JPH04306204A - ポリ(テトラヒドロピラニルオキシスチレン)及びその製造方法 - Google Patents

ポリ(テトラヒドロピラニルオキシスチレン)及びその製造方法

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JPH04306204A
JPH04306204A JP1389891A JP1389891A JPH04306204A JP H04306204 A JPH04306204 A JP H04306204A JP 1389891 A JP1389891 A JP 1389891A JP 1389891 A JP1389891 A JP 1389891A JP H04306204 A JPH04306204 A JP H04306204A
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JP
Japan
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tetrahydropyranyloxystyrene
polymer
reaction
poly
molecular weight
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Pending
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JP1389891A
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Inventor
Osamu Watanabe
修 渡辺
Motoyuki Yamada
素行 山田
Fujio Yagihashi
不二夫 八木橋
Minoru Takamizawa
高見沢 稔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F112/00Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F112/02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F112/32Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing two or more rings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポリスチレン誘導体及び
その製造方法に関し、特に、機能性高分子として有用な
ポリ(テトラヒドロピラニルオキシスチレン)及びその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、機能性高分子はLSI用とし
て使用する高解像度のリソグラフィー用レジスト材料と
して多用されている。特に今日の高密度化の進展に伴い
、レジスト材料に対して高解像度及び高現像性が要求さ
れている。係る要求に答える上から、従来タイプのレジ
スト材料であるノボラック樹脂の場合には、分別という
手法を用いて分子量の制御を行って解像度及び現像性を
高めている(特開昭62─1217542号)。しかし
ながら、分別という手法は操作が複雑である上時間がか
かるという欠点がある。
【0003】一方、最近、従来のレジスト材料に代わる
ものとして化学増幅タイプのレジストが種々検討されて
いる。上記のレジストにおいては、特に作業性の観点か
ら、酸により容易に脱離できる官能基を有すると共にそ
の脱離前後での溶解性が異なるものが賞用されている。 係る観点から耐プラズマ性に優れているスチレン誘導体
が好適なものとして知られているが、尚、厳しくなる要
求性能に対して十分に追随できるというものではなかっ
た。
【0004】又、これら公知のレジスト材料の主成分で
あるポリマーは通常のラジカル重合法や縮重合法により
得られており、初めから分子量や分子量分布を制御する
ということについては配慮がなされていない。
【0005】そこで、本発明者等は、更に良好な機能性
高分子を開発すべくポリスチレン誘導体について鋭意検
討した結果、新規な機能性高分子として極めて有望なポ
リ(テトラヒドロピラニルオキシスチレン)を見いだす
に至り本発明に到達した。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の第1
の目的は狭分散の分子量を有し高解像を有するレジスト
材料として有望なポリ(テトラヒドロピラニルオキシス
チレン)を提供することにある。本発明の第2の目的は
、狭分散で任意の分子量を与えることができるポリ(テ
トラヒドロピラニルオキシスチレン)の製造方法を提供
することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の諸目的は
下記構造式(1)
【化3】 で表される繰り返し単位を有する狭分散ポリ(テトラヒ
ドロピラニルオキシスチレン)及びその製造方法によっ
て達成された。
【0008】構造式(1)で表される繰り返し単位を有
する本発明のポリ(テトラヒドロピラニルオキシスチレ
ン)の分子量分布は狭分散(Mw/Mn=1.03〜1
.50)であり、このために、このポリマーをレジスト
材料等として使用した場合には解像度が大きく改善され
る。
【0009】尚、重量平均分子量Mwは使用したモノマ
ー化合物の重量と開始剤のモル数(分子数)から容易に
計算することができる。
【0010】又、数平均分子量(Mn)は膜浸透圧計を
用いて測定することができる。更に、分子構造は赤外線
吸収(IR)スペクトル及び 1H−NMRスペクトル
によって容易に確認することができ、分子量分布の評価
はゲルパ−ミエーションクロマトグラフィー(GPC)
によって行うことができる。
【0011】次に、本発明の狭分散ポリ(テトラヒドロ
ピラニルオキシスチレン)の製造方法について述べる。 本発明のポリ(テトラヒドロピラニルオキシスチレン)
は下記構造式(2)で表されるテトラヒドロピラニルオ
キシスチレンモノマーをアニオン重合させることによっ
て製造することができる。
【化4】 テトラヒドロピラニルオキシスチレンモノマーの重合に
際しては公知のリビングアニオン開始剤を用いることに
よって狭分散とすることができるが、これらのリビング
アニオン開始剤の中でも特に有機金属化合物を用いるこ
とが好ましい。従って、本発明の狭分散ポリ(テトラヒ
ドロピラニルオキシスチレン)は、通常リビングポリマ
ーとして得られる。
【0012】上記有機金属化合物としては、例えばn−
ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、ナトリウム
ナフタレン、ナフタレンカリウム、アントラセンナトリ
ウム、α−メチルスチレンテトラマージナトリウム、ク
ミルカリウム、クミルセシウム等の有機アルカリ金属が
挙げられる。
【0013】上記重合は一般に有機溶媒中で行われる。 用いられる有機溶媒としては芳香族炭化水素、環状エー
テル、脂肪族炭化水素等の溶媒(例えばベンゼン、トル
エン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒドロ
ピラン、ジメトキシエタン、n−ヘキサン、シクロヘキ
サン等)又はこれらの混合溶媒が挙げられるが、特にテ
トラヒドロフランを使用することが好ましい。
【0014】重合に供するモノマーの濃度は1〜30重
量%が適当であり、反応は高真空下又はアルゴン、窒素
等の不活性ガス雰囲気下で攪拌しながら行う。反応温度
は−78℃から使用する反応溶液の沸点温度まで任意に
選択することができるが、特にテトラヒドロフラン溶媒
を用いた場合には−78℃〜0℃、ベンゼン溶媒を用い
た場合には室温が好ましい。
【0015】重合反応は約10分〜5時間行われ、目的
とする分子量に到達した時点で、例えば、メタノール、
水、メチルブロマイド等の重合停止剤を反応系に添加し
て反応を停止させる。これによって所望の分子量のポリ
(テトラヒドロピラニルオキシスチレン)を得ることが
できる。
【0016】更に、該反応混合物を、例えば、メタノー
ルを用いて沈澱洗浄し乾燥することにより生成物を精製
・単離することができる。このようにして製造したポリ
マーは、重合端末が残存している所謂リビングポリマー
であり、このことは 1H−NMRスペクトルによって
容易に確認することができる。
【0017】
【発明の効果】本発明のポリ(テトラヒドロピラニルオ
キシスチレン)は分子量分布が狭く、任意の分子量に制
御できるため、レジスト材料等の感光性高分子材料とし
て用いた場合には従来以上の高解像度が見込まれる上、
製造も容易であるので本発明は極めて有意義である。
【0018】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではない
【0019】実施例1. 反応容器にp−ビニルフェノールに対して1.5モルの
ジヒドロピランを入れ、0.1モルのピリジニウム−p
−トルエンスルフォネートの存在下、塩化メチレン溶媒
中、室温で6時間反応させた。
【0020】次に、反応物を飽和食塩水で洗浄して反応
物中の触媒を除去した後、生成物を減圧蒸留することに
より、テトラヒドロピラニルオキシスチレンを85%の
収率で得た。得られたテトラヒドロピラニルオキシスチ
レンは120℃/0.1mmHgの沸点を有していた。
【0021】次に、得られたテトラヒドロピラニルオキ
シスチレンモノマー中の水分等の不純物を取り除くため
、更にCaH2 を用いて蒸留し、精製剤としてベンゾ
フェノンナトリウムを用いて精製し、これを重合用モノ
マーとして使用した。
【0022】1リットルのフラスコに溶媒としてテトラ
ヒドロフラン700ml、重合開始剤としてn−ブチル
リチウム5×10−4モルを仕込んだ後、この混合溶液
を−78℃に冷却し、50mlのテトラヒドロフランで
希釈したテトラヒドロピラニルオキシスチレンを30g
添加して1時間重合したところ、反応溶液は赤色を呈し
た。所望の分子量を得るまで重合反応を行った後、反応
溶液にメタノールを添加して反応を停止させた。次いで
反応混合物をメタノール中に注ぎ、重合体を沈澱させて
分離し、更に乾燥して29.5gの白色重合体を得た。
【0023】得られた重合体の 1H−NMRスペクト
ルを測定したところ第1図の様であり、GPC溶出曲線
は第2図に示す通りであった。IRスペクトルと 1H
−NMRスペクトルから、エーテルに結合しているテト
ラヒドロピラニル基に活性末端が反応せずに残っている
事及びスチレン部のビニル基のみが反応しているポリ(
テトラヒドロピラニルオキシスチレン)であることが確
認された。又、膜浸透圧法により数平均分子量が5.5
×104 g/モルであること、及びGPC溶出曲線か
ら分子量分布が狭く単分散性の非常に高い(即ち狭分散
の)重合体であることが確認された。
【0024】実施例2. 2リットルのフラスコに溶媒としてテトラヒドロフラン
1リットル、及び重合開始剤としてナフタレンカリウム
を3×10−3モル仕込んだ後この混合溶液を25℃に
冷却し、次いで実施例1で用いた精製したテトラヒドロ
ピラニルオキシスチレン50gを100mlのテトラヒ
ドロフランで希釈した溶液を添加して1 時間重合した
ところ、この反応溶液は赤色を呈した。
【0025】所望の分子量となったことを確認した後反
応溶液にメタノールを添加することにより重合反応を停
止させた。次に、反応混合物をメタノール中に注ぎ、重
合体を沈澱させた後分離し、乾燥して49.5gの白色
重合体を得た。得られた重合体の 1H−NMRスペク
トルを測定したところ実施例1と同様の特性吸収が示さ
れた。又、GPC溶出曲線(第3図)の結果から、得ら
れた重合体の単分散性が極めて高いことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得た本発明の重合体の 1H−NM
Rスペクトルである。
【図2】実施例1で得た本発明の重合体のGPC溶出曲
線である。
【図3】実施例2で得た本発明の重合体のGPC溶出曲
線である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  下記構造式  (1)【化1】 で表される繰り返し単位を有する狭分散ポリ(テトラヒ
    ドロピラニルオキシスチレン)。
  2. 【請求項2】  下記構造式(2) 【化2】 で表されるテトラヒドロピラニルオキシスチレンモノマ
    ーをアニオン重合させることを特徴とする狭分散ポリ(
    テトラヒドロピラニルオキシスチレン)の製造方法。
JP1389891A 1991-01-11 1991-01-11 ポリ(テトラヒドロピラニルオキシスチレン)及びその製造方法 Pending JPH04306204A (ja)

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EP19920300222 EP0494792B1 (en) 1991-01-11 1992-01-10 Tetrahydropyranyloxystyrene homopolymer and method of manufacturing the same
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DE4005212A1 (de) * 1990-02-20 1991-08-22 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch

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DE69215546T2 (de) 1997-06-19
DE69215546D1 (de) 1997-01-16
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EP0494792B1 (en) 1996-12-04

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