JP2668608B2 - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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Description
の校正刷、オーバーヘッドプロジェクター用図面、さら
には半導体素子の集積回路を製造する際に微細なレジス
トパターンを形成することが可能なポジ型感光性組成物
に関する。
により可溶化する、いわゆるポジチブに作用する感光性
物質としては、従来オルトキノンジアジド化合物が知ら
れており、実際平版印刷版等に広く利用されてきた。こ
のようなオルトキノンジアジド化合物としては、例えば
米国特許第 2,766,118号、同第 2,767,092号、同第 2,7
72,972号、同第 2,859,112号、同第 2,907,665号、同第
3,046,110号、同第 3,046,111号、同第 3,046,115号、
同第 3,046,118号、同第 3,046,119号、同第 3,046,120
号、同第 3,046,121号、同第 3,046,122号、同第 3,04
6,123号、同第 3,061,430号、同第 3,102,809号、同第
3,106,465号、同第 3,635,709号、同第 3,647,443号の
各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されている。
活性光線の照射により分解を起こして5員環のカルボン
酸を生じ、アルカリ可溶性となることを利用したもので
あるが、いずれも十分な感度を示すものではなかった。
これは、オルトキノンジアジド化合物によっては、光化
学的な増感を達成するのが困難であり、本質的にその量
子収率が1を越えないことに起因するものである。また
感光波長が固定化される為、光源適性に乏しく、白燈安
全性付与が困難であり、更にDeep UV領域での吸収が
大きいため、低波長光使用によるフォトレジストの解像
力向上を目的とした用途には適さない。
公昭48−12242号、特開昭52−40125号、
米国特許第 4,307,173号などの各公報および明細書に記
載の方法が試みられているが、いずれも不十分な改良に
留まっている。また最近、オルトキノンジアジド化合物
に替わる新規ポジ型感光材料の開発を目的として、いく
つかの提案がなされている。その1つとして、例えば特
公昭56−2696号公報に記載されているオルトニト
ロカルビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙
げられる。しかし、この場合においても十分な感度が得
られなかった。
積回路等の電子部品を製造するためのパターン形成法と
して、フォトレジストを利用して作成する方法が一般に
行われている。フォトレジストには、光照射により被照
射部が現像液に不溶化するネガ型と、反対に可溶化する
ポジ型とがある。ネガ型はポジ型に比べて感度が良く、
湿式エッチングに必要な基板との接着性及び耐薬品性に
も優れていることから、近年までフォトレジストの主流
を占めていた。しかし、半導体素子等の高密度化、高集
積化に伴い、パターンの線幅や間隔が極めて小さくな
り、また、基板のエッチングにはドライエッチングが採
用されるようになったことから、フォトレジストには高
解像度および高ドライエッチング耐性が望まれるように
なり、現在ではポジ型フォトレジストが主流となってい
る。特に、ポジ型フォトレジストの中でも、感度、解像
力、ドライエッチング耐性に優れることから、例えばジ
ェー・シー・ストリエータ著、コダック・マイクロエレ
クトロニクス・セミナー・プロシーディングス、第11
6頁(1976年)(J. C. Strieter、Kodak Microele
ctoronics Seminor Proceedings,116(1976))
等に記載されているアルカリ可溶性のノボラック樹脂を
ベースにしたアルカリ現像型のポジ型フォトレジストが
現在広く使用されている。
高感度に伴い、さらに高密度ならびに高集積化を図るべ
くパターンの微細化が強く要請されている。これらの要
求に対し、従来のオルトキノンジアジド感光性に、アル
カリ可溶性を付与したポリシロキサン又は、ポリシルメ
チレン等のシリコンポリマーを組み合わせた感光性組成
物、例えば特開昭61−256347号、同61−14
4639号、同62−159141号、同62−191
849号、同62−220949号、同62−2291
36号、同63−90534号、同63−91654号
等の各公報に記載の感光性組成物、特開昭62−136
638号の公報記載のポリシロキサン/カーボネートの
ブラック共重合体に有効量のオニウム塩を組み合わせた
感光性組成物が提示されている。しかしながら、これら
のシリコンポリマーは、アルカリ可溶性の機能付与等の
為にその製造が著しく困難となり、また経時安定性も十
分ではなかった。
型の感光材料として、光により酸を発生する化合物およ
び酸により加水分解等を生じアルカリ水に対する溶解度
が変化する化合物、必要に応じてバインダー樹脂等を含
有する組成物が、特開昭59−45439号、特開昭6
3−8610号、特開昭64−33546号、特開昭4
8−89003号、特開昭51−120714号、特開
昭53−133429号、特開昭55−126236
号、特開昭53−133428号、特開昭55−129
95号、特開昭57−31674号、特開昭57−31
675号、特開昭57−37347号、特開平1−10
6040号、特開平1−106041号、特開昭62−
215947号等に報告されている。しかしこれらの組
成物はいづれも感度が低い、あるいは露光部と未露光部
の溶解度の差が小さい、あるいはポジ画像のパターンの
形状に問題があり、実用に供されるまでには到っていな
い。
問題点が解決された新規なポジ型感光性組成物を提供す
ることにある。即ち、高い感光性を有し、かつ、広範囲
の波長光の使用が可能である新規なポジ型感光性組成物
を提供することにある。
達成すべく、オルトキノンジアジドに代わる新規なポジ
型感光性組成物の探索を行った結果、アクリル樹脂のよ
うなアルカリ可溶性ポリマー中に、特定の構造をもつビ
ニルエーテル化合物と光により酸を発生する化合物とを
含有させることにより、鮮明なポジ画像が得られること
を見出し、本発明を完成させるに至った。
エーテル化合物とイソシアナート基を有する化合物との
反応生成物であるビニルエーテル基含有化合物と、
(b)活性光線または放射線の照射により分解して酸を
発生する化合物と、(c)アルカリ可溶性ポリマーを含
有することを特徴とする感光性組成物であり、紫外線、
可視光線、電子線又はX線に対し、高い感度を有する。
ノールエーテル基を含有するポジ系組成物としては、特
開昭55−12995号に開示されているものがある
が、この中にはビニルエーテル基をもつ化合物の記載は
なく、又この特許に記載の化合物を使用してもポジ画像
は形成されるが、十分な感度を得ることができなかっ
た。
テル基含有化合物は、少なくとも1個のビニルエーテル
基を含み、大気圧下で100℃以上の沸点を有する化合
物であり、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2
量体、3量体のオリゴマーなどであり、下記一般式
(I)、(II) 、(III) 等で示される活性水素を有する
ビニルエーテル化合物とイソシアナート基を有する化合
物との反応により合成される。
ン基を示す。イソシアナート基を含有する化合物として
は、例えば架橋剤ハンドブック(大成社刊、1981年
発行)に記載の化合物を用いることができる。
シアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリ
レンジイソシアナート、2,4−トリレンジイソシアナ
ートの二量体、ナフタレン−1,5−ジイソシアナー
ト、o−トリレンジイソシアナート、ポリメチレンポリ
フェニルイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナ
ート等のポリイソシアナート型、トリレンジイソシアナ
ートとトリメチロールプロパンの付加体、ヘキサメチレ
ンジイソシアナートと水との付加体、キシレンジイソシ
アナートとトリメチロールプロパンとの付加体等のポリ
イソシアナートアダクト型等を挙げることができる。
ビニルエーテル化合物を反応させることにより末端にビ
ニルエーテル基をもつ種々の化合物ができる。下記に本
発明に使用されるビニルエーテル基をもつ化合物の例を
列挙するが、本発明の範囲はこれらに限定されるもので
はない。
種の混合物として使用してもよい。感光性組成物中のビ
ニルエーテル基を含有する化合物(a)の添加量は、好
ましくは感光性組成物全固形分に対し、1〜80重量
%、更に好ましくは5〜50重量%の範囲である。本発
明に使用されるこれらのビニルエーテル基含有化合物
は、例えば StephenC. Lapin, Polymers Paint Colour
Journal, 179(4237)、321(1989)に
記載の方法により合成できる。
射線の照射により分解して酸を発生する化合物(b)に
ついて説明する。本発明に用いられる光酸発生剤は、活
性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物で
あれば、任意に選択して使用することができる。たとえ
ば、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、ブロモニウム
塩、クロロニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム
塩、ピリリウム塩、チアピリリウム塩、ピリジニウム塩
等のオニウム塩、トリス(トリハロメチル)−s−トリ
アジン等のハロゲン化化合物、スルホニルイミド化合物
等を挙げることができるが、好ましくはヨードニウム
塩、スルホニウム塩が用いられる。その中でも対イオン
が芳香族スルホン酸塩である下記一般式(1)又は
(2)で示されるヨードニウム塩、スルホニウム塩は対
イオンの構造を代えることで、種々の光源に対し、有効
に使用される。
いてもよく、置換又は無置換のアリール基を示す。好ま
しい置換基は、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキ
ル、アリール、アルコキシ、ニトロ、カルボキシ、アル
コキシカルボニル、ヒドロキシ、メルカプト基及びハロ
ゲン原子であり、更に好ましくは炭素数1〜8個のアル
キル、炭素数1〜8個のアルコキシ、ニトロ基及び塩素
原子である。
もよく、置換又は無置換のアルキル基、アリール基を示
す。好ましくは炭素数6〜14個のアリール基、炭素数
1〜8個のアルキル基及びそれらの置換誘導体である。
好ましい置換基としては、アリール基に対しては炭素数
1〜8個のアルコキシ、炭素数1〜8個のアルキル、ニ
トロ、カルボキシ、ヒドロキシ基及びハロゲン原子であ
り、アルキル基に対しては炭素数1〜8個のアルコキ
シ、カルボキシ、アルコキシカルボニル基である。
1 、Ar2 はそれぞれ単結合又は置換基を介して結合して
もよい。X- はアニオン(対イオン)を示す。具体例と
しては、ハロゲン原子アニオン、 BF4 - 、BCl4 - 、 ZrC
l5 - 、 SbCl6 - 、 FeCl4 - 、 GaCl4 -、 GaBr4 - 、AlI4
- 、 AlCl4 - 、SbF6 - 、CF3SO3 - 、 PF6 - 、BPh4 - 、ナ
フタレン−1−スルホン酸、アントラセン−1−スルホ
ン酸等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、アントラ
キノンスルホン酸アニオン、アントラセンスルホン酸ア
ニオン、スルホン酸基含有染料などが挙げられるがこれ
らに限定されるものではない。
を以下に示す。
される化合物の具体例を次に示す。
は、ビニルエーテル基含有化合物(a)100部に対
し、重量比で0.01〜50部、特に好ましくは0.1〜2
0部の範囲である。一般式(1)、(2)で示される上
記化合物は、例えば、J. W. Knapczykら著、J. Am. Che
m. Soc.,第91巻、第145頁(1969年)、A. L.
Myacock ら著、J. Org. Chem.,第35巻、第2532頁
(1970年)、E. Goethals ら著、Bull. Soc. Chem.
Belg., 第73巻、第546頁(1964年)、H. M.
Leicester 著、J. Am. Chem. Soc.,第51巻、第358
7頁(1929年)、J. V.Crivelloら著、J. Polym. S
oc. Polym. Chem.Ed.,第18巻、第2677頁(198
0年)、米国特許第2,807,648 号及び第4,247,473 号明
細書、F. M. Beringerら著、J. Am. Chem. Soc.,第75
巻、第2705頁(1953年)、特開昭53−10
1,331号公報などに示された手順により製造するこ
とができる。
ー(c)は、好ましくはフェノール性ヒドロキシ基、カ
ルボン酸基、スルホン酸基、イミド基、スルホンアミド
基、N−スルホニルアミド基、N−スルホニルウレタン
基、活性メチレン基等のpKa11以下の酸性基を有する
ポリマーである。好適なアルカリ可溶性ポリマーとして
は、ノボラック型フェノール樹脂、具体的にはフェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂、p−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、キシレノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂またはこれらの共縮合物な
どがある。更に、特開昭50−125806号公報に記
されている様に上記の様なフェノール樹脂と共に、t−
ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂のような炭素
数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはク
レゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用しても
よい。またN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミドのようなフェノール性ヒドロキシ基含有モノマー
を共重合成分とするポリマー、p−ヒドロキシスチレ
ン、o−ヒドロキシスチレン、m−イソプロペニルフェ
ノール、p−イソプロペニルフェノール等の単独または
共重合ポリマー、更にこれらのポリマーの部分エーテル
化もしくは部分エステル化したポリマーも使用できる。
ボキシ基含有モノマーを共重合成分とするポリマー、特
開昭61−267042号記載のカルボキシ基含有ポリ
ビニルアセタール樹脂、特開昭63−124047号公
報記載のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に
使用される。更にまた、N−(4−スルファモイルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−フェニルスルホニルメタ
クリルアミド、マレイミドを共重合成分とするポリマ
ー、特開昭63−127237号公報記載の活性メチレ
ン基含有ポリマーも使用できる。
使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。感
光性組成物中のアルカリ可溶性ポリマーの添加量は、好
ましくは感光性組成物全固形分に対し、10〜90重量
%、更に好ましくは30〜80重量%の範囲である。
じて、前記酸を発生する化合物の光酸発生効率を増大さ
せる化合物(増感剤)、染料、顔料、可塑剤、更に組成
物のアルカリ水溶液への溶解性を調整する目的で公知の
種々の化合物を使用することができる。増感剤として
は、ピレン、ペリレン等の電子供与性化合物、あるいは
メロシアニン色素、シアニン色素等を使用できるが、こ
れらに限定されるものではない。
好ましくはモル比で0.01/1〜20/1、重量比で0.
1/1〜5/1の範囲で使用される。また、本発明のポ
ジ型感光性組成物には着色剤として染料を用いることが
できるが、好適な染料としては油溶性染料および塩基性
染料がある。具体的には、例えばオイルイエロー#10
1、オイルイエロー#130、オイルピンク#312、
オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブラ
ックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−5
05(以上オリエンタル化学工業(株)製)、クリスタ
ルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレッ
ト(CI42535)、ローダミンB(CI45170
B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレ
ンブルー(CI52015)などを挙げることができ
る。
対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%
の割合で感光性組成物中に添加することができる。又本
発明で使用される組成物のアルカリ水溶液への溶解性を
調整する化合物としては、環状酸無水物、その他のフィ
ラーなどを加えることができる。環状酸無水物としては
米国特許第 4,115,128号明細書に記載されているような
無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒド
ロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−テトラヒドロ
無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイ
ン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイ
ン酸、無水コハク酸、ピロメリット酸等がある。これら
の環状酸無水物を好ましくは感光性組成物全固形分に対
し1〜15重量%含有させることによって感度を最大3
倍程度まで高めることができる。
目的で、例えば特開昭62−27829号、特開昭63
−250642号、特開昭63−139343号、特願
平2−177031号、特願平2−1881150号、
特願平2−181151号、特開昭59−45439
号、特開昭63−139343号、特開昭48−890
03号、特開昭51−120714号、特開昭53−1
33429号、特開昭55−126236号、特開平1
−106038号、特開昭64−57258号等に記載
の酸により加水分解され、アルカリ可溶となる化合物を
使用することができる。
版用の材料として使用する場合には上記各成分を溶解す
る溶剤に溶かして、支持体上に塗布する。また、半導体
等のレジスト材料用としては、溶媒に溶解したままで使
用する。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロ
ライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチル
ラクトン、トルエン、酢酸エチルなどがあり、これらの
溶媒を単独あるいは混合して使用する。そして溶媒中の
上記成分(添加物を含む全固形分)の濃度は、好ましく
は2〜50重量%である。また、塗布して使用する場
合、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印
刷版についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g
/m2、またフォトレジストについていえば一般的に固形
分として0.1〜3.0g/m2が好ましい。塗布量が少なく
なるにつれて、感光性は大になるが、感光膜の皮膜特性
は低下する。
印刷版を製造する場合、その支持体としては、例えば、
紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、例えば
アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅な
どのような金属板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記のごとき金
属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラ
スチックフィルムなどが含まれる。これらの支持体のう
ち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しか
も安価であるので特に好ましい。更に特公昭48−18
327号公報に記されているようなポリエチレンテレフ
タレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された
複合体シートも好ましい。アルミニウム板の表面をワイ
ヤブラシングレイニング、研磨粒子のスラリーを注ぎな
がらナイロンブラシ粗面化するブラシグレイニング、ボ
ールグレイニング、液体ホーニングによるグレイニン
グ、バフグレイニング等の機械的方法、HFやAlCl3 、
HCl をエッチャントとするケミカルグレイニング、硝酸
または塩酸を電解液とする電解グレイニングやこれらの
粗面化法を複合させて行った複合グレイニングによって
表面を砂目立てした後、必要に応じて酸またはアルカリ
によりエッチング処理され、引き続き硫酸、リン酸、ホ
ウ酸、クロム酸、スルファミン酸またはこれらの混酸中
で直流または交流電源にて陽極酸化を行い、アルミニウ
ム表面に強固な不動態皮膜を設けたものが好ましい。こ
のような不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水化さ
れてしまうが、更に必要に応じて米国特許第 2,714,066
号明細書や米国特許第 3,181,461号明細書に記載されて
いる珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米
国特許第 2,946,638号明細書に記載されているフッ化ジ
ルコニウム酸カリウム処理、米国特許第 3,201,247号明
細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特
許第 1,108,559号明細書に記載されているアルキルチタ
ネート処理、独国特許第 1,091,443号明細書に記載され
ているポリアクリル酸処理、独国特許第 1,134,093号明
細書や英国特許第 1,230,447号明細書に記載されている
ポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公
報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第 3,30
7,951号明細書に記載されているフイチン酸処理、特開
昭58−16893号や特開昭58−16291号の各
公報に記載されている親水性有機高分子化合物と2価の
金属イオンとの錯体による下塗処理、特開昭59−10
1651号公報に記載されているスルホン酸基を有する
水溶性重合体の下塗によって親水化処理を行ったものは
特に好ましい。その他の親水化処理方法としては、米国
特許第3,658,662 号明細書に記載されているシリケート
電着を挙げることができる。
技術により上記の支持体上に塗布される。上記の塗布技
術の例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、デ
ィップ塗布法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブ
レード塗布法、カーテン塗布法及びスプレー塗布法等を
挙げることができる。上記のようにして塗布されたポジ
型感光性組成物層は、40〜150℃で30秒〜10分
間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥される。
を施したものが好ましい。かかる封孔処理は熱水および
無機塩または有機塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸
気浴などによって行われる。本発明のポジ型感光性組成
物をフォトレジストとして使用する場合には銅板又は銅
メッキ板、シリコン板、ステンレス板、ガラス板等の種
々の材質の基板を支持体として用いることができる。
平版印刷版及びフォトレジスト等は、通常、像露光、現
像工程を施される。像露光に用いられる活性光線の光源
としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キ
セノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯など
がある。放射線としては、電子線、X線、イオンビー
ム、遠紫外線などがある。フォトレジスト用の光源とし
ては、g線、i線、Deep−UV光が好ましく使用され
る。また高密度エネルギービーム(レーザービームまた
は電子線)による走査露光も本発明に使用することがで
きる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・ネ
オンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオンレ
ーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシ
マレーザーなどが挙げられる。
る現像液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン
酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのよう
な無機アルカリ剤およびテトラアルキルアンモニウムハ
イドライドなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当
であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好ましくは
0.5〜5重量%になるように添加される。
じて界面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒を加
えることもできる。
光性を有し、かつ、広範囲の波長光の使用が可能であ
る。
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。 〔実施例1〜10〕厚さ0.24mmの2Sアルミニウム板
を80℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に
3分間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした
後、アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングし
て、硫酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を
行った。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度
2A/dm2 において2分間陽極酸化を行った。
下記処方のとおりに8種類の感光液〔A〕−1〜〔A〕
−10を調製した。この感光液を陽極酸化したアルミ板
上に塗布し、100℃で2分間乾燥してそれぞれの感光
性平版印刷版を作製した。このときの塗布量は全て乾燥
重量で1.5g/m2になるように調整した。 感光液処方〔A〕 表1のアルカリ可溶性樹脂 0.2g 表1のビニルエーテル化合物 0.08g 表1の光酸発生剤 0.002g ジオキサン 1.5g メタノール 0.75g 得られた感光性平版印刷版の感光層上に濃度差0.15の
グレースケールを密着させ、2KWの高圧水銀灯で50
cmの距離から2分間露光を行った。露光した感光性平版
印刷版を100℃で10分加熱した後、DP−4(商品
名:富士写真フィルム(株)製)の8倍希釈水溶液で2
5℃において60秒間浸漬現像したところ、すべて鮮明
なポジ画像が得られた。結果を表1に示す。
下記感光液〔B〕をスピンナーで塗布し、ホットプレー
ト上で90℃において2分間乾燥させ、乾燥時の膜厚が
1μになるように調整した。
縮小投影露光装置(ステッパー)を用いて露光し、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシドの2.4%水溶液で6
0秒間現像することにより、レジストパターンを形成さ
せた。その結果、すべてのサンプルにおいて0.8μmの
ライン&スペースの良好なパターンが得られた。
ラスマスクを通して、密着露光方式で254nmの紫外線
を照射し、その後実施例12と同様に現像を行ったとこ
ろ、0.7μmのライン&スペースの良好なパターンが得
られた。 〔比較例1〜3〕実施例3において、ビニルエーテル化
合物(a−7)を表3のエノールエーテル基を含有する
化合物に代えた他は全く同様に実施例3を繰り返し実施
した。いずれにおいてもポジ画像が得られ、その時のグ
レースケールの段数を表3に示す。
組成物は比較例に比べ高感度であり、鮮明なポジ画像が
得られることが明らかである。
Claims (2)
- 【請求項1】 (a)活性水素含有ビニルエーテル化合
物とイソシアナート基を有する化合物との反応生成物で
あるビニルエーテル基含有化合物と、 (b)活性光線または放射線の照射により分解して酸を
発生する化合物と、 (c)アルカリ可溶性ポリマーを含有し、 前記ビニルエーテル基含有化合物100重量部に対す
る、前記活性光線または放射線の照射により分解して酸
を発生する化合物の割合が、0.1〜20重量部である
ことを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 【請求項2】 前記ビニルエーテル基含有化合物100
重量部に対する、前記活性光線または放射線の照射によ
り分解して酸を発生する化合物の割合が、2.5〜20
重量部である請求項1記載のポジ型感光性組成物。
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1991
- 1991-10-07 JP JP3259431A patent/JP2668608B2/ja not_active Expired - Fee Related
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