JPS6037549A - 光可溶化組成物 - Google Patents

光可溶化組成物

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JPS6037549A
JPS6037549A JP14609583A JP14609583A JPS6037549A JP S6037549 A JPS6037549 A JP S6037549A JP 14609583 A JP14609583 A JP 14609583A JP 14609583 A JP14609583 A JP 14609583A JP S6037549 A JPS6037549 A JP S6037549A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する先回溶化組成物に関する。更に詳しくは、(
a)活性光線の照射によシ、酸を発生し得る化合物、及
び(b)酸により分解し得るシリルエーテル基を少なく
とも1個Mする化合物、を含有する新規な光可溶化組成
物に関する。
活性光線により可溶化する、いわゆるポジチプに作用す
る感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化合
物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第λ 747..11
1号、同第λ。
747.092号、同第コ、77コ、27−号、同第コ
、lrjり、/1.2号、同第λ、り。7.zts号、
同第3,0114,110号、同第3.04ta 、i
ii号、同第3,0グt、111号、同第3,0117
.、//ざ号、同第3.op5iiり号、同第J 、0
41t 、120号、同第、3,011t 、 /、2
/号、同第J、o4(J、/uλ号、同第j 、 04
41 、723号、同第3.06/、11.30号、同
第3.io、z、io2号、同第3 、104 。
l/−4j号、同第3.t3!、709号、同第3゜J
!7 、4’4(7号の各明細書をはじめ、多数の刊行
物に記されている。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射によシ分解を起こしてj員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子収
率がlを越えないということに由来するものである。
オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感光
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持17たまま感光性
を高めることは非常に困難であった。例えば、このよう
な試みの例として、特公昭参r−/2コ4A、2号、特
開昭jλ−4to1λj号、米国特許第44,307,
173号などの明細書に記載された内容を挙げることが
できる。
また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポジ
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その1つとして、例えば特公昭j4−
24P4号の明細書に記載されているオルトニトロカル
ビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられ
る。しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場合
と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これと
は別に接触作用により活性化される感光系を使用し、感
光性を高める方法として、光分解で生成する酸によって
第2の反応を生起させ、それてより露光域を可溶化する
公知の原理が適用されている。
このような例として、例えば光分解により酸を発生する
化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物と
の組合せ(特開昭4/−J’−rtpo。
3号)、オルトエステル又はアミドアセタール化合物と
の組合せ(特開昭j/−ハ2071It号)、主銭にア
セタール又はケタール基を有するポリマーとの組合せ(
特開昭j3−/334t2号)、エノールエーテル化合
物との組合せ(特開昭jJ−12り?!号)、N−アシ
ルイミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭jj−/2t2
3を号)、及び主鎖にオルトエステル基を有するポリマ
ーとの組合せ(特開昭!t−173弘j号)を挙げるこ
とができる。これらは原理的に量子収率がlを越える為
、高い感光性を示す可能性があるが、アセタール又は0
SN−アセタール化合物の場合、及び主鎖にアセタール
又はケタール基を有するポリマーの場合、光分解で生成
する酸による第2の反応の速度が遅い為、実際の使用に
十分な感光性を示さない。またオルトエステル又はアミ
ドアセクール化合物の場合及び、エノールエーテル化合
物の場合、更にN−アシルイミノ炭酸化合物の場合は確
かに高い感光性を示すが、経時での安定が悪く、長期に
保存することができない。主鎖にオルトエステル基を有
するポリマーの場合も、同じく高感度ではあるが、現像
時の現像許容性が狭いという欠点を有する。
本研究の目的は、これらの問題点が解決された新規な先
回溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性を
有し、現像時の現像許容性が広い新規な先回溶化組成物
を提供することである。
本研究の別の目的は、経時での安定性が浸れ長期に保存
が可能な新規な先回溶化組成物を提供することである。
本研究の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規な先回溶化組成物を提供することである。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を1− 加えた結果新規な先回溶化組成物を用いることで前記目
的が達成されることを見い出し本発明に到達した。
即ち本発明は、(n)活性光線の照射にょシ酸を発生し
得る化合物、及び(b)一般式(I)で示される、酸に
より分解し得るシリルエーテル基を少なくとも7個有し
、現像液中でのその溶解度が酸の作用により増大する化
合物、を含有する先回溶化組成物を提供するものである
好ましくは、一般式(Ilで示される酸により分解し得
るシリルエーテル基を有する化合物が下記一般式(T[
)又は(m)で示される化合物であることを特徴とする
3 l− R3R3 (m) 式中R0は置換基を有していてもよいm価の脂肪族又は
芳香族炭化水素を示す。R2,R3,R4は同一でも相
異していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、置換
基を有していてもよいアリール又はアラルキル、ハロゲ
ン、もしくは−OR。
を示す。好ましくは炭素数l−i個のアルキル、クロル
、もしくは−0R6、更に好ましくは炭素数l−1個の
アルキル、又は−OR,を示す。R5は置換基を有して
いてもよい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。R
6は置換基を有していてもよいアルキル、アリール、も
しくはアラルキル基、好ましくは炭素数/−ff個のア
ルキル、又は炭素数6〜/jのアリール基を示す。また
R6とR6が結合して脂肪族環又は芳香族環の一部を形
成してもよい。m、nは正の整数、好ましくけmは/−
10θo、 nは/〜tooの整数を示す。
a、bはそれぞれO又は/を示す。
一般式(T)で示されるシリルエーテル基を少なくとも
1個有する化合物の具体例としては、次に示すものが含
まれる。
階l l12 a3 随グ 随j −ター N[Lt x/y=0/100〜りj/j CH3H3 N2Lj I O− 隘り 階l 2 磁l 3 Nal ≠ Na/! N[l# これらの酸にょシ分解し得るエステル基を少なくとも1
個有する化合物と組合せて用いる、活性光線の照射によ
9酸を発生し得る化合物としては多くの公知化合物及び
混合物、例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホ
ニウム、及びヨードニラAOBF4 、PF6 、Sb
F6 .5iF6− 。
l 3− α04−などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン
ジアジドスルホニルクロリド、及び有機金属/有機ハロ
ゲン化合物組合せ物が適当である。
もちろん、米国特許第3,772,77を号及び西ドイ
ツ国特許第2.tio、♂12号の明細書中に記載され
た光分解によ郵酸を発生させる化合物も本発明の組成物
として適する。更に適当な染料と組合せて露光の際、未
露光部と露光物の間に可視的コントラストを与えること
を目的とした化合物、例えば特開昭1l−7771IJ
号、同!7−/4323号の明細書に記載された化合物
も本発明の組成物として使用することができる。
上記光分解によ郵酸を発生させる化合物の中では特にオ
ルトキノンジアジドスルホニルクロリドが好ましい。と
いうのは、露光の際3つの酸基(即ち塩酸、スルホン酸
、カルボン酸)が形成される為、比較的大きい割合で前
記シリルエーテル基を分解させることができるからであ
ゐ。
これらの活性光線の照射によ郵酸を発生し得る化合物と
前記酸によシ分解し得るシリルエーテル−7≠− 基を少なくとも/個有する化合物との割合は、重量比で
0.0/:/〜λ:lであり、好ましくは0、Oj:/
−0,1:/で使用される。
本発明の光可溶性組成物は、上記活性光線の照射によシ
酸を発生し得る化合物と、酸により分解し得るシリルエ
ーテル基を少なくとも1個有する化合物の組合せのみで
使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し
て用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には
、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、
フェノールホルムアルデヒド樹m、o−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが含まれる。更に特開昭!tO−/、Ztrot
号公報に記されている様に上記のようなフェノール樹脂
と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂の
ような炭素数3〜tのアルキル基で置換されたフェノー
ルまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを
併用すると、一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、感
光性レジスト形成性組成物の全重量を基準として約μO
〜約20重量%、よシ好ましくはto−to重量%含有
させられる。
本発明の光可溶性組成物には必要に応じて、更に染料、
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発生効
率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有させる
ことができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基
性染料がある。具体的には、オイルイエローナノ0ハオ
イルイエローナ/305オイルビンクナ31.2、オイ
ルグリーンBG、オイルブルーBO8,オイルブルーナ
603、オイルブラックBY、オイルブラックBS1オ
イルブラック’l’−1O1(以上、オリエント化学工
業株式会社製)クリスタルバイオレット(CI≠2よ1
1)、メチルバイオレット(CI≠2!3k)、ローダ
ミンB(CI≠夕1qoB)、マラカイトグリーン(C
I412000)、メチレンブルー(CIjコoiBな
どをあげることができる。
本発明の光可溶性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、コーメ
トキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどが
あり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形分)は、
2〜50重量%である。このうち、本発明の組成(a)
 + (b)の好ましい濃度(固形分)は0.1〜21
重量%である。また、塗布量は用途により異なるが、例
えば感光性平版印刷版についていえば一般的に固形分と
して0.j〜3.09/m が好ましい。塗布量が少く
カるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物性は低下す
る。
本発明の光可溶性組成物を用いて平版印刷版を製造する
場合、その支持体としては、親水化処理し九アルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目室てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があシ、その他亜鉛板、
ステンレス板、77− クローム処理鋼板、親水化処理したプラスチックフィル
ムや紙を上げることができる。
また印刷用校正版、オーツマーヘッドプロジェクタ−用
フィルム第2原図用フィルムの製造に適する支持体とし
てはポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテ
ートフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチッ
クフィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化し
たものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの
製造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウ
ム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレー
トフィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレ
ートフィルムをあげることが出来る。
またホトレジストとして上記以外の種々の支持体、例え
ば銅板、銅メツキ板、ガラス板上に本発明の光可溶性組
成物を塗布して使用される。
本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム(レーザー−/r− ビーム又は電子線)による走査露光も本発明に使用する
ことができる。このようなレーザービームとしてはヘリ
ウム・ネオンレーザ−、アルゴンレーザー、クリプトン
イオンレーザ−、ヘリウム・カドミウムレーザーなどが
挙げられる。
本発明の光可溶性組成物にたいする現像液としては、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適当であり、それらの濃変が0./−10重量%
、好ましくはO、t−V重量%になるように添加される
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれによシ限定されるものではな
い。
合成例1.(化合物例Na/の合成) p−tert、−ブチルフェノール/1./9(O,1
0/mole)をピリジン70m1に溶解し、攪拌しな
がら、これにヘキザメチルジシラザ77、Ifi(0,
θFfmole)、引き続きトリメチルクロロシランλ
−19(O,o、z≠mole)を室温下、滴下ロート
より13分間かけて、添加した。添加後、室温にて5時
間攪拌を続けた。生成した白色の塩(塩化アンモニウム
塩及び/又はピリジンの塩酸塩)を戸別し、ピリジン溶
液を減圧上濃縮した。得られた無色透明液体をビグリュ
ー・クライゼン(Vigreux−C1aisenlカ
ラムを用いて真空蒸留した。無色透明液体(b 、 p
 、 47°C10,4’mmH,91、収@t t、
、pro NMR,元素分析により、その構造が化合物
例141Llであるととを確認した。
合成例2.(化合物例随6の合成) m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂/2
./jj (0,10/mole)をピリジン70m1
に溶解17、攪拌しながらこれにヘキサメチルジシラザ
y7 、I g(0、04<ffmole)、引き続き
トリメチルクロロシランλ、tg(o。
024’mole)を室温下、滴下ロートより13分間
かけて添加した。添加後、室温にて5時間攪拌を続けた
。生成した白色の塩(塩化アンモニウム塩及び/又はピ
リジンの塩酸塩)を戸別し、ピリジン溶液を減圧上濃縮
した。得られた褐色粘稠液体をメチルエチルケトン20
1116に溶解し、ヘキサン700m1中へ攪拌しなが
ら投入した。濾過、乾燥によシ、灰褐色粉末iv、!i
lを得た。
合成例3.(化合物例随7の合成) /、J−ヘキサンジオール11.りg(0,101mo
le)、ピリジン17.44g(0,,2コOmo l
 e )、脱水蒸留したトルエンtameの混合物に、
ジクロロジメチルシランノコ、9gtO。
100mole)の) A、 ! 7.2014溶液を
、攪拌及び氷冷下、滴下ロートよ930分間かけて添加
した。添加後5o0cにて、3時間攪拌を続けた。
生成した白色の塩(ピリジンの塩酸塩)を戸別し、−,
2/− トルエン溶液を減圧上濃縮した。その後、真空下(約/
 m m HE ) 、約1ro0cに加熱しながら7
0時間乾燥させた。無色透明粘稠液体、収量169゜N
MRにより、その構造が化合物例Nf17であることを
確認した。更にVPO(VapourPressure
 Osmometer)によち数平均分子量を測定した
ところ、Mn−−20≠Oであった。
合成例4.(化合物例N(Lfの合成)合成例λにおけ
る/、A−へギザ/ジオールの代わシに/、II−シク
ロヘキサンジオール//。
7.9(O,10/molelを使用し、合成例3と同
様に反応、後処理を行った。無色透明粘稠液体、収量/
l、!g。NMRによりその構造が化合物Nll!であ
ることを確認し、VPOにより数平均分量を測定したと
ころMn=ハtpoであった。
合成例&(化合物例N11l/の合成)合成例3.にお
ける。/、1−ヘキサンジオールの代わりに、ハイドロ
キノン/ / j;i (0、/ 00molelを使
用し、合成例3と同様に反応、後処理を行った。
−J +2− 白色固体、収量/ 4 、.29.NMRによりその構
造が化合物随//であることを確認し、VPOにより数
平均分子量を測定したところM n = / J−ir
oであった。
合成例6(化合物例p/3の合成) 合成例3における、/、l−へWサンジオールの代わり
に、2−メトキシーハイドロギノンlIIg(O,10
omolelを使用し、合成例3と同様に反応、後処理
を行った。淡褐色粘稠液体、収量/り、/goNMRに
よりその構造が化合物随13であることを確認し、VP
Oにより数平均分子量を測定したところ、Mn=/、2
!10であった。
合成例7(化合物例Nl1ljの合成)エタノール7A
9 (/、Ajmole)、ビリジy/30.39 (
/、Ajmole)、メチルエチルケトンl00m1の
溶液((、トリクロロメチル75ン711 、r9 (
0、jOOmole)のメチルエチルケトン100m1
溶液を、攪拌及び氷冷下、滴下ロートより約り0分間か
けて添加した。添加後to0cにて、3時間攪拌を続け
た。生成した白色の塩(ビリジ/の塩酸塩)をP別した
後、蒸留により、沸点/4(λ〜l’13 °C(7A
 OmmHg)の無色透明留分j7.lr9を得た。N
MRにより、トリエトキシメチル7ランであること確認
した。
得られたトリエトキシメチルシランt、り9(0゜Of
Omolel及びビスフェノール−A / / 、 I
I9 (o−θjOmolelのトルエン♂Omtの混
合物に1合触媒としてp−)ルエンスルホン酸O9/g
を加え、加熱攪拌した。10o−itoocにて約≠時
間かけて、トルエン−エタノールの共沸物約20m1を
留去させた。その後、無水炭酸カリウムo、4csgを
加え中和した後濾過し、得られたトルエン溶液を減圧蒸
留により濃縮した。更に真空下(約/ mmH,!9 
)、約弘o ’Cに加熱しなから10時間乾燥させた。
無色透明粘稠液体、収量/j、A9゜NMRにより、そ
の構造が化合物例N[L/jであることを確認し、VP
Oにより数平均分子量を測定したところMn=/Azo
であった。
実施例1 厚さ0.2μmmの28アルミニウム板をt。
0Cに保った第3燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分
間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後ア
ルミン酸ナトリウムで約70秒間エツチングして、硫酸
水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行った。
このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度、2 A
 / d m 2においてコ分間陽極酸化を行いアルミ
ニウム板を作製した。
次に下記感光液[A)の本発明の化合物の種類を変えて
j種類の感光液[A)−/〜[:A)−、tを調整し、
この感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布
し、1OO0Cで2分間乾燥して、それぞれの感光性平
版印刷版(A)−/〜[A)−、tを作製した。このと
きの塗布量は全て乾燥重量で/、19ンm2であった。
また、感光液[:A]−/〜[A)−jに用いた本発明
の化合物は第1表に示す。
感光液(A) 本発明の化合物 0.31g クレゾール−ホルムアルデ ー+2に− ヒトノボラック樹脂 /、0 9 /1.2−ナフトキノン−≠ 一スルホニルクロリド o、ozg オイルブルーナtθ3 (オリエント化学工業■製) 0.0/fJエチレンジ
クロリド 109 メチルセロソルブ 10g 次に比較例として下記の感光液〔B〕を感光液[A]と
同様に塗布し、感光性平版印刷版〔B〕を作製した。
感光液CB) フェノール−ホルムアルデ ヒトノボラック樹脂と7.コ ーナフトキノンーλ−ジアジ ド−よ一スルホニルクロリド との縮合生成物 0.≠19 クレゾールーホルムアルデヒド ノボラック樹脂 /、Og / + 2f 7 F # / / J−シ0− (’
 2 fJアジド−≠−スルホニルクロリド 36一 オイルプルーナtθ3 (オリエント化学工業■ml o、oigエチレンジク
ロリド 109 メチルセロソルブ iog 乾燥後の塗布重量は/、39/m2であった。
感光性平版印刷版(A〕−/〜(:A)−、を及び〔B
〕の感光1−上に濃度差o、i、tのグレースケールを
密着させ、30アンペアのカーボンアーク灯で700I
Nの距離から露光を行った。
本発明の優れた感光性を示す為にj1元された感光性平
版印刷版[A]−t〜[:A)−j及び〔B〕をDP−
JB(商品名:富士写真フィルム■製)の/、2倍希釈
水溶液で2j0Cにおいて40秒間浸漬現像し、濃度差
o、izのグレースケールでよ段目が完全にクリアーと
なる露光時間をめたところ第1表に示すとおりとなった
第1表 第1表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版[A)−/−(A:]−7はいずれも〔B〕
よシ露光時間が少なく、感度が高い。
実施例2 下記感光液[C]において活性光線の照射によシ酸を発
生し得る化合物の種類を変えて、1種類の感光液(C:
]−/〜(C)−参を調整し、実施例1と同様にして、
感光性平版印刷版[C]−t〜〔C〕−μを作製した。
感光液(C) 本発明の化合物Na13 0.J/9 クレゾール−ホルムアルデ ヒドノボラック樹脂 /、Og 活性光線の照射によシ酸を 発生し得る化合物 o、org オイルブルー (オリエント化学工業■製) θ、0/9エチレンジク
ロリド IO!? メチルセロソルブ 10g 塗布量は全て乾燥重量で/、jfl/m であった。ま
た感光液[C1−/〜(C)−Uに用いた、活性光線の
照射により酸を発生する化合物は第2表に示す。感光性
平版印刷版[C]−t〜[C]−p及び実施例1で作製
したCB)の感光層上に濃度差0./jのグレースケー
ルを密着させ、30アンペアのカーボンアーク灯で70
函の距離から露光を行った。
一2デー 露光された感光性平版印刷版[C]−/〜〔C〕−昼及
び[B1をDP−JB(商品名:富士写真フィルム■製
)のt倍希釈水溶液で2!0Cにおいて4o秒間浸漬現
像し、濃度差o、izのグレースケールでよ段目が完全
にクリアーとなる露光時間をめたところ、第2表に示す
とおりとなった。
30− −3l− 第4表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版[C:]’−t〜[C]−aはいずれも〔B
〕より露光時間が少なく感度が高い。
実施例3 実施例2における感光液〔C〕−λにターフェニルアク
リジン又はミヒラーケトンをそれぞれ00oo参y添加
した感光液[D:]−/〜〔D〕−2を調整し、実施例
1と同様にして感光性平版印刷版CD)−/〜〔D〕−
2を作製した。塗布量はどちらも乾燥重量でl、!g/
TrL2であった。
感光性平版印刷版〔C〕−2、〔D)−/〜〔D〕−λ
及び[B’)を実施例2と同様にして、露光、現像処理
を行い、濃度差0.7タのグレースケールで!段目が完
全にクリアーとなるI!光時間をめたところ第3表に示
すとおシとなった。
32− 第3表 第3表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版〔D〕−7〜[Dl−2は活性光線の照射に
より酸を発生する化合物に増感剤を組合せた結果、更に
感度が増大した。
実施例4 実施例1の感光液(A’)−/、及び本発明の化合物を
変えた[A:]−A〜CA)−7を用い、実施例1と同
様にして感光性平版印刷版[A)−/、[A]−1〜[
A’)−7を作製した。塗布量はすべて乾燥重量で/−
311/m2であった。感光液33− CA、 1− j〜[A]−7に用いた本発明の化合物
は第1表に示す。
現像許容性を見る為、感光性平版印刷版El−7、(A
〕1〜(A、 :) −7及びCB)の感光層上に濃度
差0./jのグレースケールを密着させ、30アンはア
のカーボンアーク灯で706rrLの距離から30秒間
露光を行った。露光された感光性平版印刷版[A)−/
、[A]−1〜〔A〕−7及び(B)を実施例1と同じ
現像液にて、コタ0Cで40秒間及び3分間浸漬現像し
た。濃度差0、/!のグレースケールで40秒間及び3
分間現像における完全にクリアーとなる段数の差をめた
ところ第グ表に示すとおりとなった。
第≠表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版[A)−/、[A]−J〜[A)−7はいず
れも、クリア一部のグレースケール段数変化が小さく、
現像許容性が大きく優れたものであった。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社−3を− 手続補正書 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和!r年特願第144409j号2
、発明の名称 柘可溶化組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 性 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称(52
0)富士写真フィルム株式会社の欄 5.補正の内容 /)@乙酉/j行目の [112 R4+0−8i−rt41nk R13」 「R2 R+−GO−8i−R4)m Ra J と補正する。
λ)第7頁を行目の 「アルキル、置換基」を [アルケニル、置換基」 と補正する。
3)第73頁j行目の 「エステル基」を 「シリルエーテル基」 と補正する。
釣第1り頁3行目の 「アルゴンし/」を 「アルゴンレ」 と補正する。
j)第コ2酉を行目の 「によち」を 「Kより」 と補正する。
乙)第コを頁λ行目の 「ナフトキノ/Jの後に 「−コージ了シト」 を挿入する。
手続補正書 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和sr年特願第14L609j号2
、発明の名称 光度溶化組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称(52
0)富士写真フィルム株式会社4、補正の対象 明細書
の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書の第7頁を別紙と差し替える 別紙 R3R3 (m) 式中R1は置換基を有していてもよいm価の脂肪族又は
芳香族炭化水素を示す。R2,R3,R4は同一でも相
異していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、アル
ケニル、置換基を有していてもよいアリール又はアラル
キル、ノ・ロゲン、もしくは−OR,を示す。好ましく
は炭素数/〜≠個のアルキル、クロル、もしくは−0R
6、更に好ましくは炭素数/〜≠個のアルキル、又は−
0R6を示す。R5は置換基を有していてもよい2価の
脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。R6は置換基を有し
ていてもよいアルキル、アリール、もしくはアラルキル
基、好ましくは炭素数/〜r個のアルキル、又は炭素数
7−/jのアリール基を示す。
またR5とR6が結合して脂肪族環又は芳香族環の一部
を形成してもよい。m 、 nは正の整数、好ましくは
m 手°続補正書 昭和12年 檀瞠ガ2日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和sr年特願第ハttoり1号2、
発明の名称 先回溶化組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 性 所 神奈川県南足柄市中沼210番地4゜補正の対
象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。
(1)第ぴ頁lO行目の 「z3−t33弘コ」を f−13−/334I2り」 と補正する。
(2)第1μ頁l1行目の 「lぶ323」を 「/1323μ」 と補正する。
(3)第コを頁り行目の 「第7表かられかるように」の前に 1なお第1表における本発明の化合物No。
4、!、?、/I、/IIの分子量はいずれも数平均分
子量でMH==/$00〜.2000のものであった。
」 を挿入する。
一部 − (!I)第、2′?頁μ行目の [No、/JJO後K 「(数平均分子量M、n=/λ4(O)Jを挿入する。
(5)第3μ頁73行目の 「とおりとなった。」の後に 「なお第μ表における本発明の化合物N o 。
J、/θ、1.2の分子量はいずnも数平均分子量でM
n=/ 700〜/r00のものであった。また化合物
No、AのX。
YはX/Y=Aθ/グθ(モル比)であった。」 を挿入する。
−コー

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (a)活性光線の照射によシ、酸を発生し得る化合物、
    及び伽)下記一般式[I)で示される、酸によシ分解し
    得るシリルエーテル基を少なくとも1個Mし、現像液中
    でのその溶解度が酸の作用により増大する化合物、をt
    Wする先回溶化組成物。
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Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60121446A (ja) * 1983-12-06 1985-06-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61166544A (ja) * 1985-01-18 1986-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61167946A (ja) * 1985-01-22 1986-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 着色光可溶化組成物
JPS61169836A (ja) * 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS6225751A (ja) * 1985-07-26 1987-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
JPS6238452A (ja) * 1985-08-14 1987-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS62124557A (ja) * 1985-11-25 1987-06-05 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料
JPS63236029A (ja) * 1987-03-25 1988-09-30 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
EP0410606A2 (en) 1989-07-12 1991-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
JPH0594017A (ja) * 1991-10-01 1993-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
EP0565006A2 (en) 1992-04-06 1993-10-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing PS plate
US5556734A (en) * 1993-12-24 1996-09-17 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation sensitive resin composition comprising copolymer of isopropenylphenol and T-butyl(meth)acrylate
EP0747768A2 (en) 1995-06-05 1996-12-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Chemically amplified positive resist composition
EP0788031A1 (en) 1996-02-05 1997-08-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive working photosensitive composition
US6410204B1 (en) 1999-09-27 2002-06-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photoresist composition
JP2003098671A (ja) * 2001-09-20 2003-04-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd フォトレジスト用樹脂およびフォトレジスト組成物
US6828078B2 (en) 2000-08-29 2004-12-07 Jsr Corporation Composition having refractive index sensitively changeable by radiation and method for forming refractive index pattern
EP1627736A1 (en) 2004-08-18 2006-02-22 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Method of manufacturing light sensitive planographic printing plates and method of using the same
US7071255B2 (en) 2001-02-19 2006-07-04 Jsr Corporation Radiation-sensitive composition capable of having refractive index distribution
US7108954B2 (en) 2000-12-11 2006-09-19 Jsr Corporation Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index
US7112397B2 (en) 2003-01-07 2006-09-26 Okamoto Chemical Industry Co., Ltd. Image forming composition and photosensitive lithographic plate using same
US7125647B2 (en) 2001-03-13 2006-10-24 Jsr Corporation Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof
US7205085B2 (en) 2001-08-01 2007-04-17 Jsr Corporation Composition having permitivity being radiation-sensitively changeable and method for forming permitivity pattern

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5339115A (en) * 1976-09-22 1978-04-10 Hitachi Ltd Photosensitive recording medium
JPS56106958A (en) * 1979-12-26 1981-08-25 Gen Electric Polysiloxane composition
JPS56135518A (en) * 1980-02-29 1981-10-23 Ciba Geigy Ag Thermopolymerizable composition and polymerization therefor
JPS5740248A (en) * 1980-06-14 1982-03-05 Hoechst Ag Photographic copying material and method of coating photosensitive copying layer on support

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5339115A (en) * 1976-09-22 1978-04-10 Hitachi Ltd Photosensitive recording medium
JPS56106958A (en) * 1979-12-26 1981-08-25 Gen Electric Polysiloxane composition
JPS56135518A (en) * 1980-02-29 1981-10-23 Ciba Geigy Ag Thermopolymerizable composition and polymerization therefor
JPS5740248A (en) * 1980-06-14 1982-03-05 Hoechst Ag Photographic copying material and method of coating photosensitive copying layer on support

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60121446A (ja) * 1983-12-06 1985-06-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPH0544664B2 (ja) * 1983-12-06 1993-07-07 Fuji Photo Film Co Ltd
JPS61166544A (ja) * 1985-01-18 1986-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61167946A (ja) * 1985-01-22 1986-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 着色光可溶化組成物
JPS61169836A (ja) * 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS6225751A (ja) * 1985-07-26 1987-02-03 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
JPS6238452A (ja) * 1985-08-14 1987-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS62124557A (ja) * 1985-11-25 1987-06-05 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料
JPS63236029A (ja) * 1987-03-25 1988-09-30 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
EP0410606A2 (en) 1989-07-12 1991-01-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
JPH0594017A (ja) * 1991-10-01 1993-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
EP0565006A2 (en) 1992-04-06 1993-10-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing PS plate
US5556734A (en) * 1993-12-24 1996-09-17 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation sensitive resin composition comprising copolymer of isopropenylphenol and T-butyl(meth)acrylate
EP0747768A2 (en) 1995-06-05 1996-12-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Chemically amplified positive resist composition
EP0788031A1 (en) 1996-02-05 1997-08-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive working photosensitive composition
US6410204B1 (en) 1999-09-27 2002-06-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photoresist composition
US6828078B2 (en) 2000-08-29 2004-12-07 Jsr Corporation Composition having refractive index sensitively changeable by radiation and method for forming refractive index pattern
US7108954B2 (en) 2000-12-11 2006-09-19 Jsr Corporation Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index
US7071255B2 (en) 2001-02-19 2006-07-04 Jsr Corporation Radiation-sensitive composition capable of having refractive index distribution
US7125647B2 (en) 2001-03-13 2006-10-24 Jsr Corporation Radiation-sensitive composition changing in refractive index and utilization thereof
US7205085B2 (en) 2001-08-01 2007-04-17 Jsr Corporation Composition having permitivity being radiation-sensitively changeable and method for forming permitivity pattern
JP2003098671A (ja) * 2001-09-20 2003-04-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd フォトレジスト用樹脂およびフォトレジスト組成物
US7112397B2 (en) 2003-01-07 2006-09-26 Okamoto Chemical Industry Co., Ltd. Image forming composition and photosensitive lithographic plate using same
EP1627736A1 (en) 2004-08-18 2006-02-22 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Method of manufacturing light sensitive planographic printing plates and method of using the same

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