DE3217870A1 - Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzung - Google Patents
Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzungInfo
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Description
Patentanwälte .·..:!. * ·..: .**D1pY>lr[g. Curt Wallach
Europäische Patentvertreter Dlp'f.-Tng. Günther Koch
European Patent Attorneys , Dipl.-Phys. Dr.Tino Haibach
• O* Dipl.-lng. Rainer Feldkamp
D-8000 München 2 · Kaufingerstraße 8 · Telefon (0 89) 2 60 80 78 · Telex 5 29 513 wakai d
Datum: ^' MÄi 1982
Unser Zeichen: 17^9 H/Pe
Polychrome Corporation, 137 Alexander Street, Yonkers, N.Y. 10702, U.S.A.
Anodisierter (anodisch oxydierter) Träger für eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung
Die Erfindung betrifft allgemein Lithographie-Druckplatten. Näherhin betrifft die. Erfindung einen verbesserten Träger
zrur Verwendung bei der Herstellung derartiger Druckplatten bzw. aus derartigen Trägern hergestellte strahlungsempfindliche
Elemente und aus derartigen Elementen hergestellte Lithographie-Druckplatten.
Strahlungsempfindliche Elemente zur Überführung in Lithographie-Druckplatten
weisen eine strahlungsempfindliche Reproduzier- oder Wiedergabeschicht, in welcher das Druckbild
photomechanisch erzeugt wird, sowie einen Träger auf,
der von Beginn der Erzeugung des Materials bis zur Verarbeitung zu einer Druckplatte die Reproduzier- oder Wiedergabeschicht
trägt und zusammen mit dieser bis zur Verwendung des Materials gelagert wird. Nach der Erzeugung des Druckbildes
trägt der Träger dieses Druckbild und bildet gleichzeitig in den bildfreien (d.h. nicht-druckenden) Bereichen
den Bildhintergrund. Eine der Forderungen an einen zur Herstellung
einer Druckplatte geeigneten Träger besteht darin, daß die aus der Reproduzier- oder Wiedergabeschicht des
Materials entwickelten Druckbildbereiche (d.h. die druckenden Bereiche der Druckplatte) fest an dem Träger anhaften.
Außerdem muß der Träger eine hydrophile Oberfläche aufweisen, und die Abstoßungswirkung dieser Oberfläche gegenüber
öligen bzw. oleophilen Druckfarben darf unter den vielfältigen Anforderungen des Druckvorgangs in seiner Wirksamkeit
nicht herabgesetzt werden. Der Träger muß ferner eine poröse Oberflächenstruktur besitzen, derart daß die
Oberfläche genügend Wasser festhalten kann, um eine angemessene Abstoßwirkung gegenüber den zum Drucken verwendeten
Druckfarben zu besitzen.
Durch anodische Oxydation (Anodisierung) von Aluminiumblechen oder -folien hergestellte Aluminiumoxydschichten'
sind außerordentlich abriebfest, und derartige anodisierte Folien haben sich als äußerst brauchbar zur Herstellung von
Druckplatten für hohe Auflagenzahlen erwiesen. Jedoch weisen derartige Platten Nachteile und Unvollkommenheiten infolge
einer zu großen Eindringung der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung in die Poren des Trägers auf.
In der Vergangenheit ist man diesen Nachteilen beispielsweise dadurch begegnet, daß man den anodisierten Träger vor
der Aufbringung des Überzugs aus der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung mit einer wässrigen Lösung von Natriumsilikat,
Ammonium- oder Alkalibichromat, Eisen-Ammoniumoxalat oder einer Farbstoffsubstanz behandelt, die chemisch mit
den Aluminiumoxydoberflächen reagieren können.
Auch diese Verfahren weisen jedoch Nachteile auf. So macht die Behandlung mit Alkalisilikat eine gründliche Spülung
mit Wasser erforderlich, wenn der so erhaltene Träger mit einer lagerfähigen lichtempfindlichen Schicht versehen werden
soll, die im sensibilisierten Zustand über eine lange Zeit ohne Beeinträchtigung lagerfähig sein soll. Selbst nach
einer derartigen gründlichen Spülung mit Wasser, oder sogar bei Neutralisierung mit verdünnten Säuren, bewirkt die Silikatschicht,
oder möglicherweise ein aus der Silikatlösung zurückgebliebener alkalischer Rückstand, eine gewisse Beeinträchtigung
und Verschlechterung. Bei Anwendung der erwähnten wässrigen Chromatlösungen wird eine kaum " .hydrophile
Zwischenschicht erhalten, deren Chromatgehalt, vermutlich
wegen seiner oxydierenden Wirkung, häufig die aufzubringende lichtempfindliche Schicht durch eine Verfärbung dieser
Schicht beeinträchtigt, was deren Lichtempfindlichkeit verringert, da die Lichtdurchlässigkeit der Schicht beeinträchtigt
wird.
Außerdem ist die Verwendung von chromhaltigen Zusammensetzungen aus Gründen des Umweltschutzes unerwünscht. Ähnliche
Überlegungen, mit Ausnahme der Umweltschutzbedenken, gelten auch für die Behandlung mit einer Eisen-Ammoniumoxalatlösung,
deren Eisengehalt eine dunkle Verfärbung hervorrufen kann. Bei Verwendung wässriger Lösungen von Farbstoffsubstanzen,
die chemisch mit der Aluminiumoxydoberfläche reagieren, werden die hydrophilen Eigenschaften der Aluminiumschicht
teilweise verringert, mit der Folge, daß unter Verwendung eines in dieser Weise vorbehandelten Trägers hergestelltes
Druckplattenmaterial stärker zu einer Schaum- und Abriebbildung während des Drückens neigt als eine Druckplatte, deren Oberfläche nicht in dieser Weise vorbehandelt
wurde. Außerdem können chemisch mittels Farbstoffsubstanzen
veränderte Aluminiumoxydoberflächen nicht mehr in einfacher Weise korrigiert werden.
Der Erfindung liegt als Aufgabe die Schaffung eines Trägers der eingangs genannten Art zugrunde, bei dem die vorstehend
erläuterten Nachteile der bekannten Trägermaterialien vermieden werden. Insbesondere soll durch die Erfindung ein
Trägermaterial zur. Verwendung bei der Herstellung strahlungsempfindlicher
Elemente geschaffen werden, bei dem die erwähnte nachteilige, schädliche .Eindringung der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung in das Trägermaterial vermieden
wird, ohne die hydrophile Eigenschaft des Materials zu verringern.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß sich durch Aufbringung einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung
auf ein verbessertes Trägermaterial ein verbessertes strahlungsempfindliches Element erzielen läßt; gemäß einer bevorzugten
Ausführungsform der Erfindung dient dabei als Trägermaterial
ein anodisiertes (anodisch oxydiertes) Trägermaterial, vorzugsweise Aluminium, das vor oder während des
AnodisierungsVorganges mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsalzes
einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt wurde.
Im folgenden wird die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen
erläutert.
Wie eingangs dargelegt, ergibt die Erfindung ein verbessertes
Trägermaterial zur Verwendung in strahlungsempfindlichen Elementen für die Herstellung von Lithographie-Druckplatten
für hohe Auflagen ohne Beeinträchtigung des Hintergrunds; das erfindungsgemäße Trägermaterial besteht aus irgendeinem
der bekannten anodisierten Trägermaterialien, die vor oder
- 5—
.τ.
während der Anodisierung mit einer wässrigen Badlösung eines Alkalimetallsalzes einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt
wurden.
Als Arylsulfonsäuresalze für die Zwecke der Erfindung eignen sich unter anderen die Naphtalinsulfonate, in welchen zwei
Oder mehr Naphtalinkerne durch Alkylengruppen verbunden
sind. Der Prototyp dieser Klasse ist Dinaphtylmethandisulfonsäure, d.h. die Disulfonsäure der folgenden Formel
SQjH
Die Erzeugnisse dieser Klasse sind von unterschiedlicher, unbestimmter Zusammensetzung. Sie können durch gemeinsames
Erhitzen von Naphtalin, Formaldehyd und Schwefelsäure oder durch Behandlung von Naphtalinsulfonsäuren mit Formaldehyd
hergestellt werden. Auf diese Weise können drei oder mehr Naphtalinkerne miteinander durch Alkylengruppen unter Bildung
eines Kondensationspolymeren miteinander verbunden werden. Auch niedriger alkylierte Naphtaline können in der
Reaktion verwendet werden. Ein Beispiel ist Monoisopropylnaphtalin.
Anstelle von Naphtalin können auch andere aromatische Kohlenwasserstoffe verwendet werden, wie beispielsweise
Benzol, Diphenyl, Anthr.acen, Phenanthren, Fluoren, usw., oder Homologe und Derivate dieser Stoffe. Die Salze
der vorstehend genannten Säuren, beispielsweise die Natriumsalze, besitzen ähnliche Eigenschaften. Die Herstellung von
Dispersionsmitteln dieses Typs ist im einzelnen in der Lite-
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ratur und in Patentschriften wie etwa der US-PS 2,802,845
beschrieben, und repräsentative Verbindungen dieser Klasse sind unter den Bezeichnungen Tamol, Leukanol und Daxad im
Handel.
Für die Zwecke der vorliegenden Erfindung besonders geeignet
sind die Natriumsalze kondensierter Naphtalinsulfonsäuren, die unter der Bezeichnung Tamol SN und Tamol N Micro im
Handel erhältlich sind.
Als Trägermaterial eignet sich jeder der nach dem Stande der Technik bekannten Träger, einschließlich Aluminium und seiner
Legierungen. Vorzugsweise wird ein Trägermaterial aus der Gruppe Aluminium und dessen für Lithographiezwecke geeigneten
Legierungen gewählt.
Ggf. kann das Trägermaterial vor oder nach der Salzbehandlung einer oder mehreren weiteren Behandlungen unterworfen werden,
beispielsweise einer (chemischen, mechanischen oder elektrochemischen)
Körnung, Entfettung, Reinigung und dergleichen.
Die Anodisierung kann in beliebiger bekannter Weise erfolgen, beispielsweise durch Eintauchen des Substrats in eine wässrige
Badlösung von HpSO1,, H,POj. und dergleichen oder Gemischen
hiervon, und Beaufschlagung mit einer Stromdichte in einem Gleich- oder Wechselstromfeld.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung wird zur Herstellung
eines anodisierten (anodisch oxydierten, eloxierten) Trägermaterials
eine Metallfolie oder ein Metallgewebe, das in der vorstehend erwähnten Weise vorbehandelt wurde, in einer
wässrigen sauren Badlösung mit einer Konzentration im Bereich
-r-
von etwa 10 bis etwa 30 Gew.% etwa 0,5 bis etwa 5 Minuten
lang mit einer Stromdichte von etwa 1 bis etwa 4 A/dm bei
einer Spannung von etwa 10 bis etwa 4OV Gleichspannung behandelt.
Der auf diese Weise anodisch oxydierte Träger wird sodann mit einer wässrigen Lösung des Alkalisalzes der kondensierten
Arylsulfonsäure behandelt, deren Konzentration etwa 5 bis etwa 10 Gew.% beträgt. Der pH-Wert der SuIfonsäure-Badlösung
wird durch Zugabe von HpSO2. auf etwa 1,5
eingestellt.
Vorzugsweise erfolgt die anodische Oxydation in einem etwa 20 Gew.jSigen wässrigen HgSO^-Bad während etwa einer Minute
bei einer Strombeaufschlagung mit etwa 2,6 A/dm und etwa 20V Gleichspannung; die Sulfonsäure wird in einer etwa 7,5
Gew.^igen wässrigen Lösung angewandt. Die Salzlösung kann in irgendeiner beliebigen bekannten Weise auf das anodisierte
Trägermaterial aufgebracht werden, beispielsweise durch Eintauchen, Schwammauftrag oder Aufwalzen.
Gemäß einer alternativen Ausführungsform der Erfindung können
der Anodisierungs- und der "Versiegelungs"-Verfahrensschritt
in etwa gleichzeitig erfolgen, indem man das Arylsulfonsäuresalz in die Anodisierungsbadlösung einbezieht. Gemäß
dieser Abwandlung kann die Badlösung von etwa 15 bis etwa 30 Gew.fc' H5SO2. und von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.% SuIfonsäuresalz
enthalten. Vorzugsweise enthält sie etwa 20 Gew.%. H2SO2J und etwa 1 Gew.? Sulfonsäuresalz.
Die Erfindung erstreckt sich auch auf die Schaffung eines strahlungsempfindlichen Elements verbesserter Eigenschaften,
in Gestalt eines erfindungsgemäßen Trägers, der mit einer
beliebigen, nach dem Stand der Technik bekannten strahlungs-
321 78 7 Q-
/fO-
empfindlichen Zusammensetzung überzogen ist, etwa positiv wirkenden Zusammensetzungen wie sie in den US-Patentschriften
4,189,320 und 3,785,825 beschrieben sind, oder negativ
wirkenden Zusammensetzungen, wie sie beispielsweise in der US-Patentschrift 3,382,069 beschrieben sind. Die Aufbringung
dieser Überzüge auf das Trägermaterial erfolgt nach einem beliebigen bekannten Verfahren einschließlich überziehen,
Meniskusüberziehen.und dergleichen.
Die Erfindung erstreckt sich auch auf ein Verfahren zur Herstellung
verbesserter Lithographie-Druckplatten, indem man eines der vorstehend erwähnten erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen
Elemente durch eine Maske mit Strahlung bildweise belichtet, das so bildweise belichtete Element unter
Entfernung der weniger löslichen Bereiche des Überzugs entwickelt und ggf. das entwickelte Element einer Nachbehandlung
zur Erzeugung der gewünschten Lithographie-Druckplatte
unterwirft.
Die Verfahrensschritte der Belichtung, Entwicklung und Nachbehandlung
der strahlungsempfindlichen Elemente können in beliebiger bekannter Weise erfolgen, einschließlich beispielsweise dem in der US-Patentschrift 4,233,390 beschriebenen
Verfahren zur Konservierungs- bzw. Härtungsnachbehandlung ("post-curing").
Im folgenden werden Beispiele der Erfindung erläutert, denen
jedoch keine einschränkende Bedeutung zukommt.
Beispiel 1
Eine Blechfolie der Abmessung 25cm χ 25cm aus der Aluminium-
Eine Blechfolie der Abmessung 25cm χ 25cm aus der Aluminium-
- /11-
legierung AA 1050 wurde unter Verwendung einer feuchten Bimssteinaufschlämmung
gekörnt und sodann etwa eine Minute lang einer Anodisierung (anodischen Oxydation)' in einem 20 Gew.%
HpSOh enthaltenden wässrigen Bad bei 3,8 A/dm unterworfen.
Die so anodisch oxydierte Folie wurde sodann bei Zimmertemperatur 30 Sekunden lang in ein 50 bis 100 g/l Tamol SN enthaltendes
Bad eingetaucht, das mit HpSO2. auf einen pH-Wert
von 1,5 eingestellt war.
Nach dieser Behandlung wurde die Folie sodann gespült und getrocknet und mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung
überzogen, welche aus einem 1:1 Gemisch aus einem
Cresolformaldehydharz und dem Kondensationsprodukt aus Naphtoquinon-l,2-(Diazid 2)-5 Sulfonylchlorid mit einem Pyrogallolacetonharz
bestand; das so erhaltene strahlungsempfindliche Element ergab nach in bekannter Weise erfolgender
bildweiser Belichtung, Entwicklung und Nachbehandlung eine Lithographie-Druckplatte mit einem sauberen nicht-druckenden
("non-image") Bereich; mit dieser Druckplatte konnten 65.OOO
brauchbare Abzüge hergestellt werden.
Es wurde wie in Beispiel 1 verfahren, mit dem Unterschied, daß das Anodisierungsbad 20 Gew.% HpSO^ und 1 Gew.% Tamol
SN enthielt und der Eintauchschritt entfallen konnte. Hierbei wurden gleichartige Ergebnisse erzielt.
Claims (1)
- Patentansprüche1. Anodisierter (anodisch oxydierter) Träger für eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung, ■ dadurch gekennzeichnet, daß das anodisierte (anodisch oxydierte) Trägermaterial mit einem Alkalisalz einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt ist.2. Träger nach Anspruch 1,dadurch gekenn z- ei chnet, daß die Behandlung mit dem Arylsulfonsäuresalz nach der Anodisierung (anodischen Oxydation) vorgenommen ist.3. Träger nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung mit dem Arylsulfonsäuresalz während der Anodisierung (anodischen Oxydation) vorgenommen ist.1I. Verwendung des Trägers nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche als anodisch oxydiertes Trägermaterial für ein strahlungsempfindliches Element, wobei das Trägermaterial mit einem überzug aus einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung versehen ist.5. Verwendung des strahlungsempfindlichen Elements gemäß Anspruch 4 bzw. des Trägers nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte.6. Träger bzw. strahlungsempfindliches Element bzw, Litho-graphie-Druckplatte nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß als Trägermaterial Aluminium oder eine Aluminiumlegierung dient.Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte, bei welchem ein strahlungsempfindliches Element, welches aus einem mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogenen anodisierten (anodisch oxydierten) Trägermaterial besteht, durch eine Maske hindurch belichtet und das belichtete Element zur Entfernung der Bereiche höherer Löslichkeit und Erzeugung der gewünschten Druckplatte entwickelt wird,
dadurch gekennzeichnet, daß man das anodisierte (anodisch oxydierte) Trägermaterial während oder nach der Anodisierung (anodischen Oxydation) und vor der Aufbringung der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung mit einer wässrigen Lösung eines Alkalisalzes einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt .
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---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823217870 Withdrawn DE3217870A1 (de) | 1981-05-15 | 1982-05-12 | Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzung |
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FR (1) | FR2509229B1 (de) |
GB (1) | GB2098627B (de) |
NL (1) | NL190150C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19831780B4 (de) * | 1997-07-15 | 2012-11-08 | Fuji Electric Co., Ltd | Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter und elektrophotographischer Photoleiter, in dem dieses verwendet wird |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59101651A (ja) * | 1982-12-02 | 1984-06-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPH0694234B2 (ja) * | 1984-01-17 | 1994-11-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP2008050409A (ja) * | 2006-08-22 | 2008-03-06 | Nicca Chemical Co Ltd | アルミニウム材用表面防汚剤、アルミニウム材の防汚処理方法及びアルミニウム材構造物 |
JP5319097B2 (ja) | 2007-10-16 | 2013-10-16 | イーストマン コダック カンパニー | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
US8530143B2 (en) | 2010-11-18 | 2013-09-10 | Eastman Kodak Company | Silicate-free developer compositions |
US20120129093A1 (en) | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Moshe Levanon | Silicate-free developer compositions |
US8939080B2 (en) | 2010-11-18 | 2015-01-27 | Eastman Kodak Company | Methods of processing using silicate-free developer compositions |
US20120192741A1 (en) | 2011-01-31 | 2012-08-02 | Moshe Nakash | Method for preparing lithographic printing plates |
US8889341B2 (en) | 2012-08-22 | 2014-11-18 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors and use |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2811396A1 (de) * | 1978-03-16 | 1979-09-27 | Hoechst Ag | Verfahren zur anodischen oxidation von aluminium und dessen verwendung als druckplatten-traegermaterial |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH313571A (de) * | 1953-03-18 | 1956-04-30 | Geigy Ag J R | Verfahren zum Nachverdichten von anodisch oxydiertem Aluminium |
JPS5134007A (ja) * | 1974-09-12 | 1976-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Insatsubanyoshijitainosetozohoho |
US4022670A (en) * | 1975-07-16 | 1977-05-10 | Swiss Aluminium Ltd. | Process for preparation of lithographic printing plates |
JPS5270953A (en) * | 1975-11-06 | 1977-06-13 | Nippon Kagaku Sangyo Kk | Process for sealing anodic oxidation coating on aluminum or its alloy |
EP0050216B1 (de) * | 1980-09-26 | 1985-01-09 | American Hoechst Corporation | Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Druckplatten-Trägermaterial |
-
1982
- 1982-04-30 AU AU83239/82A patent/AU8323982A/en not_active Abandoned
- 1982-05-05 CA CA000402325A patent/CA1193571A/en not_active Expired
- 1982-05-12 NL NL8201961A patent/NL190150C/xx not_active IP Right Cessation
- 1982-05-12 DE DE19823217870 patent/DE3217870A1/de not_active Withdrawn
- 1982-05-13 GB GB8213896A patent/GB2098627B/en not_active Expired
- 1982-05-14 JP JP8229482A patent/JPS57195697A/ja active Pending
- 1982-05-14 FR FR8208505A patent/FR2509229B1/fr not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2811396A1 (de) * | 1978-03-16 | 1979-09-27 | Hoechst Ag | Verfahren zur anodischen oxidation von aluminium und dessen verwendung als druckplatten-traegermaterial |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19831780B4 (de) * | 1997-07-15 | 2012-11-08 | Fuji Electric Co., Ltd | Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter und elektrophotographischer Photoleiter, in dem dieses verwendet wird |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL190150C (nl) | 1993-11-16 |
NL190150B (nl) | 1993-06-16 |
JPS57195697A (en) | 1982-12-01 |
CA1193571A (en) | 1985-09-17 |
FR2509229A1 (fr) | 1983-01-14 |
NL8201961A (nl) | 1982-12-01 |
AU8323982A (en) | 1982-11-18 |
GB2098627A (en) | 1982-11-24 |
FR2509229B1 (fr) | 1986-03-28 |
GB2098627B (en) | 1984-10-17 |
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