JPH0665333A - 単分散性共重合体及びその製造方法 - Google Patents
単分散性共重合体及びその製造方法Info
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- JPH0665333A JPH0665333A JP4245548A JP24554892A JPH0665333A JP H0665333 A JPH0665333 A JP H0665333A JP 4245548 A JP4245548 A JP 4245548A JP 24554892 A JP24554892 A JP 24554892A JP H0665333 A JPH0665333 A JP H0665333A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】レジスト材料用ポリマーとしての要求性能を充
たす、新規な単分散性共重合体、及びその製造方法を提
供すること。 【構成】下記化１で表される単位及び下記化２で表され
る単位からなる単分散性共重合体、及びその製造方法。 【化１】 【化２】
たす、新規な単分散性共重合体、及びその製造方法を提
供すること。 【構成】下記化１で表される単位及び下記化２で表され
る単位からなる単分散性共重合体、及びその製造方法。 【化１】 【化２】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な共重合体及びそ
の製造方法に関し、特に機能性高分子として優れた、単
分散性共重合体及びその製造方法に関する。
の製造方法に関し、特に機能性高分子として優れた、単
分散性共重合体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】機能性高分子は、コンピューター等に使用
されるＬＳＩ（大規模集積回路）等を製造する際の高解
像度のリソグラフィーに使用するレジスト材料用ポリマ
ーとして多用されている。近年、ＬＳＩ製造技術の発展
に伴い、ＬＳＩの集積度が益々高密度化され、かかる高
密度化に対応することのできる高解像度及び高現像性を
有するレジスト材料が要求されている。
されるＬＳＩ（大規模集積回路）等を製造する際の高解
像度のリソグラフィーに使用するレジスト材料用ポリマ
ーとして多用されている。近年、ＬＳＩ製造技術の発展
に伴い、ＬＳＩの集積度が益々高密度化され、かかる高
密度化に対応することのできる高解像度及び高現像性を
有するレジスト材料が要求されている。
【０００３】レジスト材料の解像度を高めるためには、
使用する高分子の分子量分布を狭くする（単分散性）こ
とが有効であるということが、理論的に知られている。
また、高分子を任意の分子量に制御することは、ブレン
ド剤としてポリマーを相溶させる場合やポリマーの機械
的性質をコントロールする場合、或いは、ポリマー溶液
の粘調性を調整する場合等においても有効な手段であ
る。
使用する高分子の分子量分布を狭くする（単分散性）こ
とが有効であるということが、理論的に知られている。
また、高分子を任意の分子量に制御することは、ブレン
ド剤としてポリマーを相溶させる場合やポリマーの機械
的性質をコントロールする場合、或いは、ポリマー溶液
の粘調性を調整する場合等においても有効な手段であ
る。
【０００４】従来、このようなレジスト材料用ポリマー
としてノボラック樹脂が使用されているが、この場合、
分子量分布を制御するために分別という手法が行われて
いた（例えば、特開昭６２─１２１７５４号公報）。し
かしながら、このような分別という手法は操作が複雑で
あるのみならず時間がかかるという欠点がある上、厳し
くなる要求性能に対して十分に追随することが困難であ
るので、本質的な問題解決が望まれている。
としてノボラック樹脂が使用されているが、この場合、
分子量分布を制御するために分別という手法が行われて
いた（例えば、特開昭６２─１２１７５４号公報）。し
かしながら、このような分別という手法は操作が複雑で
あるのみならず時間がかかるという欠点がある上、厳し
くなる要求性能に対して十分に追随することが困難であ
るので、本質的な問題解決が望まれている。
【０００５】一方、酸により容易に脱離される官能基を
有すると共に該官能基の脱離前後で溶解度が異なる化学
増幅型のレジスト材料は、その作業性が優れることか
ら、ＬＳＩ等の製造効率を向上させるために、種々検討
されている。このような化学増幅型のレジスト材料用ポ
リマーとして、耐プラズマ性に優れるスチレン誘導体の
ポリマーが知られていた。
有すると共に該官能基の脱離前後で溶解度が異なる化学
増幅型のレジスト材料は、その作業性が優れることか
ら、ＬＳＩ等の製造効率を向上させるために、種々検討
されている。このような化学増幅型のレジスト材料用ポ
リマーとして、耐プラズマ性に優れるスチレン誘導体の
ポリマーが知られていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レジス
ト材料用ポリマーとして使用されるスチレン誘導体のポ
リマーは、従来、ラジカル重合法或いは縮重合法により
製造されているため、分子量や分子量分布を制御するこ
とが困難であり、レジスト材料用ポリマーとしての要求
性能を充たす単分散性のスチレン誘導体のポリマーを製
造することが困難であった。そこで、本発明者等はスチ
レン誘導体のポリマーについて鋭意検討するうち、レジ
スト材料用ポリマーとしての要求性能を充たす、新規な
単分散性共重合体及びその製造方法を見出し本発明に到
達した。
ト材料用ポリマーとして使用されるスチレン誘導体のポ
リマーは、従来、ラジカル重合法或いは縮重合法により
製造されているため、分子量や分子量分布を制御するこ
とが困難であり、レジスト材料用ポリマーとしての要求
性能を充たす単分散性のスチレン誘導体のポリマーを製
造することが困難であった。そこで、本発明者等はスチ
レン誘導体のポリマーについて鋭意検討するうち、レジ
スト材料用ポリマーとしての要求性能を充たす、新規な
単分散性共重合体及びその製造方法を見出し本発明に到
達した。
【０００７】従って、本発明の第１の目的は、レジスト
材料用ポリマーとしてとしての要求性能を充たす、新規
な単分散性共重合体を提供することにある。本発明の第
２の目的は、レジスト材料として要求性能を充たすと共
に、任意の分子量に制御することのできる、新規な単分
散性共重合体の製造方法を提供することにある。
材料用ポリマーとしてとしての要求性能を充たす、新規
な単分散性共重合体を提供することにある。本発明の第
２の目的は、レジスト材料として要求性能を充たすと共
に、任意の分子量に制御することのできる、新規な単分
散性共重合体の製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の諸目的
は、下記化５で表される単位及び下記化６で表される単
位からなる単分散性共重合体、及びその製造方法によっ
て達成された。
は、下記化５で表される単位及び下記化６で表される単
位からなる単分散性共重合体、及びその製造方法によっ
て達成された。
【化５】
【化６】 但し、化５式中、Ｒは水素原子又はメチル基である。
【０００９】本発明において、単分散性とは、共重合体
の重量平均分子量Ｍw と数平均分子量Ｍn の比Ｍw ／Ｍ
n が１．０１〜１．５０であることを意味する。重量平
均分子量は、リビング重合させる場合にあってはモノマ
ーの重量と開始剤のモル数から計算することにより、又
は光散乱法を用いて容易に求められる。また、数平均分
子量は膜浸透圧計を用いて容易に測定される。分子量分
布の評価は、ゲルパーミェーションクロマトグラフィー
（ＧＰＣ）によって行うことができ、分子構造は赤外線
吸収（ＩＲ）スペクトル又は1 Ｈ─ＮＭＲスペクトルに
よって容易に確認することができる。
の重量平均分子量Ｍw と数平均分子量Ｍn の比Ｍw ／Ｍ
n が１．０１〜１．５０であることを意味する。重量平
均分子量は、リビング重合させる場合にあってはモノマ
ーの重量と開始剤のモル数から計算することにより、又
は光散乱法を用いて容易に求められる。また、数平均分
子量は膜浸透圧計を用いて容易に測定される。分子量分
布の評価は、ゲルパーミェーションクロマトグラフィー
（ＧＰＣ）によって行うことができ、分子構造は赤外線
吸収（ＩＲ）スペクトル又は1 Ｈ─ＮＭＲスペクトルに
よって容易に確認することができる。
【００１０】本発明の化５及び化６で表される単位から
なる単分散性共重合体は、下記化７で表されるモノマー
と下記化８で表されるモノマーとをアニオン重合させる
ことに容易に製造することができる。
なる単分散性共重合体は、下記化７で表されるモノマー
と下記化８で表されるモノマーとをアニオン重合させる
ことに容易に製造することができる。
【化７】
【化８】 化７式中、Ｒは水素原子又はメチル基である。
【００１１】本発明においては、化７で表されるモノマ
ーと化８で表されるモノマーとをアニオン重合させる際
に、単分散性を良好なものとする観点から、リビングア
ニオン開始剤を使用することが好ましい。好ましい有機
金属化合物としては、例えばｎ─ブチルリチウム、ｓｅ
ｃ─ブチルリチウム、ｔｅｒｔ─ブチルリチウム、ナフ
タレンナトリウム、ナフタレンカリウム、アントラセン
ナトリウム、α─メチルスチレンテトラマージナトリウ
ム、クミルカリウム、クミルセシウム等の有機アルカリ
金属化合物等が挙げられる。
ーと化８で表されるモノマーとをアニオン重合させる際
に、単分散性を良好なものとする観点から、リビングア
ニオン開始剤を使用することが好ましい。好ましい有機
金属化合物としては、例えばｎ─ブチルリチウム、ｓｅ
ｃ─ブチルリチウム、ｔｅｒｔ─ブチルリチウム、ナフ
タレンナトリウム、ナフタレンカリウム、アントラセン
ナトリウム、α─メチルスチレンテトラマージナトリウ
ム、クミルカリウム、クミルセシウム等の有機アルカリ
金属化合物等が挙げられる。
【００１２】本発明においては、アニオン重合を、非溶
媒系で行わせることもできるが、反応速度の調整が容易
である等の観点から、有機溶媒中で行わせることが好ま
しい。好ましい有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、テトラヒドロピラン等の環状エーテル溶媒、ジメ
トキシエタン、ｎ─ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪
族炭化水素溶媒等が挙げられる。
媒系で行わせることもできるが、反応速度の調整が容易
である等の観点から、有機溶媒中で行わせることが好ま
しい。好ましい有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、テトラヒドロピラン等の環状エーテル溶媒、ジメ
トキシエタン、ｎ─ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪
族炭化水素溶媒等が挙げられる。
【００１３】これらの有機溶媒は単独で使用しても混合
して使用しても良いが、特にテトラヒドロフランを使用
することが好ましい。重合反応に際する有機溶媒中の全
モノマー（化７で表されるモノマー及び化８で表される
モノマー）の濃度は１〜４０重量％とすることが好まし
い。重合反応は、酸素等との反応を防止する観点から、
高真空下或いは窒素等の不活性ガスの存在下で行わせる
ことが好ましい。
して使用しても良いが、特にテトラヒドロフランを使用
することが好ましい。重合反応に際する有機溶媒中の全
モノマー（化７で表されるモノマー及び化８で表される
モノマー）の濃度は１〜４０重量％とすることが好まし
い。重合反応は、酸素等との反応を防止する観点から、
高真空下或いは窒素等の不活性ガスの存在下で行わせる
ことが好ましい。
【００１４】反応温度は、−１００℃から反応溶液の沸
点温度までの範囲で適宜選択することができる。テトラ
ヒドロフラン溶媒を使用した場合には−７８℃〜０℃の
範囲が、またベンゼン溶媒を使用した場合には室温が好
ましい。重合反応を約１０分〜３０時間行わせることに
よって、化５及び化６の単位を有する単分散性共重合体
を得ることができる。
点温度までの範囲で適宜選択することができる。テトラ
ヒドロフラン溶媒を使用した場合には−７８℃〜０℃の
範囲が、またベンゼン溶媒を使用した場合には室温が好
ましい。重合反応を約１０分〜３０時間行わせることに
よって、化５及び化６の単位を有する単分散性共重合体
を得ることができる。
【００１５】重合反応の停止は、例えばメタノール、
水、メチルブロマイド等の停止剤を添加することにより
行うことができ、これによって所望の分子量の共重合体
を容易に得ることができる。この場合、重合反応中の活
性末端はアニオン特有の色を有しているので、この色の
有無により容易に重合反応の停止を確認することができ
る。共重合体としてブロック重合体を得る場合には、一
方のモノマーを重合させた後、他方のモノマーを添加し
て再度重合反応を行わせれば良い。
水、メチルブロマイド等の停止剤を添加することにより
行うことができ、これによって所望の分子量の共重合体
を容易に得ることができる。この場合、重合反応中の活
性末端はアニオン特有の色を有しているので、この色の
有無により容易に重合反応の停止を確認することができ
る。共重合体としてブロック重合体を得る場合には、一
方のモノマーを重合させた後、他方のモノマーを添加し
て再度重合反応を行わせれば良い。
【００１６】リンビングアニオン重合を行わせた場合に
は、モノマーは１００％反応するので、使用するモノマ
ーの量と添加されるリビングアニオン開始剤のモル数
（分子数）を調整することにより、得られるポリマーの
分子量を適宜制御することができる。このようにして得
られた共重合体の分子量分布は単分散となる（Ｍw ／Ｍ
n ＝１．０１〜１．５０）。
は、モノマーは１００％反応するので、使用するモノマ
ーの量と添加されるリビングアニオン開始剤のモル数
（分子数）を調整することにより、得られるポリマーの
分子量を適宜制御することができる。このようにして得
られた共重合体の分子量分布は単分散となる（Ｍw ／Ｍ
n ＝１．０１〜１．５０）。
【００１７】本発明においては、共重合体の数平均分子
量を５００〜５００，０００の範囲とすることができる
が、特に３，０００〜３００，０００の範囲とすること
が好ましい。また、前記化５又は化６で表される繰り返
し単位を任意の割合で含有する共重合体を製造すること
もできるが、通常は、（化５で表される繰り返し単位）
／（化６で表される繰り返し単位）のモル比が（０．０
１〜９９．９９）／（９９．９９〜０．０１）の範囲と
する。
量を５００〜５００，０００の範囲とすることができる
が、特に３，０００〜３００，０００の範囲とすること
が好ましい。また、前記化５又は化６で表される繰り返
し単位を任意の割合で含有する共重合体を製造すること
もできるが、通常は、（化５で表される繰り返し単位）
／（化６で表される繰り返し単位）のモル比が（０．０
１〜９９．９９）／（９９．９９〜０．０１）の範囲と
する。
【００１８】
【発明の効果】本発明の新規な共重合体は、分子量分布
が狭く単分散性であるので、高解像度のレジスト材料用
ポリマーとしての要求性能を充たす。特に、化５で表さ
せるポリマーと化６で表されるブロック共重合体はレジ
スト材料用ポリマーとして好適である。また、本発明の
製造方法によると、分子量を任意に制御することができ
るので、用途に適した物性の単分散性共重合体を容易に
製造することができる。
が狭く単分散性であるので、高解像度のレジスト材料用
ポリマーとしての要求性能を充たす。特に、化５で表さ
せるポリマーと化６で表されるブロック共重合体はレジ
スト材料用ポリマーとして好適である。また、本発明の
製造方法によると、分子量を任意に制御することができ
るので、用途に適した物性の単分散性共重合体を容易に
製造することができる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００２０】実施例１．２リットルのフラスコに溶媒と
してテトラヒドロフラン１，２００ｍｌ、及び重合開始
剤としてｎ─ブチルリチウム９×１０-3モルを仕込み、
混合して−７８℃に冷却した後スチレン１０ｇを添加し
て１時間重合反応させた。次いで、ｍ─ｔ─ブトキシス
チレン９０ｇを添加して攪拌しながら２時間重合反応を
行わせたところ、反応液は赤色を呈した。次に、得られ
た反応液に反応停止剤としてメタノールを添加して重合
反応を停止させた後該溶液をメタノール中に注いで得ら
れた重合体を沈澱させ、分離・乾燥して白色の重合体１
００ｇを得た。
してテトラヒドロフラン１，２００ｍｌ、及び重合開始
剤としてｎ─ブチルリチウム９×１０-3モルを仕込み、
混合して−７８℃に冷却した後スチレン１０ｇを添加し
て１時間重合反応させた。次いで、ｍ─ｔ─ブトキシス
チレン９０ｇを添加して攪拌しながら２時間重合反応を
行わせたところ、反応液は赤色を呈した。次に、得られ
た反応液に反応停止剤としてメタノールを添加して重合
反応を停止させた後該溶液をメタノール中に注いで得ら
れた重合体を沈澱させ、分離・乾燥して白色の重合体１
００ｇを得た。
【００２１】得られた重合体は、1 Ｈ─ＮＭＲスペクト
ルから、スチレン部分１０重量％及びｍ─ｔ─ブトキシ
スチレン部分９０重量％を有するブロック共重合体であ
ることが確認された。更に、ＧＰＣ溶出曲線（図１）か
ら、得られた重合体は単分散性の極めて高い共重合体
（Ｍw ／Ｍn ＝１．１１）であることが確認された。
尚、膜浸透圧測定法によって測定した数平均分子量は、
１．０×１０4 ｇ／モルであった。
ルから、スチレン部分１０重量％及びｍ─ｔ─ブトキシ
スチレン部分９０重量％を有するブロック共重合体であ
ることが確認された。更に、ＧＰＣ溶出曲線（図１）か
ら、得られた重合体は単分散性の極めて高い共重合体
（Ｍw ／Ｍn ＝１．１１）であることが確認された。
尚、膜浸透圧測定法によって測定した数平均分子量は、
１．０×１０4 ｇ／モルであった。
【００２２】実施例２．２リットルのフラスコに、溶媒
としてテトラヒドロフラン１．８リットル及び重合開始
剤としてクミルセシウム１×１０-2モルを仕込み、混合
して−７８℃に冷却した後ｍ─ｔ─ブトキシスチレン７
２ｇを添加して、攪拌しながら１時間重合反応させた。
次いで、スチレン４８ｇを添加して攪拌しながら２時間
重合反応させたところ、反応液は赤色を呈した。次に、
反応溶液に反応停止剤としてメタノールを添加して重合
反応を停止させた後、該溶液をメタノール中に注いで得
られた重合体を沈澱させ、分離・乾燥して白色の重合体
１２０ｇを得た。
としてテトラヒドロフラン１．８リットル及び重合開始
剤としてクミルセシウム１×１０-2モルを仕込み、混合
して−７８℃に冷却した後ｍ─ｔ─ブトキシスチレン７
２ｇを添加して、攪拌しながら１時間重合反応させた。
次いで、スチレン４８ｇを添加して攪拌しながら２時間
重合反応させたところ、反応液は赤色を呈した。次に、
反応溶液に反応停止剤としてメタノールを添加して重合
反応を停止させた後、該溶液をメタノール中に注いで得
られた重合体を沈澱させ、分離・乾燥して白色の重合体
１２０ｇを得た。
【００２３】得られた重合体は、Ｈ1 ─ＮＭＲスペクト
ルから実施例１と同様の特性吸収が観測され、ｍ─ｔ─
ブトキシスチレン部分６０重量％及びスチレン部分４０
重量％を有するブロック共重合体であることが確認され
た。更に、ＧＰＣ溶出曲線（図２）から、得られた共重
合体は極めて単分散性の高い（Ｍw ／Ｍn ＝１．０９）
共重合体であることが確認された。尚、膜浸透圧測定法
によって測定した共重合体の数平均分子量は１．１×１
０4 ｇ／モルであった。
ルから実施例１と同様の特性吸収が観測され、ｍ─ｔ─
ブトキシスチレン部分６０重量％及びスチレン部分４０
重量％を有するブロック共重合体であることが確認され
た。更に、ＧＰＣ溶出曲線（図２）から、得られた共重
合体は極めて単分散性の高い（Ｍw ／Ｍn ＝１．０９）
共重合体であることが確認された。尚、膜浸透圧測定法
によって測定した共重合体の数平均分子量は１．１×１
０4 ｇ／モルであった。
【００２４】実施例３．２リットルのフラスコに溶媒と
してテトラヒドロフラン７００ｍｌ、及び重合開始剤と
してｎ─ブチルリチウム１×１０-3モルを仕込み、混合
して−２０℃に冷却した後α─メチルスチレン１０ｇを
添加し、攪拌しながら１時間開始反応を行わせ、更に−
７８℃に冷却して１０時間重合反応させた。
してテトラヒドロフラン７００ｍｌ、及び重合開始剤と
してｎ─ブチルリチウム１×１０-3モルを仕込み、混合
して−２０℃に冷却した後α─メチルスチレン１０ｇを
添加し、攪拌しながら１時間開始反応を行わせ、更に−
７８℃に冷却して１０時間重合反応させた。
【００２５】次いで、ｍ─ｔ─ブトキシスチレン２０ｇ
を該反応液に添加し、攪拌しながら２時間重合反応を行
わせたところ、反応液は赤色を呈した。次に、得られた
反応溶液に反応停止剤としてメタノールを添加して重合
反応を停止させた後、該溶液をメタノール中に注いで得
られた重合体を沈澱させ、分離・乾燥して白色の重合体
３０ｇを得た。
を該反応液に添加し、攪拌しながら２時間重合反応を行
わせたところ、反応液は赤色を呈した。次に、得られた
反応溶液に反応停止剤としてメタノールを添加して重合
反応を停止させた後、該溶液をメタノール中に注いで得
られた重合体を沈澱させ、分離・乾燥して白色の重合体
３０ｇを得た。
【００２６】得られた重合体は、1 Ｈ─ＮＭＲスペクト
ルから、α─メチルスチレン部分３３重量％及びｍ─ｔ
─ブトキシスチレン部分６７重量％を有するブロック共
重合体であることが確認された。更に、ＧＰＣ溶出曲線
（図３）から、得られた重合体は、極めて単分散性が高
い共重合体（Ｍw ／Ｍn ＝１．１１）であることが確認
された。尚、膜浸透圧測定法によって測定した数平均分
子量は２．７×１０4 ｇ／モルであった。
ルから、α─メチルスチレン部分３３重量％及びｍ─ｔ
─ブトキシスチレン部分６７重量％を有するブロック共
重合体であることが確認された。更に、ＧＰＣ溶出曲線
（図３）から、得られた重合体は、極めて単分散性が高
い共重合体（Ｍw ／Ｍn ＝１．１１）であることが確認
された。尚、膜浸透圧測定法によって測定した数平均分
子量は２．７×１０4 ｇ／モルであった。
【００２７】実施例４．２リットルのフラスコに溶媒と
してテトラヒドロフラン１，５００ｍｌ、及び重合開始
剤としてｎ─ブチルリチウム１×１０-3モルを仕込み、
混合して−７８℃に冷却した後、ｍ─ｔ─ブトキシスチ
レン７５ｇとスチレン５ｇを混合した溶液を添加して攪
拌しながら５時間重合反応を行わせたところ、反応液は
赤色を呈した。次いで、得られた反応溶液に反応停止剤
としてメタノールを添加し、重合反応を停止させた後、
該溶液をメタノール中に注いで得られた重合体を沈澱さ
せ、分離・乾燥して白色の重合体８０．０ｇを得た。得
られた重合体は、1 Ｈ─ＮＭＲスペクトルから、スチレ
ン６．３重量％及びｍ─ｔ─ブトキシスチレン９３．７
重量％からなるランダム共重合体であることが確認され
た。更に、ＧＰＣ溶出曲線（図４）から、得られた重合
体は極めて単分散性が高い共重合体（Ｍw ／Ｍn ＝１．
１４）であることが確認された。尚、膜浸透圧測定法に
よって測定した数平均分子量は、７．０×１０3 ｇ／モ
ルであった。
してテトラヒドロフラン１，５００ｍｌ、及び重合開始
剤としてｎ─ブチルリチウム１×１０-3モルを仕込み、
混合して−７８℃に冷却した後、ｍ─ｔ─ブトキシスチ
レン７５ｇとスチレン５ｇを混合した溶液を添加して攪
拌しながら５時間重合反応を行わせたところ、反応液は
赤色を呈した。次いで、得られた反応溶液に反応停止剤
としてメタノールを添加し、重合反応を停止させた後、
該溶液をメタノール中に注いで得られた重合体を沈澱さ
せ、分離・乾燥して白色の重合体８０．０ｇを得た。得
られた重合体は、1 Ｈ─ＮＭＲスペクトルから、スチレ
ン６．３重量％及びｍ─ｔ─ブトキシスチレン９３．７
重量％からなるランダム共重合体であることが確認され
た。更に、ＧＰＣ溶出曲線（図４）から、得られた重合
体は極めて単分散性が高い共重合体（Ｍw ／Ｍn ＝１．
１４）であることが確認された。尚、膜浸透圧測定法に
よって測定した数平均分子量は、７．０×１０3 ｇ／モ
ルであった。
【図１】実施例１で得られた重合体（数平均分子量１
０，０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
０，０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
【図２】実施例２で得られた重合体（数平均分子量１
１，０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
１，０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
【図３】実施例３で得られた重合体（数平均分子量２
７，０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
７，０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
【図４】実施例４で得られた重合体（数平均分子量７，
０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
０００ｇ／モル）のＧＰＣ溶出曲線である。
Claims (4)
- 【請求項１】下記化１で表される単位及び下記化２で表
される単位からなる単分散性共重合体； 【化１】 【化２】 化１式中、Ｒは水素原子又はメチル基である。 - 【請求項２】共重合体が化１で表される繰り返し単位と
化２で表される繰り返し単位のブロック共重合体である
請求項１に記載の単分散性共重合体。 - 【請求項３】下記化３で表されるモノマーと下記化４で
表されるモノマーとをアニオン重合させることを特徴と
する請求項１に記載の単分散性共重合体の製造方法； 【化３】 【化４】 化３式中、Ｒは水素原子又はメチル基である。 - 【請求項４】一方のモノマーを重合させた後他方のモノ
マーを添加して重合せしめることを特徴とする請求項３
に記載の単分散性共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP4245548A JPH0665333A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 単分散性共重合体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP4245548A JPH0665333A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 単分散性共重合体及びその製造方法 |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH0665333A true JPH0665333A (ja) | 1994-03-08 |
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ID=17135342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4245548A Pending JPH0665333A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 単分散性共重合体及びその製造方法 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JPH0665333A (ja) |
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1992
- 1992-08-21 JP JP4245548A patent/JPH0665333A/ja active Pending
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