DE3217870A1 - Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzung - Google Patents

Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzung

Info

Publication number
DE3217870A1
DE3217870A1 DE19823217870 DE3217870A DE3217870A1 DE 3217870 A1 DE3217870 A1 DE 3217870A1 DE 19823217870 DE19823217870 DE 19823217870 DE 3217870 A DE3217870 A DE 3217870A DE 3217870 A1 DE3217870 A1 DE 3217870A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
radiation
carrier
anodized
carrier material
sensitive composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19823217870
Other languages
English (en)
Inventor
Eugene 10952 Monsey N.Y. Golda
Hans Peter 3360 Osterode Herting
Jen-chi 10562 Ossining N.Y. Huang
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Polychrome Corp
Original Assignee
Polychrome Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Polychrome Corp filed Critical Polychrome Corp
Publication of DE3217870A1 publication Critical patent/DE3217870A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/06Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24Chemical after-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Patentanwälte .·..:!. * ·..: .**D1pY>lr[g. Curt Wallach
Europäische Patentvertreter Dlp'f.-Tng. Günther Koch
European Patent Attorneys , Dipl.-Phys. Dr.Tino Haibach
O* Dipl.-lng. Rainer Feldkamp
D-8000 München 2 · Kaufingerstraße 8 · Telefon (0 89) 2 60 80 78 · Telex 5 29 513 wakai d
Datum: ^' MÄi 1982
Unser Zeichen: 17^9 H/Pe
Polychrome Corporation, 137 Alexander Street, Yonkers, N.Y. 10702, U.S.A.
Anodisierter (anodisch oxydierter) Träger für eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung
Die Erfindung betrifft allgemein Lithographie-Druckplatten. Näherhin betrifft die. Erfindung einen verbesserten Träger zrur Verwendung bei der Herstellung derartiger Druckplatten bzw. aus derartigen Trägern hergestellte strahlungsempfindliche Elemente und aus derartigen Elementen hergestellte Lithographie-Druckplatten.
Strahlungsempfindliche Elemente zur Überführung in Lithographie-Druckplatten weisen eine strahlungsempfindliche Reproduzier- oder Wiedergabeschicht, in welcher das Druckbild photomechanisch erzeugt wird, sowie einen Träger auf, der von Beginn der Erzeugung des Materials bis zur Verarbeitung zu einer Druckplatte die Reproduzier- oder Wiedergabeschicht trägt und zusammen mit dieser bis zur Verwendung des Materials gelagert wird. Nach der Erzeugung des Druckbildes trägt der Träger dieses Druckbild und bildet gleichzeitig in den bildfreien (d.h. nicht-druckenden) Bereichen
den Bildhintergrund. Eine der Forderungen an einen zur Herstellung einer Druckplatte geeigneten Träger besteht darin, daß die aus der Reproduzier- oder Wiedergabeschicht des Materials entwickelten Druckbildbereiche (d.h. die druckenden Bereiche der Druckplatte) fest an dem Träger anhaften. Außerdem muß der Träger eine hydrophile Oberfläche aufweisen, und die Abstoßungswirkung dieser Oberfläche gegenüber öligen bzw. oleophilen Druckfarben darf unter den vielfältigen Anforderungen des Druckvorgangs in seiner Wirksamkeit nicht herabgesetzt werden. Der Träger muß ferner eine poröse Oberflächenstruktur besitzen, derart daß die Oberfläche genügend Wasser festhalten kann, um eine angemessene Abstoßwirkung gegenüber den zum Drucken verwendeten Druckfarben zu besitzen.
Durch anodische Oxydation (Anodisierung) von Aluminiumblechen oder -folien hergestellte Aluminiumoxydschichten' sind außerordentlich abriebfest, und derartige anodisierte Folien haben sich als äußerst brauchbar zur Herstellung von Druckplatten für hohe Auflagenzahlen erwiesen. Jedoch weisen derartige Platten Nachteile und Unvollkommenheiten infolge einer zu großen Eindringung der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung in die Poren des Trägers auf.
In der Vergangenheit ist man diesen Nachteilen beispielsweise dadurch begegnet, daß man den anodisierten Träger vor der Aufbringung des Überzugs aus der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung mit einer wässrigen Lösung von Natriumsilikat, Ammonium- oder Alkalibichromat, Eisen-Ammoniumoxalat oder einer Farbstoffsubstanz behandelt, die chemisch mit den Aluminiumoxydoberflächen reagieren können.
Auch diese Verfahren weisen jedoch Nachteile auf. So macht die Behandlung mit Alkalisilikat eine gründliche Spülung mit Wasser erforderlich, wenn der so erhaltene Träger mit einer lagerfähigen lichtempfindlichen Schicht versehen werden soll, die im sensibilisierten Zustand über eine lange Zeit ohne Beeinträchtigung lagerfähig sein soll. Selbst nach einer derartigen gründlichen Spülung mit Wasser, oder sogar bei Neutralisierung mit verdünnten Säuren, bewirkt die Silikatschicht, oder möglicherweise ein aus der Silikatlösung zurückgebliebener alkalischer Rückstand, eine gewisse Beeinträchtigung und Verschlechterung. Bei Anwendung der erwähnten wässrigen Chromatlösungen wird eine kaum " .hydrophile Zwischenschicht erhalten, deren Chromatgehalt, vermutlich wegen seiner oxydierenden Wirkung, häufig die aufzubringende lichtempfindliche Schicht durch eine Verfärbung dieser Schicht beeinträchtigt, was deren Lichtempfindlichkeit verringert, da die Lichtdurchlässigkeit der Schicht beeinträchtigt wird.
Außerdem ist die Verwendung von chromhaltigen Zusammensetzungen aus Gründen des Umweltschutzes unerwünscht. Ähnliche Überlegungen, mit Ausnahme der Umweltschutzbedenken, gelten auch für die Behandlung mit einer Eisen-Ammoniumoxalatlösung, deren Eisengehalt eine dunkle Verfärbung hervorrufen kann. Bei Verwendung wässriger Lösungen von Farbstoffsubstanzen, die chemisch mit der Aluminiumoxydoberfläche reagieren, werden die hydrophilen Eigenschaften der Aluminiumschicht teilweise verringert, mit der Folge, daß unter Verwendung eines in dieser Weise vorbehandelten Trägers hergestelltes Druckplattenmaterial stärker zu einer Schaum- und Abriebbildung während des Drückens neigt als eine Druckplatte, deren Oberfläche nicht in dieser Weise vorbehandelt
wurde. Außerdem können chemisch mittels Farbstoffsubstanzen veränderte Aluminiumoxydoberflächen nicht mehr in einfacher Weise korrigiert werden.
Der Erfindung liegt als Aufgabe die Schaffung eines Trägers der eingangs genannten Art zugrunde, bei dem die vorstehend erläuterten Nachteile der bekannten Trägermaterialien vermieden werden. Insbesondere soll durch die Erfindung ein Trägermaterial zur. Verwendung bei der Herstellung strahlungsempfindlicher Elemente geschaffen werden, bei dem die erwähnte nachteilige, schädliche .Eindringung der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung in das Trägermaterial vermieden wird, ohne die hydrophile Eigenschaft des Materials zu verringern.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß sich durch Aufbringung einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung auf ein verbessertes Trägermaterial ein verbessertes strahlungsempfindliches Element erzielen läßt; gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung dient dabei als Trägermaterial ein anodisiertes (anodisch oxydiertes) Trägermaterial, vorzugsweise Aluminium, das vor oder während des AnodisierungsVorganges mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsalzes einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt wurde.
Im folgenden wird die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen erläutert.
Wie eingangs dargelegt, ergibt die Erfindung ein verbessertes Trägermaterial zur Verwendung in strahlungsempfindlichen Elementen für die Herstellung von Lithographie-Druckplatten für hohe Auflagen ohne Beeinträchtigung des Hintergrunds; das erfindungsgemäße Trägermaterial besteht aus irgendeinem der bekannten anodisierten Trägermaterialien, die vor oder
- 5—
.τ.
während der Anodisierung mit einer wässrigen Badlösung eines Alkalimetallsalzes einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt wurden.
Als Arylsulfonsäuresalze für die Zwecke der Erfindung eignen sich unter anderen die Naphtalinsulfonate, in welchen zwei Oder mehr Naphtalinkerne durch Alkylengruppen verbunden sind. Der Prototyp dieser Klasse ist Dinaphtylmethandisulfonsäure, d.h. die Disulfonsäure der folgenden Formel
SQjH
Die Erzeugnisse dieser Klasse sind von unterschiedlicher, unbestimmter Zusammensetzung. Sie können durch gemeinsames Erhitzen von Naphtalin, Formaldehyd und Schwefelsäure oder durch Behandlung von Naphtalinsulfonsäuren mit Formaldehyd hergestellt werden. Auf diese Weise können drei oder mehr Naphtalinkerne miteinander durch Alkylengruppen unter Bildung eines Kondensationspolymeren miteinander verbunden werden. Auch niedriger alkylierte Naphtaline können in der Reaktion verwendet werden. Ein Beispiel ist Monoisopropylnaphtalin. Anstelle von Naphtalin können auch andere aromatische Kohlenwasserstoffe verwendet werden, wie beispielsweise Benzol, Diphenyl, Anthr.acen, Phenanthren, Fluoren, usw., oder Homologe und Derivate dieser Stoffe. Die Salze der vorstehend genannten Säuren, beispielsweise die Natriumsalze, besitzen ähnliche Eigenschaften. Die Herstellung von Dispersionsmitteln dieses Typs ist im einzelnen in der Lite-
3217970
ratur und in Patentschriften wie etwa der US-PS 2,802,845 beschrieben, und repräsentative Verbindungen dieser Klasse sind unter den Bezeichnungen Tamol, Leukanol und Daxad im Handel.
Für die Zwecke der vorliegenden Erfindung besonders geeignet sind die Natriumsalze kondensierter Naphtalinsulfonsäuren, die unter der Bezeichnung Tamol SN und Tamol N Micro im Handel erhältlich sind.
Als Trägermaterial eignet sich jeder der nach dem Stande der Technik bekannten Träger, einschließlich Aluminium und seiner Legierungen. Vorzugsweise wird ein Trägermaterial aus der Gruppe Aluminium und dessen für Lithographiezwecke geeigneten Legierungen gewählt.
Ggf. kann das Trägermaterial vor oder nach der Salzbehandlung einer oder mehreren weiteren Behandlungen unterworfen werden, beispielsweise einer (chemischen, mechanischen oder elektrochemischen) Körnung, Entfettung, Reinigung und dergleichen.
Die Anodisierung kann in beliebiger bekannter Weise erfolgen, beispielsweise durch Eintauchen des Substrats in eine wässrige Badlösung von HpSO1,, H,POj. und dergleichen oder Gemischen hiervon, und Beaufschlagung mit einer Stromdichte in einem Gleich- oder Wechselstromfeld.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung wird zur Herstellung eines anodisierten (anodisch oxydierten, eloxierten) Trägermaterials eine Metallfolie oder ein Metallgewebe, das in der vorstehend erwähnten Weise vorbehandelt wurde, in einer wässrigen sauren Badlösung mit einer Konzentration im Bereich
-r-
von etwa 10 bis etwa 30 Gew.% etwa 0,5 bis etwa 5 Minuten
lang mit einer Stromdichte von etwa 1 bis etwa 4 A/dm bei einer Spannung von etwa 10 bis etwa 4OV Gleichspannung behandelt. Der auf diese Weise anodisch oxydierte Träger wird sodann mit einer wässrigen Lösung des Alkalisalzes der kondensierten Arylsulfonsäure behandelt, deren Konzentration etwa 5 bis etwa 10 Gew.% beträgt. Der pH-Wert der SuIfonsäure-Badlösung wird durch Zugabe von HpSO2. auf etwa 1,5 eingestellt.
Vorzugsweise erfolgt die anodische Oxydation in einem etwa 20 Gew.jSigen wässrigen HgSO^-Bad während etwa einer Minute bei einer Strombeaufschlagung mit etwa 2,6 A/dm und etwa 20V Gleichspannung; die Sulfonsäure wird in einer etwa 7,5 Gew.^igen wässrigen Lösung angewandt. Die Salzlösung kann in irgendeiner beliebigen bekannten Weise auf das anodisierte Trägermaterial aufgebracht werden, beispielsweise durch Eintauchen, Schwammauftrag oder Aufwalzen.
Gemäß einer alternativen Ausführungsform der Erfindung können der Anodisierungs- und der "Versiegelungs"-Verfahrensschritt in etwa gleichzeitig erfolgen, indem man das Arylsulfonsäuresalz in die Anodisierungsbadlösung einbezieht. Gemäß dieser Abwandlung kann die Badlösung von etwa 15 bis etwa 30 Gew.fc' H5SO2. und von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.% SuIfonsäuresalz enthalten. Vorzugsweise enthält sie etwa 20 Gew.%. H2SO2J und etwa 1 Gew.? Sulfonsäuresalz.
Die Erfindung erstreckt sich auch auf die Schaffung eines strahlungsempfindlichen Elements verbesserter Eigenschaften, in Gestalt eines erfindungsgemäßen Trägers, der mit einer beliebigen, nach dem Stand der Technik bekannten strahlungs-
321 78 7 Q-
/fO-
empfindlichen Zusammensetzung überzogen ist, etwa positiv wirkenden Zusammensetzungen wie sie in den US-Patentschriften 4,189,320 und 3,785,825 beschrieben sind, oder negativ wirkenden Zusammensetzungen, wie sie beispielsweise in der US-Patentschrift 3,382,069 beschrieben sind. Die Aufbringung dieser Überzüge auf das Trägermaterial erfolgt nach einem beliebigen bekannten Verfahren einschließlich überziehen, Meniskusüberziehen.und dergleichen.
Die Erfindung erstreckt sich auch auf ein Verfahren zur Herstellung verbesserter Lithographie-Druckplatten, indem man eines der vorstehend erwähnten erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Elemente durch eine Maske mit Strahlung bildweise belichtet, das so bildweise belichtete Element unter Entfernung der weniger löslichen Bereiche des Überzugs entwickelt und ggf. das entwickelte Element einer Nachbehandlung zur Erzeugung der gewünschten Lithographie-Druckplatte unterwirft.
Die Verfahrensschritte der Belichtung, Entwicklung und Nachbehandlung der strahlungsempfindlichen Elemente können in beliebiger bekannter Weise erfolgen, einschließlich beispielsweise dem in der US-Patentschrift 4,233,390 beschriebenen Verfahren zur Konservierungs- bzw. Härtungsnachbehandlung ("post-curing").
Im folgenden werden Beispiele der Erfindung erläutert, denen jedoch keine einschränkende Bedeutung zukommt.
Beispiel 1
Eine Blechfolie der Abmessung 25cm χ 25cm aus der Aluminium-
- /11-
legierung AA 1050 wurde unter Verwendung einer feuchten Bimssteinaufschlämmung gekörnt und sodann etwa eine Minute lang einer Anodisierung (anodischen Oxydation)' in einem 20 Gew.% HpSOh enthaltenden wässrigen Bad bei 3,8 A/dm unterworfen.
Die so anodisch oxydierte Folie wurde sodann bei Zimmertemperatur 30 Sekunden lang in ein 50 bis 100 g/l Tamol SN enthaltendes Bad eingetaucht, das mit HpSO2. auf einen pH-Wert von 1,5 eingestellt war.
Nach dieser Behandlung wurde die Folie sodann gespült und getrocknet und mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen, welche aus einem 1:1 Gemisch aus einem Cresolformaldehydharz und dem Kondensationsprodukt aus Naphtoquinon-l,2-(Diazid 2)-5 Sulfonylchlorid mit einem Pyrogallolacetonharz bestand; das so erhaltene strahlungsempfindliche Element ergab nach in bekannter Weise erfolgender bildweiser Belichtung, Entwicklung und Nachbehandlung eine Lithographie-Druckplatte mit einem sauberen nicht-druckenden ("non-image") Bereich; mit dieser Druckplatte konnten 65.OOO brauchbare Abzüge hergestellt werden.
Beispiel 2
Es wurde wie in Beispiel 1 verfahren, mit dem Unterschied, daß das Anodisierungsbad 20 Gew.% HpSO^ und 1 Gew.% Tamol SN enthielt und der Eintauchschritt entfallen konnte. Hierbei wurden gleichartige Ergebnisse erzielt.

Claims (1)

  1. Patentansprüche
    1. Anodisierter (anodisch oxydierter) Träger für eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung, ■ dadurch gekennzeichnet, daß das anodisierte (anodisch oxydierte) Trägermaterial mit einem Alkalisalz einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt ist.
    2. Träger nach Anspruch 1,
    dadurch gekenn z- ei chnet, daß die Behandlung mit dem Arylsulfonsäuresalz nach der Anodisierung (anodischen Oxydation) vorgenommen ist.
    3. Träger nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung mit dem Arylsulfonsäuresalz während der Anodisierung (anodischen Oxydation) vorgenommen ist.
    1I. Verwendung des Trägers nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche als anodisch oxydiertes Trägermaterial für ein strahlungsempfindliches Element, wobei das Trägermaterial mit einem überzug aus einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung versehen ist.
    5. Verwendung des strahlungsempfindlichen Elements gemäß Anspruch 4 bzw. des Trägers nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte.
    6. Träger bzw. strahlungsempfindliches Element bzw, Litho-
    graphie-Druckplatte nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche,
    dadurch gekennzeichnet, daß als Trägermaterial Aluminium oder eine Aluminiumlegierung dient.
    Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte, bei welchem ein strahlungsempfindliches Element, welches aus einem mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogenen anodisierten (anodisch oxydierten) Trägermaterial besteht, durch eine Maske hindurch belichtet und das belichtete Element zur Entfernung der Bereiche höherer Löslichkeit und Erzeugung der gewünschten Druckplatte entwickelt wird,
    dadurch gekennzeichnet, daß man das anodisierte (anodisch oxydierte) Trägermaterial während oder nach der Anodisierung (anodischen Oxydation) und vor der Aufbringung der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung mit einer wässrigen Lösung eines Alkalisalzes einer kondensierten Arylsulfonsäure behandelt .
DE19823217870 1981-05-15 1982-05-12 Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzung Withdrawn DE3217870A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US26396181A 1981-05-15 1981-05-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3217870A1 true DE3217870A1 (de) 1982-12-02

Family

ID=23003981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19823217870 Withdrawn DE3217870A1 (de) 1981-05-15 1982-05-12 Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzung

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS57195697A (de)
AU (1) AU8323982A (de)
CA (1) CA1193571A (de)
DE (1) DE3217870A1 (de)
FR (1) FR2509229B1 (de)
GB (1) GB2098627B (de)
NL (1) NL190150C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19831780B4 (de) * 1997-07-15 2012-11-08 Fuji Electric Co., Ltd Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter und elektrophotographischer Photoleiter, in dem dieses verwendet wird

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59101651A (ja) * 1982-12-02 1984-06-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH0694234B2 (ja) * 1984-01-17 1994-11-24 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2008050409A (ja) * 2006-08-22 2008-03-06 Nicca Chemical Co Ltd アルミニウム材用表面防汚剤、アルミニウム材の防汚処理方法及びアルミニウム材構造物
JP5319097B2 (ja) 2007-10-16 2013-10-16 イーストマン コダック カンパニー ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
US8530143B2 (en) 2010-11-18 2013-09-10 Eastman Kodak Company Silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US20120192741A1 (en) 2011-01-31 2012-08-02 Moshe Nakash Method for preparing lithographic printing plates
US8889341B2 (en) 2012-08-22 2014-11-18 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors and use

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2811396A1 (de) * 1978-03-16 1979-09-27 Hoechst Ag Verfahren zur anodischen oxidation von aluminium und dessen verwendung als druckplatten-traegermaterial

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH313571A (de) * 1953-03-18 1956-04-30 Geigy Ag J R Verfahren zum Nachverdichten von anodisch oxydiertem Aluminium
JPS5134007A (ja) * 1974-09-12 1976-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd Insatsubanyoshijitainosetozohoho
US4022670A (en) * 1975-07-16 1977-05-10 Swiss Aluminium Ltd. Process for preparation of lithographic printing plates
JPS5270953A (en) * 1975-11-06 1977-06-13 Nippon Kagaku Sangyo Kk Process for sealing anodic oxidation coating on aluminum or its alloy
EP0050216B1 (de) * 1980-09-26 1985-01-09 American Hoechst Corporation Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Druckplatten-Trägermaterial

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2811396A1 (de) * 1978-03-16 1979-09-27 Hoechst Ag Verfahren zur anodischen oxidation von aluminium und dessen verwendung als druckplatten-traegermaterial

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19831780B4 (de) * 1997-07-15 2012-11-08 Fuji Electric Co., Ltd Substrat für einen elektrophotographischen Photoleiter und elektrophotographischer Photoleiter, in dem dieses verwendet wird

Also Published As

Publication number Publication date
NL190150C (nl) 1993-11-16
NL190150B (nl) 1993-06-16
JPS57195697A (en) 1982-12-01
CA1193571A (en) 1985-09-17
FR2509229A1 (fr) 1983-01-14
NL8201961A (nl) 1982-12-01
AU8323982A (en) 1982-11-18
GB2098627A (en) 1982-11-24
FR2509229B1 (fr) 1986-03-28
GB2098627B (en) 1984-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2725762C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform
EP0121880B1 (de) Zweistufiges Verfahren zur Herstellung von anodisch oxidierten flächigen Materialien aus Aluminium und deren Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplatten
EP0167751B1 (de) Verfahren zur Behandlung von Aluminiumoberflächen
EP0089510B1 (de) Aluminiummaterial mit einer hydrophilen Oberflächenbeschichtung, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung als Träger für Offsetdruckplatten
DE3150278C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Stahlschichtträgers für Flachdruckplatten
DE1671614A1 (de) Lithographische Druckplatte und Verfahren zur Herstellung derselben
EP0105170B1 (de) Verfahren zur Nachbehandlung von Aluminiumoxidschichten mit Alkalisilikat enthaltenden wässrigen Lösungen und dessen Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplattenträgern
EP0184756B1 (de) Elektrolyt zur elektrochemischen Behandlung von Metallplatten sowie Verfahren zur Herstellung anodisierter Metallplatten, vorzugsweise für die Verwendung als Druckplattenträger
DE2532769A1 (de) Verfahren zur herstellung von vorsensibilisierten lithographischen platten
DE3030815A1 (de) Elektrolytisches koernungsverfahren
DE1243700B (de) Vorsensibilisierte Flachdruckplatte mit einer hydrophilen Zwischenschicht und Verfahren zu deren Herstellung
DE1183919B (de) Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten Flachdruckplatte mit metallischer Grundschicht unter Verwendung einer Haftschicht
DE3217870A1 (de) Anodisierter (anodisch oxydierter) traeger fuer eine strahlungsempfindliche zusammensetzung
EP0139111B1 (de) Verfahren zur zweistufigen anodischen Oxidation von Trägermaterialien aus Alumunium für Offsetdruckplatten
EP0086956B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Trägermaterialien für Offsetdruckplatten
EP0086957A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Trägermaterialien für Offsetdruckplatten
DE2328606B2 (de) Verfahren zur kontinuierlichen vorbehandlung von aluminiumband fuer die herstellung lithografischer platten
EP0269851B1 (de) Trägermaterial auf der Basis von Aluminium oder dessen Legierungen für Offsetdruckplatten sowie Verfahren zu dessen Herstellung
EP0141056A1 (de) Verfahren zur einstufigen anodischen Oxidation von Trägermaterialien aus Aluminium für Offsetdruckplatten
EP0161461A2 (de) Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Trägermaterial für Offsetdruckplatten
EP0095581B1 (de) Verfahren zur Nachbehandlung von Aluminiumoxidschichten mit Alkalisilikat enthaltenden wässrigen Lösungen und dessen Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplattenträgern
DE1796159C3 (de) Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten
DE3717757C2 (de)
EP0170045A1 (de) Verfahren zum gleichzeitigen Aufrauhen und Verchromen von Stahlplatten als Träger für lithographische Anwendungen
DE69915211T2 (de) Herstellung eines Trägers einer Flachdruckplatte

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: G03F 7/09

8130 Withdrawal