DE2725762C2

DE2725762C2 - Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform

Info

Publication number: DE2725762C2
Application number: DE2725762A
Authority: DE
Inventors: Teppei Asaka Saitama Ikeda; Toshio Uchida; Yorimiti Yabuta
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1976-06-07
Filing date: 1977-06-07
Publication date: 1986-08-28
Also published as: DE2725762A1; JPS52150104A; US4175964A; GB1563659A

Description

dadurch gekennzeichnet, daß

— vor dem Aufbringen der lichtempfindlichen Schicht die Oberfläche des Aluminiumschichtträgers einer anodischen Oxidationbehandlung unterworfen wird und

— dann diese Oberfläche aufeinanderfolgend mit (1) einer wäßrigen phosphorsäurehaltigen Lösung und (2) einer mindestens eine wasserlösliche Kieselsäure oder ein Salz derselben enthaltenden wäßrigen Lösung behandelt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine wäßrige phosphorsäurehaltige Lösung mit einer Konzentration im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-% oder eine wäßrige Lösung der wasserlösliehen Kieselsäure oder eines Salzes davon mit einer Konzentration von 0,01 bis 10 Gew.-% verwendet.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man als Kieselsäure oder als Kieselsäuresalz Orthokieselsäure oder Silicate entsprechend der Formel L2O · ζ SiO₂ verwendet, worin L für Li, Na, K, N H₄, N(CH₂OH)₄ oder N(C₂H₄OH)₄ und ζ für eine positive Zahl im Bereich von 0,2 bis 9,0 stehen.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung mit der wäßrigen Lösung bei einer Temperatur von 2O⁰C bis etwa 1°C niedriger als die Siedetemperatur der wäßrigen Lösung während eines Zeitraums von 5 s bis 5 min durchgeführt wird.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.

In letzter Zeit wurden zahlreiche Untersuchungen hinsichtlich der Herstellung von lithographischen Druckformen durchgeführt und deren Wirksamkeit bemerkenswert verbessert. Insbesondere ergab die markante Verbesserung der lithographischen Druckformen hinsichtlich des Druckverhaltens und der Lebensdauer beim Drucken einen Übergang von dem bisher angewandten Reliefdruck zum lithographischen Druck. Dies beruht zum Beispiel darauf, daß die lithographischen Druckformen in letzter Zeit eine sehr große Menge an Drucken aufgrund von Verbesserungen des Druckverhaltens ermöglichen, daß die Druckformen leicht hergestellt und angewandt werden können, daß der Zeitraum zur Herstellung einer Druckform äußerst kurz ist und daß die lithographischen Druckformen eine ausgezeichnete Entwicklungsstabilität und Formreproduzierbarkeit sowie eine hohe Lebensdauer aufweisen.

Auf dem Fachgebiet sind verschiedene lithographische Druckformen bekannt. Die genannten Vorteile werden insbesondere mit einer lichtempfindlichen Druckform unter Anwendung eines Photopolymeren als lichtempfindlicher Schicht erzielt.

Typische, in diesen Druckformen verwendete Photopolymere umfassen ein hauptsächlich aus einem lichtempfindlichen Harz vom Photovernetzungstyp aufgebautes Photopolymeres, wie es beispielsweise durch einen Polyester von p-Phenylendicrylat und 1,4-Cyclohecandiol entsprechend der BE-PS 6 96 533, die Reaktionsprodukte aus einem Phenoxyharz und Zimtsäure oder Carbonsäuren mit ungesättigten Gruppen entsprechend der US-PS 33 87 976 erläutert wird. Ferner ist ein System bekannt, welches als Hauptkomponente ein photopolymerisierbares Material enthält, beispielsweise eine Kombination aus Diäthylenglykoldiacrylat, Triäthylenglykoldimethacrylat, Pentaerythrittriacrylat und dergleichen, und einem Binder, wie einem Harz, zum Beispiel einem Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymeren, einem Styrol/Itaconsäure-Copolymeren und dergleichen.

Die lichtempfindlichen lithographischen Druckformen, die einen Überzug aus diesen Photopolymeren umfassen, werden bildmäßig durch ein Original mit dem gewünschten Negativbild belichtet und dann mit einer

bo geeigneten Entwicklungslösung, wie einem organischen Lösungsmittel, einer alkalischen wäßrigen Lösung und dergleichen, entwickelt, wobei die durch Bestrahlung mit Ultraviolettlicht gehärteten Bereiche auf dem Schichtträger der Druckform verbleiben und die unbelichteten Bereiche herausgelöst und mit der Entwicklcrlösung entfernt werden, so daß ein Stammuster oder Punkte für den Druck auf dem Druckformträger zur Ausbildung der lithographischen Druckform ausgebildet wird.

jedoch sind die vorstehend geschilderten lithographischen Druckformen vom Lösungsentwicklungstyp äußerst nachteilig, nicht nur wegen komplizierter Behandlungsstufen, da eine Entwicklungslösung verwendet werden muß, sondern auch wegen der ungesunden Arbeitsbedingungen, der Gefahren und der Umweltverschmutzung, die beim Austragen von Abfallflüssigkeiten, wie Alkalilösungen oder organischen Lösungsmitteln,

beispielsweise der Entwicklungslösungen, auftreten können.

In letzter Zeit wurden Aufzeichnungselemente, die trocken entwickelt werden können, anstelle der Druckformen, die eine Lösungsentwicklung erfordern, vorgeschlagen. Von diesen nutzen die in den JP-PS 9663/64 und 22901/68 und den JP-OS 7728/72 und 46315/75 beschriebenen Elemente die Photopolymerisierbarkeit eines Photopolymeren und die Änderung desselben bei der Haftung aus. Entsprechend diesem Versuch wird im allgemeinen eine Schicht aus einer photopolymerisierbaren Masse, die als Hauptkomponenten ein Polymeres als Bindemittel, ein ungesättigtes Monomeres und einen Initiator für die Photopolymerisation enthält auf einen Schichtträger, wie einen synthetischen Harzfilm, ein Metall, Papier und dergleichen, aufgebracht und ein dünner transparenter Film wird hierauf als Deckschicht aufgelegt Das Verfahren zur Herstellung einer Druckform unter Anwendung eines derartigen lichtempfindlichen Elements umfaßt die Belichtung des Elementes durch ein Original und die Deckschicht und das anschließende Abziehen der Deckschicht, wodurch entweder die belichteten Bereiche oder die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht auf dem Schichtträger und die anderen Bereiche auf der Deckschicht verbleiben. Dadurch werden ein negatives und ein positives Bild (oder ein positives und ein negatives Bild) gleichzeitig auf dem Schichtträger bzw. auf der Deckschicht ausgebildet.

Die US-PS 36 27 529 betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit einem Reliefbild aus einer lichthärtbaren Zusammensetzung, wobei die lichthärtbare Zusammensetzung zwischen einer transparenten Deckschicht und einem Schichtträger als Schicht angeordnet ist Nach der Belichtung haften die belichteten Bereiche einer transparenten Deckschicht und die unbelichteten Bereiche an dem Schichtträger. Die Deckschicht wird von dem Schichtträger abgelöst, wobei die an dem Schichtträger anhaftenden Bereiche freigelegt werden.

Die US-PS 31 10 596 betrifft ein Verfahren zur Entwicklung einer lithographischen Druckplatte mit einer Basisplatte, die mit einer organischen lichtempfindlichen Verbindung ausgerüstet ist. Die Basisplatte wird nach der Belichtung mit einer Salzlösung behandelt, wobei die Salzlösung Alkalimetallionen oder Ammoniumionen enthält und der pH-Wert der Lösung ist auf einen Bereich von 7 bis 12 eingestellt.

Die DE-AS 12 00 133 betrifft ein Verfahren zum Entwickeln von Flachdruckformen aus belichteten vorsensibilisierten Schichtträgern mit Hilfe alkalischer Entwicklungsmittel, wobei man die unter einer Vorlage belichteten, vorsensibilisierten Schichträger aus Aluminium oder Zink mit in dem pH-Bereich von 7 bis 12 liegenden wäßrigen Lösungen von Salzen der Fluorwasserstoffsäuren und/oder Sau.'en des Silicium und/oder des Titans und/oder des Zinns und/oder des Bors behandelt wobei sich auf den Scbichtträgern hydrophile wasserunlösliche Schichten bilden, worauf die entstandenen Druckbilder, ggf. in einer Druckmaschine mit fetter Farbe eingefärbt werden.

Die DE-AS 14 47 021 betrifft vorsensibilisierte, positiv arbeitende Metallflachdruckplatten, die in ihrer lichtempfindlichen Schicht ein Diazoharz enthalten, wobei der Metallschichtträger eine hydrophile Oberfläche aufweist, die durch Reaktion zwischen dem Metall und einem sauerstoffhaltigen Polykomplexanion einer Isopo-Iy- oder Heteropolysäure gebildet wurde, die Vanadat-, Wolfram- oder Molybdatanionen enthält, und daß sich über der hydrophilen Oberfläche ein lichtempfindliches Salz aus einem p-Diazodiphenylaminformaldehydharz und einer Iso- oder Heteropolysäure befindet, die Vanadat-, Wolframat- oder Molybdationen enthält.

Jedoch treten bei lichtempfindlichen Elementen der Art, die durch Abziehen des Deckfilmes nach der Belichtung entwickelt werden, falls ein hydrophiler Schichtträger für eine lithographische Druckform in direktem Kontakt mit der Schicht der lichtempfindlichen Masse gemäß dem üblichen Verfahren vorliegt, die folgenden Nachteile auf:

(1) Nach der bildmäßigen Belichtung verbleibt beim Abziehen der Bereiche mit stärkerer Haftung zum Deckfilm ein Teil der zusammen mit dem Deckfilm abzuziehenden Bereiche der lichtempfindlichen Schicht auf dem hydrophilen Schichtträger. Falls dieser dann als Druckform für den lithographischen Druck eingesetzt wird, haftet die Druckfarbe sogar an den Nichtbildbereichen, so daß die Nichtbildbereiche auf dem erhaltenen Druckmaterial verschmutzt sind und dieses somit für die Praxis nicht verwendbar ist. Diese Erscheinung scheint in markantem Ausmaß bei sogenannten lichtempfindlichen Materialien vom Negativtyp aufzutreten, bei denen das Bild nach der bildmäßigen Belichtung durch Abziehen der ungehärteten und nicht belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht, zusammen mit dem Deckfilm, während die belichteten gehärteten Bereiche auf dem Schichtträger verbleiben, erzeugt wird. In diesem Fall ist die Verschmutzung auf die teilweise Haftung der ungehärteten Bereiche an den hydrophilen Schichtträger zurückzuführen.

(2) Da eine oleophile lichtempfindliche Masse direkt auf einem hydrophilen Schichtträger angeordnet ist, hat die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse eine schlechte Stabilität im Verlauf der Zeit in Abhängigkeit von der Art der in der lichtempfindlichen Masse enthaltenen Komponenten. Einige Wochen nach der Herstellung ist es bisweilen bereits schwierig, ein normales Bild durch eine Abziehentwicklung zu erhalten.

(3) Falls eine lithographische Druckform vom Abziehentwicklungstyp während eines langen Zeitraumes gelagert wird, werden häufig unzählige schmutzartige Flecken auf den Nicht-Linienbildbereichen nach der bildmäßigen Belichtung und der Abziehentwicklung ausgebildet Dies dürfte deswegen erfolgen, weil die lichtempfindlichen Massen vom Abziehentwicklungstyp hydrophobe flüssige Komponenten, wie äthylenisch ungesättigte Monomere und dergleichen enthalten, in den meisten Fällen flüssige Komponenten, wie die Monomeren und dergleichen, diese Komponenten in die Körner oder Poren auf der Oberfläche des hydrophilen Schichtträgers für die Lithographie im Verlauf der Zeit eindringen und zahllose fleckenartige Schmutzbereiche auf der Oberfläche des hydrophilen Schichtträgers ausbilden, wo die Masse auf den hydrophilen Schichtträger aufgetragen ist. Die Nicht-Linienbildbereiche müssen im wesentlichen hydrophil sein, jedoch sind die Nicht-Linienbildbereiche, worauf derartiger Schmutz ausgebildet ist, nicht mehr hydrophil. Beim Drucken erfolgt eine starke Verschmutzung über den gesamten Bereich, so daß sie für den Gebrauch als lithographische Druckplatten ungeeignet sind.

Hinsichtlich des vorstehenden Gesichtspunktes (1), wo die lichtempfindliche Masse sogar auf den Nichtbildbe-

reichen verbleibt ist dies ein ernsthafter Fehler, da ein grundlegendes und notwendiges Erfordernis vom Gesichtspunkt des wirksamen Gebrauches einer lithographischen Druckplatte darin besteht, daß die Nichtbildbereiche eine hydrophile Oberfläche besitzen.

Hinsichtlich des vorstehenden Gesichtspunktes (2) sind lichtempfindliche lithographische Druckplattenelemente, die eine schlechte Stabilität im Verlauf der Zeit zeigen, in keiner Weise für die Praxis geeignet

Hinsichtlich des vorstehenden Gesichtspunktes (3) wurde nach ausgedehnten Untersuchungen mit lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten vom Abziehentwicklungstyp gefunden, daß keine speziellen Probleme mit lithographischen Druckplatten vom Abziehentwicklungstyp auftreten, wo flüssige Komponenten in die Körner oder Poren an der Oberfläche des hydrophilen Schichtträgers eingedrungen waren, and zwar vom Gesichtspunkt der Ausbildung der gewünschten Linienbilder für den Druck unter Anwendung der sogenannten Abziehentwicklung, welche die normale bildmäßige Belichtung und die Entfernung der unbelichteten Bereiche zusammen mit dem Abziehbogen umfaßt Was ein Problem darstellt sind jedoch die fleckenartigen Schmutzbereiche, die auf den Nicht-Linienbildbereichen nach der Abziehentwicklung vorhanden sind. Wenn diese Druckplatte zum Drucken verwendet werden soll, tritt eine starke Verschmutzung auf, so daß die Druckplatte in der Praxis nicht verwendbar ist Außerdem ist es äußerst schwierig, die flüssigen Komponenten, die in den Schichtträger eingedrungen sind, mit irgendeiner bekannten Gegenätzlösung oder Oberflächenbehandlungslösung für den lithographischen Druck zu entfernen, nachdem die vorstehenden flüssigen Komponenten in die Körner oder Poren an der Oberfläche des hydrophilen Schichtträgers eingedrungen sind.
Bei sämtlichen lithographischen Druckplatten ist eine wesentliche Eigenschaft, die eine lithographische Druckplatte besitzen muß, die, daß dL Druckplatte beständig sein muß gegenüber einer Verschmutzung der Hintergrundbereiche (nachfolgend Hintergrund) oder der Verschmutzung in den Nicht-Linienbereichen, d. h. Verschmutzung durch Tonen. Selbst wenn keine derartige Verschmutzung unmittelbar nach der Herstellung der Druckplatte beobachtet wird, sondern diese erst verschmutzt wird, nachdem ein bestimmter Zeitraum seit der Herstellung verstrichen ist, kann die Platte in der Praxis nicht angewendet werden.

Nach umfangreichen Untersuchungen zur Vermeidung der vorstehend aufgeführten Fehler wurde jetzt gefunden, daß bei einer Druckform, die nach dem vorliegenden Verfahren hergestellt wurde, die ungehärteten Bereiche zusammen mit dem Deckfilm vollständig abgezogen werden, ohne daß ungehärtete Bereiche auf dem mit den wäßrigen Lösungen behandelten Schichtträger zurückbleiben. Diese Erscheinung erwies sich auch als anwendbar, wenn eine ein positives Bild enthaltende lichtempfindliche Harzmassenschicht vorhanden ist.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform zur Verfügung zu stellen, bei dem ein Bild unter Ausnutzung der Unterschiedlichkeit der Haftung zwischen den belichteten und den unbelichteten Bereichen der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse an einem hydrophilen Schichtträger nach der bildmäßigen Belichtung erzeugt wird, wobei jedoch keine lichtempfindliche Masse auf den Nichtbildbereichen nach der Abziehentwicklung zurückbleiben und die dem hydrophilen Schichtträger ausgebildete Schicht aus der lichtempfindlichen Masse über die Zeit stabil bleiben soll.

Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren der eingangs angegebenen Art, daß dadurch gekennzeichnet ist. daß vor dem Aufbringen der lichtempfindlichen Schicht die Oberfläche des Aluminiumschichtträgers einer anodischen Oxidationsbehandlung unterworfen wird und dann diese Oberfläche aufeinanderfolgend mit (1) einer wäßrigen phosphorsäurehaltigen Lösung und (2) einer mindestens eine wasserlösliche Kieselsäure oder ein Salz derselben enthaltenden wäßrigen Lösung behandelt wird.

Verwendbare hydrophile Schichtträger umfassen Aluminiumplatten und Aluminiumlegierungsplatten, Platten aus mit Aluminium und Zink beschichteten Kupfer oder Eisen, und Platten aus Aluminium, das mit einem synthetischen Harz, wie Polyäthylenterephthalat, Polymethylmethacrylat oder dergleichen, beschichtet ist.
Im Hinblick auf den Aluminiumschichtträger ist dessen Oberfläche gekörnt und hat eine anodische Oxidschicht, die in spezifischer Weise für einen Aluminiumschichtträger an der Aluminiumoberfläche ausgebildet ist, wobei vorzugsweise die Aluminiumoberfläche gekörnt wird und dann die anodische Oxidschicht auf der Aluminiumoberfläche ausgebildet wird. Zur Erhöhung der Haftung zwischen der Aluminiumplatte und den Bildbereichen wird eine Aluminiumplatte mit einer anodischen Oxidschicht auf der gekörnten Oberfläche derselben, insbesondere mit einem Gehalt an Phosphorsäureestern in der anodischen Oxidschicht, eingesetzt. Besondere

so günstige Ergebnisse werden erhalten, wenn die anodische Oxidschicht eine Stärke von etwa 50 nm bis etwa 10 μηι, insbesondere 0,3 μπι bis 4 μπι besitzt.

Die verwendbaren Materialien Aluminium oder Aluminiumlegierungen sind nicht besonders kritisch und eine Vielzahl von Legierungen kann angewandt werden unter Einschluß von solchen, die Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink. Blei, Wismut Nickel und dergleichen enthalten. Einige erläuternde Beispiele für typische Legierungszusammensetzungen sind in der folgenden Tabelle angegeben. In der Tabelle sind die angegebenen Werte Gewichtsprozent, wobei der Rest aus Gewichtsprozent Aluminium besteht.

Zusammensetzungen typischer Aluminiumlegierungen
Legierung Nr. Si Cu Mn Mg Cr Zn Al

2S 0,4 - - 0,6 - - 99,0

3S 1,2 - - 98,8

24S - 4,5 0,6 1,5 - - 93,4

52S - - - 2,5 0,25 - 97,25

61S 0,6 0,25 - 1,0 0,25 - 97,9

75S - 1,60 - 2.50 0.30 5.60 95.0

Diese Massen enthalten im allgemeinen zusätzlich geringe Mengen an Fe und Ti und zu vernachlässigende Mengen an Verunreinigungen, die nicht in der Tabelle aufgeführt sind.

Die anodische Oxidschicht kann durch übliche Verfahren hergestellt werden. Beispielsweise kann ein elektrischer Gleichstrom durch einen Elektrolyten aus einer wäßrigen Lösung einer anorganischen Säure, wie Phosphorsäure, Schwefelsäure oder Chromsäure, oder einer organischen Säure wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure mit der Aluminiumplatte als Anode geführt werden, so daß eine anodische Oxidschicht auf der Aluminiumplatte ausgebildet wird. Die Einverleibung von Phosphorsäureresten in die anodische Oxidschicht kann, wie in der JP-PS 26 521/1971 angegeben, nach einem Verfahren erreicht werden, welches die Ausführung der anodischen Oxidation in einem Phosphorsäurebad umfaßt oder indem die anodische Oxidschicht in einer Phosphorsäure enthaltenden Lösung behandelt wird.

Die typischen Anodisierbedingungen hängen von der Zusammensetzung der eingesetzten Elektrolytlösung ab. Im allgemeinen sind geeignete Anodisierbedingungen die folgenden: Säurekonzentration etwa 1 bis 80 Gew.-%; Temperatur der Lösung etwa 5 bis 70°C; Stromdichte etwa 0,5 bis 60 A/dm²; Spannung etwa 1 bis 100 Volt; Elektrolysezeitraum etwa 30 Sekunden bis 50 Minuten. Geeignete Anodisierverfahren sind beispielsweise in den US-PS 38 08 000,31 81 461,32 80 734 und 35 11 661 beschrieben.

In der folgenden Tabelle sind geeignete anodische Oxidationsbehandlungsbedingungen im einzelnen zusammengefaßt.

Elektrolytlösung

Lösung

Konzentration

(Gew.-%)

Temp.

Stromdichte
(A/cm²)

Spannung
(V)

Zeitraum
(min)

Schwefelsäure	1-70	5-65	0,5-30	1-50	1-30
Oxalsäure	1-20	20-60	0,5-20	10-70	5-40
Phosphorsäure	2-60	20-60	0.5-20	10-60	1-30
Chromsäure	2-30	30-60	0,5-10	10-60	1-50

Typische Beispiele für wäßrige Behandlungslösungen, die im Rahmen der Erfindung verwendet werden können, umfassen die folgenden Beispiele.

Phosphorsäuren und Phosphorsäuresalze

Orthophosphorsäure (H3PO4), Metaphosphorsäure (HPO3), Orthophosphorsäuresalze entsprechend der Formel M3PO4(worin M die Bedeutung Li, Na, K oder NH₄ besitzt), beispielsweise Lithiumorthophosphat, Lithiumdihydrogenorthophosphat, Natriumdihydrogenorthophosphat, Dinatriumhydrogenorthophosphat, Natriumorthophosphat und dergleichen, Pyrophosphorsäuresalze entsprechend der Formel M4P2O7 (worin M die gleiche Bedeutung wie vorstehend besitzt), beispielsweise Natriumpyrophosphat und dergleichen, Polyphosphorsäuresalze entsprechend der Formel (MPOa)_n, (worin M die gleiche Bedeutung wie vorstehend besitzt und m eine ganze Zahl von 3 oder mehr darstellt), beispielsweise Natriumhexamethaphosphat und dergleichen.

Kieselsäuren und Kieselsäuresalze

Orthokieselsäure, Kieselsäuresalze entsprechend der Formel L₂O · zSiO₂ (worin L die Bedeutung Li, Na. NH₄, N(CH₂OH) oder N(C₂H₄OH)₄ hat, und ζ eine positive Zahl im Bereich von 0,2 bis 9,0 darstellt), beispielsweise Lithiumsilicat, Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Amrnoniurnsilicat.Tetrarnethanolammoniumsilicat und TetraäLhanolammoniumsilicat.

Die Konzentration der vorstehend angegebenen wasserlöslichen Oxosäuren oder deren Salze liegt praktischerweise oberhalb etwa 0,01 Gew.-%. Falls die Konzentration kleiner als etwa 0,01 Gew.-°/o ist, wird praktisch kein Behandlungseffekt erhalten. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei 0,01 bis 10 Gew.-%. Für die wäßrige Phosphorsäurelösung (H₃PO₄) beträgt die Konzentration der Phosphorsäure vorzugsweise 0,01 bis 2,5 Gew.-%.

Das zu behandelnde Metall mit den darauf befindlichen hydrophilen Oberflächen wird einfach in eine wäßrige Lösung der Oxosäure oder des Oxosäuresalzes mit einer Konzentration von etwa 0,01 bis etwa 10 Gew.-%. wie vorstehend beschrieben, eingetaucht Die Behandlung mit der wäßrigen Lösung kann unter Anwendung verschiedener Verfahren, wie einem Eintauchverfahren oder einem Aufsprühverfahren, bewirkt werden.

Die wasserlöslichen Oxosäuren oder Salze derselben, die gemäß der Erfindung eingesetzt werden können, können als Behandlungslösung zur Behandlung des hydrophilen Schichtträgers nach der Auflösung der Säure oder des Salzes in Wasser bei einer Behandlungstemperatur im Bereich von 20⁰C bis 1°C weniger als der Siedetempratur der Lösung während eines Behandlungszeitraumes im Bereich von 5 s bis 5 min angewandt werden. Der praktische Bereich für die Behandlungstemperatur und den Behandlungszeitraum liegt bei 3O⁰C bis 85°C und 20 s bis 3 min und vorzugsweise bei 35°C bis 75°C und 30 s bis 90 s.

Nach der anfänglichen Behandlung der Oberfläche mit einer wäßrigen phosphorsäurehaltigen Lösung kann die Oberfläche ggf. mit Wasser gewaschen werden und dann wird die Oberfläche mit einer wäßrigen Kieselsäure- oder Silicat-Lösung behandelt Diese Behandlung ergibt ausgezeichnete Ergebnisse bei der Druckstufe, die zu einer späteren Stufe ausgeführt wird, da eine besonders günstige Haftfestigkeit zwischen dem Schichtträger und der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse erhalten wird und die Abziehentwicklung nach der bildmäßigen Belichtung in günstiger Weise ausgeführt werden kann.

Die vorliegende Erfindung ist besonders wirksam, wenn sie unter Anwendung eines anodisch in einem

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Schwefelsäurebad oxidierten Aluminiumschichtträgers durchgeführt wird. Die Aluminiumplatte kann auch einer Oberflächenbehandlung zur Aufrauhung der Oberfläche in mechanischer oder elektrochemischer Weise vor der anodischen Oxidation unterworfen worden sein.

Das Ausgangsmaterial kann auch aus unbehandeltem Aluminium, das entfettet, gewaschen, oberflächenaufgerauht und anodisch oxidiert sein kann, bestehen. Beispielsweise kann die Oberflächenaufrauhungsbehandlung durch Elektrolyse in einer wäßrigen Lösung bei einer Temperatur im Bereich von 20 bis 30°C mit einem Gehalt von 0,5 Gew.-% Salzsäure unter Anwendung einer Spannung von 10 bis 15 V unter Anwendung eines elektrischen Wechselstroms von 3 bis etwa 5 A/dm² ausgeführt werden. Die anodische Oxidation kann spezifisch in einer wäßrigen Lösung bei einer Temperatur im Bereich von 20 bis 30⁰C mit einem Gehalt von 10 bis 25 Gew.-% Schwefelsäure bei einer Spannung von 10 bis 20 V unter Anwendung eines elektrischen Gleichstroms von 3 bis 5 A/dm² ausgeführt werden.

Die Ausbildung der Schicht aus den Säuren oder Salzen derselben auf der Aluminiumträgerplatte mit einer porösen Aluminumoxidschicht durch Behandlung mit einer wäßrigen Lösung der vorstehend aufgeführten Oxosäuren oder Salze derselben kann durch Eintauchen der Aluminiumplatte in eine Lösung bei der vorstehend angegebenen Temperatur ausgeführt werden. Die Konzentration der Lösung ist ausreichend verdünnt, so daß die Säuren oder Salze derselben frei in die Poren eindringen können. Dann wird getrocknet, wodurch der behandelte Oberflächenteil des Aluminiumschichtträgers durch die vorstehend angegebenen Oxosäuren oder Salze derselben oder durch Ausbildung einer absorbierten Schicht aus den sich von den vorstehend angegebenen Oxosäuren oder Salzen derselben und Aluminium durch chemische Umsetzung im Oberflächenteil des Aluminiumschichtträgers stammende hydrophile Verbindung hydrophil gemacht wird. Es wird angenommen, daß die Ausbildung einer Schicht aus derartigen hydrophilen Verbindungen auftritt, da die nach der Entfernung der anschließend ausgebildeten Schicht aus dem lichtempfindlichen Harz durch das Abziehverfahren verbliebene Oberfläche eine bemerkenswerte Wasseraufnahmeeigenschaft im Vergleich zu der unbehandelten Oberfläche besitzt. Zusätzlich bestätigen Röntgenuntersuchungen oder analytische chemische Untersuchungen der Oberfläche, daß Elemente, weiche die Anionenteile der wasserlöslichen Oxosäuren oder Salze derselben aufweisen, in hoher Konzentration vorhanden sind.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann auch so durchgeführt werden, daß unter Druck oder Erhitzung, falls notwendig, ein dünner Deckfilm mit einer darauf befindlichen Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auf den Aluminiumschichtträger mit der darauf befindlichen, durch die wäßrige Lösung der vorstehend angegebenen Oxosäuren oder Salze derselben behandelte Schicht aufgebracht wird, so daß die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse an die mit der wäßrigen Lösung der vorstehend aufgeführten Oxosäuren oder Salze davon behandelte Schicht anstößt.

Eine geeignete lichtempfindliche Masse, die gemäß der Erfindung verwendet werden kann, stellt eine Masse dar, die ein organisches hochmolekulares Material als Bindemittel, ein Monomeres mit mindestens einer durch Addition polymerisierbaren äthylenisch ungesättigten Bindung und einen Photopolymerisationsinitiator oder Photovernetzungsinitiator umfaßt.

Die organischen hochmoleKularen Materialien, die als Bindemittel in den lichtempfindlichen Massen in den Elementen gemäß der Erfindung angewandt werden können, können aus einer großen Vielzahl von synthetischen, halbsynthetischen und natürlichen hochmolekularen Materialien ausgewählt werden.

Spezifische Beispiele für organische, hochmolekulare Materialien umfassen Homopolymere oder Copolymere, beispielsweise chlorierte Polyolefine, wie chloriertes Polyäthylen, chloriertes Polypopylen und dergleichen, Polyacrylsäure, Polymethacn lsäure, Polyacrylsäurealkylester, wobei geeignete Beispiele für Alkylgruppen Methyigruppen, Äthylgruppen, 3utylgruppen und dergleichen, umfassen, Copolymere von Alkylacrylaten, wobei geeignete Beispiele für Alkylgruppen die gleichen wie vorstehend sind, und mindestens einem Monomeren, wie Acrylnitril, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Styrol, Butadien und dergleichen. Polyvinylchlorid, Copolymere aus Vinylchlorid und Acrylnitril, Polyvinylidenchlorid, Copolymere von Vinylidenchlorid und Acrylnitril, Polyvinylacetat. Copolymere aus Vinylacetat und Vinylchlorid, Polyvinylalkohol, Polyvinylacetat, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylnitril, Copolymere aus Acrylnitril und Styrol, Copolymere aus Acrylnitril, Butadien und Styrol, Polyvinylalkyläther, wobei geeignete Beispiele für Alkylgruppen Methylgruppen, Äthylgruppen, Isopropylgruppen, Butylgruppen und dergleichen umfassen, Polymethylvinylketon, Polyäthylvinylketon, Polyäthylen, Polypropylen, Polybuten, Polystyrol, Poly-*-methylstyrol, Polyamide, beispielsweise Nylon-6, Nylon-6,6, NyIon-6,10 und dergleichen. Poly-1,3-butadien. Polyisopren, Polyurethan, Polyethylenterephthalat, Polyäthylenisophthalat, chlorierter Kautschuk, Polychloropren, Äthylcellulose, Acetylcellulose, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Styrol-Butadienkautschuk, chlorsulfonierres Polyäthylen und dergleichen. Im Fall der Copolymeren kann das Monomerverhaltnis im Copolymeren start: variieren, jedoch liegt im allgemeinen der Gehalt der geringeren Komponente vorzugsweise im Bereich von 10 Mol-% bis 50 Mol-%, bezogen auf die gesamten Monomeren. Außerdem können auch thermoplastische hochmolekulare Materialien außer den vorstehend aufgeführten Materialien im Rahmen der Erfindung angewandt werden, sofern die vorstehenden Eigenschaften der hochmolekularen Materialien erfüllt werden.

Bevorzugte Beispiele für Polymere, die günstigerweise im Rahmen der Erfindung angewandt werden können, sind chlorierte Polyolefine, wie zum Beispiel chloriertes Polyäthylen und chloriertes Polypropylen, Polymethylmethacrylat, Polyvinylchlorid, Vinylchlorid-Vinylidenchlorid-Copolymere (Molargehalt des Vinylchlorids etwa 20 bis etwa 80%), Vinylidenchlorid-Acrylnitril-Copolymere (Molargehalt des Acrylnitrils etwa 10 bis etwa 30%), Vinylchlorid-Acrylnitril-Copolymere (Molargehalt des Acrylnitrils etwa 10 bis 30%), Polystyrol, Polyvinylbuty-

ral. Polyvinylacetat, Polyvinylformal, Äthylcellulose, Acetylcellulose, Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymere. Polychloropren, Polyisopren, chlorierter Kautschuk und chlorsulfoniertes Polyäthylen und dergleichen. Chlorierte Polyolefine, wie zum Beispiel chloriertes Polyäthylen und chloriertes Polypropylen und Polyvinylbutyral werden besonders bevorzugt

Die Molekulargewichte der vorstehend aufgeführten organischen hochmolekularen Materialien, die als Binder verwendet werden können, können innerhalb eines weiten Bereiches in Abhängigkeit von der Art der Polymeren variieren, jedoch können im allgemeinen Polymere mit einem Molekulargewicht von etwa 5000 bis etwa 2 000 000, stärker bevorzugt 10 000 bis 1 000 000, in günstiger Weise eingesetzt werden.

Besonders wichtige Eigenschaften der gemäß der Erfindung eingesetzten photopolymerisierbaren Masse sind die Schichtfestigkeit des bei der Abziehentwicklung ausgebildeten Druckbildes und die Haftungsfestigkeit am Schichtträger. Im allgemeinen können die besten Bilder erhalten werden, wenn chloriertes Polyäthylen oder chloriertes Polypropylen eingesetzt werden. Es ist jedoch bisweilen wertvoll, chloriertes Polyäthylen oder chloriertes Polypropylen als Hauptkomponente in Kombination mit verschiedenen der vorstehend aufgeführten Polymeren in geringer Menge, beispielsweise etwa 20 Gew.-% oder weniger, bevorzugt 10 Gew.-% oder weniger, bezogen auf das Gewicht des chlorierten Polyolefins, einzusetzen. In diesem Fall kann das Mischungsverhältnis frei in Abhängigkeit von der gewünschten Bildausbildungseignung, der Schichtfestigkeit und dergleichen gewählt werden. Wenn man in dieser Weise arbeitet, haben die stärker bevorzugten Bilder eine stärkere Festigkeit, welche nicht bei der einzelnen Anwendung eines Binders ohne Zerstörung der guten Bildausbildungseignung erhalten wird, falls chloriertes Polyäthylen allein oder chloriertes Polypropylen allein eingesetzt werden.

Die erfindungsgemäß eingesetzte photopolymerisierbare Masse kann zusätzlich noch einen Hemmstoff für die thermische Polymerisation enthalten, z. B. p-Methoxyphenol, Hydrochinon, alkyJ- oder aryl-substituiertes Hydrochinon, t-Butylkatechin, Chloranil, Naphthylamin, /?-Naphthol, 2,6-Di-tert.-butyI-p-cresol, Pyridin, Nitrobenzol, Dinitrobenzol, p-ToIuidin, Methylenblau, Kupfersalze organischer Säuren, beispielsweise Kupferacetat und ähnliche Verbindungen. Diese thermischen Polymerisationshemmstoffe werden bevorzugt in Mengen von etwa 0,001 bis etwa 5 Gew.-Teile auf 100 Gew.-Teile des additionspolymerisierbaren Monomeren angewandt.

Zusätzlich können verschiedene Additiva, wie Färbungsmittel, Plastifizieren Harze und dergleichen gleichfalls in die photopolymerisierbare lichtempfindliche Harzmasse einverleibt werden, die in den Elementen gemäß der Erfindung verwendet wird. Typische Beispiele für Färbungsmittel sind zum Beispiel Pigmente, wie Titanoxid, Ruß, Eisenoxid, Pigmente vom Phthalocyanintyp, Pigmente vom Azotyp und dergleichen, Farbstoffe, wie Methylenblau, Kristallviolett, Rhodamin B, Fuchsin, Auramin, Farbstoffe vom Azotyp, Farbstoffe vom Anthrachinontyp und dergleichen. Die bevorzugten Färbungsmittel sind solche, die kein Licht bei der Absorptionswellenlänge des Photopolymerisationsinitiators absorbieren. Diese Färbungsmittel können in Mengen von etwa 0.1 bis etwa '4 30 Gew.-Teilen im Fall der Pigmente, und in Mengen von etwa 0,01 bis etwa lOGew.-Teilen im Fall von

Farbstoffen, bevorzugt in einer Menge von 0,1 bis 3 Gew.-Teilen in beiden Fällen, bezogen auf die Gesamtmenge von 100 Gew.-Teilen aus Binder und additionspolymerisierbaren Monomeren, eingesetzt werden. Vorzugsweise werden die Plastifizierer oder Harze in Mengen von etwa 0,01 bis etwa 20 Gew.-Teilen auf 100 Gew.-Teile des Gesamtgewichtes von Binder und Monomeren zugefügt.

Die gemäß der Erfindung eingesetzte photopolymerisierbare Masse wird in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst, um eine Lösung der lichtempfindlichen Masse zu erhalten, die auf den gemäß der Erfindung eingesetzten hydrophilen Träger aufgezogen und anschließend getrocknet wird. Im allgemeinen liegt die geeignete Überzugsmenge der photopolymerisierbaren Masse nach der Entfernung des Lösungsmittels im Bereich von etwa 0,5 g/m² bis etwa 150 g/m², vorzugsweise 0,7 g/m² bis 30 g/m³, am stärksten bevorzugt 1 g/m² bis 10 g/m².

Spezifische Beispiele für geeignete Lösungsmittel für die Oberzugslösung umfassen Ketone, wie Aceton, Methyläthylketon, Methylisobutylketon, Cyclohexanon, Diisobutylketon und dergleichen, Ester, wie Äthylacetat, Butylacetat, n-Amylacetat, Methylformiat, Äthylpropionat, Dimethylphthalat, Äthylbenzoat und dergleichen, aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol, Xylol, Benzol, Äthylenbenzol und dergleichen, halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie Tetrachlorkohlenstoff, Trichloräthylen, Chloroform, 1,1,1-Trichloräthan, Monochlorbenzol, Chlornaphthalin und dergleichen, Äther, wie Tetrahydrofuran, Diäthyläther, Äthylenglykolmonomethyläther. Äthylenglykolmonoäthylätheracetat und dergleichen, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid und dergleichen.

Für den gemäß der Erfindung verwendeten Deckfilm zum Abziehen muß die Durchlässigkeit für Licht gut sein und die Oberfläche muß einheitlich sein. Hinsichtlich der Durchlässigkeit für Licht muß die prozentuale Durchlässigkeit größer als etwa 50% im nahen Ultraviolettbereich und sichtbaren Bereich (etwa 290 nm bis etwa 600 nm Wellenlänge), vorzugsweise größer als 65% sein.

Spezifische Beispiele für in dem Deckfilm verwendbare geeignete Materialien sind Deckfilm aus verschiedepen Arten von synthetischen Harzen, wie Polyäthylenterephthalat, Polypropylen, Polyäthylen, Cellulosetriacetat, Celluloseacetat, Polyvinylchlorid, Polyvinylalkohol, Polycarbonat, Polystyrol. Cellophanfilme aus regenerierter Cellulose, Polynnylidenchloridcopolymere, Polyamide, Polyimide, Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymere, Polytetrafluorethylen, Polytrifluorethylen und dergleichen. Zusätzlich können Kompositionsmaterialien aus zwei oder mehr der vorstehend aufgeführten Filme eingesetzt werden. Als Deckfilm wird am stärksten ein Polyäthylenterephthalatfilm bevorzugt

Im allgemeinen liegt die geeignete Stärke des Deckfilms im Bereich von etwa 5 um bis etwa 100 μπι. vorzugsweise 10 μπι bis 40 μπι.·

Die Stärke der erfindungsgemäß eingesetzten vorstehend geschilderten lichtempfindlichen Schicht bestimmt sich danach, daß das schließlich ausgebildete Bild für die lithographischen Druckbereiche deren gewünschte Gebrauchsfunktion erfüllt Im allgemeinen liegt die Stärke der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse nach der Entfernung des Lösungsmittels bevorzugt im Bereich von etwa 0,5 μπι bis etwa 100 μπι, stärker bevorzugt 0,5 μπι bis 20 μπι, am stärksten bevorzugt 1 μπ) bis 5 μπι.

Verwendbare geeignete Lichtquellen für die bildmäßige Belichtung der lichtempfindlichen Druckplatte sind diejenigen, welche Licht mit einer Wellenlänge von etwa 350 bis 450 nm liefern, beispielsweise Hochdruckquecksijberlampen, Xenonlampen, Kohlenbogenlampen, Fluoreszenslampen zum Kopieren und dergleichen. Außerdem können Laserstrahlen, Elektronenstrahlen und Röntgenstrahlen ebenfalls als Strahlungsquellen eingesetzt

Nach der bildmäßigen Belichtung wird der Deckfilm (Abziehbogen) so abgezogen, daß entweder der belichtete Bereich oder der unbelichtei:e Bereich auf der lichtempfindlichen Schicht auf dem Schichtträger verbleibt und der andere Bereich auf dem Deckfilm verbleibt, wodurch ein Negativbild und ein Positivbild (oder umgekehrt) auf dem Schichtträger und auf dem Deckfilm jeweils gebildet werden.

5 In dem Fall, wo die bei der Abziehentwicklung erhaltenen Bilder nicht ausreichend fest, hart oder ölfest sind,

' kann eine zusätzliche Polymerisation und Härtung durch Bestrahlung mit aktinischer Strahlung (ultraviolettes

. Licht oder sichtbares Licht) oder Wärme vorgenommen werden. Die Festigkeit kann auch durch Aufbringen

eines Lackes oder einer Gummilösung oder ähnliche bekannte Nachbehandlungen erhöht werden.

< Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen anhand der folgenden Beispiele erläutert. Falls nichts anderes

ίο angegeben ist, sind sämtliche Teile, Prozentsätze, Verhältnisse und dergleichen auf das Gewicht bezogen.

Beispiel 1

Eine anodisch oxidierte Aluminiumplatte wurde 60 Sekunden lang in eine wäßrige Lösung mit 2 Gew.-% 15 Dinatriumhydrogenphosphat bei 68⁰C eingetaucht und dann mit Wasser gewaschen, dann wurde sie 60 Sekun-

; den lang in eine wäßrige Lösung mit 2 Gew.-°/o Natriumsilicat von 60⁰C eingetaucht und anschließend getrock-

p net.

ψ: Getrennt davon wurde eine Lösung einer lichtempfindlichen Masse durch Auflösung der nachfolgenden

j»s Komponenten in einem Lösungsmittelgemisch aus 100 ml Methylethylketon und 20 ml Dimethylformamid

;| 20 hergestellt:
$■1

1*1 chloriertes Polyäthylen*) 10 g

j|ä Pentaerythrittrimethacrylat 10 g

(!■;' 2-Methylanthrachinon 0,2 g

i;/ 25 Hydrochinon 0,1 g

;..; Kupferphthalocyanin-Pigment 0,2 g

•,^: '*) Viskosität von 90 mPa ■ s bei 25⁰C in einer Toluollösung mit 40 Gew.-% und Chlorgehall von oberhalb 66 Gew.-%.

30 Die lichtempfindliche Lösung wurde auf die Oberflächen der Aluminiumplatte mit einer Drehüberzugsmaschine aufgezogen, wobei die Slärke der aufgezogenen Schicht 4 μπι betrug, nachdem das Lösungsmittel aus der ι,: lichtempfindlichen Schicht entfernt worden war. Nach der Trocknung bei 80⁰C während 7 Minuten wurde ein

i;-' Polyäthylentcrephthalatfilm einer Stärke von 30 μπι auf die lichtempfindliche Schicht unter Druck aufgebracht,

|^;; wobei man die lichtempfindliche lithographische Druckplatte erhielt. Diese Druckplatte wurde im Dunkeln

ι'.:■■ 35 während 7 Monate gelagert (die Temperatur variierte innerhalb eines Bereiches von etwa 20 bis etwa 30° C und

.: die Feuchtigkeit variierte innerhalb eines Bereiches von etwa 35% bis etwa 80% relativer Feuchtigkeit).

Anschließend wurde die Druckplatte bildmäßig durch einen Negativfilm in einem Abstand von 1 m während 17 Sekunden unter Anwendung eines PS-Lichtes vom S-Typ (Metallhalogenidlampe, 2 kW) belichtet. Unmittelbar nach der bildmäßigen Belichtung wurde der Polyäthylenterephthalatfilm so abgezogen, daß in der lichtempfindc ι 40 liehen lithographischen Druckplatte ein positives Bild, das photogehärtet war, auf der Aluminiumplatte gebildet

^ wurde und andererseits die ungehärteten Bereiche (unbelichteten Bereiche) zusammen mit dem Polyäthylenter-

1,·? ephthalatfilm entfernt wurden. Nachdem diese lithographische Druckplatte durch Aufziehen einer wäßrigen

c Lösung von Gummi arabicum (Lösung mit 5 g Gummi arabicum in 100 ml Wasser) behandelt worden waren,

' wurde die lithographische Druckplatte in eine Druckmaschine eingesetzt und das Drucken durch Offsetdruck

45 unter den gleichen Bedingungen ausgeführt.

Es wurden ausgezeichnete gedruckte Materialien erhalten und es trat keine Verschmutzung auf der Oberfläche der lithographischen Druckplatte auf.

Beispiel 2

3 Aluminiumplatten (2-A, 2-B und 2-C), die mechanisch gekörnt und durch Eintauchen in eine 20%-ige wäßrige Schwefelsäurelösung von 30⁰C 2 Minuten lang bei einer Gleichspannung von 15 V und einer elektrischen Stromdichte von 3 A/dm² anodisch oxidiert worden waren, wurden mit Wasser gewaschen und dann in eine wäßrige Phosphorsäurelösung bei den in der folgenden Tabelle I angegebenen Temperaturen und Konzen-55 trationen während der dort angegebenen Zeiträume eingetaucht. Die erhaltenen Aluminiumplatten wurden mit Γ Wasser gewaschen und dann in eine wäßrige Natriumsilicatlösung bei den ebenfalls in der folgenden Tabelle 1

£ angegebenen Temperaturen und Konzentrationen und Zeiträumen eingetaucht, worauf die Platten mit Wasser

Ά gründlich gewaschen und getrocknet wurden.

Tabelle 1

2-A	3
2-B	6
2-C	2

Aluminium- Wäßrige Phosphorsaurelösung wäßrige Natriumsilicatlösung *

plane Kcnzentratia ■ Temp. Eintauchzeit Konzentration Temp. Eintauchzeit

(Gew.-%) (C) (S) (Gew.-%) (C) (s)

65 40 2 60 60

69 27 2 70 40

72 60 3 60 60

Anschließend wurden unter Verwendung der wie vorstehend beschrieben behandelten 3 Aluminiumplatten auf die in Beispiel 1 angegebene Weise lichtempfindliche lithographische Druckplatten 2-A, 2-B und 2-C hergestellt Die bildmäßige Belichtung und die nachstehenden Verfahren wurden wie in Beispiel 1 unter Verwendung dieser Druckplatten durchgeführt und zum Drucken verwendet. Nach dem Drucken von 5000 Bögen wurde keine Verschmutzung auf den Platten und den gedruckten Materialien festgestellt ι ä

Beispiel 3

Eine Aluminiumplatte vom Typ 2S mit einer Stärke von 03 mm, deren Oberfläche nicht gekörnt war. wurde 30 Sekunden lang in eine wäßrige Lösung mit 5Gew.-% Natriumhydrogencarbonat (Waschlösung) von 50° C eingetaucht Die Aluminiumplatte wurde durch Aufsprühen von warmem Wasser von 40 bis 50° C gewaschen. Dann wurde die Aluminiumplatte in eine wäßrige Lösung mit 8% Amoniumhydrogenfluorid (23° C) eine Minute lang eingetaucht Die Platte wurde mit warmem Wasser erneut gewaschen zur Entfernung von Flecken und einer auf der Oberfläche der Aluminiumplatte vorhandenen ölschicht Dann wurde die Aluminiumplatte einer anodischen Oxidation unterzogen, indem sie bei 25⁰C in einen Tank eingetaucht wurde, der eine 12%-ige wäßrige Schwefelsäurelösung enthielt, wobei die Aluminiumplatte als Anode fungierte. Als Kathode wurde eine Bleiplatte der gleichen Größe verwendet Es wurde ein elektrischer Strom mit einer Dichte von 21,5 A/dm² 90 Sekunden lang fließengelassen. Die anodisch oxidierte Aluminiumplatte wurde aus dem Bad entnommen und mit Wasser von Raumtemperatur (23° C) gründlich gewaschen und anschließend getrocknet. Dann wurde sie in eine wäßrige Phosphorsäurelösung mit l,5Gew.-% Phosphorsäure bei 68⁰C 60 Sekunden lang eingetaucht. Nach gründlichem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte in eine wäßrige Natriumsilicatlösung mit 2 Gew.-% Natriumsiücat von 70⁰C (SKVNajO-Molverhältnis: 3,1 bis 3,3) 60 Sekunden lang eingetaucht, danach gründlich mit Wasser gewaschen und getrocknet. Wie in Beispiel 1 wurde eine lichtempfindliche photopolymerisiefbare Masse auf die Aluminiumplatte in einer Dicke von 5,5 g/m², bezogen auf das Trockengewicht, aufgebracht Nadi der Trocknung des Überzugs wurde ein Polyäthytenterephthalatfilm in einer Stärke von 12 μΐη unter einem Druck von etwa 3,5 bar aufgebracht, wobei man eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte erhielt.

Dann wurde die so hergestellte Druckplatte im Dunkeln 4 Monate lang gelagert, wobei die Temperatur innerhalb eines Bereiches von etwa 20 bis etwa 3O⁰C und die Feuchtigkeit innerhalb eines Bereiches von etwa 35 bis etwa 80% relativer Feuchtigkeit variiert. Danach wurde die Druckplatte zum Drucken verwendet Nach dem Drucken von 5000 Bögen wurden keine Verschmutzungen und keine Verschmierung an den Nichtbildbereichen, keine Verschmutzung auf der Druckplatte und keine Verschmutzung auf den gedruckten Materialien festgestellt.

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform, bei dem

(1) auf einen Aluminiumschichtträger eine lichtempfindliche Schicht und darauf eine transparente Deckfö-He aufgebracht wird, wobei die lichtempfindliche Schicht im unbelichteten Zustand eine stärkere Haftung entweder am Schichtträger oder an der Deckfoiie besitzt, und anschließend
(2) die so erzeugte Druckplatte bildmäßig belichtet wird, wobei sich die Haftungsverhältnisse in den belichteten Bereichen gegenüber dem unbelichteten Zustand umkehren, und

ίο (3) die bildmäßig belichtete Druckplatte entwickelt wird, indem diejenigen Bereiche der lichtempfindlichen Schicht, die eine stärkere Haftung an der Druckfolie zeigen, anter Ausnutzung des Unterschiedes der Haftung an Schichtträger und Deckfolie zusammen mit der Deckfolie entfernt werden und so die lithographische Druckform erhalten wird,