DE2916384A1

DE2916384A1 - Verfahren zur behandlung eines bildausbildungsmaterials

Info

Publication number: DE2916384A1
Application number: DE19792916384
Authority: DE
Inventors: Saitama Asaka; Tomoaki Ikeda; Sho Nakao; Fumiaki Shinozaki; Yasuo Washizawa
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1978-04-25
Filing date: 1979-04-23
Publication date: 1979-11-08
Also published as: US4411983A; GB2019593B; JPS54141128A; GB2019593A; JPS6127735B2

Description

PAiENiANWÄUE

DR. E. WIEGAND DiPL-ING. W. NIEMANN DR. M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT

TELEFON: 55547ί 8000 MD N C H E N 2,

TELEGRAMME: KARPATENT ΗθΓZOg-WÜhelm-Str .

V. 4-3436/79 - Ko/Ne 23.April 1979

Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami-Ashigara-Shi Kanagawa (Japan)

Verfahren zur Behandlung eines Bildausbildungsraaterials

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung eines Bildausbildungsmaterials, insbesondere eine Behandlung, bei der eine lichtempfindliche Schicht aus einer Harzmasse mit bestimmten mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln oder mit einem Gemisch bestimmter organischer Lösungsmittel und Wasser zur vollständigen Entfernung der Nicht-Bildteile behandelt wird, nachdem sie an Licht ausgesetzt und entwickelt wurde.

Gemäss der Erfindung wird ein Verfahren vorgeschlagen, wobei durch die Behandlung eines bildweise belichteten und entwickelten Bildausbildungsmaterials aus einem Träger und einer lichtempfindlichen Schicht aus einer Harzmasse mittels mit Wasser mischbarer organischer

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Lösungsmittel oder mittels eines Gemisches aus Wasser und mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln die Entfernung der Mcht-Bildbereiche beendet wird.

Es gibt zwei Arten von Bildausbildungsmaterialien, bei denen lichtempfindliche Harze mit Entwicklungslösungen entwickelt werden. Diese Materialien werden nach dem Entwicklungsverfahren, welches zur Ausbildung des Bildbereiche angewandt wird, unterteilt: Das eine ist ein Material vom Auflösungstyp, worin die Mcht-Bildbereiche vollständig in der Entwicklungslösung gelöst werden und das andere ist ein Material vom Abfalltyp, wobei die Materialien, die bildweise belichtet wurden, teilweise in den Entwicklungslösungen gelöst werden oder in der Qualität geändert werden, so dass die Bildausbildungsschicht bildweise von dem Träger durch Reiben oder ähnliche mechanische Behandlungen entfernt werden kann. Welche. Art des Entwicklungsverfahrens eingesetzt wird, hängt von den die lichtempfindliche Schicht bildenden lichtempfindlichen Arten, den eingesetzten Entwicklern und ferner der Kombination der beiden Materialien ab. Deshalb kann auf der Basis der lichtempfindlichen Harze als solchen ein Bildausbildungsmaterial nicht absolut der einen Art oder der anderen Art zugeteilt werden. Jedoch gehören vom Gesichtspunkt der eingesetzten Entwicklungslösung zahlreiche der.lichtempfindlichen Harze, die mit organischen Lösungsmitteln entwicklungsfähig sind, allgemein zum.Auflösungstyp und zahlreiche der lichtempfindlichen Harze, die mit alkalischen Lösungen entwicklungsfähig sind, gehören allgemein zu dem Äbfalltyp.

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Im Fall der Entwicklung eines Materials vom Abfalltyp ist es, um eine vollständige Entschichtung der lichtempfindlichen Schicht in den zu entfernenden Bereichen zu erzielen, im allgemeinen notwendig, kontinuierlich die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht unter Anwendung von weichen Drehbürsten oder dgl. zu reiben, während das Material in die Entwicklungslösung und/oder in ein Vaschbad eingetaucht ist. Die üblichen automatischen Entwicklung smaschinen sind üblicherweise mit derartigen Reibvorrichtungen ausgerüstet und es ergeben sich einige Probleme. Beispielsweise muss die Grosse der automatischen Entwicklungsmaschinen gross gemacht werden, wobei grosse Maschinen teurer sind und ferner muss die Anzahl der Einrichtungen in der Maschine, die unterhalten und überprüft werden müssen, erhöht werden.

Eine Hauptaufgabe der Erfindung besteht in einer Behandlung eines bildweise belichteten und entwickelten Bildausbildungsmateri als, das zur vollständigen Entfernung der lichtempfindlichen Harzmasse von den Mcht-Bildbereichen ohne mechanische Behandlungen, wie Reiben, Bürsten und dgl., fähig ist.

Eine speziellere Aufgabe der Erfindung besteht in einer Behandlung zur vollständigen Entfernung der lichtempfindlichen Harzmasse von den Nicht-Bildbereichen eines belichteten und entwickelten Bildausbildungsmaterials durch Anwendung bestimmter organischer Lösungsmittel.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Behandlung von Bildausbildungsmaterialien, welche, wenn sie in Form einer automatischen Entwicklungs-

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apparatur ausgeübt wird, eine Vereinfachung der Apparatur und wesentliche Verringerungen der Grosse und der Kosten ermöglicht.

Die vorliegende Erfindung ist durch ein Behandlungsverfahren ausgezeichnet, bei dem nach der bildweisen Belichtung und einer Entwicklungsbehandlung ein Bildausbil-•dungsmaterial, das aus einem Träger und einer lichtempfindlichen Harzschicht besteht, mit bestimmten mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln oder mit einem Gemisch aus Wasser und bestimmten mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln behandelt wird.

Die gemäss der Erfindung behandelbaren Bildausbildungsmaterialien sind aus einem Träger, einer lichtempfindlichen Harzschicht, gegebenenfalls einer dünnen metallischen Schicht zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht und einer auf der lichtempfindlichen Schicht ausgebildeten Schutzschicht aufgebaut.

Der Träger gibt dem Bildausbildungsmaterial die gewünschte Porm, beispielsweise blattartige oder filmartige Form, und trägt die bei der Entwicklung und der anschliessenden Behandlung gemäss der Erfindung gebildeten Bilder. Beispiele für geeignete Träger umfassen Polymerblätter oder -filme, Papiere, Glasplatten und Metallplatten oder -filme. Spezifische Beispiele für Polymere umfassen Celluloseester, wie regenerierte Cellulose, Hartkautschuk, Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosacetatpropionat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat und dgl., Polyester, wie Polyalkylenterephthalat, Polycarbonate von 2,2-Bis-(4-hydroxyphenylpropan) und dgl., Polyamide,

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wie Nylon-6 (Polycapronamid), Nylon-6,6 (Polyhexamethylenadipamid), Nylon-6,10 (Polyhexamethylensebacamid), Nylon-11 (Polyundecanamid) und dgl., Polymere von Vinylverbindungen, wie Polyäthylen, Polypropylen, Polystyrol, Poly-Cmethylacrylat) , Poly-Cmethylmetliacrylat) , PoIyacrylonitril, Poly-(vinylchlorid), Acrylonitril-Butadien-Styrol-Copolymere, Acrylnitril-Styrol-Copolymere, Vinylidenchlorid- Vinylchlorid- Copolymere , Polytetrafluoräthylen, Polychlortrifluoroäthylen, Tetrafluoroäthylen-Hexafluorpropylen-Copolymere und dgl. Spezifische Beispiele für metallische Platten oder Filme umfassen Platten oder Filme aus Aluminium, Zink» Kupfer, Nickel, Eisen, Chrom, Titan, Gold, Silber, Platin, Aluminium-Magnesium-Legierungen, Aluminium-Kupfer-Legierungen, Aluminium-Zink-Legierungen, rostfreie^Stahllegierungen, z. B. Eisen-Niekel-Chrom-Legierungen, Phosphor-Bronze-Legierungen, Kupfer-Zinn-Legierungen und dgl. Natriumgläser, Quarzgläser, verschiedene Arten optische Gläser und verschiedene Arten von Keramiken können als Materialien für den Träger verwendet werden. Filme und Blätter und Platten aus diesem Materialien, durch Aufschichtung von Filmen oder Bogen aus diesen Materialien gefertigte dünne Platten, dünne Platten aus Polymeren oder Gläsern, in die Glasfasern, Polymer?asern, Naturfasern, Asbestfasern, Metallfasern oder Kohlenstoffasern einverleibt sind, Textilien, auf deren Oberfläche eine Dünnschicht aus einem Polymeren ausgebildet ist, und mit Polymeren imprägmierte Papiere können gleichfalls als Träger verwendet werden.

Der Träger kann transparent oder opak sein. Im Fall von opaken Trägern können praktisch opake Materialien, wie Papier und Metalle, transparente Polymerbögen oder

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-filme, die opak durch. Zumischen von Farbstoffen und Pigmenten, wie Titanoxid, Zinkoxid, Euss und dgl., gemacht wurden, und solche, die oberflächenbehandelt wurden, wie in der japanischen Patent-Veröffentlichung 19O68/72 entsprechend der britischen Patentschrift Λ 237 Λ75 beschrieben, als Träger eingesetzt werden.

Ausserdem können die Oberflächen der Träger verschiedene Oberflächenbehandlungen erhalten haben, beispielsweise Behandlungen durch Koronaentladung, Ultraviolettbestrahlung, Flammbehandlung, chemische Ätzung, elektrolytische Ätzung, Körnung und dgl. Falls ferner eine Aluminiumplatte als Träger verwendet wird, kann deren Oberfläche eine anodische Oxidationsbehandlung allein erhalten haben oder kann aufeinanderfolgend eine Körnungsbehandlung und eine anodische Oxidationsbehandlung erhalten haben. "■..."

Die Stärke des Trägers wird in geeigneter Weise in Abhängigkeit von dem Endgebrauchszweck des ausgebildeten Bildes gewählt. Sie kann im allgemeinen zwischen etwa 10/um und 2 mm variieren und variiert vorzugsweise zwischen etwa 15/um und etwa 0,5 mm. Selbstverständlich kann in Abhängigkeit von dem genauen Gebrauchszweck der Träger auch eine grössere Stärke als eine Starke innerhalb des vorstehend aufgeführten Bereiches besitzen und kann auch in anderer Form als Film oder Blatt vorliegen.

Spezifische Beispiele für lichtempfindliche Harzmassen, die die lichtempfindliche Schicht aus der Harzmasse der Bildausbildungsmaterialien aufbauen, umfassen (1) Kombinationen von ortho-Chinondiaziden und ITovolak-

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harzen, (2) Kombinationen von Azidverbindungen und Naturkautschuken, synthetischen Kautschuk oder cyclischen Kautschuken, (3) azidsubstituierte lichtempfindliche Harze, (4) lichtempfindliche Harze vom Zimtsäuretyp und (5) eine grosse Vielzahl von lichtempfindlichen Harzmassen, die als photoätzbare Widerstände anwendbar sind, beispielsweise photopolymerisierbare lichtempfindliche Harze, die äthylenisch ungesättigte Doppelbindungen enthalten.

Derartige lichtempfindliche Harzmassen werden nachfolgend im einzelnen beschrieben.

Spezifische Beispiele von ortho-Chinondiaziden, die in den Massen der Gruppe (1) verwendet werden, umfassen 2,3r4-Trioxybenzophenon-bis-(naphthochinon-1,2-diazido-5,5-sul fön säure ester), 2-(Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonyloxy)-hydroxy-7-naphthalin, Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfanilid, Naphthochinon-i^-diazido-ij-sulfonsäure-HOvolakester und dgl. Diese ortho-Chinondiazide spielen eine wichtige Rolle als positiv arbeitende Materialien, da sie nach der Aussetzung an Licht alkalilöslich werden.

Spezifische Beispiele für Azidverbindungen zur Anwendung in den Massen der Gruppe (2) umfassen p-Phenylenbisazid, p-Azidobenzophenon, 4,4'-Diazidobenzophenon, 4,4-'-Diazidophenylmethan, 4,4'-Diazidostilben, 4,4'-Diazidochalcon, 2,6-Di-(4'-diazidobenzal^cyclohexanon, 2,6-Di-(4'-asidobenzal)-4-methylcyclohexanon und dgl.

Spezifische Beispiele für lichtempfindliche Harze zur Anwendung in den Massen der Gruppe (3) umfassen PoIy-

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vinylazidobenzoat, Polyvinylazidophthalat, Polyazidostyrol, Polyvinylazidobenzalacetal, Polyvinylazidonaphthyl acetal, Phenol-Azi do benz aldehydharze, Azidophenylaminformalin-Kondensationspolymere, Hochpolymere Azidprodukte des PoIyvinylalkohole, Hochpolymere Azidprodukte der Cellulose, wie das Azidophthalat der teilweise hydrolysierten Cellulose, das Azidopolymere von Gelatine oder Casein und dgl.

Spezifische Beispiele für lichtempfindliche Harze des Zimtsäuresystems, die zur Gruppe (4) gehören, umfassen Vinylpolymere, wie Polyvinylcinnamat, Poly-(vinyl-mnitroeinnaraat), Polyvinyl-a-cyanocinnamat, Polyvinyl-* a-nitrocinnamat, Polyvinyl-ß-nitrocinnamat, Polyvinyla-chlorcinnamat, Polyvinyl-ß-chlorcinnatnat, Polyvinylcinnamylidenacetat, Polyvinylοxyäthylcinnamat, PoIyvinylthioäthylcinnamat, Poly-(2-cinnamoyloxyäthylacrylat), PoIy-(2-cinnamoyloxyäthylmethacrylat), Polyvinylcinnamoyloxyacetat, Poly-(p-cinnamoyloxyvinylbenzol), PoIy-(p-cinnamoylstyrol) und dgl., und Copolymere aus diesen Vinylpolymeren und anderen Polymeren, Polymere, die durch Eingöffnungs-Polymerisation von Oxiranen erhalten wurden, wie Polyglycidylcinnamat, Polyglycidylcinnamylidenacetat und dgl., Polymere, in die lichtempfindliche Gruppen vollständig oder teilweise durch Umsetzung von Polymeren mit halogenierten Alkylgruppen in der Seitkette mit Carboxylaten mit lichtempfindlichen Gruppen in aprotischen polaren Lösungsmitteln eingeführt sind, wie Polymere, die durch Umsetzung von Polychloräthylvinyläther, Polyvinylchloracetat, Poly-(ß-chloräthylacrylsäureester), Polyepichlorhydrin, Polyepibromhydrin

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und dgl. mit Zimtsäure erhalten wurden, kationische Polymere von Vinyläthern, wie Polyvinyloxyathylcxnnamat und dgl. Von den lichtempfindlichen Harzen des Zimtsäuresystems sind die bevorzugtesten Harze Gemische von ungesättigten lichtempfindlichen Polyesterverbindungen entsprechend der US-Patentschrift 3 030 208 und insbesondere lichtempfindliche Harze der folgenden allgemeinen Formel:

/I

worin E ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine

ό Nitrilgruppe oder eine niedere Alkylgruppe, R eine zweiwertige aliphatische Gruppe, Ή? ein Wasserstoffatom oder eine Mtrilgruppe, R einen aromatischen Eern und a und b jeweils die Zahlen Oooder 1 bedeuten, wobei die Gesamtsumme von a und b den Wert 1 oder 2 hat. Geeignete Beispiele für zweiwertige aliphatische Gruppen für den Substituenten R sind -CHo- (Methylengruppe), ^Ct,^H2d+1

-C-

(Alkylidengruppe, ρ = 1-10, vorzugsweise 1-5» beispielsweise Ithyliden, Propyliden, Butyliden, Pentyliden,

?n^H2n+1
Hexyliden und dgl.), -C- (1-Alkylalkylidengruppe,

^Cm^H2rn+1

m+n = 2-10, vorzugsweise 2-5» beispielsweise Isopropyliden, 1-Methyläthyliden, 1-Methylpropyliden, 1-Ithyläthyliden, 1-lthylpropyliden und dgl.) und ähnliche Gruppierungen.

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Die photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Harzmassen, die Verbindungen mit äthylenisch ungesättigten Bindungen enthalten und zur Gruppe (5) gehören, umfassen Monomere und Binderkomponenten, wie sie im einzelnen in den US-Patentschriften 2 ?60 863, 3 060 026 und dgl. beschrieben sind. Spezifische Beispiele von Monomeren umfassen Acrylsäure- oder Methacrylsäureester von mehrwertigen Alkoholen, wobei bevorzugte Beispiele Ithylenglykol, Iriäthylenglykol, Tetraäthylenglykol, Propylenglykol, Trimethylolpropan, Pentaerythrit,Neopentylglykol und dgl., umfassen. Ausserdem können denaturierte Acrylsäureester, die sich von Bisphenol A ableiten, wie Reaktionsprodukte von Epoxyharz-Präpolymeren eines Bisphenol A-Epichlorhydrin-Reaktionsproduktes und der Acrylsäure oder Methacrylsäure, Acrylsäure- oder Methacrylsäureestern von Alkylenoxid-Addukten des Bisphenol A oder Hydrierungsprodukte hiervon und dgl. ebenfalls verwendet werden. Ausserdera können Methylenbisacrylamid, Äthylenbisacrylamid und Bisacrylamide oder Bismethacrylamide von Diaminen, wie Äthylendiamin, Propylendiamin, Butylendiamin, Pentamethylendiamin und dgl., Reaktionsprodukte von Dio1monoacrylaten oder Diolmonomethacrylaten mit Isocyanaten und Triacrylformal oder Triallylcyanuarat ebenfalls als Monomere verwendet werden. Der Monomergehalt kann zwischen etwa 10 Gew.% bis etwa 99 Gew.%, vorzugsweise 20 Gew.% und 50 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymeriserbaren lichtempfindlichen Harzmasse, variieren, welche Binderpolymere und nachfolgend beschriebene Photopolymerisationsinitiatoren zusätzlich zu den Monomeren enthält.

Als Binder können verschiedene Polymere, wie sie in den vorstehend abgehandelten US-Patentschriften beschrieben sind, eingesetzt werden.

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Die zur Entwicklung der lichtempfindlichen Harzmassenschichten eingesetzte Entwicklungslösung hängt weitgehend von der Löslichkeit der in der Schicht enthaltenen Binderpolymeren in der Entwicklerlösung ab. Vom Gesichtspunkt der TJmgebungsverschmutzung werden als Entwicklungslösungen solche bevorzugt, die keine grosse Menge an organischen Lösungsmitteln enthalten. Deshalb sind günstige Binderpolymere diejenigen, welche Carboxyl-, Hydroxylgruppen oder ähnliche Gruppen enthalten und die deshalb in alkalischen wässrigen Lösungen quellen oder sich lösen. Als Beispiele derartiger Binderpolymerer seien Vinyladditionspolymere mit dem Gehalt freier Carboxylgruppen erwähnt, welche aus 30 bis 94 Mo1% eines oder mehrerer Alkylacrylate und den restlichen Mol% aus einer oder mehreren α,ß-äthylenisch ungesättigten Carbonsäuren und stärker bevorzugt, aus 61 bis 94- Mo 1% an zwei Alkylacrylaten und den restlichen Mol% aus α,β-äthylenisch ungesättigten Carbonsäuren hergestellt wurden. Spezifische Beispiele von zur Herstellung der vorstehend aufgeführten Polymerbinder geeigneten Alkylacrylaten umfassen Methylacrylat, lthylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Methylmethacrylat, Äthylmethacrylat, Butylmethacrylat und dgl. Geeignete a,ßäethylenisch ungesättigte Carbonsäuren sind Acrylsäure, Methacrylsäure und dgl. Die vorstehend aufgeführten Binder und deren Herstellung sind im einzelnen in der DE-OS 2 320 849 beschrieben.

Als weiteres Beispiel für derartige Binderpolymere seien makromolekulare Binderpolymere aufgeführt, welche durch Copolymerisation von Vinylmonomeren vom Styroltyp mit carboxylgruppenhaltigen ungesättigten Monomeren vor-

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gebildet wurden, die mit den vorstellend auf ge führten Monomeren verträglich, sind, wie im einzelnen in der britischen Patentschrift 1 361 298 angegeben. Als weiteres Beispiel derartiger Binderpolymerer sei auf Gemische von zwei Polymeren hingewiesen, wie in.der japanischen Patentanmeldung 99810/77 entsprechend der US-Patentschrift 4 139 391 und der belgischen Patentschrift 828 237 beschrieben. Das erste Polymere ist vorzugsweise aus der Gruppe von Copolymeren des Yinylacetats und der Crotonsäure, Terpolymeren des Äthylcrylats, Methylmethacrylats und der Acrylsäure und Celluloseacetatsuccinat gewählt. Das zweite Polymere ist vorzugsweise aus der Gruppe von Toluolsulfonamid-iOrmaldehyd-Eondensationspolymeren, Methylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymeren, Benzylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymeren, Me thylmethacrylat-lthylacrylat-Hydrogenraale at-Terpolymeren, Vinylchlorid-Vinylaeetat-Maleinsäure-Terpolymeren, Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymeren und Methylmethacrylat-Äthylacrylat-Methacrylsäure-Terpolymeren gewählt.

Ein Photopolymerisationsinitiator ist zusätzlich in der photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Harzmasse enthalten. Als Photopolymerisationsinitiatoren können Verbindungen verwendet werden , wie sie in Jaromir Kosar, Light-Sensitive Systems, Kapitel 5, John Wiley and Sons, Inc., New York (1965), den US-Patentschriften

2 760 863, 3 060 023 und 3 418 118, der japanischen Patent-Verö ffentli chung 20067/69 ent sp re chend der britischen Patentschrift 1 090 142 und der US-Patentschrift

3 427 161 beschrieben sind.

Die lichtempfindliche Harzmasse kann durch Zusatz bekannter Parbstoffe und Pigmente gefärbt werden.

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Von den vorstehend aufgeführten lichtempfindlichen Harzmassen sind die am stärksten bevorzugten nach dem erfindungsgemassen Verfahren behandlungsfähigen Massen photopolymerisierbare lichtempfindliche Harzmassen, die nachfolgend nur noch als photopolymerisierbare Massen bezeichnet werden.

Die Stärke der lichtempfindlichen Harzmassenschicht kann zwischen 0,1/um bis etwa 1 mm, vorzugsweise etwa 0,2/um bis etwa 50/um und stärker bevorzugt etwa 0,5/um bis etwa 10/um, variieren.

Ferner kann eine Schutzschicht auf der lichtempfindlichen Schicht aus der Harzmasse ausgebildet sein, die aus einer organischen Verbindung, wie in der japanischen Patentanmeldung 109926/77 entsprechend der US-Patentanmeldung 772 044 vom 25· Februar 1977 und der japanischen Patent-Veröffentlichung 32714/71 entsprechend der US-Patentschrift 3 475 171 beschrieben, gefertigt i_st und spezifische Beispiele umfassen höhere Fettsäuren, höhere Fettsäureamide, feste Kohlenwasserstoffe mit 25 oder mehr Kohlenstoffatomen, Polyvinylalkohol, zu einem Anteil von 88 bis 99 % hydrolysiertes Polyvinylacetat, Äthylenoxid-Polymere, Gelatine, Gummi arabicum, KoI ophonium und dgl., und die Schicht besitzt eine Stärke innerhalb des Bereiches von etwa 0,1/Um bis etwa 3/um und vorzugsweise etwa 0,2/um bis etwa 2/Um. Die Schutzschicht kann für die Entwicklungslösung durchlässig sein, falls sie nicht vor der Behandlung entfernt werden muss.

Einige der nach dem erfindungsgemässen Verfahren verarbeitungsfähigen Bildausbildungsmaterialien können eine dünne metallische Schicht zwischen dem Träger und

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der lichtempfindlichen Schicht aus der Harzmasse aufweisen. Eine derartige metallische Schicht ist aus mit üblichen alkalischen Itzlösungen ätz-baren Metallen gefertigt. Spezifische Beispiele derartiger Metalle umfassen Aluminium als Hauptkomponente enthaltende Metallmassen, wie im einzelnen in der Japanischen Patentanmeldung 139720/75 beschrieben, und Tellur, Molybdän, Polonium, Kobalt, Zink, Kupfer, Nickel, Eisen, Zinn, Vanadium, Germanium und Legierungen hiervon, wie in den japanischen Patentanmeldungen 65 927/73 entsprechend der TFS-Patentanmeldung 205 860 vom 8. Dezember 1971 und der DE-OS 2 259 768, 65928/73 entsprechend der ÜS-Patentanmeldung 205 861 vom 8. Dezember 1971 und der DE-OS 2 259 759, und 2925/75 entsprechend der US-Patentanmeldung 350 372 vom 12. April 1973 und der DE-OS 2 413 154, und der japanischen Patent-Veröffentlichung 14-161/75 beschrieben. Die Stärke dieser Metallschicht bestimmt sich in Abhängigkeit von der für das Bild erforderlichen optischen Dichte, wobei die optische Dichte des erhaltenen Bildes angenähert proportional zur Stärke der Metallschicht ist. Beispiels- ■■' weise sind im EaIl von Linienbildern oder Halbtonpunktbildern relativ hohe Dichten erforderlich und die optische Dichte muss mindestens 2,0 oder mehr betragen. Insbesondere, wenn derartige Bilder als Masken für den Druck auf PS-Druckplatten verwendet werden, sind optische Dichten von mindestens 3»0 erforderlich. Deshalb wird die Dicke der metallischen Schicht so gewählt, dass die gewünschte Dichte geliefert wird. 3?alls beispielsweise eine durch Aufdampfen im Vakuum einerAluminium-Eisen-Legierung auf einen Träger hergestellte Schicht als metallische Schicht verwendet wird, ist eine Stärke von etwa 40 nm erforderlich, um eine optische Dichte von 2,0 zu erzielen,

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ORIGINALINSPEGTED

während eine Stärke von etwa 60 nm erforderlich ist, um eine optische Dichte von 3>0 zu erzielen. Die Beziehung zwischen der Dicke dieser metallischen Schicht und der optischen Dichte des erhaltenen Bildes variiert in gewissem Ausmass auf Grund der Bedingung der Ausbildung der Metallschicht, beispielsweise Vakuumaufdämpfung, jedoch wird allgemein, grob gesprochen, praktisch die gleiche Beziehung aufrechterhalten. Obwohl es nicht stört, die Stärke der Metallschicht dicker als notwendig zur Erzielung der gewünschten optischen Dichte zu machen, ist dies ungünstig, da die Materialien für die Metallschicht verloren gehen und die Ätzbehandlung zur Bildausbildung eine zu lange Zeit erfordert. Ausserdem verursacht eine zu lange Ätzzeit eine Schädigung der Eigenschaften der lichtempfindlichen Harzmasse in bestimmten Fällen. Wenn die vorstehend aufgeführten Nachteile in Betracht gezogen werden, sollten Stärken grosser als notwendig vermieden werden.

Die Bildausbildungsmaterialien mit dem bisher beschriebenen Aufbau können gemäss den Verfahren hergestellt werden, die in der US-Patentschrift 4 008 084 und der Japanischen Patentanmeldung 99814/77 entsprechend den US-Patentanmeldungen 768 671 vom 14. Februar 1977 und 921 540 vom 3- Juli 1978 und dgl. beschrieben sind.

Nachfolgend wird die bildweise Belichtung und die Entwicklungsbehandlung der Bildausbildungsmaterialien mit dem vorstehend beschriebenen Aufbau im einzelnen erläutert. Das zu kopierende Originalbild, beispielsweise ein bildtragendes Dia, wird eng auf die lichtempfindliche Schicht aus der Harzmasse oder die Schutzschicht aufgelegt und die Schicht wird mit aktinischer Strahlung durch das Original bestrahlt.

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Andererseits können die Originalbilder verkleinert, gleichgerichtet oder vergrössert werden, indem ein optisches Linsensystem zwischen das Original und das Bildausbildungsmaterial gebracht wird und durch das erhaltene Bild wird das Bildausbildungsmaterial an aktinische Strahlung ausgesetzt. Die bildweise Belichtung kann in der Weise erfolgen, dass die Intensität der Strahlung (Intensität der Belichtung) so eingestellt wird, dass die Belichtung innerhalb eines Zeitraumes von etwa 0,5 Sekunden bis etwa 3 Minuten, vorzugsweise etwa 1 Sekunde bis etwa 2 Minuten und stärker bevorzugt etwa 2 Sekunden bis etwa 1 Minute, beendet ist. Im allgemeinen wird die bildweise Belichtung bei Raumtemperatur, entsprechend einer Temperatur innerhalb des Bereiches von etwa 10° C bis etwa 40° C, ausgeführt, jedochT^Sje gewünschtenfalls auch bei Temperaturen oberhalb 40° C bis etwa 80° C durchgeführt werden. Im Fall eines Bildausbildungsmaterials mit einer Schicht aus einer photopolymerisierbaren Masse als oberster Schicht muss die bildweise Belichtung praktisch in Abwesenheit von Sauerstoff durchgeführt werden, d. h. unter verringertem Druck oder in Gegenwart eines Inertgases, wie Stickstoff, Kohlendioxid oder dgl.

Lichtquellen, die Licht mit dem Gehalt an aktiver Strahlung bei Wellenlängen innerhalb des Bereiches von etwa 280 nm bis etwa 500 nm emittieren, können als spezifische Beispiele Hochdruckquecksilber-Dampflampen, Xenonentladungslarapen, Kohlenbogenlampen, Fluoreszenzentladungslampen zum Kopieren, Laserstrahlen und dgl., bei der bildweisen Belichtung angewandt werden. Ausser den vorstehend aufgeführten Lampen können Elektronenstrahl en und Röntgenstrahlen gleichfalls als Bestrahlungsquellen eingesetzt

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werden. Falls CET, Laserstrahlen oder Elektronenstrahlen eingesetzt werden, können sämtliche Teile der Originalbildes an das Licht gleichzeitig ausgesetzt werden oder das Originalbild kann an das Licht mittels Raster ausgesetzt werden.

Nach der bildweisen Belichtung werden die Bildausbildungsmaterialien mit einer Entwicklungslösung entwickelt. Die bevorzugten Entwicklungslösungen sind alkalische wässrige Lösungen. Als alkalische Substanzen können NaOH, KOH, Na^PO^, Na₂CO₅ und dgl. eingesetzt werden. Spezifische Beispiele für Entwicklungslösungen der Art, die aus alkalischen wässrigen Lösungen aufgebaut sind, umfassen diejenigen, die in den japanischen Patent-Veröffentlichungen 23045/69, 32714/71 entsprechend der US-Patentschrift 3 475 I71, und 20964/72 entsprechend der US-Patentschrift 3 647 443 und der britischen Patentschrift 1 320 340, den japanischen Patentanmeldungen 34323/74, 62427/77, entsprechend der US-Patentanmeldung 632 726 vom I7. November 1975 und der DE-OS 2 651 864, und 99 101/77, entsprechend der US-Patentschrift 4 098 und dgl. beschrieben sind. Verfahren zur Auftragung der Entwicklungslösungen auf die lichtempfindlichen Schichten aus den Harzmassen der Bildausbildungsmaterialien sind ebenfalls in sämtlichen vorstehenden Patentschriften angegeben. Beispielsweise können die Bildausbildungsmaterialien in die Entwicklungslösung eingetaucht, mit der Entwicklungslösung unter Anwendung von Walzen, Bürsten oder ähnlichen Massnahmen überzogen oder mit der Entwicklungslösung besprüht werden.

Das in dieser Weise entwicklungsbehandelte Bildausbildungsmaterial kann gewünschtenfalls mit Wasser gewaschen werden.

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Das."erhaltene. Bildausbildungsmaterial Wird dann mit dein oder den mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln oder mit einem Gemisch aus Wasser und dem oder den mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln behandelt. Eine grosse Vielzahl von organischen Lösungsmitteln 1st , in Pocket Book Of Solvents, Japan Society for Organic Synthetic Chemistry,Ohmu Go., (1967) beschrieben und kann als mit Wasser; mischbare organische Lösungsmittel angewandt werden. Als Beispiele derartiger Lösungsmittel seien aufgeführt Alkohole, Alkylenglykolalkyläther und Alkylenglykolaryläther. Geeignete Beispiele von derartigen Alkoholen sind aliphatische Alkohole mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Methanol, Äthanol, Propanol, Butanol, Xsopropylalkohol, Isoamylalkohol und dgl., und aromatische Alkohole mit 7 bis 8 Kohlenstoffatomen, beispielsweise Benzylalkohol, ß-Phenyläthylalkohol und dgl. Geeignete Beispiele für Alkylenglykolalkyläther sind, solche mit 3 bis 9 Kohlenstoffatomen, worin: die Alkylenglykoleinheit 2 bis 6 Kohlenstoff atome besitzt, die sich wiederholende Glykoleinheit im Bereich von Λ bis 3 und die Alkyleinheit hiervon im Bereich von 1 bis 5 Kohlenstoffatomen liegt, wie Xthylenglykol mono ine thyläther, Äthylenglykolmonoäthyläther, Äthylenglykolmonoisopropyläther, Äthylenglykolmonobutyläther, Diäthylenglykolmonomethyläther, Diäthylenglykolmonoäthyläther, DiäthylenglykolmonObutyläther, Ithylen- -glykolisoamyläther, Triäthylenglykolmönomethyläther, Triäthylenglykolmonoäthyläther, Propylehglykölmonomethyläther, Propylenglykolmonoäthyläther, Propylenglykolmonobutyläther, Dipropylenglykolmonoäthyläther und dgl. Spezifische Beispiele für Alkylenglykolaryläther sind solche, worin der Arylanteil 6 bis 7 Kohlenstoffatome besitzt, wie

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Äthylenglykolraonophenyläther, Äthylenglykolmono-p-tolyläther und dgl. Weiterhin können die vorstehend aufgeführten organischen Lösungsmittel auch in Kombination eingesetzt werden. Die bevorzugteren organischen Lösungsmittel unter den vorstehend aufgeführten Lösungsmitteln sind Benzylalkohol, Alkylenglykolmonoalkyläther, vorzugsweise Äthylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonoäthyläther, Äthylenglykolmonoisopropyläther und Äthylenglykolmonobutyläther und Äthylenglykolmonophenyläther und Kombinationen hiervon. Auch Gemische von Wasser und den mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln werden bevorzugt verwendet. In diesem Pail sind die bevorzugt verwendeten organischen Lösungsmitteln die gleichen, wie sie vorstehend als bevorzugte organische Lösungsmittel angegeben sind. Das volumenmässige Mischverhältnis von Wasser zu dem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel liegt im Bereich von etwa 100 : 0,2 bis 100 : 10 und vorzugsweise von etwa 100 : 0,5 bis 100 : 7·

Als Verfahren zur Aufbringung der mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel oder der Gemische aus Wasser und den mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln auf das entwicklungsbehandelte Bildausbildungsmaterial dienen verschiedene Verfahren ähnlich den für die Aufbringung der Entwicklungslösungen hierauf beschriebenen Verfahren. Spezifisch kann die Aufbringung des mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittels oder des Gemisches auf das Bildausbildungsmaterial beispielsweise durch Eintauchung des Bildausbildungsmaterials in das vorstehend abgehandelte organische Lösungsmittel oder Gemisch, Aufziehen des vorstehend abgehandelten organischen Lösungsmittels oder Gemische auf die ent-

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wicklungsbehandelte lichtempfindliche Schicht aus der Harzraasse unter Anwendung einer Walze,eines Einseis oder einer Bürste oder durch Aufsprühen des vorstehend abgehandelten organischen Lösungsmittels oder Gemisches auf die entwicklungsbehandelte lichtempfindliche Schicht aus der Harzmasse erfolgen. Die vorstehenden Behandlungen werden bei einer Temperatur von etwa 10° C bis etwa 60° C und vorzugsweise etwa 15° C bis etwa 50° C, durchgeführt. Das organische Lösungsmittel oder im Fall des Gemisches das Mischverhältnis und die Behandlungstemperatur werden so gewählt, dass die zur Behandlung erforderliche Zeit etwa 0,5 Sekunden bis etwa 2 Minuten und bevorzugt etwa Λ Sekunde bis 1 Minute zur Auflösung und vollständigen Entfernung der Hicht-Bildteile der lichtempfindlichen Schicht aus der Harzmasse, die zu. entfernen ist, beträgt.

Nachdem das Bildausbildungsmaterial mit dem oder den mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln oder mit dem Gemisch aus Wasser und dem oder den mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmitteln in der vorstehend geschilderten Weise behandelt wurde, wird es gegebenenfalls mit Wasser gewaschen und getrocknet.

Der Hauptvorteil bei der Behandlung des mit einer . üblichen Entwicklungslösung entwicklungsbehandelnden Bildausbildungsmaterials nach dem erfindungsgemässen Verfahren liegt darin, dass eine Reibbehandlung unter Anwendung von Bürsten oder Schwämmen zur vollständigen Entfernung der Nicht-Bildteile der lichtempfindlichen Schicht aus der Harzmasse, die üblicherweise beim Verfahren der Entwicklung oder der Wäsche durchgeführt wurde, unnötig wird. Falls deshalb das erfindungsgemasse Verfahren in

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einer Entwicklungsvorrichtung ausgeführt wird, benötigt die Entwicklungsapparatur keine Abriebeinrichtung mit Bürsten oder Schwämmen und kann lediglich mit einer Vorrichtung ausgestattet sein, worin die Einzelbehandlungen unter Anwendung der angegebenen Flüssigkeiten allein durchgeführt werden. Deshalb kann der Aufbau der Entwicklungsapparatur selbst vereinfacht werden und infolgedessen werden zahlreiche Probleme verringert und die Kosten der Entwicklungsapparatur v/erden signifikant erniedrigt .

Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen anhand der folgenden Beispiele erläutert.

Beispiel 1 und Vergleichsbeispiel 1

Etwa 400 mg einer Al-Fe-Legierung (Atomverhältnis 1:1) wurde in ein innerhalb einer Vakuumverdampfungsapparatur angeordnetes Verdampfungsschiffchen gegeben und die Al-Fe-Legierung wurde zu einer Dünnschicht von etwa 100 nm Stärke auf einen Polyäthylenterephthalatfilm mit einer Stärke von 100 /um vakuumabgeschieden, der in einem Abstand von etwa 30 cm von dem Verdampfungsschiffchen angeordnet war. Der Druck in der Vakuumver-

—4 dampfungsapparatur betrug etwa 5 x 10 Torr. Auf den in dieser Weise abgeschiedenen Metallaufdampffilm wurde eine aus den folgenden Gewichtsteilen aufgebaute lichtempfindliche Masse aus den Bestandteilen unter Anwendung einer Drehüberzugsmaschine so aufgezogen, dass die Stärke derselben etwa 3/um im Trockenzustand betrug ,und bei einer Temperatur von 100° C während eines Zeitraums von 2 Minuten getrocknet.

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Zusammensetzung der lichte nip findlichen Harzmassenschicht:

Benzylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymeres (Molverhältnis = 73:27,

= 0,1) 1 g

Pentaerythrittetraacrylat 0,8 g

N-Methyl-2-benzoylmethylen-ß-

naphthothiazol 0,05 g

Behensäure 0,02 g

Methyläthylketon 7 g'

Methylcellosolveacetat 7 g

Methyläthylketon

Dann wurde auf die erhaltene lichtempfindliche Schicht eine Schutzschichtmasse mit dem Gehalt der folgenden Gewichtsbestandteile zu einer Trockenabdeckung von 3/um unter Anwendung einer Drehüberzugsmaschine aufgezogen und dann bei 100° C während 3 Minuten getrocknet.

Zusammensetzung der Schutzschicht:

Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad:

86,5 bis 89,0 Mol%) 4. _g

Methanol 16 g

Wasser .8Og

Kolloidale Kieselsäure (Korndurchmesser: etwa 0,3/Um) 0,1 g

Eationisches oberflächenaktives

Mittel von Carbonsäuretyp "ANON LG"

(Produkt der Nippon Oils & Fats Co.,

Ltd.) 0,5 g

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Kationisches oberflächenaktives Mittel vom Carbonsäuretyp "Anon BF"

(Produkt der Nippon Oils & Past Co.,

Ltd.) 0,5 S

Das in dieser Weise erhaltene lichtempfindliche Material wurde in einem Abstand von 1 m von einem PS-Licht (2 kw-Metallhaiοgenidlampe der Fuji Photo Film Co., Ltd.) angeordnet und bildweise während 30 Sekunden belichtet. Dann wurde das erhaltene lichtempfindliche Material den Entwicklungs- und Waschbehandlungen unterworfen, indem es aufeinanderfolgend durch vier Tanks der Entwicklungsapparatur "RAPIDOPRINT-DD 1437" der Agfa-Gevaert Co. geführt wurde. Der erste und zweite Tank enthielt eine Entwicklungslösung mit der folgenden Zusammensetzung bei 35 bis 70° C, während der dritte und vierte Tank Leitungswasser mit dem Gehalt an Benzylalkohol in einer Konzentration von 2 Vol.% enthielten. Die erforderliche Zeit zum Durchführen durch jeden Tank betrug 7 Sekunden.

Zusammensetzung der Entwicklerlösung;

Natriumhydroxid 15 S

Natriumbromat (NaBrO^) 10 g Natriumphosphat (Na₅PO₄-12H₂O) 0,5 S Wasser 1 1

Die unbelichteten Teile der behandelten lichtempfindlichen Schicht des lichtempfindlichen Materials wurden vollständig entfernt.

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Getrennt wurde das lichtempfindliche Material in der gleichen Weise wie vorstehend behandelt, wobei jedoch lediglich Leitungswasser, zu dem kein Benzylalkohol zugegeben worden war, als Waschlösung verwendet wurde. In diesem Fall konnten die unbelichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht nicht vollständig entfernt werden, und es wurde ein starker Betrag an Rückstand beobachtet. _; -

Beispiele 2 bis 5

Das gleiche lichtempfindliche Material wie in Beispiel Λ erhielt die gleichen Behandlungen wie in Beispiel 1, wobei jedoch anstelle des Benzylalkohol enthaltenden Leitungswassers im dritten; Tank eine wässrige Lösung mit 4 Vol.% Ithylenglykolmonobutyläther, eine wässrige Lösung mit 1 Vol.% Äthylenglykolmonophenläther, eine wässrige Lösung mit 4- Vol.% Diäthylenglykolmonomethyläther bzw. eine wässrige Lösung, die sowohl Benzylalkohol in einer Konzentration von 0,5 Vol.% als auch Äthylenglykolmonophenyläther in einer Konzentration von -O.,_:5 Vol.% enthielt_v bei den Beispielen 2 bis $ verwendet würden. Wie in Beispiel Ί wurden auch in.den Beispielen 2 bis günstige Ergebnisse erhalten. ■

Beispiel 6

Das gleiche lichtempfindliche Material wie in Beispiel 1 erhielt die gleichen Behandlungen wie in Beispiel Λ bis zur Entwicklungsstufe, d. h. entsprechend den in dem ersten und dem zweiten Tank ablaufenden Entwicklungsbehandlungen. Dann würde das entwickelte licht-

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- ,25 -

empfindliche Material aus der Entwicklungsapparatur entnommen und in Benzylalkohol in einer Wanne während 7 Sekunden eingetaucht und dann in Wasser in einer Wanne während 7 Sekunden eingetaucht. Nach der Entfernung aus der Wanne wurden klar entfernte Bereiche an den unbelichteten Teilen der lichtempfindlichen Schicht beobachtet.

Beispiel 7

Eine lichtempfindliche Masse mit dem Gehalt der folgenden Bestandteile wurde auf einen Polyäthylenterephthalatfilm mit einer Stärke von 100/um zu einer Trockenabdeckung von .3/Um unter Anwendung einer Drehüberzugsmaschine aufgezogen und bei einer Temperatur von 100° G während 2 Minuten getrocknet.

Zusammensetzung der lichtempfindlichen Harzmassenschicht:

Benzylmethacrylat-Me thacrylsäure-Copolymeres (wie in Beispiel 1) Pentaerythrittetraacrylat 4-,4-'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

2-o-Chlorphenyl-4,5-diphenylimidazolyl-Dimeres

Schwarzes Pigment "Microlith 4G Black" ( Bayer A.G.) Methyläthylketοη Methylcellosolveacetat

Dann wurde die gleiche Polyvinylalkoholmasse wie in Beispiel 1 in gleicher Weise auf die lichtempfindliche Schicht aufgezogen und in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 getrocknet. Das dabei erhaltene lichtempfindliche

1	6
0	,72 g
30	mg
60	mg
500	mg
10	g
10	g

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- Zo-

Material wurde aufeinanderfolgend der bildweisen Belichtung, Entwicklung und Waschbehandlung in der gleichen Weise.wie in Beispiel Λ unterworfen. Dabei wurden die unbelichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht vollständig entfernt und es wurden günstige Ergebnisse erhalten.

Das gleiche lichtempfindliche Material wurde in der gleichen Weise wie im Vergleichsbeispiel 1 behandelt und das erhaltene Ergebnis wurde mit demjenigen von Beispiel 7 verglichen. Dabei verblieb ein starker Anteil des unbelichteten Bereiches unentfernt als Bückstand und es zeigte sich ein markanter Unterschied zwischen diesem. Vergleich und dem Ergebnis von Beispiel 7·

Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne dass die Erfindung hierauf begrenzt ist. .

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Claims

2918384 Patenten spräche

1." - Verfahren zur Behandlung eines Bildausbildungsmaterials, bestellend aus einem Träger mit einer darauf befindlichen lichtempfindlichen Schicht aus einer Harzmasse, dadurch gekennzeichnet, dass nach der bildweisen Belichtung und Entwicklung die erhaltene lichtempfindliche Schicht mit einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel oder einem Gemisch aus Wasser und einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel behandelt wird. - _: ---■-■-..".-

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als organisches Lösungsmittel Alkohole, Alkylenglykolalkyläther und/oder Alkylenglykolaryläther verwendet werden.

3· Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Alkohol Methanol, Äthanol, Propanol, Butanol, Isopropylaikohol, Isoamylaikohol, Benzylalkohol und/oder ß-Phenyläthylalkohol verwendet wird.

4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Alkylenglykolalkyläther Äthylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonoäthyläther, Äthylenglykolmonoisopropyläther, Ithylenglykolmonobutyläther, Diäthylenglykolmonomethyläther, Diäthylenglykolmonoäthyläther, Diäthylenglykormonobutyläther, Ithylenglykolisoamyläther,: "Triäthylenglykolmonomethyläther, Triäthylenglykolmonoäthyläther, Propylenglykolmonomethyläther, Propylenglykolraonoäthyläther, Propylenglykolmonobutyläther und/oder Dipropylenglykolmonoäthyläther verwendet wird.

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ORIGINAL INSPECTED

a·

5· Verfahren nach. Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Alkylenglykolarylether Äthylenglykolmonophenyläther und/oder Äthylenglykolmono-p-tolyläther verwendet wird.

6. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als organisches Lösungsmittel Benzylalkohol, Ä'thylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonoäthyläther, Äthylenglykolmonoisopropyläther, Äthylenglykolmonobutyläther und/oder Äthylenglykolmonophenyläther verwendet wird.

7. Verfahren nach Anspruch 1 bi's 6, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Schicht mit einem Gemisch aus Wasser und dem organischen Lösungsmittel behandelt wird.

8. Verfahren nach Anspruch 1 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass ein volumenmässiges Verhältnis von Wasser zu organischem Lösungsmittel von etwa 100 : 0,2 bis 100 : 10 angewandt wird.

9- Verfahren nach Anspruch 1 bis 8_t dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlung mit dem organischen Lösungsmittel bei einer Temperatur von 10 bis 60° C durchgeführt wird.

10* Verfahren nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass als lichtempfindliches Harz ein photopolymerisierbares lichtempfindliches Harz verwendet wird.

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11. Verfahren nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass als lichtempfindliches Harz ein mit wässriger alkalischer Lösung entwicklungsfähiges lichtempfindliches Harz verwendet wird.

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