JPS6127735B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、画像形成材料の処理方法に関するも
のであり、特に感光性樹脂組成物層を有する画像
形成材料を露光後現像したのち画像の処理方法に
関するものである。
のであり、特に感光性樹脂組成物層を有する画像
形成材料を露光後現像したのち画像の処理方法に
関するものである。
感光性樹脂を用いた画像形成材料を画像露光後
現像液を用いて現像した場合、感光層の現像のさ
れ方には感光層が現像液に完全に溶解する型と感
光層が現像液によつて一部溶解したり、変質した
りして感光層が支持体から脱落する型がある。こ
の現像のされ方の型は感光層を構成する感光性樹
脂と現像液の種類や組合もによるので、どの感光
性樹脂がいずれの型に属するかは一概には決めら
れないが、現像液からすれば一般には有機溶剤に
よつて現像する感光性樹脂は前記の溶解型が多
く、アルカリ性溶液によつて現像する感光性樹脂
の多くは後記の脱膜型であるといえる。上述した
ような脱膜型の現像の場合には、一般に感光材料
を現像液中に浸漬している最中や水洗する工程中
でその感光層の面を軟い回転ブラシなどの装置に
よつて擦り、脱落させるべき部分の感光層を完全
に脱膜させることが必要である。そのため従来の
自動現像機には、そのような擦り装置が設備され
ているのが普通で、そのために現像機の大型化や
価格の上昇、保守点検個所の増加などの問題を生
じている。
現像液を用いて現像した場合、感光層の現像のさ
れ方には感光層が現像液に完全に溶解する型と感
光層が現像液によつて一部溶解したり、変質した
りして感光層が支持体から脱落する型がある。こ
の現像のされ方の型は感光層を構成する感光性樹
脂と現像液の種類や組合もによるので、どの感光
性樹脂がいずれの型に属するかは一概には決めら
れないが、現像液からすれば一般には有機溶剤に
よつて現像する感光性樹脂は前記の溶解型が多
く、アルカリ性溶液によつて現像する感光性樹脂
の多くは後記の脱膜型であるといえる。上述した
ような脱膜型の現像の場合には、一般に感光材料
を現像液中に浸漬している最中や水洗する工程中
でその感光層の面を軟い回転ブラシなどの装置に
よつて擦り、脱落させるべき部分の感光層を完全
に脱膜させることが必要である。そのため従来の
自動現像機には、そのような擦り装置が設備され
ているのが普通で、そのために現像機の大型化や
価格の上昇、保守点検個所の増加などの問題を生
じている。
本発明者らは、上述したごとき従来の自動現像
機にあつた問題を、適用する感光材料の面で解決
すべく研究を重ねた結果本発明をなすに至つたも
のである。すなわち、本発明は、支持体上に感光
性樹脂組成物層を有する画像形成材料を画像状に
露光し、アルカリ性水溶液を用いて現像したの
ち、1価のアルコール、アルキレングリコールア
ルキルエーテルおよびアルキレングリコールアリ
ールエーテルから選ばれた少くとも1種の水と混
合しうる有機溶剤または該有機溶剤の少くとも1
種と水との混液で処理することを特徴とする画像
〓〓〓〓〓
形成材料の処理方法である。
機にあつた問題を、適用する感光材料の面で解決
すべく研究を重ねた結果本発明をなすに至つたも
のである。すなわち、本発明は、支持体上に感光
性樹脂組成物層を有する画像形成材料を画像状に
露光し、アルカリ性水溶液を用いて現像したの
ち、1価のアルコール、アルキレングリコールア
ルキルエーテルおよびアルキレングリコールアリ
ールエーテルから選ばれた少くとも1種の水と混
合しうる有機溶剤または該有機溶剤の少くとも1
種と水との混液で処理することを特徴とする画像
〓〓〓〓〓
形成材料の処理方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明の方法により処理される画像形成
材料の構成であるが、支持体は材料を一定のシー
ト状又はフイルム状の形を呈し、かつ現像および
本発明の方法により処理されて形成された画像を
その表面に担持する機能を有するものである。支
持体としては、ポリマー、紙、ガラス、金属のシ
ート又はフイルムをあげることができる。このポ
リマーとしては、再生セルロース、硬質ゴム、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セル
ロースアセテートブチレート、セルロースニトレ
ート等のセルロースエステル類、ポリエチレンテ
レフタレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
エニルプロパン)のポリカルボナート等のポリエ
ステル類、ナイロン−6(ポリカプロアミド)、
ナイロン−6,6(ポリヘキサメチレンアジボア
ミド)、ナイロン−6,10(ポリヘキサメチレン
セバカミド)、ナイロン−11(ウンデカンアミ
ド)等のポリアミド類、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリメチルアクリレー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルクロリド、アクリロニトリル
−ブタジエン−スチレンコポリマー、アクリロニ
トリル−スチレンコポリマー、ビニリデンクロリ
ド−ビニルクロリロコポリマー、ポリテトラフル
オロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプ
ロピレンコポリマー等のビニル化合物のポリマー
等を、金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、
ニツケル、鉄、クロム、チタン、金、鉄、白金、
アルミニウム−マグネシウム合金、アルミニウム
−銅合金、アルミニウム−亜鉛合金、鉄−ニツケ
ル−クロム合金に代表されるステンレス鋼合金
類、燐青銅合金、銅−錫合金等をあげることがで
きる。その他にソーダガラス、石英ガラス、各種
の光学ガラス類、各類のセラミツクス類をあげる
ことができる。これらの素材からなるフイルム、
シート、これらの材料からなるフイルム、シート
を積層した薄板、ガラス繊維、ポリマー繊維、天
然繊維、アスベスト繊維、金属繊維又は炭素繊維
を混入したポリマー又はガラスの薄板、ポリマー
の薄層を表面に設けた繊維、ポリマーを含浸した
紙も支持体として用いることができる。
材料の構成であるが、支持体は材料を一定のシー
ト状又はフイルム状の形を呈し、かつ現像および
本発明の方法により処理されて形成された画像を
その表面に担持する機能を有するものである。支
持体としては、ポリマー、紙、ガラス、金属のシ
ート又はフイルムをあげることができる。このポ
リマーとしては、再生セルロース、硬質ゴム、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セル
ロースアセテートブチレート、セルロースニトレ
ート等のセルロースエステル類、ポリエチレンテ
レフタレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
エニルプロパン)のポリカルボナート等のポリエ
ステル類、ナイロン−6(ポリカプロアミド)、
ナイロン−6,6(ポリヘキサメチレンアジボア
ミド)、ナイロン−6,10(ポリヘキサメチレン
セバカミド)、ナイロン−11(ウンデカンアミ
ド)等のポリアミド類、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリメチルアクリレー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルクロリド、アクリロニトリル
−ブタジエン−スチレンコポリマー、アクリロニ
トリル−スチレンコポリマー、ビニリデンクロリ
ド−ビニルクロリロコポリマー、ポリテトラフル
オロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプ
ロピレンコポリマー等のビニル化合物のポリマー
等を、金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、
ニツケル、鉄、クロム、チタン、金、鉄、白金、
アルミニウム−マグネシウム合金、アルミニウム
−銅合金、アルミニウム−亜鉛合金、鉄−ニツケ
ル−クロム合金に代表されるステンレス鋼合金
類、燐青銅合金、銅−錫合金等をあげることがで
きる。その他にソーダガラス、石英ガラス、各種
の光学ガラス類、各類のセラミツクス類をあげる
ことができる。これらの素材からなるフイルム、
シート、これらの材料からなるフイルム、シート
を積層した薄板、ガラス繊維、ポリマー繊維、天
然繊維、アスベスト繊維、金属繊維又は炭素繊維
を混入したポリマー又はガラスの薄板、ポリマー
の薄層を表面に設けた繊維、ポリマーを含浸した
紙も支持体として用いることができる。
支持体は透明でも不透明でもよい。不透明な支
持体を用いる場合には、紙又は金属のように本来
不透明なものの他に、透明なポリマーシート又は
フイルムに染料又は酸化チタン、酸化亜鉛、カー
ボンブラツク等の顔料を混入したもの、または特
公昭47−19086号明細書に記載されているような
方法で表面処理したものを用いることができる。
また支持体表面をコロナ放電処理、紫外線照射処
理、火焔処理、ケミカルエツチング、電解エツチ
ング、砂目立て等の表面処理をした支持体を用い
ることもできる。さらにアルミニウム支持体を用
いる場合には表面を陽極酸化処理したもの又は砂
目てした後に陽極酸化したものを用いることがで
きる。
持体を用いる場合には、紙又は金属のように本来
不透明なものの他に、透明なポリマーシート又は
フイルムに染料又は酸化チタン、酸化亜鉛、カー
ボンブラツク等の顔料を混入したもの、または特
公昭47−19086号明細書に記載されているような
方法で表面処理したものを用いることができる。
また支持体表面をコロナ放電処理、紫外線照射処
理、火焔処理、ケミカルエツチング、電解エツチ
ング、砂目立て等の表面処理をした支持体を用い
ることもできる。さらにアルミニウム支持体を用
いる場合には表面を陽極酸化処理したもの又は砂
目てした後に陽極酸化したものを用いることがで
きる。
支持体の厚さは金属画像の用途によつて適宜に
選定することができる。一般的には支持体の厚さ
は約10μmから2mmまでの範囲、好ましくは約15
μmから約0.5mmまでの範囲である。当然のこと
であるが、支持体の厚さが上記の範囲より厚いシ
ート状又はフイルム状支持体を用いることもでき
るし、また他の形の支持体を用いることもでき
る。
選定することができる。一般的には支持体の厚さ
は約10μmから2mmまでの範囲、好ましくは約15
μmから約0.5mmまでの範囲である。当然のこと
であるが、支持体の厚さが上記の範囲より厚いシ
ート状又はフイルム状支持体を用いることもでき
るし、また他の形の支持体を用いることもでき
る。
次に画像形成材料の感光性樹脂組成物層である
が、その素材である感光性樹脂組成物としては
オルトキノンジアジド類とノボラツク樹脂とを組
合せた感光性樹脂、アジド化合物と、天然ゴ
ム、合成ゴム又はそれらの環化ゴムとを組合せた
ゴム−アジド系感光性樹脂、アジド基を分子の
中に組み入れた感光性樹脂、桂皮酸系感光性樹
脂、エチレン性不飽和二種結合を有する化合物
を含有する光重合性感光性樹脂などのフオトエッ
チング用レジストとして用いられる各種の感光性
樹脂組成物を挙げることができる。
が、その素材である感光性樹脂組成物としては
オルトキノンジアジド類とノボラツク樹脂とを組
合せた感光性樹脂、アジド化合物と、天然ゴ
ム、合成ゴム又はそれらの環化ゴムとを組合せた
ゴム−アジド系感光性樹脂、アジド基を分子の
中に組み入れた感光性樹脂、桂皮酸系感光性樹
脂、エチレン性不飽和二種結合を有する化合物
を含有する光重合性感光性樹脂などのフオトエッ
チング用レジストとして用いられる各種の感光性
樹脂組成物を挙げることができる。
これらの感光性樹脂組成物を詳細に述べるに、
オルトキノンジアジド類とノボラツク樹脂と
を組合せた感光性樹脂としては、2,3,4−
トリオキシベンゾフエノン−ビス(ナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5,5−スルホン酸エ
ステル)、2−(ナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホニルオキシ)−ヒドロキシ−7
−ナフタリン、ナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルフアニリド、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−5−スルホン酸ノボラツクエス
〓〓〓〓〓
テルなどのオルトキノンジアジド類をノボラツ
ク樹脂と組み合せた感光性樹脂を挙げることが
できる。このオルトキノンジアジド類は光を受
けるとアルカリ可溶性になるのでポジテイブワ
ーキング用素材として重要である。
を組合せた感光性樹脂としては、2,3,4−
トリオキシベンゾフエノン−ビス(ナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5,5−スルホン酸エ
ステル)、2−(ナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホニルオキシ)−ヒドロキシ−7
−ナフタリン、ナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルフアニリド、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−5−スルホン酸ノボラツクエス
〓〓〓〓〓
テルなどのオルトキノンジアジド類をノボラツ
ク樹脂と組み合せた感光性樹脂を挙げることが
できる。このオルトキノンジアジド類は光を受
けるとアルカリ可溶性になるのでポジテイブワ
ーキング用素材として重要である。
ゴム−アジド系感光性樹脂としては、p−フ
エニレンビスアジド、p−アジドベンゾフエノ
ン、4,4′−ジアジドベンゾフエノン、4,
4′−ジアジドフエニルメタン、4,4′−ジアジ
ドスチルベン、4,4′−ジアジドカルコン、
2,6−ジ−(4′−アジドベンザル)シクロヘ
キサノン、2,6−ジ−(4′−アジドベンザ
ル)−4−メチルシクロヘキサノンなどのアジ
ド化合物と、天然ゴム、合成ゴム又はそれらを
環化したゴムとを組合せた感光性樹脂を挙げる
ことができる。
エニレンビスアジド、p−アジドベンゾフエノ
ン、4,4′−ジアジドベンゾフエノン、4,
4′−ジアジドフエニルメタン、4,4′−ジアジ
ドスチルベン、4,4′−ジアジドカルコン、
2,6−ジ−(4′−アジドベンザル)シクロヘ
キサノン、2,6−ジ−(4′−アジドベンザ
ル)−4−メチルシクロヘキサノンなどのアジ
ド化合物と、天然ゴム、合成ゴム又はそれらを
環化したゴムとを組合せた感光性樹脂を挙げる
ことができる。
アジド基を分子の中に組み入れた感光性樹脂
としては、ポリアジド安息香酸ビニル、ポリア
ジドフタル酸ビニル、ポリアジドスチレン、ポ
リビニルアジドベンサルアセタール、ポリビニ
ルアジドナフチルアセタール、アジドベンズア
ルデヒド、フエノール樹脂、アジドジフエニル
アミンホルマリン縮合重合体、ポリビニルアル
コールのアジド高分子、部分的に加水分解した
セルロースアセテートのアジドフタレートのご
ときセルロースのアジド高分子、及びゼラチン
やカゼインのアジド高分子などを挙げることが
できる。
としては、ポリアジド安息香酸ビニル、ポリア
ジドフタル酸ビニル、ポリアジドスチレン、ポ
リビニルアジドベンサルアセタール、ポリビニ
ルアジドナフチルアセタール、アジドベンズア
ルデヒド、フエノール樹脂、アジドジフエニル
アミンホルマリン縮合重合体、ポリビニルアル
コールのアジド高分子、部分的に加水分解した
セルロースアセテートのアジドフタレートのご
ときセルロースのアジド高分子、及びゼラチン
やカゼインのアジド高分子などを挙げることが
できる。
桂皮酸系感光性樹脂としては、ポリ桂皮酸ビ
ニル、ポリ(m−ニトロ桂皮酸ビニル)、ポリ
−α−シアノ桂皮酸ビニル、ポリ−α−ニトロ
桂皮酸ビニル、ポリ−β−ニトロ桂皮酸ビニ
ル、ポリ−α−クロロ桂皮酸ビニル、ポリ−β
−クロロ桂皮酸ビニル、ポリシンナミリデン酢
酸ビニル、ポリビニルオキシエチルシンナメー
ト、ポリビニルチオエチルシンナメート、ポリ
(2−シンナモイルオキシエチルアクリレー
ト)、ポリ(2−シンナモイルオキシエチルメ
タアクリレート)、ポリ(シンナモイルオキシ
酢酸ビニル)、ポリ(p−シンナモイルオキシ
ビニルベンゼン)、ポリ(p−シンナモイルス
チレン)等のビニル重合体、これらと他の重合
体との共重合体;ポリ桂皮酸グリシジル、ポリ
シンナミリデン酢酸グリシジル等のオキシラン
類の開環重合体;側鎖にハロゲン化アルキルを
含む重合体に感光基を有するカルボン酸塩を非
プロトン性極性溶媒中で、高分子反応を行つて
全部あるいは部分的に感光基を導入した重合
体、例えばポリクロルエチルビニルエーテル、
ポリクロル酢酸ビニル、ポリ(β−クロルエチ
ルアクリル酸エステル)、ポリエピクロルヒド
リン、ポリエピブロムヒドリン等に桂皮酸若し
くはその誘導体の塩を反応させて得た重合体;
ビニルエーテル類のカチオン重合体、例えばポ
リビニルオキシエチルシンナメートなどを挙げ
ることができる。
ニル、ポリ(m−ニトロ桂皮酸ビニル)、ポリ
−α−シアノ桂皮酸ビニル、ポリ−α−ニトロ
桂皮酸ビニル、ポリ−β−ニトロ桂皮酸ビニ
ル、ポリ−α−クロロ桂皮酸ビニル、ポリ−β
−クロロ桂皮酸ビニル、ポリシンナミリデン酢
酸ビニル、ポリビニルオキシエチルシンナメー
ト、ポリビニルチオエチルシンナメート、ポリ
(2−シンナモイルオキシエチルアクリレー
ト)、ポリ(2−シンナモイルオキシエチルメ
タアクリレート)、ポリ(シンナモイルオキシ
酢酸ビニル)、ポリ(p−シンナモイルオキシ
ビニルベンゼン)、ポリ(p−シンナモイルス
チレン)等のビニル重合体、これらと他の重合
体との共重合体;ポリ桂皮酸グリシジル、ポリ
シンナミリデン酢酸グリシジル等のオキシラン
類の開環重合体;側鎖にハロゲン化アルキルを
含む重合体に感光基を有するカルボン酸塩を非
プロトン性極性溶媒中で、高分子反応を行つて
全部あるいは部分的に感光基を導入した重合
体、例えばポリクロルエチルビニルエーテル、
ポリクロル酢酸ビニル、ポリ(β−クロルエチ
ルアクリル酸エステル)、ポリエピクロルヒド
リン、ポリエピブロムヒドリン等に桂皮酸若し
くはその誘導体の塩を反応させて得た重合体;
ビニルエーテル類のカチオン重合体、例えばポ
リビニルオキシエチルシンナメートなどを挙げ
ることができる。
桂皮酸系感光性樹脂のうち、米国特許第
3030208号明細書に記載されている不飽和感光
性ポリエステル化合物と下記の化学構造式によ
つて表わされる感光性樹脂との混合物はきわめ
て好適なものである。後者の感光性樹脂は、 −CH2−CR1−COOR2−CO(−CR3=CH)a
(CH=CH)bR4 (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、ニ
トリル基、又は低級アルキル基、R2は2価の
脂肪族基、R3は水素原子又はニトリル基、R4
は芳香核、a及びbは0又は1で、かつa+b
は1又は2である。)及びアクリル酸又はメタ
クリル酸を単位とする重合物である。
3030208号明細書に記載されている不飽和感光
性ポリエステル化合物と下記の化学構造式によ
つて表わされる感光性樹脂との混合物はきわめ
て好適なものである。後者の感光性樹脂は、 −CH2−CR1−COOR2−CO(−CR3=CH)a
(CH=CH)bR4 (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、ニ
トリル基、又は低級アルキル基、R2は2価の
脂肪族基、R3は水素原子又はニトリル基、R4
は芳香核、a及びbは0又は1で、かつa+b
は1又は2である。)及びアクリル酸又はメタ
クリル酸を単位とする重合物である。
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を
含有する光重合性感光性樹脂の例としては、モ
ノマーと結合体(バインダー)に関して米国特
許第2760863号および第3060026号明細書などに
詳述されている。モノマーの一例として多価ア
ルコールのアクリル酸エステル及びメタクリル
酸エステルが適当であり、たとえばエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、プロピレングリコール、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリトリトー
ル、ネオペンチルグリコール等のアクリル酸あ
るいはメタクリル酸エステルを例として挙げる
ことができる。ビスフエノールAから変性誘導
されたアクリル酸のエステル、例えばビスフエ
ノールA−エピクロルヒドリン系エポキシ樹脂
プレポリマーとアクリル酸あるいはメタクリル
酸との反応生成物、ビスフエノールAのアルキ
レンオキシド付加体あるいはその水素添加物の
アクリル酸、メタクリル酸エステル等も使用し
〓〓〓〓〓
得る。その他メチレンビスアクリルアミド、エ
チレンビスアクリルアミドならびにエチレンジ
アミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミ
ン、ペンタメチレンジアミン等のジアミンのビ
スアクリルアミド又はビスメタクリルアミド、
ジオールモノアクリレートもしくはジオールモ
ノメタクリレートとジイソシアネートとの反応
生成物、トリアクリルホルマール又はトリアリ
ルシアヌレート等も使用することができる。モ
ノマーは後述のバインダーポリマーおよび光重
合開始剤をあわせた光重合性感光性樹脂組成物
全量の約10重量%から約99重量%、好ましくは
約20重量%から約50重量%までの範囲である。
含有する光重合性感光性樹脂の例としては、モ
ノマーと結合体(バインダー)に関して米国特
許第2760863号および第3060026号明細書などに
詳述されている。モノマーの一例として多価ア
ルコールのアクリル酸エステル及びメタクリル
酸エステルが適当であり、たとえばエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、プロピレングリコール、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリトリトー
ル、ネオペンチルグリコール等のアクリル酸あ
るいはメタクリル酸エステルを例として挙げる
ことができる。ビスフエノールAから変性誘導
されたアクリル酸のエステル、例えばビスフエ
ノールA−エピクロルヒドリン系エポキシ樹脂
プレポリマーとアクリル酸あるいはメタクリル
酸との反応生成物、ビスフエノールAのアルキ
レンオキシド付加体あるいはその水素添加物の
アクリル酸、メタクリル酸エステル等も使用し
〓〓〓〓〓
得る。その他メチレンビスアクリルアミド、エ
チレンビスアクリルアミドならびにエチレンジ
アミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミ
ン、ペンタメチレンジアミン等のジアミンのビ
スアクリルアミド又はビスメタクリルアミド、
ジオールモノアクリレートもしくはジオールモ
ノメタクリレートとジイソシアネートとの反応
生成物、トリアクリルホルマール又はトリアリ
ルシアヌレート等も使用することができる。モ
ノマーは後述のバインダーポリマーおよび光重
合開始剤をあわせた光重合性感光性樹脂組成物
全量の約10重量%から約99重量%、好ましくは
約20重量%から約50重量%までの範囲である。
バインダーとしては、前述の米国特許明細書等
に記載されている種々のポリマーを用いることが
できる。感光性樹脂組成物層の現像にいかなる現
像液を用いうるかは、バインダーポリマーの現像
液に対する溶解度に大いに依存し、かつ、環境衛
生上、現像液中に多量の有機溶剤を含有すること
は好ましふないので、バインダーポリマーとして
は、アルカリ水溶液に可溶か又は膨潤しうる、カ
ルボキシル基又は水酸基等を含有するポリマーが
好ましい。このようなポリマーの例としては、ま
ず、1種またはそれ以上のアルキルアクリレート
30〜94モル%および1種またはそれ以上のα,β
−エチレン性不飽和カルボン酸から製造され、さ
らに好適には2種のアルキルアクリレート61〜94
モル%およびα,β−エチレン性不飽和カルボン
酸から製造される遊離カルボン酸基を含有するビ
ニル付加重合体をあげることができる。前記重合
体状結合剤の製造用として適当なアルキルアクリ
レートはメチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、ブチルメタクリレート等を包含する。適当な
α,β−エチレン性不飽和カルボン酸はアクリル
酸、メタクリル酸等を包含する。以上のタイプの
結合剤ならびにその製造に関してはドイツ特許出
願公開公報(OLS)第2320849号に記載されてい
る。英国特許第1361298号明細書に詳述されてい
るような、(1)スチレン−タイプのビニル単量体と
(2)不飽和カルボキシル基含有単量体との共重合体
である予形成された相容性の巨大分子重合体結合
剤をもあげることができる。また特開昭52−
99810号およびベルギー特許第828237号等の明細
書に記載された2種のポリマー混合物をもあげる
ことができる。2種のポリマーのうち、第1のタ
イプは酢酸ビニルおよびクロトン酸の共重合体、
アクリル酸エチル、メタクリル酸メチルおよびア
クリル酸のテルポリマーおよびセルロースアセテ
ートスクシネートから選択されるのが好適であ
る。第2のタイプはトルエンスルホンアミドホル
ムアルデヒド、メタクリル酸メチルとメタクリル
酸とのコポリマー、メタクリル酸ベンジルとメタ
クリル酸とのコポリマー、メタクリル酸メチル、
アクリル酸エチルおよび水素マレエートのテルポ
リマー、塩化ビニル、酢酸ビニルおよびマレイン
酸のテルポリマー、スチレンおよび無水マレイン
酸のコポリマー、ならびにメタクリル錯メチル、
アクリル酸エチルおよびメタクリル酸のテルポリ
マーから選択されるのが好ましい。
に記載されている種々のポリマーを用いることが
できる。感光性樹脂組成物層の現像にいかなる現
像液を用いうるかは、バインダーポリマーの現像
液に対する溶解度に大いに依存し、かつ、環境衛
生上、現像液中に多量の有機溶剤を含有すること
は好ましふないので、バインダーポリマーとして
は、アルカリ水溶液に可溶か又は膨潤しうる、カ
ルボキシル基又は水酸基等を含有するポリマーが
好ましい。このようなポリマーの例としては、ま
ず、1種またはそれ以上のアルキルアクリレート
30〜94モル%および1種またはそれ以上のα,β
−エチレン性不飽和カルボン酸から製造され、さ
らに好適には2種のアルキルアクリレート61〜94
モル%およびα,β−エチレン性不飽和カルボン
酸から製造される遊離カルボン酸基を含有するビ
ニル付加重合体をあげることができる。前記重合
体状結合剤の製造用として適当なアルキルアクリ
レートはメチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、ブチルメタクリレート等を包含する。適当な
α,β−エチレン性不飽和カルボン酸はアクリル
酸、メタクリル酸等を包含する。以上のタイプの
結合剤ならびにその製造に関してはドイツ特許出
願公開公報(OLS)第2320849号に記載されてい
る。英国特許第1361298号明細書に詳述されてい
るような、(1)スチレン−タイプのビニル単量体と
(2)不飽和カルボキシル基含有単量体との共重合体
である予形成された相容性の巨大分子重合体結合
剤をもあげることができる。また特開昭52−
99810号およびベルギー特許第828237号等の明細
書に記載された2種のポリマー混合物をもあげる
ことができる。2種のポリマーのうち、第1のタ
イプは酢酸ビニルおよびクロトン酸の共重合体、
アクリル酸エチル、メタクリル酸メチルおよびア
クリル酸のテルポリマーおよびセルロースアセテ
ートスクシネートから選択されるのが好適であ
る。第2のタイプはトルエンスルホンアミドホル
ムアルデヒド、メタクリル酸メチルとメタクリル
酸とのコポリマー、メタクリル酸ベンジルとメタ
クリル酸とのコポリマー、メタクリル酸メチル、
アクリル酸エチルおよび水素マレエートのテルポ
リマー、塩化ビニル、酢酸ビニルおよびマレイン
酸のテルポリマー、スチレンおよび無水マレイン
酸のコポリマー、ならびにメタクリル錯メチル、
アクリル酸エチルおよびメタクリル酸のテルポリ
マーから選択されるのが好ましい。
光重合性感光性樹脂組成物にはさらに光重合開
始剤が含有される。光重合開始剤としては、
Jaromir Kosar著「Light−Sensitive Systems」
(John Wiley and Sons.、Inc.、New York、
1965年発行)第5章、米国特許第2760863号、同
第3060023号、同第3148118号(特公昭49−24228
号に対応)、特公昭44−20067号等の各明細書等に
記載されている化合物を用いることができる。
始剤が含有される。光重合開始剤としては、
Jaromir Kosar著「Light−Sensitive Systems」
(John Wiley and Sons.、Inc.、New York、
1965年発行)第5章、米国特許第2760863号、同
第3060023号、同第3148118号(特公昭49−24228
号に対応)、特公昭44−20067号等の各明細書等に
記載されている化合物を用いることができる。
感光性樹脂組成物には、公知の染料や顔料を含
有させて着色することができる。
有させて着色することができる。
上述の感光性樹脂組成物のうちで本発明の方法
で処理される材料の感光性樹脂組成物層に用いる
組成物としては、光重合性感光性樹脂組成物(以
下、光重合性組成物という。)が好ましい。
で処理される材料の感光性樹脂組成物層に用いる
組成物としては、光重合性感光性樹脂組成物(以
下、光重合性組成物という。)が好ましい。
感光性樹脂組成物層の厚さは、約0.1μmから
約1mmまで、好ましくは約0.2μmから約50μm
まで、最も好ましくは約0.5μmから約10μmま
での範囲である。
約1mmまで、好ましくは約0.2μmから約50μm
まで、最も好ましくは約0.5μmから約10μmま
での範囲である。
なお、感光性樹脂組成物層の上には、特公開昭
52−109926号、特公昭46−32714号各明細書等に
記載されている高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、
炭素原子数25以上の固体炭化水素、ポリビニルア
ルコール、88〜99%加水分解したポリ酢酸ビニ
ル、エチレンオキシド重合体、ゼラチン、アラビ
アゴム、ロジン等の有機化合物からなり、厚さが
約0.1μmから約3μmまで、好ましくは約0.2μ
mから約2μmまでの範囲の、保護層を有してい
〓〓〓〓〓
てもよい。
52−109926号、特公昭46−32714号各明細書等に
記載されている高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、
炭素原子数25以上の固体炭化水素、ポリビニルア
ルコール、88〜99%加水分解したポリ酢酸ビニ
ル、エチレンオキシド重合体、ゼラチン、アラビ
アゴム、ロジン等の有機化合物からなり、厚さが
約0.1μmから約3μmまで、好ましくは約0.2μ
mから約2μmまでの範囲の、保護層を有してい
〓〓〓〓〓
てもよい。
本発明の方法により処理される画像形成材料の
うちには、支持体と感光性樹脂組成物層との間に
金属薄層を有するものがある。かかる金属層とし
ては、従来公知のアルカリ性エツチング処理液に
よつてエツチングされ得る金属によつて形成され
た層であり、該金属としてはたとえば特開昭50−
139720号公報に詳記されているアルミニウムを主
体とする金属や特開昭48−65927号、同48−65928
号、同50−2925号及び同50−14161号の各公報に
記載されているごときテルル、モリブデン、ポロ
ニウム、コバルト、亜鉛、銅、ニツケル、鉄、
錫、バナジウム、ゲルマニウム、など、およびこ
れらの合金を挙げることができる。この金属層の
厚さは得られる画像に必要な光学濃度によつて決
まつてくるが両者はほぼ比例関係にあり、たとえ
ば画像が線画や網点の場合は比較的高濃度が必要
であつて少なくとも光学濃度で2.0以上、特に画
像PSを印刷版に焼き付けを行なうためのマスク
として用いる場合には少なくとも3.0の光学濃度
が必要であるので、それに相応した厚さに決める
のである。一例として、金属層としてアルミニウ
ム−鉄合金の真空蒸着の場合、光学濃度が2.0を
得るには約40nmの厚さとする必要があり、また
光学濃度3.0を得るには約60nmの厚さとする必要
がある。この金属の厚さと光学濃度との関係は、
金属層を形成させる方法たとえば真空蒸着の条件
によつて多少異なることはあるが大体においてほ
ぼ同様である。所望の光学濃度を得るために金属
層の厚さを必要以上にすることは特に禁止される
ことはないが、金属層の素材の浪費や画像形成の
ためのエツチングに過大な時間が要することにな
るので望ましいことではない。さらに過大なエツ
チング時間のために感光性樹脂組成物層を劣化さ
せることがあることを考慮すれば金属層の必要以
上の厚さはむしろ避けるべきである。
うちには、支持体と感光性樹脂組成物層との間に
金属薄層を有するものがある。かかる金属層とし
ては、従来公知のアルカリ性エツチング処理液に
よつてエツチングされ得る金属によつて形成され
た層であり、該金属としてはたとえば特開昭50−
139720号公報に詳記されているアルミニウムを主
体とする金属や特開昭48−65927号、同48−65928
号、同50−2925号及び同50−14161号の各公報に
記載されているごときテルル、モリブデン、ポロ
ニウム、コバルト、亜鉛、銅、ニツケル、鉄、
錫、バナジウム、ゲルマニウム、など、およびこ
れらの合金を挙げることができる。この金属層の
厚さは得られる画像に必要な光学濃度によつて決
まつてくるが両者はほぼ比例関係にあり、たとえ
ば画像が線画や網点の場合は比較的高濃度が必要
であつて少なくとも光学濃度で2.0以上、特に画
像PSを印刷版に焼き付けを行なうためのマスク
として用いる場合には少なくとも3.0の光学濃度
が必要であるので、それに相応した厚さに決める
のである。一例として、金属層としてアルミニウ
ム−鉄合金の真空蒸着の場合、光学濃度が2.0を
得るには約40nmの厚さとする必要があり、また
光学濃度3.0を得るには約60nmの厚さとする必要
がある。この金属の厚さと光学濃度との関係は、
金属層を形成させる方法たとえば真空蒸着の条件
によつて多少異なることはあるが大体においてほ
ぼ同様である。所望の光学濃度を得るために金属
層の厚さを必要以上にすることは特に禁止される
ことはないが、金属層の素材の浪費や画像形成の
ためのエツチングに過大な時間が要することにな
るので望ましいことではない。さらに過大なエツ
チング時間のために感光性樹脂組成物層を劣化さ
せることがあることを考慮すれば金属層の必要以
上の厚さはむしろ避けるべきである。
ここまでに記載した構成の画像形成材料は、特
開昭50−139720号(米国特許第4008084号に対
応)、特開昭52−99814号等の明細書に記載されて
いる方法により調製することができる。
開昭50−139720号(米国特許第4008084号に対
応)、特開昭52−99814号等の明細書に記載されて
いる方法により調製することができる。
前述のごとき構成の画像形成材料を画像露光お
よび現像する方法を説明する。画像露光は感光性
樹脂組成物層、又は保護層の上に原稿画像を密着
させ、原稿画像と通して活性光を照射する。また
原稿画像と画像形成材料の間に光学レンズ系を介
在させて活性光を照射して原稿画像を縮小、等倍
又は拡大して画像露光することができる。画像露
光する際には、活性光の強さ(照度)を調製し、
画像露光は約0.5秒から約3分まで、好ましくは
約1秒から約2分まで、最も好ましくは約2秒か
ら約1分までの範囲で実施する。画像露光は通常
室温(約10℃から約40℃までの範囲の温度)で実
施するが、必要に応じて約40℃から約80℃までの
範囲の温度で実施することができる。光重合合性
組成物層が最上層である画像形成材料の場合に
は、画像露光は、酸素ガスが実質的に存在しない
環境、すなわち、減圧下又は窒素ガス又は炭酸ガ
ス等の不活性ガスの存在下で実施するのが好まし
い。画像露光に用いる光源としては約280nmから
約500nmの範囲内の波長の活性光を含む光源、例
えば高圧水銀灯、キセノン放電灯、カーボンアー
ク灯、複写用の螢光放電灯、レーザー光線などを
使用することができる。その他に、電子線、X線
を光源として使用してもよい。またCRT、レー
ザー光線、電子線を用いる場合には、所望の全画
面を同時に画像露光してもよいが、スキヤニング
等の方法により、露光を必要とする部分を小部分
に分けて順次露光する画像露光方法を採用でき
る。
よび現像する方法を説明する。画像露光は感光性
樹脂組成物層、又は保護層の上に原稿画像を密着
させ、原稿画像と通して活性光を照射する。また
原稿画像と画像形成材料の間に光学レンズ系を介
在させて活性光を照射して原稿画像を縮小、等倍
又は拡大して画像露光することができる。画像露
光する際には、活性光の強さ(照度)を調製し、
画像露光は約0.5秒から約3分まで、好ましくは
約1秒から約2分まで、最も好ましくは約2秒か
ら約1分までの範囲で実施する。画像露光は通常
室温(約10℃から約40℃までの範囲の温度)で実
施するが、必要に応じて約40℃から約80℃までの
範囲の温度で実施することができる。光重合合性
組成物層が最上層である画像形成材料の場合に
は、画像露光は、酸素ガスが実質的に存在しない
環境、すなわち、減圧下又は窒素ガス又は炭酸ガ
ス等の不活性ガスの存在下で実施するのが好まし
い。画像露光に用いる光源としては約280nmから
約500nmの範囲内の波長の活性光を含む光源、例
えば高圧水銀灯、キセノン放電灯、カーボンアー
ク灯、複写用の螢光放電灯、レーザー光線などを
使用することができる。その他に、電子線、X線
を光源として使用してもよい。またCRT、レー
ザー光線、電子線を用いる場合には、所望の全画
面を同時に画像露光してもよいが、スキヤニング
等の方法により、露光を必要とする部分を小部分
に分けて順次露光する画像露光方法を採用でき
る。
画像露光された画像形成材料はアルカリ性水溶
液を用いて現像される。アルカリ性物質として
は、公知のNaOH、KOH、Na3PO4、Na2CO3等を
用いることができる。アルカリ性水溶液からなる
現像液の具体例は、特公昭44−23045号、特公昭
46−32714号、特公昭47−20964号、特開昭49−
34323号、特開昭52−62427号、特開昭52−99101
号等の各明細書に記載されている現像液をあげる
ことができる。現像液を画像形成材料の感光性樹
脂組成物層に適用する方法もまた前記の各明細書
に記載されている。その例としては、画像形成材
料を現像液中に浸漬する方法、現像液を感光性樹
脂組成物層にローラー、ブラシ等で塗布する方
法、現像液も感光性樹脂組成物層にスプレイする
方法をあげることができる。
液を用いて現像される。アルカリ性物質として
は、公知のNaOH、KOH、Na3PO4、Na2CO3等を
用いることができる。アルカリ性水溶液からなる
現像液の具体例は、特公昭44−23045号、特公昭
46−32714号、特公昭47−20964号、特開昭49−
34323号、特開昭52−62427号、特開昭52−99101
号等の各明細書に記載されている現像液をあげる
ことができる。現像液を画像形成材料の感光性樹
脂組成物層に適用する方法もまた前記の各明細書
に記載されている。その例としては、画像形成材
料を現像液中に浸漬する方法、現像液を感光性樹
脂組成物層にローラー、ブラシ等で塗布する方
法、現像液も感光性樹脂組成物層にスプレイする
方法をあげることができる。
上述のごとくして現像された画像形成材料は、
ついで水で洗滌された後、あるいは水で水洗され
ることなしに、特定の水を混合しうる有機溶剤ま
たは該有機溶剤と水との混液で処理される。ここ
〓〓〓〓〓
で、特定の水と混合し得る有機溶剤とは1価のア
ルコール、アルキレングリコールアルキルエーテ
ルおよびアルキレングリコールアリールエーテル
から選ばれる有機溶剤を意味する。具体的には、
1価のアルコールとしては、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノール、イソプロピル
アルコール、イソアミルアルコール、ベンジル、
β−フエニルエチルアルコールをあげることがで
きる。アルキレングリコールアルキルエーテルと
しては、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールイ
ソアミルエーテル、トリエチレングリコールモノ
メチルエーテル、トリエチレングリコールモノメ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノエチルエーテルをあ
げることができる。アルキレングリコールアリー
ルエーテルとしては、エチレングリコールモノフ
エニルエーテル、エチレンモノ−p−トリルエー
テルをあげることができる。また上記の有機溶剤
を2種又はそれ以上を混合して用いることができ
る。これらのうちでは、ベンジルアルコール、ア
ルキレングリコールモノアルキルエーテル類(エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテルが好ましい。)およびエ
チレングリコールモノフエニルエーテル、および
これらの混合物が好ましい。また水と混合しうる
有機溶媒と水とを混合して用いるのが好ましく、
この場合に好ましい有機溶媒は前述の好ましい有
機溶媒としてあげたものをあげることができる。
混液を調製するに際しての水と、水と混合しうる
有機溶剤との容量比は水100容量部に対して水と
混合しうる有機溶剤が約0.2容量部から約10容量
部まで、好ましくは約0.5容量部から約7容量部
までの範囲である。
ついで水で洗滌された後、あるいは水で水洗され
ることなしに、特定の水を混合しうる有機溶剤ま
たは該有機溶剤と水との混液で処理される。ここ
〓〓〓〓〓
で、特定の水と混合し得る有機溶剤とは1価のア
ルコール、アルキレングリコールアルキルエーテ
ルおよびアルキレングリコールアリールエーテル
から選ばれる有機溶剤を意味する。具体的には、
1価のアルコールとしては、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、ブタノール、イソプロピル
アルコール、イソアミルアルコール、ベンジル、
β−フエニルエチルアルコールをあげることがで
きる。アルキレングリコールアルキルエーテルと
しては、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールイ
ソアミルエーテル、トリエチレングリコールモノ
メチルエーテル、トリエチレングリコールモノメ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノエチルエーテルをあ
げることができる。アルキレングリコールアリー
ルエーテルとしては、エチレングリコールモノフ
エニルエーテル、エチレンモノ−p−トリルエー
テルをあげることができる。また上記の有機溶剤
を2種又はそれ以上を混合して用いることができ
る。これらのうちでは、ベンジルアルコール、ア
ルキレングリコールモノアルキルエーテル類(エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテルが好ましい。)およびエ
チレングリコールモノフエニルエーテル、および
これらの混合物が好ましい。また水と混合しうる
有機溶媒と水とを混合して用いるのが好ましく、
この場合に好ましい有機溶媒は前述の好ましい有
機溶媒としてあげたものをあげることができる。
混液を調製するに際しての水と、水と混合しうる
有機溶剤との容量比は水100容量部に対して水と
混合しうる有機溶剤が約0.2容量部から約10容量
部まで、好ましくは約0.5容量部から約7容量部
までの範囲である。
水と混合しうる有機溶剤、又は水と混合しうる
有機溶剤と水との混液を現像処理された画像形成
材料(の感光性樹脂組成物層)に適用する方法
は、現像液の場合と同様に、画像形成材料を前述
の有機溶剤又は混液に浸漬する方法、前述の有機
溶剤又は混液をローラー又はブラシ等で現像され
た感光性樹脂組成物層に塗布する方法、前述の有
機溶剤又は混液を現像された感光性樹脂組成物層
にスプレイする方法等の公知の方法によることが
できる。前述の有機溶剤又は混液で画像形成材料
を処理する際の温度は約10℃から約60℃まで、好
ましくは約15℃から約50℃までの範囲である。ま
た処理時間は、約0.5秒から約2分まで、好まし
くは約1秒から約1分までの範囲で、感光性樹脂
組成物層の除去されるべき非画像部分が溶解除去
されるように、前述の有機溶剤を選択し、混液の
場合には前述の有機溶剤の容量比を選択し、ある
いは処理温度を選択する。
有機溶剤と水との混液を現像処理された画像形成
材料(の感光性樹脂組成物層)に適用する方法
は、現像液の場合と同様に、画像形成材料を前述
の有機溶剤又は混液に浸漬する方法、前述の有機
溶剤又は混液をローラー又はブラシ等で現像され
た感光性樹脂組成物層に塗布する方法、前述の有
機溶剤又は混液を現像された感光性樹脂組成物層
にスプレイする方法等の公知の方法によることが
できる。前述の有機溶剤又は混液で画像形成材料
を処理する際の温度は約10℃から約60℃まで、好
ましくは約15℃から約50℃までの範囲である。ま
た処理時間は、約0.5秒から約2分まで、好まし
くは約1秒から約1分までの範囲で、感光性樹脂
組成物層の除去されるべき非画像部分が溶解除去
されるように、前述の有機溶剤を選択し、混液の
場合には前述の有機溶剤の容量比を選択し、ある
いは処理温度を選択する。
以上述べたごとくして水と混合しうる有機溶
剤、又は水と混合しうる有機溶剤と水との混液で
処理された後に、必要により画像形成材料を水で
洗滌し、ついで乾燥する。
剤、又は水と混合しうる有機溶剤と水との混液で
処理された後に、必要により画像形成材料を水で
洗滌し、ついで乾燥する。
現像液で現像処理された画像形成材料を本発明
の方法により処理することにより、従来、現像処
理工程又は水洗工程中に行われていたブラシ又は
スポンジ等を用いて、感光性樹脂組成物層の非画
像部分である除去すべき部分を、こすり取る処理
が不要になるという効果がある。従つてまた、本
発明の方法を現像装置中で実施することにより、
現像装置中にブラシ又はスポンジ等のこすり取り
手段が不要になり、単に液体による処理手段のみ
を備えればよいことになり、現像装置そのものの
構成が非常に単純化することができるので、故障
を少なくすることができ、また現像装置の価格を
きわめて安価にすることができる効果がある。
の方法により処理することにより、従来、現像処
理工程又は水洗工程中に行われていたブラシ又は
スポンジ等を用いて、感光性樹脂組成物層の非画
像部分である除去すべき部分を、こすり取る処理
が不要になるという効果がある。従つてまた、本
発明の方法を現像装置中で実施することにより、
現像装置中にブラシ又はスポンジ等のこすり取り
手段が不要になり、単に液体による処理手段のみ
を備えればよいことになり、現像装置そのものの
構成が非常に単純化することができるので、故障
を少なくすることができ、また現像装置の価格を
きわめて安価にすることができる効果がある。
次に本発明を実施例に基づいて具体的に説明す
る。
る。
実施例1及び比較例1
真空蒸着装置内に配置したタングステン製の蒸
着ボート内にAl−Fe(1:1原子比)合金を約
400mg入れ、この蒸着ボートから約30cmの距離を
隔てて配置した厚さ100μmのポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に上記のAl−Fe合金を厚
さが約100nmになるように真空蒸着を行なつた。
〓〓〓〓〓
蒸着装置内の真空度は約5×10-4Torrであつ
た。このようにして得られた金属蒸着層を有する
フイルム上に回転塗布機により下記の感光性組成
物を乾燥厚さが約3μmになるように塗布し、温
度100℃で2分間乾燥せしめた。
着ボート内にAl−Fe(1:1原子比)合金を約
400mg入れ、この蒸着ボートから約30cmの距離を
隔てて配置した厚さ100μmのポリエチレンテレ
フタレートフイルム上に上記のAl−Fe合金を厚
さが約100nmになるように真空蒸着を行なつた。
〓〓〓〓〓
蒸着装置内の真空度は約5×10-4Torrであつ
た。このようにして得られた金属蒸着層を有する
フイルム上に回転塗布機により下記の感光性組成
物を乾燥厚さが約3μmになるように塗布し、温
度100℃で2分間乾燥せしめた。
感光性組成物の組成
ベンジルメタクリレート−メタクリル
酸共重合物(モル比73:27、〔η〕メチルエチ
ルケトン25℃=0.1) ……1g ペンタエリトリトールテトラアクリレート
……0.8g N−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナ
フトチアゾール ……0.05g ベヘン酸 ……0.02g メチルエチルケトン ……7g メチルセロソルブアセテート ……7g 次いで該感光層上に下記の組成物を乾燥膜厚が
3μmとなるように回転塗布機で塗布したのち、
温度100℃で3分間乾燥せしめた。
ルケトン25℃=0.1) ……1g ペンタエリトリトールテトラアクリレート
……0.8g N−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナ
フトチアゾール ……0.05g ベヘン酸 ……0.02g メチルエチルケトン ……7g メチルセロソルブアセテート ……7g 次いで該感光層上に下記の組成物を乾燥膜厚が
3μmとなるように回転塗布機で塗布したのち、
温度100℃で3分間乾燥せしめた。
ポリビニルアルコール(けん化度86.5〜
89.0mol%) 4g メタノール ……16g 水 ……80g コロイダルシリカ(粒径約0.3μm) ……0.1g カチオン性(カルボン酸型)界面活性剤“アノ
ンLG”(日本油脂(株)製) ……0.5g 同「アノンBF」(同) ……0.5g この感光材料をPSライト(富士写真フイルム
(株)製、2kWメタルハライドランプ)の下1mの
距離を隔てて配置し、30秒像露光をした。次いで
この感光材料を、第1槽及び第2槽に下記の組成
の現像液(液温は35℃〜37℃に調整してある。)
を入れ、第3槽及び第4槽にベンジルアルコール
を2容量%含ませた水道水を入れた
“RAPIDOPRINT−DD1437”現像処理機(西独
国Agfa−Gevaert社製)に通して現像及び水洗処
理を行なつた。(感光材料が各槽を通過する時間
はそれぞれ7秒間である。) 現像液の組成 水酸化ナトリウム(NaOH) ……15g 臭素酸ナトリウム(NaBrO3) ……10g 燐酸ナトリウム(Na3PO4・12H2O))
……0.5g 水 ……1 処理後の感光材料の感光層の非露光部分は完全
に除去されていた。
89.0mol%) 4g メタノール ……16g 水 ……80g コロイダルシリカ(粒径約0.3μm) ……0.1g カチオン性(カルボン酸型)界面活性剤“アノ
ンLG”(日本油脂(株)製) ……0.5g 同「アノンBF」(同) ……0.5g この感光材料をPSライト(富士写真フイルム
(株)製、2kWメタルハライドランプ)の下1mの
距離を隔てて配置し、30秒像露光をした。次いで
この感光材料を、第1槽及び第2槽に下記の組成
の現像液(液温は35℃〜37℃に調整してある。)
を入れ、第3槽及び第4槽にベンジルアルコール
を2容量%含ませた水道水を入れた
“RAPIDOPRINT−DD1437”現像処理機(西独
国Agfa−Gevaert社製)に通して現像及び水洗処
理を行なつた。(感光材料が各槽を通過する時間
はそれぞれ7秒間である。) 現像液の組成 水酸化ナトリウム(NaOH) ……15g 臭素酸ナトリウム(NaBrO3) ……10g 燐酸ナトリウム(Na3PO4・12H2O))
……0.5g 水 ……1 処理後の感光材料の感光層の非露光部分は完全
に除去されていた。
別に上記の実施例中、水洗液としてベンジルア
ルコールを添加した水道水に代えてベンジル/ア
ルコールを添加しない単なる水道水とし、他は上
記実施例と全く同様にして実施したところ、感光
層の非露光部分は完全に除去されず残留物が多か
つた。
ルコールを添加した水道水に代えてベンジル/ア
ルコールを添加しない単なる水道水とし、他は上
記実施例と全く同様にして実施したところ、感光
層の非露光部分は完全に除去されず残留物が多か
つた。
実施例 2〜5
実施例1における現像処理機の第3槽をベンジ
ルアルコール含有水道水に代えて各実施例2〜5
ごとにそれぞれエチレングリコールモノブチルエ
ーテル4容量%水溶液(実施例2)、エチレング
リコールモノフエニルエーテル1容量%水溶液
(実施例3)、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル4容量%水溶液(実施例4)、ベンジルア
ルコール0.5容量%とエチレングリコールモノフ
エニルエーテル0.5容量%とエチレングリコール
モノフエニルエーテル0.5容量%を含有した水溶
液(実施例5)他はそれぞれ1の場合と同様に実
施したところ、実施例1の場合と同様に良好な結
果が得られた。
ルアルコール含有水道水に代えて各実施例2〜5
ごとにそれぞれエチレングリコールモノブチルエ
ーテル4容量%水溶液(実施例2)、エチレング
リコールモノフエニルエーテル1容量%水溶液
(実施例3)、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル4容量%水溶液(実施例4)、ベンジルア
ルコール0.5容量%とエチレングリコールモノフ
エニルエーテル0.5容量%とエチレングリコール
モノフエニルエーテル0.5容量%を含有した水溶
液(実施例5)他はそれぞれ1の場合と同様に実
施したところ、実施例1の場合と同様に良好な結
果が得られた。
実施例 6
実施例1と同様の処理を現像段階(処理機の第
1槽と第2槽による現像処理)まで行なつたのち
感光材料を処理機からとり出し、バツトに入れて
あるベンジルアルコール中に7秒間浸漬し、さら
にバツトに入れた水の中に7秒間浸漬してとり出
したところ、感光層の非露光部分はきれいに除去
された。
1槽と第2槽による現像処理)まで行なつたのち
感光材料を処理機からとり出し、バツトに入れて
あるベンジルアルコール中に7秒間浸漬し、さら
にバツトに入れた水の中に7秒間浸漬してとり出
したところ、感光層の非露光部分はきれいに除去
された。
実施例 7
厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフ
イルム上に下記の感光性組成物を乾燥膜厚3μm
になるように回転塗布機で塗布したのち、塗膜を
温度100℃のもとで2分間乾燥せしめた。
イルム上に下記の感光性組成物を乾燥膜厚3μm
になるように回転塗布機で塗布したのち、塗膜を
温度100℃のもとで2分間乾燥せしめた。
感光性組成物の組成
ベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合
物(実施例1で使用したものと同じ) ……1g ペンタエリトリトールテトラアクリレート
……0.72g 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン ……30mg 2−o−クロルフエニル−4,5−ジフエニル
イミダゾリル二量体 ……60mg 〓〓〓〓〓
黒色顔料“ミクロリス 4G ブラツク”(商品
名、西独国バイエル社製) 500mg メチルエチルケトン ……10g メチルセロソルブアセテート 10g 次いで、該感光層上に実施例1の場合と同じ組
成のポリビニルアルコール組成物を同様に塗布し
乾燥せしめた。このようにして作成した感光材料
を、以降実施例1の場合と同様にして露光現像、
水洗の各処理を行つたところ、感光層の非露光部
分はきれいに除去され、所望の結果が得られた。
物(実施例1で使用したものと同じ) ……1g ペンタエリトリトールテトラアクリレート
……0.72g 4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノ
ン ……30mg 2−o−クロルフエニル−4,5−ジフエニル
イミダゾリル二量体 ……60mg 〓〓〓〓〓
黒色顔料“ミクロリス 4G ブラツク”(商品
名、西独国バイエル社製) 500mg メチルエチルケトン ……10g メチルセロソルブアセテート 10g 次いで、該感光層上に実施例1の場合と同じ組
成のポリビニルアルコール組成物を同様に塗布し
乾燥せしめた。このようにして作成した感光材料
を、以降実施例1の場合と同様にして露光現像、
水洗の各処理を行つたところ、感光層の非露光部
分はきれいに除去され、所望の結果が得られた。
同じ感光材料について、実施例1に対する比較
例の場合と同じように実施して対比したところ、
感光層の非露光部分は残留物がひどく、実施例7
の場合とは著しい相違が認められた。
例の場合と同じように実施して対比したところ、
感光層の非露光部分は残留物がひどく、実施例7
の場合とは著しい相違が認められた。
〓〓〓〓〓
Claims (1)
- 1 支持体上に感光性樹脂組成物層を有する画像
形成材料を画像状に露光し、アルカリ性水溶液を
用いて現像したのち、1価のアルコール、アルキ
レングリコールアルキルエーテルおよびアルキレ
ングリコールアリールエーテルから選ばれた少く
とも1種の水と混合しうる有機溶剤または該有機
溶剤の少くとも1種と水との混液で処理すること
を特徴とする画像形成材料の処理方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4883778A JPS54141128A (en) | 1978-04-25 | 1978-04-25 | Processing method of picture image forming material |
DE19792916384 DE2916384A1 (de) | 1978-04-25 | 1979-04-23 | Verfahren zur behandlung eines bildausbildungsmaterials |
GB7914238A GB2019593B (en) | 1978-04-25 | 1979-04-24 | Method of development processing a lightsensitive resin image-forming material |
US06/357,114 US4411983A (en) | 1978-04-25 | 1982-03-11 | Method for processing an image-forming material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4883778A JPS54141128A (en) | 1978-04-25 | 1978-04-25 | Processing method of picture image forming material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54141128A JPS54141128A (en) | 1979-11-02 |
JPS6127735B2 true JPS6127735B2 (ja) | 1986-06-26 |
Family
ID=12814349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4883778A Granted JPS54141128A (en) | 1978-04-25 | 1978-04-25 | Processing method of picture image forming material |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4411983A (ja) |
JP (1) | JPS54141128A (ja) |
DE (1) | DE2916384A1 (ja) |
GB (1) | GB2019593B (ja) |
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JPS5953840A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-28 | Mitsubishi Electric Corp | 水溶性レジストの微細パタ−ン形成方法 |
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US5143814A (en) * | 1984-06-11 | 1992-09-01 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate |
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US4617251A (en) * | 1985-04-11 | 1986-10-14 | Olin Hunt Specialty Products, Inc. | Stripping composition and method of using the same |
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US4806458A (en) * | 1985-10-28 | 1989-02-21 | Hoechst Celanese Corporation | Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate |
US4983490A (en) * | 1985-10-28 | 1991-01-08 | Hoechst Celanese Corporation | Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
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US4692398A (en) * | 1985-10-28 | 1987-09-08 | American Hoechst Corporation | Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
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-
1978
- 1978-04-25 JP JP4883778A patent/JPS54141128A/ja active Granted
-
1979
- 1979-04-23 DE DE19792916384 patent/DE2916384A1/de not_active Withdrawn
- 1979-04-24 GB GB7914238A patent/GB2019593B/en not_active Expired
-
1982
- 1982-03-11 US US06/357,114 patent/US4411983A/en not_active Expired - Fee Related
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DE2916384A1 (de) | 1979-11-08 |
GB2019593B (en) | 1982-07-28 |
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