JPH04151665A - 放射線感受性混合物およびレリーフ構造体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［０００１］

【産業上の利用分野】

本発明は、水不溶性でアルカリ性水溶液に可溶性のバイ
ンダー　放射線の作用の下に酸を生成する化合物、およ
び酸の存在において縮合可能の有機化合物を含んでおり
、陰画（ネガ）生成に作用する放射線感受性混合物に係
るものである。 これらの混合物は、紫外線、電子線およびＸ線に感受性
があり、特にフォトレジスト材料として好適である。 ［０００２］

【従来技術】

陰画生成に作用する放射線感受性化合物、並びにこの混
合物による画像製造法は、既知である。陰画生成に作用
するフォトレジストとしては、感光層の画像形成露光後
にこの層の露光された部分カミ必要ならば熱処理を加え
た後で、露光前には溶解していた現像液中に不溶性とな
るような材料が、含まれている。 ［０００３］ 一般的に陰画生成に作用するフォトレジストは、ポリマ
ーバインダーのほかに光重合性化合物および光重合開始
剤を含む光重合性混合物に基づいている。集積回路（Ｉ
Ｃ）の製造用に主として使用される陰画用フォトレジス
トは、はぼ例外なく架橋成分として部分環化ポリイソプ
レンおよび感光性三官能架橋剤としてジアジド化合物を
含んでいる。この場合にジアジドとしては、構造式（Ａ
）の化合物が非常によく使用される。 ［０００４］

【化５】 最近では、また部分環化ポリブタジェンおよびジアジド
から構成されている陰画用フォトレジストが、市販され
ている［参照ハリタ、ワイ、　　イチガワ、エム、　ハ
ラダ、ケー、　　　（Ｈａｒｉｔａ、Ｙ、、Ｉｃｈｉｇ
ａｗａ、Ｍ、、Ｈａｒａｄａ、に、）ポリマー、エンジ
ニアリング、サイエンス（Ｐ　ｏ　ｉ　ｙｍ、　Ｅｎｇ
、Ｓｃｉ、）、１７　（１９７７）３７２］。 ［０００５］ 一連の陰画用フォトレジストは、また架橋反応としての
光二量体化に基づいている。これには、桂皮酸誘導体お
よび構造的に近縁のカルコンが属している。架橋反応は
、本質的に光で誘起された［２＋２］−環化付加反応と
してシクロブタンを生成させるし参照ウィリアムス、ジ
ェー　エル、アール（Ｗｉ　１１　ｉ　ａｍｓＪ、Ｌ、
Ｒ，）：ホルトシュリット、フエミッシュ、ホルシュン
ク（Ｆｏｒ−ｔｓｃｈｅｒ、Ｃｈｅｍ、Ｆｏｒｓｃｈ、
）　　　１３　（１９６９）　　　２２７　：ライザー
　ニー、　ニガートン、ピー、エル、　　（ｒｅｉｓｅ
ｒ、Ａ、、Ｅｇｅｒｔ。 ｎ、Ｐ、Ｌ、）フォトグラフィック　サイエンス　エン
ジニアリング（Ｐｈｏ−ｔｏｇｒ、Ｓｃ　ｉ、Ｅｎｇ、
）、２３　　（１９７９）　　　１４４　；ｘム、　　
カド−および共同研究者（Ｍ、Ｋａｔｏ　　ｅｔ　　ａ
ｌ、）：ジャーナル　ポリマー　サイエンス　　パート
　ビー　ポリマー　レター（Ｊ、Ｐｏ　ｌｙｍ、Ｓｃ　
ｉ、ｐａｒ　ｔＢ、Ｐｏ　ｌｙｍ、Ｌｅｔ　ｔ、）８版
（１９７０）　　２６３：エム、カド−および共同研究
者（Ｍ、Ｋａｔｏ　　ｅｔ　　ａｌ、）：フオトグラフ
ィック　サイエンスエンジニアリング（Ｐｈｏｔｏｇｒ
、Ｓｃｉ、Ｅｎｇ、）　　　２３　　（１９７９）、２
０７］。 ［０００６］ さらにまた最近になって、既に長期間よく知られている
タイプの光二量化し得るエポキシ樹脂が、フォトレジス
トとして利用されている（参照例えばドイツ特許公開公
報−第１４４７０１６号；ドイツ特許公開公報−第２３
４２４０７号；ドイツ特許公開公報−第２５５３３４６
号並びにドイツ特許公開公報−第２４４９９２６号）。 この樹脂は光域化付加反応を可能にする例えばカルコン
基等の官能基と同時に、加熱接触反応で後架橋されるこ
とのできるエポキシ基をも含んでいる［参照フォトレジ
スト（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）　　ニューヨーク（Ｎ
ｅｗＹｏｒｋ）：マツフグロー　ヒル（ＭｃＧｒａｗ　
　Ｈｉｌｌ）（１９７５）：英国特許、８９２１１１号
および米国特許第２８５２３７９号］。 ［０００７］ 上述の構造式（Ａ）のジアジドを含んでいる陰画用フォ
トレジストのほかに、近紫外線域（即ち３５０乃至４５
０ｎｍ）でのみ光反応が可能なフォトレジストがある。 短波紫外線域用の新規ジアジド化合物が、最近記載され
た。これにはケトン化合物［参照ジャーナル　エレクト
ロケミカル　ソサエティー（Ｊ、Ｅｌ−ｅｋｔｒｏｃｈ
ｅｍ、Ｓｏｃ、）　　　（１９８６）６］　、並びに含
硫ジアジド化合物［参照ジャーナル　エレクトロケミカ
ル　ソサエティー（Ｊ、Ｅｒｅｋｔｒ。 ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）　　　１２７　（１９８０）　　
　２７５９］が、属している。 ［０００８］ また短波紫外線で構造体となる陰画用アルカリ性水溶液
で現像されるフォトレジストが、知られている。これに
はバインダーとしてのポリマー（ｐ−ビニルフェノール
）および３．３′　−ジアジド−ジフェニルスルホンが
、使用されている「参照アイイーイーイー　トランザク
ション　エレクトロン　デバイシズ（ＩＥＥＥ　　Ｔｒ
ａｎｓ、Ｅｉｅｃｔｒｏｎ　　Ｄｅｖｉｃｅｓ）、２８
版（１９８１）１３０６：アイイーイーイー　トランザ
クション　エレクトロン　デバイシズ（ＩＥＥＥ　　Ｔ
ｒａｎｓ、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　　Ｄｅｖｉｃｅｓ）　　
２８版、（１９８１）、１２８４］。さらなるアルカリ
性水溶液で現像し得る陰画用フォトレジストは、オニウ
ム塩およびメタクリル　アミドグリコラートメチルエー
テルに基づいており［参照ハルトおよび共同研究者（Ｈ
ｕｌｔ　　ｅｔ　　ａｌ）：先端技術用ポリマー　アメ
リカ化学会シンポジウムシリーズ（Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　
　ｆｏｒｈｉｇｈ　　Ｔｅｃｈ、ＡＣ３Ｓｙｍｐｏｓｉ
ｕｍ　　５ｅｒｉｅｓ）３４６　（１９８７）、１６２
−１６９頁１、これは酸触媒自己縮合の原則に基づいて
バインダーの架橋が起こることを示している。 ［０００９］ 酸硬化性物質と酸供与体としてのヨードニウム塩とに基
づいた別の光重合性組成が、ドイツ特許公開公報第２６
０２５７４号から開示されている。 ［００１０１ また酸触媒による架橋剤、例えばフェノール／ホルムア
ルデヒド−樹脂の縮合反応における中間体として得られ
るアリールメチロール化合物は、既に知られていた［参
照プログレッシブ　オルガニック　コーティング（Ｐｒ
ｏｇｒ、○ｒｇＣｏａｔ、）９　（１９８１）　　　１
０７　：ドイッ特許公開公報第２９０４９６１号；プラ
スチックス　アンド　ラバー　プロセッシング　アンド
　アプリケーション（Ｐｉａｓｔｉｃｓ　　ａｎｄ　　
Ｒｕｂｂｅｒ　　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　　ａｎｄ　　
Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ）１（１９８９）　　３９：ド
イツ特許公開公報第３２４７７５４号；欧州特許公開公
報第０１３９３０９号；日本特許公開公報第３０５１４
２４号］。これらの酸触媒架橋剤は、また光反応により
画像構造を与えることのできる記録材料にも使用される
ことができる。欧州特許公開公報第０２８２７２４号に
おいては、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチール）　酸供与体
および少なくとも２個の保護されたメチロール基を有す
る架橋剤に基づいた新規の陰画用システム力飄開示され
ている。このポリ　（ｐ−ヒドロキシスチロール）の代
わりに１、またｍ−クレゾール−ホルムアルデヒド−樹
脂も使用されることができると開示されている。同様に
国際特許ＰＣＴ第８８１０２８７８号においては別の陰
画用システムが記載されており、ここではまたポリ　（
ｐ−ヒドロキシスチロール）またはｍ−クレゾール−ホ
ルムアルデヒド−ノボラックがバインダーとして使われ
、このほかに酸供与体として１．２−キノンジアジドお
よび架橋剤として２６−ジメチロール−ｐ−クレゾール
が使用されている［参照フオトポリマーズ原則的方法お
よび材料（Ｐｈｏｔｏｐｏ　ｌｙｍｅｒｓ、Ｐｒ　ｉｎ
ｃ　１ｐｌｅｓ−Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ　　ａｎｄ　　Ｍ
ａｔｅｒｉａｌｓ）　　　６３−７２（１９８８）］。 上述の両方法の欠点は、露光が過度になると接着力が低
下すること、未反応層が残ること、または光感受性が小
さいこと等である。 ［００１１］

【発明の目的】

本発明の使命は、短波紫外線感受性層の製造のための新
規な放射線感受性システムを作ることであり、これはア
ルカリ性水溶液で現像されサブミクロン単位の画像を形
成させることができて、さらに熱的に安定でプラズマに
対しても安定性を有するものである。 ［００１２］

【発明の構成】

驚くべきことに、この使命はすべてがフェノール性ヒド
ロキシル基を含有している一定化合物の組み合わせによ
り、特徴的に解決されることが判った。 ［００１３］ 本発明の対象は、放射線感受性混合物であり、それは本
質的に以下の成分から成り立っており、即ち （ａ）水に不溶性であり、アルカリ性水溶液に可溶性の
バインダーまたはバインダー混合物、 （ｂ）照射に際して強酸を生成する化合物および （ｃ）少なくとも酸の存在において縮合する能力のある
有機化合物の組み合わせからなり、これらの成分（ａ）
、　　（ｂ）および（ｃ）のいずれもが少なくとも１個
のフェノール性ヒドロキシル基を含有していることを特
徴としている。 ［００１４］ バインダー（ａ）は好適にはフェノール核に１個以上の
オルトおよび／またはパラ位が置換されていないフェノ
ール樹脂、または重量平均分子量が１５０から１５００
の間にある短鎖のｐ−クレゾール／ホルムアルデヒド−
ノボラック、または本質的に以下の一般式 ％式％］

【６】 （式中、Ｒ１がアルキル、アリールまたはアラルキルで
あり、Ｒ２が○Ｒ１アルキルまたはアラルキルである）
で表される単位からなり、かつ重量平均分子量が２００
から５０００の間にあるｐ−置換クレゾール／ホルムア
ルデヒド−ノボラックであり、特に好適には重量平均分
子量が２００から３００００の間にあるポリ−（ｐ−ヒ
ドロキシスチロール）またはポリ−（ｐ−ヒドロキシ−
α−メチルスチロール）であり、または上述のバインダ
ーの少なくとも２種類の混合物であり、一般に放射線感
受性混合物の全重量当たりで５０乃至９５重量％で含ま
れうる。 ［００１６］ 照射の際に強酸を生成する化合物（ｂ）としては、好適
には一般式（Ｉ）のオニウム塩であり ［００１７］ 式中、ＲおよびＲ４は相互に同じであるかまたは異なっ
ておりＨ，ＯＨ，アルキルまたは炭素原子数１乃至４個
のアルコキシ基であり、ＲおよびＲ６は相互に同じであ
るかまたは異なっておりメチル、エチル、フェニルまた
は次式の基であり ［００１８］

【化８】 あるものが使用され、この場合に成分（ｂ）は一般的に
放射線感受性混合物の全重量当たりで少なくとも１乃至
３０重量％の量で含まれている。 ［００１９］ 酸の存在において縮合する能力のある有機化合物（ｃ）
としては、特に一般式％式％］

【９】 （式中Ｒ７が炭素原子１乃至４個を有するアルキルであ
りｎが１乃至１０）で表される化合物が挙げられ、これ
は一般的に放射線感受性混合物の全重量当たりで少なく
とも３乃至３０重量％の量で使用される。 ［００２１］ 本発明混合物は、このほかに添加物として、放射線を吸
収して成分（ｂ、）に伝達する増感剤を含有することが
でき、さらに同様に接着助剤、表面活性剤および／また
は染料等のグループからの添加物を１重量％以下で含有
することができる［００２２］ 本発明の対象は、このほかに、本発明方法による放射線
感受性混合物が使用されることか特徴となっている感光
性コーティング材料の製造法であり、さらに普通の方法
で前処理された基質上に０．１乃至５μｍの層の厚さで
放射線感受性混合物をコーティングし、７０乃至１２０
度の温度で乾燥し、画像形成用に露光し７０乃至１６０
度に加熱してからアルカリ性水溶液で現像するのに本発
明による放射線感受性混合物が使用されることを特徴と
したレリーフ構造体の製造法である。 ［００２３］ 本発明方法による放射線感受性混合物は、高い感受性並
びに良好な構造物性、特にシリカ表面への非常に優れた
接着性によって際立っている。 ［００２４］ 放射線感受性混合物について、その組成成分およびその
使用法が個々について以下に説明される。 ａ）水に不溶性で、アルカリ性水溶液に可溶性の少なく
とも１個のフェノール性ヒドロキシル基含有バインダー
としては、フェノールのフェニル基のオルト−および／
またはパラ−位が少なくとも２０％、好適には６６％ま
でが置換基がないフェノール樹脂が考えられ、例えば重
量平均分子Ｍｗが２００および５０００の間、好適には
２００および２０００の間にあるノボラック、例えば重
量平均分子量が２００および３００００の間、好適には
　１０００乃至１００００であるｐ−クレゾール／ホル
ムアルデヒドをベースにしたノボラック、特にポリ−（
ｐ−ヒドロキシスチロール）　ポリ−（ｐ−ヒドロキシ
−α−メチルスチロール）をベースにしたノボラック樹
脂並びにこれらフェノール樹脂の混合物である。 ［００２５］ ノボラックとしては、ティー、パンパロン（Ｔ、　Ｐ　
ａｍｐ　ａ　ｌ　ｏ　ｎ　ｅ）　カ固相技術（Ｓｏｌｉ
ｄ　　５ｔａｔｅ　　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）　　　６
月、１９８４．１１５−１２０頁に記載している陽画レ
ジストシステムに使用されていノボラック樹脂のような
別のノボラック樹脂が、同じく考えられている。例短波
紫外線範囲における露光のための特別な応用のためには
、好適にｐ−クレゾールとホルムアルデヒドからのノボ
ラックが考えられる。 ［００２６］ 特に好適には、成分（ａ）としてポリ−（ｐ−ヒドロキ
シスチロール）が優れている。 本発明の放射線感受性混合物は、一般的に成分（ａ）を
放射線感受性混合物の全重量の５０乃至９５重量％、好
適には７０乃至９０重量％の量で含んでし）る。 ［００２７］ 酸供与体（ｂ）としては、照射の際に強酸を生成する少
なくとも１個のフェノール性ヒドロキシル基を有するす
べての化合物が、適当している。しかしなから短波の照
射に対しては一般式（Ｉ）のスルホニウム塩が好適であ
り［００２８］

【化１０】 式中、ＲおよびＲが相互に同じであるかまたは異なって
おりＨ１ＯＨ１炭素原子１乃至４個、好適には炭素原子
１個を有するアルキル、または１乃至４個の炭素原子を
有するアルコキシ、好適にはメトキシまたはエトキシで
あり、Ｒ５およびＲ６が相互に同じであるかまたは異な
っており１乃至３個の炭素原子を有するアルキル例えば
メチル、エチル、フェニルまたは次式の基であり［００
２９］

【化１１】 およびＸｏがＡｓＦ６゜　ＳｂＦ、”、ＰＦ？、ＣｌＣ
４゜、ＢＦＦたはＣＦ３ＳＯ３［＝トリフラット（ｔｒ
ｉｆｌａｔ）］および／ま 特に好適なスルホニウム塩の例としては、次式の各化合
物がある。 ［００３０］ また別の酸供与体が成分（ｂ）として使用されることが
でき、例えばフェノール性ヒドロキシル基を有する対応
ヨードニウム化合物が使用される。 ［００３１］ 成分（ｂ）は、本発明方法による放射線感受性混合物中
に一般的には放射線感受性混合物中たりで少なくとも１
乃至３０重量％、好適には３乃至１５重量％の量で、含
まれている。 ［００３２］ 酸の存在において縮合する有機化合物（ｃ）としては、
一般式（ＩＩＩ）の化合物が好適であり ［００３３］

【化１３】 式中、Ｒは１乃至４個の炭素原子を有するアルキル、好
適にはメチル基でありｎが１乃至１０、好適にはｎが１
である（Ｉ　Ｉ　Ｉ）化合物が挙げられる。このような
有機化合物（ｃ）は、例えばフェノールとホルムアルデ
ヒドをアルカリ性条件下で反応して得られる［参照ルー
ダ−マン（Ｒｕ　ｄ　ｅ　ｒ　ｍａ　ｎ）　　インダス
トＩＪ　フル　エンジニアリング　ケミカル　アナライ
シス（Ｉｎｄ、ｅｎｇ、Ｃｈｅｍ、Ａｎａ　１．）１８
．７５３　（１９４６）並びにアラバーズ（Ａｕｗｅｒ
ｓ）ベリヒテ（Ｂｅｒ　１ｃｈｔｅ）４０．２５２４　
　（１９０７）］。 ［００３４］ 成分（ｃ）は、放射線感受性混合物中において、一般的
に放射線感受性混合物の全重量に対して少なくとも３乃
至３０重量％、好適には５乃至２５重量％の量において
含まれており、ここで（ａ）　　　（ｂ）および（ｃ）
のそれぞれの重量％の合計ば１００となる。 ［００３５］ 本発明混合物は好適には有機溶剤中に溶解され、この溶
液中の固体含量は一般的に５乃至４０重量％の範囲にあ
る。溶剤としては特に脂肪族ケトン、エーテル、並びに
これらの混合物が挙げられるが、特にエチル−セロソル
ブ、ブチルグリコール、メチル−セロソルブおよび１−
メトキシ−２−プロパツール、アルキレングリコール−
アルキルエーテル−エステル、例えばメチル−セロソル
ブ−アセテート、エチル−セロソルブ−アセテート、メ
チル−プロピレングリコール−アセテートおよびエチル
−プロピレングリコール−アセテート、ケトン例えばシ
クロ−ヘキサノン、シクロペンタノンおよびメチル−エ
チル−ケトン並びにアセテート、例えばブチルアセテー
トおよび芳香族、例えばドルオールおよびキジロールが
適している。対応する溶剤、並びにそれらの混合物の選
択は、それぞれのフェノールポリマー　ノボラックおよ
び感光性成分の選択に対応して決められる。 さらに別の添加物、例えば接着助剤、架橋剤、染料およ
び可塑剤等が、添加されることができる。 ［００３６］ 必要の場合には、また長波紫外線から可視光領域までに
おいて化合物の感光性を上昇させるために、増感剤が少
量加えられることができる。多環芳香族化合物、例えば
ピレンおよびペリレンがこのために有効であるが、別に
また増感剤として作用する染料も使用されることができ
る。 ［００３７］ 本発明による放射線感受性混合物の溶液は、０．２μｍ
の孔径を有する濾過材により濾過されることができる。 ［００３８］ 本発明による放射線感受性混合物溶液（＝レジスト溶液
）をスピンコーティング法で１０００乃至１００００回
転／分回転転率で施用して、ウェーハ（例えばシリカウ
ェーハの表面）上に０．１乃至５μｍの層の厚さでレジ
ストフィルムが生成される。このようにしてコーティン
グされたウェーバカ飄次に１乃至５分間９０度で乾燥さ
れる（例えばホットプレート上で）。 ［００３９］ レリーフ母型製造のための本発明方法においては、本質
的に本発明による放射線感受性混合物からなる放射線感
受性記録層が、画像形成するために、露光範囲の溶解度
が７０度乃至１６０度の温度での加熱処理後にアルカリ
性水溶液中で増加し、この露光範囲がアルカリ性現像液
で選択的に除去されることができるような処方で照射さ
れる。 ［００４０１ 例えばレジスト−フィルムは、クロム−メツキ画像構造
マスクを通して、水銀灯からの紫外線、エキシマ　レー
ザー光、電子線またはＸ−線に照射される。画像形成す
るように照射されたフィルムは、次に５秒から５分間の
時間１１０度乃至１２０度の温度に加熱されてからアル
カリ性水溶液で現像され、これによって照射された範囲
が選択的に溶解除去され、一方で照射されない部分はほ
とんど損傷が起こらない。 ［００４１］ 本発明による放射線感受性混合物の特徴は、その優れた
再現性、およびこれによって製造するレリーフの画像形
成構造物性がサブミクロン単位で非常に優れていること
である。 ［００４２１ 以下の実施例中で与えられている部およびパーセントは
、別に記述されない限り重量部または重量パーセントで
示されている。 ［００４３］

【実施例】

実施例１ フォトレジスト溶液は、８５部のポリ−（ｐ−ヒドロキ
シスチロール）［ポリサイエンシズ（Ｐｏ　１ｙｓｃ　
１ｅｎｃｅｓ）社製、重量平均分子量＝１５００＝７０
００］、５部のトリー（ｐ−ヒドロキシフェニル）スル
ホニウム−へキサフルオローヒ酸塩、１０部の２．６−
ジメチロール−ｐ−クレゾールおよび２８０部のメチル
−グリコールアセテートから製造される。同溶液は次に
、孔径０．　２μｍのフィルターにより濾過される。 ［００４４］ このレジスト溶液は、シリカウェーハ上に１μｍの層厚
さでスピンコーティングされ、ホットプレート上で１分
間９０度で乾燥され、次にテストマスクによる接触法で
２秒間波長λ＝２４８のエキシマレーザ−で照射される
。この後でウェーハが１分間１２０度に加熱され、ｐＨ
−値１２．５乃至１４．５の現像液で現像される。１μ
ｍの層厚さに対する感度が、〜２０ｍＪ／ｃｍ２となる
。 ［００４５］ 実施例２ フォトレジスト溶液は、８８部のｐ−クレゾール−ホル
ムアルデヒド−ノボラック（重量平均分子量＝２００−
３００）、３部のトリー（ｐ−ヒドロキシフェニル）ス
ルホニウム−へキザフルオローヒ酸塩、９部の２．６−
ジメチロール−ｐ−クレゾールおよび２８０部のシクロ
ヘキサノンから製造される。このフォトレジスト溶液が
、実施例１と同様に実施される。１μｍ層厚さに対する
感度は、〜５０ｍＪ／Ｃｍ２となる。 ［００４６］ 実施例３

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】本質的に （ａ）水に不溶性、アルカリ性水溶液に可溶性のバイン
   ダーまたはバインダー混合物、 （ｂ）照射により強酸を生成する化合物 および （ｃ）酸の存在のおいて縮合可能の少なくとも１種の有
   機化合物から構成され、組成成分（ａ）、（ｂ）、およ
   び（ｃ）のいずれの成分も少なくとも１個のフェニール
   性ヒドロキシル基を含有していることを特徴とする放射
   線感受性混合物。
2. 【請求項２】バインダー（ａ）が、フェノール核のオル
   ト−位および／また パラ−位の１個以上が置換されていないフェノール樹脂
   であることを特徴とする、請求項１記載の放射線感受性
   混合物。
3. 【請求項３】　バインダー（ａ）が、重量平均分子量１
   ５０から１５００の間にあるｐ−クレゾール／ホルムア
   ルデヒド−ノボラック短鎖樹脂であることを特徴とする
   、請求項１または２に記載の放射線感受性混合物。
4. 【請求項４】　バインダー（ａ）が、本質的に下記一般
   式【化１】 　ｃＨ２−ｂ１，　ｃＨｒ （ただし式中Ｒ１がアルキル、アリールまたはアラルキ
   ル、Ｒ２がｏＲ１、アルキルまたはアラルキルである）
   の単位からなり、かつ重量平均分子量が２００から５０
   ００の間であるｐ−置換クレゾール／ホルムアルデヒド
   −ノボラック樹脂であることを特徴とする、請求項１ま
   たは２に記載の放射線感受性混合物。
5. 【請求項５】バインダー（ａ）が、重量平均分子量２０
   ０から３００００の間にあるポリ−（ｐ−ヒドロキシ−
   スチロール）またはポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチ
   ルスチロール）であることを特徴とする、請求項１また
   は２に記載の放射線感受性混合物。
6. 【請求項６】（ａ）が請求項２乃至５で特定されたバイ
   ンダーの少なくとも２種類の混合物であることを特徴と
   する、請求項１または２に記載の放射線感受性混合物。
7. 【請求項７】バインダー（ａ）が放射線感受性混合物の
   全重量当たりで５０乃至９５重量％の量で含まれている
   ことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１つに記載
   の放射線感受性混合物。
8. 【請求項８】照射の際に強酸を生成する化合物（ｂ）と
   して一般式（ I ）のオニウム塩 【化２】 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）、 ［ただし、式中、Ｒ＾３およびＲ＾４が相互に同じであ
   るかまたは異なっていてＨ、ＯＨ、アルキルまたは炭素
   原子数１乃至４個のアルコキシ基であり、Ｒ＾５および
   Ｒ＾６が相互に同じであるかまたは異なっていてメチル
   、エチル、フェニルまたは下記の基 【化３】 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｘ＾ΘがＡｓＦ＿６＾Θ、ＰＦ＿６＾Θ、ＳｂＦ
   ＿６＾Θ、ＢＦ＿４＾ΘまたはＣＦ＿３ＳＯ＿３＾Θで
   ある）］を用いることを特徴とする、請求項１〜７のい
   ずれか１つに記載の放射線感受性混合物。
9. 【請求項９】成分（ｂ）が放射線感受性混合物の全重量
   当たりで少なくとも１乃至３０重量％の量で含まれてい
   ることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１つに記
   載の放射線感受性混合物。
10. 【請求項１０】酸の存在において縮合可能の有機化合物
    （ｃ）として、一般式（II） 【化４】 ▲数式、化学式、表等があります▼（II）、 （式中Ｒが１乃至４個の炭素原子を有するアルキルであ
    りｎが１乃至１０である）で表される化合物が使用され
    ることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１つに記
    載の放射線感受性混合物。
11. 【請求項１１】成分（ｃ）が放射線感受性混合物の全重
    量当たりで少なくとも３乃至３０重量％の量で含まれて
    いることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１つ
    に記載の放射線感受性混合物。
12. 【請求項１２】放射線を吸収して成分（ｂ）に伝達する
    増感剤を添加して含ませることを特徴とする、請求項１
    〜１１のいずれか１つに記載の放射線感受性混合物。
13. 【請求項１３】接着促進剤、表面活性剤および／または
    染料のグループからの添加剤を、放射線感受性混合物の
    全重量当たりで１重量％までの量で含ませることを特徴
    とする、請求項１〜１２のいずれか１つに記載の放射線
    感受性混合物。
14. 【請求項１４】請求項１〜１３のいずれか１つに記載の
    放射線感受性混合物が使用されることを特徴とする、光
    感受性コーティング材料の製造方法。
15. 【請求項１５】常法により前処理された基質に０．１乃
    至５μｍの厚さの層になるように放射線感受性混合物を
    適用し、７０乃至１２０℃で乾燥し、画像形成するよう
    に露光し、７０乃至１６０℃に加熱してからアルカリ性
    水溶液で現像するレリーフ構造体の製造方法において、
    請求項１〜１３のいずれか１つに記載の放射線感受性混
    合物が使用されることを特徴とする、レリーフ構造体の
    製造方法。