DE2758575A1 - Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial - Google Patents

Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial

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DE2758575A1 DE19772758575 DE2758575A DE2758575A1 DE 2758575 A1 DE2758575 A1 DE 2758575A1 DE 19772758575 DE19772758575 DE 19772758575 DE 2758575 A DE2758575 A DE 2758575A DE 2758575 A1 DE2758575 A1 DE 2758575A1
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    • GPHYSICS
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Description

HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
KALLE Niederlassung der Hoechst AG K 2603
Wiesbaden-Biebrich
Lichtempfindiiches Schichtübertragungsmaterial
909-827/0355
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT KALLE Niederlassung der Hoechst AG
K 2603 - / -
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial mit einer temporären Trägerfolie und einer lichtempfindlichen thermoplastischen Photoresistschicht, die zur trockenen übertragung auf einen permanenten Schichtträger geeignet ist.
Ein derartiges Material ist z. B. aus der USA-Patentschrift 3 469 982 bekannt. Es wird insbesondere für die Herstellung von Ätz- oder Galvanoreserven für kopierte Schaltungen, Tiefdruckformen, zum Formtei1 ätzen und dgl. verwendet und hat für derartige Anwendungen erhebliche Vorteile gegenüber dem sonst üblichen Aufbringen der Photoresistschicht aus einer Lösung. Die Schichtübertragung erfolgt in der Weise, daß die freiliegende oder durch Abziehen eines gegebenenfalls vorhandenen Schutzfilms freigelegte Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht unter Erwärmen und Druck auf die endgültige Unterlage laminiert und der temporäre Träger, im allgemeinen eine transparente Kunststoffolie, nach dem Belichten von der lichtempfindlichen Schicht abgezogen wi rd.
Der erwähnte Schutzfilm, der die Seite der Photoresistschicht abdeckt, die der temporären Trägerfolie abgewandt ist, ist immer dann erforderlich, wenn das Schichtübertragungsmaterial zur Lagerung oder zum Transport zu einem Wickel aufgerollt werden soll. Da das in der Praxis stets erfolgt, ist auch bisher kein technisches Produkt bekannt geworden, das nicht einen derartigen Schutzfilm enthält. Käme beim Aufrollen die ungeschützte Seite der Photo-
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resistschicht unmittelbar mit der Rückseite der Trägerfolie in Kontakt, wäre es nicht mehr möglich, die Photoresistschicht gezielt und zuverlässig von dieser Rückseite wieder
abzulösen.
5
Die Verwendung eines Schutzfilms bzw. einer Deckfolie, deren Haftung gegenüber der Photoresistschicht geringer ist als die der Trägerfolie, hat jedoch Nachteile.
Allen bekannten Schichtübertragungsmaterialien bzw. Trockenresists ist gemeinsam, daß als besonders geeignete Deckfolie Polyolefin, insbesondere Polyäthylen, genannt bzw. verwendet wird. Folien aus diesen Materialien haben aber den Nachteil, da3 sie nicht so dimensionsstabil, stippenfrei, gleichmäßig und beim Kaschiervorgang leicht und faltenfrei zu handhaben sind wie die im allgemeinen als Trägerfolie verwendete Polyesterfolie. Es ist schwierig, aufeinander abgestimmte Folien zu finden, die die geforderten unterschiedlichen Hafteigenschaften und die erforderliche Flexibilität, Transparenz, optische und mechanische Gleichmäßigkeit, Maschinengängigkeit usw. aufweisen, damit vor allem bei der Delaminierung die Resistschicht nicht an der falschen Folie hängenbleibt, andererseits aber nicht so stark haftet, daß beim Abziehen der Trägerfolie die auflaminierte Resistschicht von dem permanenten, zu modifizierenden Träger abgerissen wird. Ferner muß die Trägerfolie so weich und andererseits so steif sein, daß beim Beschneiden des beschichteten und noch mit Folie bedeckten permanenten Trägers, z. B. einer Leiterplatte, keine FoIienrandabhebungen und daraus entstehende Resistschichtdefekte entstehen. Von
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Nachteil sind besonders beim Polyäthylen Ungleichmäßigkeiten, die sich bei der Lagerung in die Resistschicht eindrücken und einen erheblichen ästhetischen und anwendungstechnischen Mangel darstellen können. 5
Aufgabe der Erfindung war es, ein lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial bereitzustellen, dessen lichtempfindliche Schicht bis unmittelbar vor der Verarbeitung vor mechanischen Verletzungen, z. B. Kratzern, vor Staub und vor chemischen Einflüssen geschützt ist und das nicht die Nachteile aufweist, die die Verwendung der handelsüblichen Polyäthylendeckfolie mit sich bringt, z. B. Eindrücke von Ungleichmäßigkeiten (Stippen) der Folie mit Löcherbildung in der lichtempfindlichen Schicht als Folgefehler.
In der älteren Patentanmeldung P 26 58 422 wird zur Lösung dieser Aufgabe vorgeschlagen, eine zweilagige Photoresistschicht zu verwenden, deren beide Lagen unterschiedliche Haftung gegenüber der temporären Trägerfolie haben. Auf diese Weise wird es ermöglicht, Trägerfolie und Deckfolie aus dem gleichen Material, z. B. aus Polyester, zu wählen.
Die Erfindung geht aus von einem lichtempfindlichen Schichtübertragungsmaterial, bestehend aus einer temporären Trägerfolie und einer damit abtrennbar verbundenen lichtempfindlichen thermoplastischen Photoresistschicht. Das erfindungsgemäße Material ist dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseite der Trägerfolie gegenüber der Photoresistschicht eine geringere
Haftung hat als die Vorderseite.
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Als Vorderseite der Folie soll hier immer die Seite verstanden werden, die nach dem Abziehen des Materials von der Rolle mit der Photoresistschicht verbunden bleibt.
Das Weglassen der Deckfolie bringt außer dem technischen Vorteil der Vermeidung von Einprägungen und Löchern in der lichtempfindlichen Schicht durch Unregelmäßigkeiten in der Deckfolie auch den Vorteil der Kosten- und Gewichtsersparnis.
10
Bei der Verarbeitung des aufgerollten Materials auf einem handelsüblichen Laminiergerät trennt sich die Resistschicht von der sie abdeckenden schwächer haftenden Rückseite der Trägerfolie. Die weiteren Verarbeitungsschritte verlaufen in an sich bekannter Weise. Probleme, die beim Zweifolienmaterial durch die Deckfolie hervorgerufen werden, entfallen bei diesem Verbundaufbau zwangsläufig.
Um eine vollständige und sichere Trennung der Photoresistschicht von der Rückseite der Trägerfolie, die die geringste Haftkraft aufweist, bei der Abrollung vom Wickel zu erzielen, soll die Haftkraftdifferenz der beiden Folienseiten gegenüber der Resistschicht mindestens 8 g/100 mm, bevorzugt 8 bis 50 g/100 mm, betragen; die Haftkraft der am stärksten haftenden Folienseite soll jedoch unterhalb 70 g/100 mm, bevor zugt zwischen 15 und 65 g/100 mm, liegen, damit beim Abziehen der Folie von der z. B. auf Kupfer laminierten und dann belichteten Photoresistschicht diese nicht wieder vom Kupfer abgezogen wird.
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Die vorgenannte Haftkraftdifferenz der beiden Folienseiten kann durch Haftkrafterhöhung der Vorderseite der Trägerfolie, die bevorzugt aus Polyester besteht, in bekannter Weise, z. B. durch Behandlung mit Halogenalkancarbonsäuren, wie Trichioressigsäure, oder haiogenierten Phenolen, durch Vorbeschichtung mit geeigneten Polymeren, insbesondere Acrylatpolymeren, oder durch Coronabehandlung erzeugt werden. Derartige Behandlungsweisen sind z. B. in den folgenden Druckschriften beschrieben: DE-AS 1 166 616, DE-OS 2 403 054, DE-OS 2 438 471, DE-OS 2 335 465, DE-OS 2 034 4C7, DE-OS 2 528 807, DE-OS 2 538 550, DE-OS 1 797 348, DE-OS 1 694 und DE-OS 1 572 147.
Eine geeignete Haftschicht läßt sich z. B. auch aus einem hochmolekularen Mischpolyester auf Basis aromatischer Dicarbonsäuren und aliphatischer Diole mit einen mittleren Holgewicht von 1800 - 20000, wie er als Handelsprodukt bekannt ist, herstellen.
Von Vorteil wirkt sich die Hafterhöhung auch dadurch aus, daß beim Beschneiden der Leiterplatten zuweilen entstehende Pxesi stf 1 i tter an der Folie haften bleiben und nicht als vagabundierende statisch aufgeladene Flitter die Verarbeitungsprozesse stören.
Eine ausreichende Haftkraftdifferenz kann auch durch Erniedrigung der Haftung der Rückseite der Trägerfolie durch einseitige Behandlung der Folie mit Gleit- oder Netzmitteln, insbesondere anionenaktiven oder nichtionogenen Netzmittelη, erreicht werden. Geeignete anionenaktive Netzmittel sind
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Amide oder Ester gesättigter oder ungesättigter höhermolekularer (Cg-C20)-Fettsäuren mit Amino- bzw. Hydroxyalkansulfonsäuren bzw. deren Alkalisalzen, z. B. C18H35COOCH2CH2SO3Na oder C13H35CON(CH3)CH2CH2SO3Na. Durch diese Behandlung wird zugleich eine antistatische Wirkung und eine bessere Benetzbarkeit der entsprechenden Oberflächen erzielt.
Weitere geeignete Netzmittel sind lineare Alkylarylpolyglykoläther, z. B. Nonylphenylhexaäthylenglykoläther, oder Monoricinusölsäuretriäthanolaminester, dem etwa 10 % eines Dispergiermittels, z. B. eines Äthylenoxid-Fettsäure-Additionsprodukts, zugesetzt werden können, Diisobutenylbernsteinsäurepolyglycerid oder Natriumdiäthoxyäthylsulfosuccinat.
Als Trägerfolien sind die für diesen Zweck bekannten und gebräuchlichen, z. B. die in der USA-PS 3 469 982 angegebenen Materialien geeignet, bevorzugt werden Folien aus Polyestern, insbesondere biaxial verstreckte und thermofixierte Polyäthylenterephthalatfolien.
Die Photoresistschicht kann eine positiv oder negativ arbeitende Schicht sein. Geeignete negativ arbeitende Schichten sind in der genannten US-PS beschrieben, von ihnen werden photopolymerisierbare Schichten aus polymerisierbaren Verbindungen mit mindestens zwei endständigen Vinyl- oder Vinylidengruppen, insbesondere Acryl- oder Methacrylsäureester, polymeren Bindemitteln, insbesondere solchen, die in wäßrigen Alkalien löslich sind, und Photo-
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initiatoren bevorzugt. Geeignete positiv arbeitende Photoresistschichten sind z. B. in der USA-PS 3 782 939 und der DE-OS 2 403 054 beschrieben.
In den folgenden Beispielen stehen Gewichtsteile (Gt) und VoluRiteile (Vt) im Verhältnis von g zu ecm. Prozentzahlen und Mengenverhältnisse sind, wenn nichts anderes angegeben ist, in Gewichtseinheiten zu verstehen.
Beispiel 1
Eine 23,um dicke Polyäthylenterephthalat-Folie wurde einseitig mit einer 10%igen wäßrigen Trichioressigsäurelösung behandelt und bei 135° C getrocknet. Die Haftkraft der behandelten Seite gegenüber der unten angegebenen unbelichteten Photoresistschicht betrug 62 g/100 mm, die der unbehandelten Seite ca. 20 g/100 mm. Die behandelte Seite wurde mit einer Beschichtung nachstehender Zusammensetzung, die nach der Trocknung eine 25,um dicke Schicht ergab, versehen:
173 Gt eines Umsetzungsprodukts von 1 Mol 2,2,4-Trimethylhexamethylen-diisocyanat mit 2 Mol Hydroxyäthylmethacrylat,
25
200 Gt eines Terpolymerisats aus n-Hexyl-methacrylat, Methacrylsäure und Styrol,
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6,1 Gt 9-Phenyl-acridin,
0,4 Gt Michlers Keton,
4,6 Gt Triäthylenglykoldimethacrylat und 1,0 Gt eines blauen Azofarbstoffs, erhalten durch Kuppeln von 2,4-Dinitro-6-chlor-benzo1-
diazoniumsalz mit 2-Methoxy-5-acetylamino-N-cyanoäthyl-N-hydroxyäthyl-anilin.
Die beschichtete Trägerfolie wurde bei 135° C getrocknet und dann aufgerollt.
Das Material ließ sich in einem handelsüblichen Laminiergerät problemlos von der Rolle abziehen, wobei die Photopolymerschicht zuverlässig auf der mit Trichloressigsäure vorbehandelten Seite der Folie haftete.
Beispiel 2
Eine zur Erniedrigung der Haftkraft einseitig mit einer 4 %igen wäßrigen Lösung eines anionenaktiven Netzmittels der Formel C18H35COOCH2CH2SO3Na behandelte 23.u dicke Polyäthylenterephthalatfolie wurde auf der Rückseite mit einer Photopolymerschicht der in Beispiel 1 angegebenen Zusammensetzung versehen, dann bei 135° C getrocknet und aufgerollt.
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Claims (5)

HOECHST AKTIE N G ESELLSC H AFT KALLE Niederlassung der Hoechst AG K 2603 -/' - 28. Dezember 1977 WLK-Dr.N.-ur Patentansprüche
1. Lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial, bestehend aus einer temporären Trägerfolie und einer damit abtrennbar verbundenen lichtempfindlichen thermoplastischen Photoresistschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseite der Trägerfolie gegenüber der Photoresistschicht eine geringere Haftung hat als die Vorderseite.
2. Schichtübertragungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftung der Vorderseite der Trägerfolie gegenüber der Photoresistschicht nicht größer als 70 g/ 100 mm und die Differenz der Haftung von Vorder- und Rückseite mindestens8g/100mmist.
3. Schichtübertragungsmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftung der Vorderseite der Trägerfolie gegenüber der Photoresistschicht durch eine Behandlung mit einem Haftvermittler erhöht worden ist.
4. Schichtübertragungsmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftung der Rückseite der Trägerfolie durch Behandeln mit einer Netzmittel lösung erniedrigt worden ist.
5. Verfahren zur übertragung einer lichtempfindlichen Photoresistschicht von einem temporären auf einen permanenten Schichtträger, bei dem man ein Schichtübertragungsmaterial aus einer temporären Trägerfolie und einer damit abtrennbar ver bundenen lichtempfindlichen thermoplastischen Photoresist-
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schicht unter Druck auf den permanenten Träger laminiert und die temporäre Trägerfolie von der Photoresistschicht abzieht, dadurch gekennzeichnet, daß man eine temporäre Trägerfolie verwendet, deren Rückseite eine geringere Haftung gegenüber der Photoresistschicht aufweist als die Vorderseite.
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE17211T1 (de) * 1981-07-20 1986-01-15 Interlock Sicherheitssyst Verfahren zur herstellung eines kartenfoermigen informationstraegers.
JPS58196971A (ja) * 1982-05-13 1983-11-16 Asahi Chem Ind Co Ltd サンドブラスト用マスクの製造方法
US4762766A (en) * 1986-01-14 1988-08-09 Kroy Inc. Dry transfer film with photosensitized color carrying layer and photosensitized pressure sensitive adhesive layer wherein photosensitizer is o-quinone diazide
JPH0614414B2 (ja) * 1986-06-17 1994-02-23 共同印刷株式会社 転写型光記録媒体
US5156941A (en) * 1986-06-17 1992-10-20 Kyodo Printing Co., Ltd. Method of producing an optical or magneto-optical recording card and transfer type optical or magneto-optical recording medium
US4976817A (en) * 1988-12-09 1990-12-11 Morton International, Inc. Wet lamination process and apparatus
CA2037804A1 (en) * 1990-03-13 1991-09-14 Richard P. Pankratz Polyolefin backside coating for photosensitive reproduction element
JPH05142777A (ja) * 1991-11-21 1993-06-11 Hitachi Chem Co Ltd 感光性積層体及びその製造方法
US5989689A (en) * 1991-12-11 1999-11-23 The Chromaline Corporation Sandblast mask laminate with blastable pressure sensitive adhesive
US5415971A (en) * 1993-04-02 1995-05-16 The Chromaline Corporation Photoresist laminate including photoimageable adhesive layer
US20040062896A1 (en) * 2002-09-26 2004-04-01 Picone Terrence F. Fractionally-releasable bonding layer for use in photo-sensitive laminate films
EP2748677A2 (de) 2011-08-24 2014-07-02 Digiflex Ltd. Verfahren zur trockenbeschichtung von flexodruckflächen
WO2013082020A1 (en) * 2011-11-28 2013-06-06 3M Innovative Properties Company Method of making polarizing beam splitters providing high resolution images and systems utilizing such beam splitters

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3469982A (en) * 1968-09-11 1969-09-30 Jack Richard Celeste Process for making photoresists
DE1694534B2 (de) * 1967-04-25 1974-06-27 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Verfahren zur Modifizierung der Oberfläche von Polyesterformkörpern
US3915709A (en) * 1973-04-13 1975-10-28 Gaf Corp Backwetting coating for diazo microfilm

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3042522A (en) * 1958-06-13 1962-07-03 Gen Aniline & Film Corp Photographic film and a composition for improving the slippage characteristics thereof
US3359107A (en) * 1964-05-22 1967-12-19 Eastman Kodak Co Photographic element
US3690882A (en) * 1970-06-15 1972-09-12 Eastman Kodak Co Processes and elements for preparation of photomechanical images with cinnamylidene malonate copolyester
DE2123702B2 (de) * 1971-05-13 1979-11-08 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
US3782939A (en) * 1972-02-09 1974-01-01 Mining And Mfg Co Dry positive-acting photoresist
US4001023A (en) * 1972-05-26 1977-01-04 Agfa-Gevaert N.V. Adhesion of hydrophilic layers on polyester film
FR2258651A2 (en) * 1972-07-27 1975-08-18 Hoechst Ag Pretreating polyester support for photosensitive transfer layer - with compsn contg halogenated fatty acid, crosslinking agent, and water soluble polymer
US3961961A (en) * 1972-11-20 1976-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Positive or negative developable photosensitive composition
US4060656A (en) * 1973-04-02 1977-11-29 Teijin Limited Support for photosensitive resin
GB1533555A (en) * 1975-11-07 1978-11-29 Agfa Gevaert Dimensionally stable polyester film supports
JPS52150104A (en) * 1976-06-07 1977-12-13 Fuji Photo Film Co Ltd Photoosensitive lithographic press plate material
US4157918A (en) * 1977-09-26 1979-06-12 American Hoechst Corporation Light sensitive film composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1694534B2 (de) * 1967-04-25 1974-06-27 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Verfahren zur Modifizierung der Oberfläche von Polyesterformkörpern
US3469982A (en) * 1968-09-11 1969-09-30 Jack Richard Celeste Process for making photoresists
US3915709A (en) * 1973-04-13 1975-10-28 Gaf Corp Backwetting coating for diazo microfilm

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DIN ISO 4624 *

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6156498B2 (de) 1986-12-02
FR2413688B1 (de) 1984-01-20
JPS5492724A (en) 1979-07-23
US4389480A (en) 1983-06-21
FR2413688A1 (fr) 1979-07-27
GB2012976B (en) 1982-04-15
GB2012976A (en) 1979-08-01

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