
ｒｉｖｅｌｌｏ）によりポリマー・サイエンス（Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｓｃｉ．）４８巻（１９８５）、６５−６９頁の
有機コーティングおよび応用（Ｏｒｇ．Ｃｏａｔｉｎｇ
ｓａｎｄ　　Ａｐｐｌ．）中で発表されている。

【０００５】酸に不安定な側鎖と光反応による酸供与体
を有するポリマー類の放射線感受性混合物は、例えば米
国特許第４４９１６２８号およびフランス特許第２５７
０８４４号中に開示されている。しかしながら、これら
のポリマーバインダーは疎水性であり、露光後にのみア
ルカリ可溶性となる。

【０００６】フェノール性基および酸に不安定な基を有
する共重合体、例えばポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン
／ターシャリ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）共
重合体は、ポリマー・サイエンス誌（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．），パートＡ，ポリマーケミカル（Ｐｏｌｙｍ
．Ｃｈｅｍ．）２４巻（１９８６），２９７１−１９８
０頁において発表されている。しかしながら、もし未だ
アルカリ可溶性であるこの基を有するこれらの共重合体
が、米国特許第４４９１６２８号にもまた記載されてい
るようなトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ−ヒ
酸塩等の市販スルホニウム塩と一緒に使用されるならば
、これらの混合物は、上述のスルホニウム塩が溶解度を
抑制する方向で十分に寄与しないために、非露光部分か
ら非常に大量の材料が除去されるという欠点を有してい
る。さらに、露光後において、アルカリ可溶性光反応生
成物が生成しないので、これらの塩はアルカリ性現像液
中への露光部分の溶解度を増加するのに役立っていない
。

【０００７】ドイツ特許公開公報第３７２１７４１号は
、アルカリ性水溶液に可溶性であるポリマーバインダー
、およびアルカリ性水溶液の現像液に対する溶解度が酸
の作用により増加しおよび１個以上の酸による開裂基を
含み、放射線に露光すると強酸を生成するような有機化
合物を含んでいる放射線感受性混合物を、記載している
。

【０００８】

【発明の目的】本発明の目的は、アルカリ性水溶液で現
像されることができ短波長の紫外線光に感度のある多層
体の製造ができるシステムとして、レリーフ体製造用の
新規な高活性ポジ型放射線感受性システムを提供するこ
とである。

【０００９】

【発明の構成】我々はこの目的が、水には不溶性である
がアルカリ性水溶液に可溶性であるバインダー、酸の作
用で加水分解される酸に不安定な有機化合物および放射
線に対して露光した時に強酸を生成する化合物とを含む
放射線感受性混合物が、画像形成的に露光され加熱され
、画像形成露光部が現像液により洗去されることができ
るならば、達成されるということを発見した。

【００１０】驚くべきことに、短波紫外線光によりレリ
ーフ体製造のための高活性放射線感受性システムは、あ
る種のピロカテコール誘導体をアルカリ性水溶液中への
バインダー溶解度抑制化合物として使用することにより
達成され、上記のシステムは非常に良好な再現性および
高い解像性を特にノボラック−ベースバインダーとの組
合わせで実施する時に表わすことを、発見した。

【００１１】本発明は、 （ａ）水に不溶性であるがアルカリ性水溶液に可溶性の
バインダーまたはバインダー混合物、 （ｂ）放射線に暴露した時に強酸を生成する化合物およ
び （ｃ）（ａ）のアルカリ性水溶液中への溶解度を抑制す
る１個以上の有機化合物から本質的になる放射線感受性
混合物 に係るものであり、ここにおいて有機化合物（ｃ）は一
般式（Ｉ）の化合物であり

【００１２】

【化６】 ここにおいてＲ１およびＲ２は同じであるかまたは異な
っており各々が水素、アルキル、アルコキシ、アリール
またはアラルキルであり、Ｒ３およびＲ４は同じである
かまたは異なっており各々がアルキル、シクロアルキル
、アラルキル、非置換であるかまたはアルキル置換また
はハロゲン置換アリールまたは次式の基であり

【００１
３】

【化７】 ここでｎは１から５までであり、Ｒ５がアルキル、アル
コキシ、アリールまたはアラルキルであるか、またはＲ
３がＲ４と一緒になってｍが４から６までである−（Ｃ
Ｈ２）ｍ−によって５員環乃至７員環を形成している。

【００１４】新規の放射線感受性混合物は、バインダー
（ａ）としてフェノール樹脂、例えば重量平均分子量Ｍ
ｗが３００から２０，０００までであるノボラック樹脂
またはポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ
−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、またはｐ−ヒド
ロキシスチレンとｐ−ターシャリ−ブトキシカルボニル
オキシスチレンとの共重合体、ｐ−ヒドロキシスチレン
とアルコキシスチレンとの共重合体、またはｐ−ヒドロ
キシスチレンと２−テトラヒドロピラニルオキシスチレ
ンとの共重合体（ここでこれらの共重合体はまたポリマ
ー類似反応により製造されることができる）であり、各
々の場合に重量平均分子量Ｍｗが２００から２００，０
００までであるポリマーを含むことができる。

【００１５】バインダー成分（ａ）は、（ａ），（ｂ）
および（ｃ）の下で示されているパーセントの合計が１
００であるという条件で、成分（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）
の合計量当りで、通常５０乃至９５重量％の量で存在し
ている。

【００１６】放射線に暴露した時に酸を生成する好適な
化合物（ｂ）は、一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）のオ
ニウム塩であり

【００１７】

【化８】 ここでＲα，ＲβおよびＲγは同じであるかまたは異な
っており各々がアルキル、アリール、アラルキルまたは
次式の基であり

【００１８】

【化９】 ここでＲδ，ＲεおよびＲζは同じであるかまたは異な
っており、各々が水素、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキ
ルまたはアルコキシであり、

【００１９】

【化１０】 成分（ｂ）は、通常成分（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）の合計
量当りで１から２０重量％の量で存在している。

【００２０】新規の放射線感受性混合物は、好適にはア
ルカリ性水溶液への成分（ａ）の溶解度を抑制する有機
化合物（ｃ）として、次式の化合物の１個以上を含んで
おり

【００２１】

【化１１】 ここでＲ′およびＲ″は同じであるかまたは異なってお
り各々が炭素原子１乃至６個のアルキル、フェニルまた
はベンジルでありｎが１であり、成分（ｃ）が通常成分
（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）の合計量当りで１から４９重量
％までの量で存在している。（ａ），（ｂ）および（ｃ
）の下で示されているパーセントの合計は、１００であ
る。

【００２２】新規の放射線感受性混合物は、さらに放射
線を吸収して成分（ｂ）に変換する増感剤を含むことが
でき、またはさらに成分（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）の合計
量当りで１重量％以下の接着促進剤、表面活性剤または
染料を含むことができる。

【００２３】本発明は、さらに常法で前処理された基材
に０．１から５μｍの層の厚さでフォトレジスト溶液を
施工し、乾燥、画像形成露光、必要ならば１５０℃まで
の温度に加熱しアルカリ性水溶液で現像することにより
レリーフ体製造またはウエーハ製造の方法に係るもので
あり、ここで使用するフォトレジスト溶液が新規の放射
線感受性混合物を含んでいる。

【００２４】新規のシステムは、特に特別に経済的なノ
ボラック−ベースバインダーと組合わせて使用されるこ
とができるので、有利である。上記のシステムで得られ
るレリーフ体は、非常に良好な再現性および高い解像力
を有している。

【００２５】新規の放射線感受性混合物の諸成分に関し
ては、以下にそれぞれの特徴を述べることができる。

【００２６】ａ）プラズマエッチング安定性が一般的に
要求されるので、水に不溶性であるがアルカリ性水溶液
に可溶性である適当なバインダーまたはバインダー混合
物は通常フェノール樹脂であり、例えば重量平均分子量
が３００から２０，０００まで、好適には３００から２
，０００グラムモルであり、短波紫外線範囲（≦３００
ｎｍ）で露光するためには特にｐ−クレゾール／ホルム
アルデヒド、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）および
ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）をベー
スにした特殊ノボラック樹脂であり、ここでこれらのポ
リ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）は一般的に重量平均分
子量Ｍｗ２００から２００，０００まで、好適には１，
０００から４０，０００グラムモルであり、さらに既知
方法においてこれらポリマーのヒドロキシル基の、例え
ばクロル酢酸、クロル酢酸エステル、アルキルハロゲニ
ド、ベンジルハロゲニド、３，４−ジヒドロピラン、ク
ロロカルボン酸エステルおよび／または焦性カルボン酸
エステル（ピロカルボン酸エステル）との反応（ポリマ
ー類似反応）によって変性されることができる。このよ
うな方法で得られ、本発明方法ではまた共重合体である
として理解されている変性ポリマーバインダー（ａ）は
、例えばｐ−ヒドロキシスチレンおよびｐ−ターシャリ
ーブトキシカルボニルオキシスチレンからの共重合体、
ｐ−ヒドロキシスチレンおよびアルコキシスチレンから
の共重合体およびｐ−ヒドロキシスチレンと２−テトラ
ヒドロピラニル−ヒドロキシスチレンからの共重合体で
ある。ｐ−ヒドロキシスチレンの好適な共重合体は保護
側鎖を有しており、特に次式の基を有していて

【００２７】

【化１２】 ここでｘ≧ｙでありＲが次式の基となっており

【００２
８】

【化１３】 従って例えばｐ−（２−テトラヒドロピラニル）−オキ
シスチレン、ｐ−（イソプロピルオキシカルボニル）−
オキシスチレン、ｐ−（シクロヘキシルオキシ−カルボ
ニル）−オキシスチレン、ｐ−（タ−シャリーブトキシ
カルボニル）−オキシスチレンおよび／またはｐ−（タ
ーシャリ−ペンチルオキシカルボニル）−オキシスチレ
ン単位を有する共重合体である。

【００２９】上述のバインダー（ａ）の混合物も、また
適している。バインダー（ａ）は、新規混合物において
一般的には放射線感受性混合物（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）
の合計量当りで５０から９５重量％の量で、好適には７
０から８５重量％の量で存在している。

【００３０】ｂ）放射線に露出した時に強酸を生成する
適当な化合物（ｂ）は、原則的にはこの性質を有してい
て従って酸供与体として作用するすべての化合物である
。しかしながら、ヨードニウムおよび特にスルホニウム
塩が短波紫外線光への露光のためには好適である。これ
らは一般式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の化合物であり

【
００３１】

【化１４】 ここではＲα，ＲβおよびＲγが同じであるかまたは異
なっており、各々が例えば１乃至５個、好適には１また
は２個の炭素原子を有するアルキル、アリール、例えば
フェニル、アラルキル、例えばベンジル、または次式の
基であり

【００３２】

【化１５】 ここでＲδ，ＲεおよびＲζは同じであるかまたは異な
っており各々が水素、ヒドロキシ、ハロゲン、例えば塩
素または臭素、アルキル、例えば１乃至５個の炭素原子
を有するアルキル、好適にはメチルまたはターシャリー
ブチル、またはアルコキシ、例えば１乃至５個の炭素原
子を有するアルコキシであり好適にはメトキシであり、

【００３３】

【化１６】 特に好適な成分（ｂ）の例は、トリフェニルスルホニウ
ム塩およびジフェニルヨードニウム塩であり、例えばト
リス−（４−ヒドロキシフェニル）−スルホニウム塩、
トリス−（トリメチルシリルオキシフェニル）−スルホ
ニウム塩、トリス−（４−ターシャリーブトキシカルボ
ニルオキシフェニル）−スルホニウム塩およびトリス−
（４−エトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニ
ウム塩であり、

【００３４】

【化１７】 （ｂ）として示されている化合物の混合物も、また使用
されることができる。成分（ｂ）は一般的に新規の放射
線感受性混合物中においては、放射線感受性混合物の（
ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）の合計量当りで、１乃至２０重量
％、好適には３乃至１０重量％の量で存在している。

【００３５】ｃ）本発明によれば、一般式（Ｉ）の有機
化合物が

【００３６】

【化１８】 バインダー（ａ）の溶解度を抑制する有機化合物（ｃ）
として使用されており、ここでＲ１およびＲ２は同じで
あるかまたは異なっており、各々が、水素、アルキル例
えば１乃至５個の炭素原子を有するアルキル、好適には
メチルまたはターシャリーブチル、アルコキシ例えば１
乃至５個の炭素原子を有するアルコキシ、好適にはメト
キシ、アリール例えばフェニル、またはアラルキル例え
ばベンジルであり、Ｒ３およびＲ４は同じであるかまた
は異なっており、各々がアルキル例えば１乃至５個、好
適には２乃至４個の炭素原子を有するアルキル、例えば
エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ブチル、アラルキルで
アルキル基が１または２個の炭素原子からなる例えばベ
ンジル、ハロゲン置換アラルキル例えばｐ−クロルベン
ジル、アリール例えばフェニル、アルキル置換アリール
、例えばトリル、アルコキシ置換アリル、例えばメトキ
シ−フェニル、ハロゲン（例えばフッ素、塩素、臭素ま
たはヨウ素、好適には塩素または臭素）により置換され
ているアリール、例えばｐ−クロルフェニル、または次
式の基であり

【００３７】

【化１９】 ここにおいてｎは１から５までであり、好適には１であ
り、Ｒ５が例えば１乃至５個の炭素原子、好適には１個
の炭素原子を有するアルキル、または例えば１乃至５個
の炭素原子、好適には１乃至４個の炭素原子を有するア
ルコキシ、例えばメトキシ、エトキシまたはターシャリ
ーブトキシであり、またはアリル即ちフェニル、または
アルキル基の炭素原子が１または２個であるアラルキル
、例えばベンジルであり、またはＲ３がＲ４と一緒にな
ってｍが２から４個、好適には３個である−（ＣＨ２）
ｍ−により５員環乃至７員環、好適には６員環を形成し
ている。

【００３８】好適な有機化合物（ｃ）は次式であり

【０
０３９】

【化２０】 ここにおいてＲ′およびＲ″は同じであるかまたは異な
っており、各々が１乃至６個、好適には２乃至４個の炭
素原子を有するアルキル、フェニルまたはベンジルであ
る。

【００４０】好適な有機化合物（ｃ）の例は、以下に示
される：

【００４１】

【化２１】 上述の有機化合物（ｃ）の混合物も、また使用されるこ
とができる。有機化合物（ｃ）は、例えば有機合成にお
ける保護基（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　　Ｇｒｏｕｐｓ　
　ｉｎ　　Ｏｒｇａｎｉｃ　　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），
１０８頁以下に記載されているような既知方法により製
造されることができ、例えばピロカテコールとカルボニ
ル化合物例えばシクロヘキサノンとから酸の存在で反応
して得られる。

【００４２】成分（ｃ）は、一般的に新規の放射線感受
性混合物中において、成分（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）の合
計量当りで１乃至４９重量％、好適には１０乃至２７重
量％の量で存在している。

【００４３】新規の放射線感受性混合物は、以上に加え
てさらに通常の助剤および添加剤を含有することができ
る。

【００４４】新規の混合物は、好適には有機溶剤中に溶
解され、固体含量が通常の場合に５乃至４０重量％とな
る。好適な溶剤は、脂肪族ケトン、エーテルおよびエス
テル、およびそれらの混合物である。アルキレングリコ
ールモノアルキルエーテル、例えばエチルセロソルブ、
ブチルグリコール、メチルセロソルブおよび１−メトキ
シ−２−プロパノール、アルキレングリコールアルキル
エーテルエステル類、例えばメチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート、メチルプロピレング
リコールアセテートおよびエチルプロピレングリコール
アセテート、ケトン類例えばシクロヘキサノン、シクロ
ペンタノンおよびメチルエチルケトン、およびアセテー
ト例えばブチルアセテート、および芳香族例えばトルエ
ンおよびキシレンが、特に好適である。対応する溶剤お
よび溶剤混合物の選択は、特別なフェノール樹脂、即ち
ノボラックおよび光感受性成分の選択によって決まって
いる。

【００４５】その他の添加物、例えば接着促進剤、湿潤
剤、染料および可塑剤は、また一般的に１重量％より多
くない量で加えられることができる。

【００４６】必要ならば、長波長の紫外線から可視光範
囲までにおいて化合物を増感させるために、少量の増感
剤が加えられることもできる。多核芳香族、例えばピレ
ンおよびペリレン等がこの目的のために選ばれるが、層
感剤として作用する別の染料もまた使用されることがで
きる。

【００４７】レリーフ画像製造用の新規方法においては
、主として新規の放射線感受性混合物からなる放射線感
受性記録層が画像形成するように露光され、露光部分の
アルカリ性水溶液に対する溶解度が増加して、これら露
光部分が選択的にアルカリ性現像液で除去されることが
できるように露光される。

【００４８】新規の放射線感受性混合物の特別な利点は
、短波紫外線光において非常に良好な再現性、高い解像
力および高い選択性を有していることである。

【００４９】新規の放射線感受性混合物を含有するフォ
トレジスト溶液は、一般的に適当な基材、例えば表面酸
化したシリコンウエーハにスピンコーティングにより０
．１から５μｍの層厚さで、好適には０．５から１．５
μｍまでの厚さで塗被され、得られた塗被層が例えば７
０℃から１３０℃の温度で乾燥され、次にフォトマスク
を通して適当光源により画像形成するように露光される
。特に好適な光源は、２００から３００ｎｍ波長を有す
る短波紫外線ランプ（超紫外線）およびフッ化クリプト
ン（ＫｒＦ）のエキシマレーザー（２４８ｎｍ）である
。画像形成露光後にもし必要ならば１５０℃より高くな
い温度で簡単な後焼付けした後に、通常のアルカリ性水
溶液現像液を用いて通常１２から１４のｐＨで現像が行
なわれ、露光部分が洗去される。解像度はサブミクロン
範囲になっている。新規の放射線感受性混合物に必要な
露光エネルギーは、一般的に１μｍ厚さの層に対して８
０から２５０ｍＪ／ｃｍ２となっている。

【００５０】以下の実施例においては、特別に記述され
ている以外では部およびパーセントは重量で表わされて
いる。

【００５１】

【実施例】実施例１ フォトレジスト溶液が、重量平均分子量Ｍｗ７，０００
を有するポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）の８０部、
トリス−（４−ヒドロキシフェニル）−スルホニウムト
リフレートの５部、次式化合物の１５部

【００５２】

【化２２】 およびエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの２５０部から製造される。

【００５３】同上溶液が、次に孔径０．２μｍを有する
フィルターにより濾過される。

【００５４】得られたレジスト溶液が、接着促進剤とし
てヘキサメチルジシラザンを塗布してあるシリコンウエ
ーハに４０００回／分の回転速度のスピンコーティング
で塗布され、約１μｍ厚さの塗被層が得られる。ウエー
ハはホットプレート上で３分間８０℃で乾燥され、次に
画像形成用に作られたテストマスクと接触されエキシマ
レーザー（λ＝２４８ｎｍ，Ｅ＝３５ｍＷ／ｃｍ２）に
露光される。この後で、ウエーハが１分間８０℃に加熱
され、次にｐＨ１２．０−１３．６の現像液で現像され
る。光感度は１５０ｍＪ／ｃｍ２である。

【００５５】実施例２ フォトレジスト溶液が、クレゾール／ホルムアルデヒド
ノボラック（Ｍｗ：約３００）の７０部、トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロ−ヒ酸塩（ＡＬＦＡからの
市販品）の５部、次式化合物の２５部

【００５６】

【化２３】 およびエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの２５０部を混合して調製され、さらに実施例１に記
載したように処理される。１９０ｍＪ／ｃｍ２の光感度
が、得られる。

【００５７】実施例３ ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）（Ｍｗ：７，０００
）の７０部、トリフェニル−スルホニウムヘキサフルオ
ロ−ヒ酸塩の５部、次式化合物の２５部

【００５８】

【化２４】 およびエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの２５０部を含むフォトレジスト溶液が、さらに実施
例１同様に処理される。８０ｍＪ／ｃｍ２の光感度が、
得られる。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）水に不溶性であるがアルカリ性水溶液に可溶性の
   バインダーまたはバインダー混合物、 （ｂ）放射線に暴露されて強酸を生成する化合物および
   （ｃ）（ａ）のアルカリ性水溶液中への溶解度を抑制す
   る１以上の有機化合物から本質的に構成される放射線感
   受性混合物であって、有機化合物（ｃ）が一般式（Ｉ）
   の化合物であり 【化１】 式中Ｒ１およびＲ２が同じであるかまたは異なっており
   各々が水素、アルキル、アルコキシ、アリールまたはア
   ラルキル、Ｒ３およびＲ４が同じであるかまたは異なっ
   ており各々がアルキル、シクロアルキル、アラルキル、
   非置換またはアルキル置換またはハロゲン置換アリール
   または次式の基であり 【化２】 ここでｎは１乃至５でありＲ５がアルキル、アルコキシ
   、アリールまたはアラルキル、またはＲ３がＲ４と一緒
   になってｍが４乃至６である−（ＣＨ２）ｍ−による５
   員環乃至７員環を形成することを特徴とする放射線感受
   性混合物。
2. 【請求項２】　　使用されるバインダー（ａ）がフェノ
   ール樹脂であることを特徴とする、請求項　　１記載の
   放射線感受性混合物。
3. 【請求項３】　　使用されるフェノール樹脂が重量平均
   分子量Ｍｗ３００から２０，０００までを有するノボラ
   ック樹脂であることを特徴とする、請求項２記載の放射
   線感受性混合物。
4. 【請求項４】　　使用されるバインダー（ａ）がポリ−
   （ｐ−ヒドロキシ−スチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキ
   シ−α−メチルスチレン）、またはｐ−ヒドロキシスチ
   レンとｐ−ターシャリーブトキシカルボニルオキシスチ
   レンとの共重合体、またはｐ−ヒドロキシスチレンとア
   ルコキシスチレンとの共重合体またはｐ−ヒドロキシス
   チレンと２−テトラヒドロピラニルオキシスチレンとの
   共重合体であり（ここでこれらの共重合体はまたポリマ
   ー類似反応で製造されることができる）、各々の重量平
   均分子量Ｍｗが２００から２００，０００の範囲にある
   ことを特徴とする、請求項　　１記載の放射線感受性混
   合物。
5. 【請求項５】　　（ａ），（ｂ）および（ｃ）のパーセ
   ントの合計が１００になるという条件で（ａ）＋（ｂ）
   ＋（ｃ）各成分の合計量当りで、バインダー成分（ａ）
   が５０乃至９５重量％の量で存在することを特徴とする
   、先行請求項のいずれか１項に記載の放射線感受性混合
   物。
6. 【請求項６】　　式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）のオニウ
   ム塩 【化３】 （ただし式中、Ｒα，ＲβおよびＲγは同じであるかま
   たは異なっており、各々がアルキル、アリール、アラル
   キルまたは次式の基であり 【化４】 ここでＲδ，ＲεおよびＲζが同じであるかまたは異な
   っており、各々がＨ，ＯＨ、ハロゲン、アルキルまたは
   アルコキシであり、 【化５】 が放射線露光により強酸を生成する化合物（ｂ）として
   使用されることを特徴とする、先行請求項のいずれか１
   項に記載の放射線感受性混合物。
7. 【請求項７】　　成分（ｂ）が、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ
   ）成分の合計量当りで１乃至２０重量％の量で存在する
   ことを特徴とする、先行請求項のいずれか１項に記載の
   放射線感受性混合物。
8. 【請求項８】　　成分（ｃ）が、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ
   ）成分の合計量当りで１乃至４９重量％の量で存在する
   ことを特徴とする、先行請求項のいずれか１項に記載の
   放射線感受性混合物。
9. 【請求項９】　　放射線を吸収して成分（ｂ）に転換す
   る増感剤を追加して含むことを特徴とする、先行請求項
   のいずれか１項に記載の放射線感受性混合物。
10. 【請求項１０】　　（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）成分の合計
    量当りで、接着促進剤、表面活性剤または染料が添加剤
    として１重量％以下で含まれていることを特徴とする、
    先行請求項のいずれか１項に記載の放射線感受性混合物
    。
11. 【請求項１１】　　フォトレジスト溶液を、常法により
    前処理された基材上に０．１乃至５μｍの層の厚さで施
    工し、乾燥、画像形成露光し、必要ならば１５０℃より
    高くない温度に加熱し、次にアルカリ性水溶液で現像す
    ることからなるレリーフ構造またはウエーハの製造法で
    あって、用いられるフォトレジスト溶液が請求項　　１
    〜１０項のいずれか１項に記載の放射線感受性混合物を
    含むことを特徴とする、レリーフ構造またはウエーハの
    製造法。