DE2903270A1 - Lichtempfindliches gemisch - Google Patents

Lichtempfindliches gemisch

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DE2903270A1
DE2903270A1 DE19792903270 DE2903270A DE2903270A1 DE 2903270 A1 DE2903270 A1 DE 2903270A1 DE 19792903270 DE19792903270 DE 19792903270 DE 2903270 A DE2903270 A DE 2903270A DE 2903270 A1 DE2903270 A1 DE 2903270A1
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photosensitive
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Eugene Golda
Alan Wilkes
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Description

u.Z.: M 862
Case: DB-56
POLYCHROME CORPORATION
On the Hudson, Yonkers, New York, V.St.A.
" Lichtempfindliches Gemisch "
Die Technik des Offsetdrucks basiert auf der Nichtmischbarkeit von Fett und Wasser, auf der vorzugsweisen Annahme einer fetthaltigen, bildformenden Substanz durch den Bildbereich und auf der analogen Annahme einer wäßrigen Benetzungsflüssigkeit durch den Nichtbildbereich der Druckplatte.
Wenn ein fettiges Bild auf einer geeigneten Oberfläche erzeugt wird und die gesamte Oberfläche dann mit einer wäßrigen Lösung benetzt wird, stoßen die Bildbereiche das Wasser ab, während es die Nichtbildbereiche zurückhalten. Bei der anschließenden Verwendung von fetthaltiger Druckfarbe nehmen die Bildbereiche die Druckfarbe' auf, während die benetzten Nichtbildbereiche sie abstoßen. Die Druckfarbe auf den Bildbereichen wird dann auf die Oberfläche des Stoffes, auf der das Bild reproduziert werden soll, beispielsweise Papier oder Textil, übertragen. Dazu wird eine übertragungsvorrichtung, eine sogenannte Offset- oder übertragungswalze benutzt, die notwendig ist, um den Druck des Spiegelbildes zu vermeiden.
Die Art von Offsetdruckplatten, auf die sich die vorliegende Erfindung bezieht, besitzt eine Beschichtung aus einem lichtempfindlichen Gemisch auf einer Aluminiumplatte als
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_ 5 —
Substrat. Wenn die lichtempfindliche Beschichtung auf das Substrat bereits vom Hersteller aufgebracht wird, wird die Platte als vorsensibilisxerte Druckplatte bezeichnet. Wenn die lichtempfindliche Beschichtung dagegen vom Drucker oder handwerklichen Plattenhersteller auf das Substrat aufgebracht wird, dann wird die Platte als "Aufwisch (wipe-on)-Platte" bezeichnet. Je nach der Art der verwendeten lichtempfindlichen Beschichtung kann die Druckplatte entweder zur direkten Reproduktion des Bildes t mit dem sie belichtet wur-
IQ de, oder zur komplementären Reproduktion dieses Bildes ver-• wendet werden. Im ersten Fall spricht man von einer positiv arbeitenden und im zweiten Fall von einer negativ arbeitenden Druckplatte. In beiden Fällen sind die Bildbereiche der entwickelten Platte oleophil und die Michtbildbereiche hydrophil.
Wird eine negativ arbeitende Platte durch ein negatives Durchsichtsbild belichtet, dann wird der lichtempfindliche Stoff, im allgemeinen eine Diazoverbindung, gehärtet. Dadurch wird er in der desensibilisierenden Lösung unlöslich, die nach der Belichtung auf die Platte einwirken gelassen wird, um den Teil der lichtempfindlichen Beschichtung zu entfernen, der nicht durch die Belichtung gehärtet wurde, da er durch das Negativ vom Licht abgeschirmt war. Die lichtgehärtete Oberfläche einer negativen Platte ist die oleophile Oberfläche, die mit der zum Drucken verwendeten fetthaltigen Druckfarbe verträglich ist. Sie wird "Bildbereich1' genannt. Der Teil der Oberfläche,, von dem'die nicht gehärtete lichtempfindliche Beschichtung durch einen Desensibilisa-
gg tor entfernt wurde, ist hydrophil oder kann hydrophil gemacht werden und hat deshalb geringe Affinität für die fetthaltige Druckfarbe» Dieser Bereich wird als "Nichtfoildbereich" bezeichnet=
Im Gegensatz dazu ist bei der positiv arbeitenden Platte im allgemeinen der Michtbildbereich der Teil der lichtempfindlichen Diasoverbindung, der belichtet i-jurde,, nährend der
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nicht belichtete Teil entweder oleophil ist oder sich zur Umwandlung zu einem gehärteten, oleophilen, für Druckfarbe aufnahmefähigen Bildbereich durch chemische Umsetzung eignet.
Die Herstellung von positiv arbeitenden offsetdruckplatten, die mit wäßrigen alkalischen Entwicklerlösungen entwickelt werden können, ist bekannt. Dagegen erfordern negativ arbeitende vorsensibilisierte Druckplatten bisher organische Lösungsmittel als Entwickler, die aufgrund der ungünstigen Beein-
■jO flussung der Umwelt unerwünscht sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein lichtempfindliches Gemisch zu schaffen, mit dem negativ arbeitende Offsetdruckplatten hergestellt werden können, die durch wäßrige alkalische Lösungen entwickelbar sind und deshalb nicht die Verwendung von umweltschädlichen organischen Lösungsmitteln benötigen.
Diese Aufgabe wird durch den überraschenden Befund gelöst, daß aus einem lichtempfindlichen Gemisch, das aus einem negativ arbeitenden, für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator und einem Acrylsäureester eines Epoxidharzes besteht, eine negativ arbeitende Offsetdruckplatte hergestellt werden kann, deren nicht belichtete oder Nichtbildbereiche durch wäßrige alkalische Entwickler entwickelt werden können. Besonders geeignet als Photosensibilisator ist das Umsetzungsprodukt des Kondensationsproduktes von Paradiazodiphenylamin und Paraformaldehyd mit 2,2-Hydroxy-(4-methoxybenzophenon)-5-sulfonsäure. Bevorzugte Harze sind Styrollösungen von Methacrylsäureestern von Epoxidharzen und Diacrylsäureester von flüssigen Bisphenol A-Epoxidharzen.
In der ersten Stufe des Verfahrens zur Herstellung der Offsetdruckplatte kann die Metallplatte, die vorzugsweise aus Aluminium oder dessen Legierungen besteht und gegebenenfalls nach bekannten Körnungs- und/oder Ätz- und/oder anodi-
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sehen Oxidationsverfahren vorbehandelt wurde, mit einer zur Verwendung als Zwischenschicht für Offsetdruckplatten geeigneten Verbindung beschichtet werden. Die Beschichtung kann durch Besprühen, Aufbürsten oder Eintauchen erfolgen. Die übliehen Vorbehandlungen des Metallsubstrats umfassen elektrolytisches anodisches Oxidieren in Schwefel-, Chrom-, SaIz- und/oder Phosphorsäure, elektrolytisches Ätzen in Salz- oder Phosphorsäure und chemisches oder mechanisches Körnen nach bekannten Verfahren. Als Zwischenschichten eignen sich im Rahmen der vorliegenden Erfindung wäßrige Lösungen von Alkalisilikaten, Kieselsäure, Polyacrylsäure, den Alkalizirkoniumfluoriden, wie Kaliumzirkoniumhexafluorid oder Fluorozirkoniumsäure in Konzentrationen von 0,5 bis 20 Volumenprozent. Bevorzugt ist eine Konzentration von 3 bis 8 % und besonders bevorzugt von 4 bis 5 %.
Das vorbehandelte Substrat wird dann in bekannter Weise mit einer lichtempfindlichen Beschichtung aus einem Gemisch aus einem negativ arbeitenden für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator und einem Harz, das aus Acrylsäureestern von Epoxidharzen besteht, beschichtet.
Das erfindungsgemäße lichtempfindliche Gemisch eignet sich auch zur Herstellung von säurefesten Schutzschichten (Photoresist), wenn das Metallsubstrat durch ein geeignetes, elektrisch nicht leitendes Substrat, wie Silicium, ersetzt wird.
Bevorzugte negativ arbeitende, für den Offsetdruck geeignete Photosensibilisatoren sind Photopolymerisate, wasserunlösliche Diphenylamindiazoniumsalze, die mit einer Verbindung mit reaktiven Carbonylgruppen, wie Aldehyde und Ketone, kondensiert wurden. Derartige Photosensibilisatoren und die entsprechenden Kondensationsverfahren sind bekannt und beispielsweise in den üS-PSen 3 219 447 und 3 591 575 beschrieben.
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Geeignete lichtempfindliche Diazoniumverbindungen können . durch Umsetzung von
(1) einer wasserlöslichen, lichtempfindlichen Diazoniumverbindung, nämlich Paradiazodiphenylamin oder das Kondensationsprodukt von Paradiazodiphenylamin mit Formaldehyd, Formaldehyd-Zinkchlorid oder Paraformaldehyd mit
(2) einem hydroxylgruppenhaltigen aromatischen Kupplungsmittel, nämlich gegebenenfalls mit einer weiteren Hydroxylgruppe oder bis zu zwei niederen Alkoxyresten substituiertes Hydroxybenzophenon oder Resorcin, Naphtholsulfonamid, Naphtholsulfonsäure oder SuI-fonanthranilsäure, hergestellt werden. Diese Umsetzung wird in inerter wäßriger Lösung bei einem pH-Wert von etwa 1,5 bis 7,5 durchgeführt, um die Verharzung des Um-Setzungsproduktes und einen Verlust der Lichtempfindlichkeit der Diazoniumgruppe zu vermeiden. Die Diazoniumverbindung wird dann als wasserunlöslicher Niederschlag durch Abtrennen aus dem Reaktionsgemisch in Form eines trockenen Pulvers gewonnen.
Spezielle Beispiele für bevorzugte hydroxylgruppenhaltige aromatische Kupplungsmittel sind: 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon, 2,2"-Dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenon, 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon, Natrium-2,2'-dihydroxy-4,4·-dimethoxy-5-sulfobenzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure und das Trihydrat von 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure.
Ein besonders bevorzugter Photosensibilisator ist das Umsetzungsprodukt von Paradiazodiphenylamin, kondensiert mit Formaldehyd oder Paraformaldehyd, und 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure.
Als Harze eignen sich in den erfindungsgemäßen lichtempfindliehen Gemischen Acrylsäureester von Epoxidharzen. Bevorzugte Harze für die Herstellung der lichtempfindlichen Beschich-
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1 tung sind Styrollösungen von Methacrylsäureestern von Epoxidharzen. Diese Harze haben die allgemeine Formel I
CH O
I 3 Il
QH
CH9=C - C-O-CH0-CH-CH -0-
CH
OH
rx ■ *
(\ /)"C-V N>0-CH_-CH-CH_-0
CH,
CH-" . OH. . 0 CH
j 3 " J Κ j 3
£~>Vo-CH -CH-CH0-Q-C-C = CH 2. ■ λ
CH,
(D
15 in der η einen Wert von 1 bis 5 hat.
Andere bevorzugt verwendete Harze sind die Diacrylsäureester von flüssigen Bisphenol Α-Epoxidharzen.. Diese Harze haben die allgemeine Formel II
OH
CH ^CH-C-O-CH-CH-CH9-O-
.CH,
r/NVc
J Vr.
CH0
-0
CH.
OH "'" Ö
ι · · ir
-C -^y -0-CH2-CH-CH2-O-C-CH=CH CH3-
in der η einen Wert von 1 bis 5 hat.
CII)
Ein bevorzugtes Verhältnis von Photosensibilisator su Harz ist ' 1 Gewichtsteil Photosensibilisator auf etwa Oj.5 bis 35 20„0 Geitfichtsteile Harz. Besonders bevorzugt ist ein Verhältnis von 1 Gewichtsteil Photosensibilisator auf etwa 1 bis et-
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Γ "I
wa 8 Gewichtsteile Harz. Geringere Mengen von anderen Harzen, wie Epoxide ., Polyester oder Polyurethaney können gegebenenfalls in der lichtempfindlichen Beschichtungslösung enthalten sein.
Zur Herstellung der Beschichtungslösung werden sowohl der
Photosensibilxsator als auch das Harz in einem geeigneten Lösungsmittelsystem gelöst. Anschließend werden die Lösungsmittel verdampft. Spezielle Beispiele für verwendbare Lösungsmittel sind Methanol, Methylendichlorid, Äthylenglykolmonomethylather und N,N-Dimethylformamid.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Beschichtung kann nach dem Aufbringen und Trocknen auf einem geeigneten Substrat in
bekannter Weise belichtet und zur Entfernung der nichtbelichteten Nichtbildbereiche unter Verwendung von wäßrigen alkalischen Lösungen entwickelt werden. Die wäßrigen alkalischen
Entwicklerlösungen können beispielsweise Triäthanolamin,
Monoäthanolamin, wasserfreies Natriumsulfit, Natriumlauryl-
sulfat, Lithiumbenzoat oder das Natriumsalz von 1-Heptyl-2-imidazolin-ß-äthoxypropionsäure enthalten.
Die Beispiele erläutern die Erfindung.
Beispieli
Eine Aluminiumplatte wird mechanisch gekörnt und mit Wechsel- · strom in 18prozentiger Schwefelsäure bei einer Stromdichte
von etwa 2,6 Amp. . min/dm2 und einer Temperatur von 320C
anodisch oxidiert. Sodann wird die Aluminiumplatte bei einer
Temperatur von 82 0C 30 Sekunden in eine 5prozentige Natriumsilikatlösung getaucht.
Hierauf wird die derart vorbehandelte Aluminiumplatte mit
einem Gemisch· ■ folgender Zusammensetzung (in Gewichtsteilen) beschichtet.
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1 Teil Kondensationsprodukt von Paradiazodiphenylamin mit Formaldehyd, anschließend umgesetzt mit 2,2-Hydroxy-(4-methoxybenzophenon)-5— sulfonsäure
5 Teile Styrollösung des Methacrylsäureesters eines Epoxidharzes (Formel I)
0,2 Teile Farbstoff Basic Blue 1 0,05 Teile Methylorange
gelöst in:
20 Teile Äthylenglykolmonomethyläther
45 Teile Methylendichlorid
30 Teile Methanol.
Die erhaltene lichtempfindliche Beschichtung wird 30 Sekunden durch ein Standard-Offsetnegativ mit einer 5 KW-Quecksilberdampflampe belichtet. Die nicht belichteten Bereiche werden mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler folgender Zusammensetzung (in Gewichtsteilen) entfernt:
3 Teile Triäthanolamin
0,2 Teile Monoäthanolamin
0,6 Teile wasserfreies Natriumsulfit
9 Teile Natriumlaurylsulfat
87,2 Teile Wasser
pH = 10,8.
Der Entwickler entfernt die nicht belichteten Teile der lichtempfindlichen Beschichtung von den Nichtbildbereichen. und beläßt die Bildbereiche als zähe, oleophile, für Druckfarbe aufnahmefähige Beschichtung, die durch photoinitiierte Umsetzungen infolge der Belichtung mit UV-Strahlung entstanden ist. Die erhaltene Druckplatte kann auf einer üblichen Gewebepresse für 250 000 Drucke benutzt werden.
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- 12 - 29Ο327Ό
Beispiel 2
Eine Aluminiumplatte wird wie in Beispiel 1 vorbehandelt und danach mit einem Gemisch folgender Zusammensetzung (in Gewichtsteilen) beschichtet:
5
1,5 Teile Kondensationsprodukt von Paradiazodiphenylamin mit Formaldehyd, anschließend umgesetzt mit 2,2-Hydroxy-4-(methoxybenzophenon)-5-sulfonsäure
4 Teile Diacrylsäureester von flüssigen Bisphenol-A-Epoxidharzen(Formel II)
0,3 Teile Farbstoff Solvent Red 7
gelöst in:
50 Teile Äthylenglykolmonomethyläther
N,N-Dimethylformamid Methylendichlorid
Methanol.
Die erhaltene lichtempfindliche Beschichtung wird 30 Sekunden durch ein Standard-Offsetnegativ mit einer 5 KW-Quecksilberdampflampe belichtet. Die nicht belichteten Bereiche werden mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler folgender Zusammensetzung (in Gewichtsteilen) entfernt:
2o Teile Lithiumbenzoat
10 Teile Natriumsalz von 1-Heptyl-2-imidazolin-ßäthoxypropionsäure
70 Teile Wasser
pH = 10,3.
Der Entwickler entfernt die nicht belichteten Teile der lichtempfindlichen Beschichtung von den Nichtbildbereichen und beläßt die Bildbereiche als zähe, oleophile, für Druckfarbe aufnahmefähige Beschichtung, die durch photoinitiierte Um-
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gelöst in: Teile
50 Teile
10 Teile
20 Teile
15
Setzungen infolge der Belichtung mit UV-Strahlung entstanden ist. Die erhaltene Druckplatte kann auf einer üblichen Plattenspeicherpresse für 125 000 Drucke benutzt werden.
Beispiel 3
Eine Äluminiumplatte wird in bekannter Weise in einer 2,5prozentigen Salzsäurelösung elektrochemisch gekörnt. Anschließend wird die Platte in 18prozentiger Schwefelsäure bei einer Temperatur von 320C und einer Stromdichte von 2,1 Amp . min/dm2 anodisch oxidiert. Hierauf wird die Aluminiumplatte bei einer Temperatur von 82"C 45 Sekunden in eine 5prozentige Natriumsilikatlösung getaucht. .
Die derart vorbehandelte Aluminiumplatte wird sodann mit einem Gemisch \folgender Zusammensetzung (in Gewichtsprozent) beschichtet.
O,5 Teile Kondensationsprodukt von Paradiazodiphenylamin mit Formaldehyd, danach umgesetzt mit 2 ,2-Äthoxy- (4^-methoxybenzophenon) -5-sulfonsäure,
2 Teile Styrollösung von MethacryIsäureestern eines
Epoxidharzes (Formel I)
1,5 Teile Polyesterharz
0,2 Teile Farbstoff Solvent Blue 60
gelöst in;
20 Teile Äthylenglykolmonomethylather
45 Teile Methylendichlorid
30 Teile Methanol
3 Teile M, Ni-D imethy !formamid.
Die erhaltene lichtempfindliche Beschichtung wird 30 Sekunden durch ein Standard-Offsetnegativ mit einer 5 KW-Quecksilher-
Dampflampe belichtet» Die nicht belichteten Bereiche werden danach mit der in Beispiel 2 verwendeten wäßrigen alkalischen Entwicklerlösung entfernt» Der Entwickler entfernt leicht
L 909834/0645 J
die nicht belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Beschichtung aus den Nichtbildbereichen. Die erhaltene Druckplatte kann auf einer üblichen Plattenspeicherpresse für 65 000 Drucke verwendet werden.
Beispiel 4
Eine Aluminiumplatte wird mechanisch gekörnt und danach in einer 25prozentigen Phosphorsäurelösung chemisch geätzt, wobei etwa 15 mg/dm2 Metall abgeätzt werden. Sodann wird die ■jO Platte gemäß Beispiel 1 anodisch oxidiert und mit der Natriumsilikatlösung behandelt.
Die derart vorbehandelte Aluminiumplatte wird hierauf mit einer Beschichtungslösung folgender Zusammensetzung (in Gewichtsteilen) beschichtet:
1 Teil Kondensationsprodukt von Paradiazodiphenylamin mit Formaldehyd, anschließend umgesetzt mit 2,2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon)-
5-sulfonsäure
3 Teile Styrollösung von Methacrylsäureestern eines
Epoxyharzes (Formel I) 1,75 Teile Epoxidharz (0,25 Teile Polyurethanharz)
0,2 Teile Farbstoff Basic Blue 1
0,05 Teile Methylorange
gelöst in:
60 Teile Methylendichlorid
40 Teile Methanol.
Die erhaltene lichtempfindliche Beschichtung wird gemäß Beispiel 1 mit UV-Strahlung belichtet. Die nicht belichteten Bereiche werden mit der in Beispiel 1 verwendeten wäßrigen alkalischen Entwicklerlösung entfernt. Die erhaltene Druck— platte wird hierauf einem beschleunigten Lagerhaltungstest unterzogen. Dabei wird festgestellt, daß die Druckplatte auch
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nach einer simulierten Lagerhaltung von 2 1/2 Jahren eine gute Bildqualität aufweist. Sie kann auf einer üblichen Gewebepresse für 180 OOO Drucke benutzt werden.
Beispiel 5
Eine Aluminiumplatte wird gemäß Beispiel 1 vorbehandelt und danach mit einer Beschichtungslösung folgender Zusammensetzung (in Gewichtsteilen) beschichtet.
1 Teil Kondensationsprodukt von Paradiazodiphenylamin mit Formaldehyd, anschließend umgesetzt mit 2,2-Hydroxy- (4-methoxybenzophenon) -5-suIf onsäure
5 Teile Diacrylsäureester von flüssigen Bisphenol A-Epoxidharzen (Formel II)
0,3 Teile Farbstoff Solvent Blue 67
gelöst in: Teile Äthylenglykolmonomethylather
20 Teile Methylendichlorid
45 Teile Methanol.
30
Die erhaltene lichtempfindliche Beschichtung wird wie in Beispiel 1 belichtet. Sodann werden die nicht belichteten Bereiche mit der in Beispiel 1 beschriebenen wäßrigen alkalischen Entwicklerlösung entfernt. Die erhaltene Druckplatte liefert ähnliche Ergebnisse wie die von Beispiel 1.
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Claims (1)

  1. . SIEBERTSTRASSE 4 . 8OOO MDNCHEN 86 . PHONE: (O89) 47 4O75 CABLE: B EN ZOLPATENT MÜNCHEN - TELEX 5-29 45 3 VOPAT D
    ^70
    u.Z.: M 862 (Vo/kä)
    Case: DB-56
    POLYCHROME CORPORATION
    On the Hudson, Yonkers, New York,, V.St.A.
    " Lichtempfindliches Gemisch "
    Priorität: 15. Februar 1978, V.St.A., Nr. 878 110
    Patentansprüche
    Lichtempfindliches Gemisch, bestehend aus einem negativ arbeitenden, für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator und einem Acrylsäureester eines Epoxidharzes.
    2«. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Harz eine Styrollösung von Methacrylsäureestern von Epoxidharzen ist.
    3» Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Harz die allgemeine Formel I aufweist
    / -CiL O
    I 3 IS
    CIL1=C - C-O-
    -CH-O-
    CIL,
    CH,
    '3
    OH
    ,-0-C-C - CH
    ORIGINAL INSPECTED
    290327Q
    1 in der η einen Wert von 1 bis 5 hat.
    4. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Harz ein Diacrylsäureester eines Bisphenol Α-Epoxidharzes ist. 5
    5. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Harz die allgemeine Formel II aufweist
    It
    OH
    CH ^CH-C-O-CH-CH-CH0-O- Δ 2 »
    OH I
    OH
    ff \\-O-CH -CH-CH -0
    It
    .'_>C -([.J)-0-CH0-CH-CH0-O-C-CH=CH
    (II)
    CH3
    in der η einen Wert von 1 bis 5 hat.
    6. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der für den Offsetdruck geeignete Photosensibilisator eine lichtempfindliche Diazoniumverbindung ist.
    7. Gemisch nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der für den Offsetdruck geeignete Photosensibilisator das Umsetzungsprodukt von
    (1) Paradiazodiphenylamin oder ein Kondensationsprodukt von Paradiazodiphenylamin mit Formaldehyd, Formaldehyd-Zinkchlorid oder Paraformaldehyd als wasserlösliche, lichtempfindliche Diazoniumverbindung und
    (2) Hydroxybenzophenon, das gegebenenfalls mit einer weiteren Hydroxylgruppe oder bis zu zwei niederen Alkoxyresten substituiert sein kann, oder
    Resorcin, Naphtholsulfonamid, Naphtholsulfonsäure oder Sulfonanthranilsaure als hydroxyl-
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    1 gruppenhaltiges aromatisches Kupplungsmittel darstellt, wobei die Umsetzung in inerter wäßriger Lösung bei einem pH-Wert von etwa 1,5 bis 7,5 durchgeführt, die Verharzung des Umsetzungsproduktes und
    g ein Verlust der Lichtempfindlichkeit der Diazoniumgruppe vermieden und die Diazoniumverbindung als wasserunlöslicher Niederschlag durch Äbtrennen aus dem Reaktionsgemisch in Form eines trockenen Pulvers gewonnen wurde.
    8. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es den Photosensibilisator und das Harz in einer Menge von etwa 1 : 0,5 bis 1 : 20 Gewichtsteilen enthält.
    15 9. Verwendung des lichtempfindlichen Gemisches nach Anspruch 1 bis 8 zur Herstellung von lichtempfindlichen Elementen, wie Offsetdruckplatten oder säurebeständigen Schutzschichten (sog. photoresists).
    9Ö9834/06AS
DE19792903270 1978-02-15 1979-01-29 Lichtempfindliches gemisch Withdrawn DE2903270A1 (de)

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