DE3717757C2 - - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Aluminiumschichtträger für die Verwendung zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte mit einer verbesserten hydrophilen Schicht und einem darauf aufgebrachten anodischen Oxidationsfilm, sowie eine vorsensibilisierte lithografische Druckplatte, die den erfindungsgemäßen Aluminiumschichtträger enthält.

Bis jetzt sind sogenannte vorsensibilisierte Platten (im folgenden der Einfachheit halber als PS-Platten bezeichnet) als Originalplatten für die Verwendung zur Herstellung von lithografischen Druckplatten bekannt gewesen. Die PS-Platten enthalten im allgemeinen eine Aluminiumplatte mit einer darauf aufgebrachten dünnen Schicht einer lichtempfindlichen Zusammensetzung. PS-Platten sind im allgemeinen hergestellt worden, indem eine Aluminiumplatte als Träger einer die Oberfläche aufrauhenden Behandlung durch ein mechanisches Verfahren wie Bürstenkörnen oder Kugelkörnen, oder durch ein elektrochemisches Verfahren wie elektrolytisches Körnen, oder einer Kombination dieser Verfahren ausgesetzt worden ist, um eine satinähnliche Oberfläche zu bilden, indem die Oberfläche mit einer wässerigen Lösung von z. B. einer Säure oder einer Lauge behandelt worden ist, die Platte einer anodischen Oxidation unterworfen ist und dann einer hydrophilisierenden Behandlung, um einen Träger für PS-Platten zu erhalten, und schließlich eine lichtempfindliche Schicht auf dem Träger aufgebracht worden ist.

Wenn eine lithografische Druckplatte von solch einer PS-Platte hergestellt werden soll, wird die PS-Platte im allgemeinen bildweise dem Licht ausgesetzt, entwickelt, retouchiert und gummiert. Die lithografischen Druckplatten, die so erhalten werden, werden dann auf die Druckmaschinen aufgesetzt, um Druckoperationen auszuführen.

Wenn jedoch eine lithografische Druckplatte hergestellt wird, indem eine positiv arbeitende PS-Platte bildweise dem Licht ausgesetzt wird und dann entwickelt wird, absorbieren in der lichtempfindlichen Schicht enthaltende Materialien irreversibel an den Träger, und die bildfreien Flächen des Trägers werden stark gefärbt. Dies erschwert die Unterscheidung zwischen den Bildflächen und den bildfreien Flächen während des Retouchierens, führt zu der Bildung von ungleichmäßigen Druckplattenoberflächen, weil deutliche Spuren des Retouchierens bleiben und im schlechtesten Fall kann die erhaltene Druckplatte praktisch nicht verwendet werden, da die Spuren zu einer Hintergrundkontamination auf den bedruckten Gegenständen führen.

Zur Lösung dieser Probleme sind verschiedene Methoden für die Behandlung der Oberflächen anodisierter Aluminiumplatten vorgeschlagen worden. Beispiele dafür umfassen ein Verfahren, enthaltend das Eintauchen einer Aluminiumplatte in eine wässerige Alkalimetallsilicatlösung, wie in der US-Patentschrift Nr. 31 81 461 offenbart; ein Verfahren, das die Anwendung einer darunterliegenden Schicht einer hydrophilen Cellulose enthaltend ein wasserlösliches Metallsalz wie offenbart in der US-Patentschrift Nr. 38 60 426 umfaßt und eine Methode, die die Anwendung einer darunterliegenden Schicht von Natriumarylsulfonat, wie beschrieben in der britischen Patentschrift Nr. 20 98 627, umfaßt.

Die DE-OS 34 06 102 offenbart ein Verfahren zur Herstellung von platten-, folien- oder bandförmigen Materialien auf der Basis von mechanisch oder mechanisch und elektrochemisch aufgerauhtem und anodisch oxidiertem Aluminium oder einer seiner Legierungen, das mit einer hydrophilierender Nachbehandlungsstufe aufgebracht wird. Dabei wird eine wäßrige Alkalimetallsilikatlösung, die auch Erdalkalimetallionen enthält, durch eine Tauchbehandlung oder eine elektrochemische Behandlung mit dem Aluminiumoxid in Wechselwirkung gebracht. Das elektrochemische Aufrauhen wird in einer wäßrigen, Salpetersäure enthaltenden Lösung vorgenommen.

Die nach diesem Verfahren hergestellten Materialien finden insbesondere Verwendung als Träger für Offsetdruckplatten und weisen eine verbesserte Alkaliresistenz und eine verringerte Neigung zur Farbstoffadsorption auf.

Mit den zuvor beschriebenen Verfahren können die erwähnten Probleme der Kontamination von bildfreien Flächen und folglich auch die Hintergrundkontamination der erhaltenen bedruckten Sachen sicherlich ausgeschlossen werden. Auf der anderen Seite ist die Druckdauerhaftigkeit der erhaltenen lithografischen Druckplatte stark reduziert bis auf 50 bis 80% des Wertes ohne Oberflächenbehandlung.

Um die beschriebenen, durch die Anwesenheit eines anodischen Oxidationsfilms verursachten, Rückschritte auszuschließen, werden in den japanischen Patentveröffentlichung Nr. 54- 1 28 453 und 55-28 400 Verfahren offenbart, die die anodische Oxidation einer Aluminiumplatte in einem Elektrolyten für die Bildung eines anodischen Oxidationsfilms umfassen, der Aluminiumionen in extrem hoher Konzentration (10 bis 25 g/l) enthält oder in denen die anodische Oxidation in einem gemischten Elektrolyten aus Schwefelsäure und Phosphorsäure durchgeführt wird. Diese Methoden haben jedoch Nachteile insofern, als daß sich leicht Schuppen in den Elektrolyten bilden, daß große Mengen Schlamm (Al(OH)₃) entstehen, die die Behandlung des Abfalls erschweren und daß die Kontrolle der Konzentration sowohl der Schwefelsäure als auch der Phosphorsäure viel Mühe erfordert. Daher sind diese Verfahren weniger produktiv. Wenn die anodische Oxidation bei hoher Stromdichte durchgeführt wird, ist außerdem manchmal beobachtet worden, daß der anodische Oxidationsfilm stark wächst. Dies führt zu der Bildung eines ungleichmäßigen anodischen Oxidationsfilms oder zum sogenannten Schmoren (scorching).

Zusätzlich zu den genannten Nachteilen ist die Porösität des erhaltenen anodischen Oxidationsfilmes stark reduziert, weil die Säurekonzentration im Elektrolyten gering ist und aus diesem Grund das Adhäsionsvermögen zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem gebildeten Film verringert wird, ebenso wie die Druckdauerhaftigkeit auf 80 bis 90% abnimmt.

Unter diesen Umständen haben die Erfinder dieser Erfindung verschiedene Studien mit Aluminiumplatten als Träger für die Herstellung von lithografischen Druckplatten durchgeführt, um die beschriebenen Nachteile, die mit konventionellen Methoden für die Behandlung von Aluminiumplatten verbunden sind, auszuschließen, und gefunden, daß diese Nachteile durch die Behandlung einer anodisierten Aluminiumplatte mit einer speziellen Flüssigkeit oder Dampf in Kombination mit konventionellen Behandlungsschritten, um die Hydrophilie die Oberfläche zu erhalten, wirksam ausgeschlossen werden können.

Aufgabe dieser Erfindung ist es einen anodisierten Aluminiumträger mit einer darauf aufgebrachten verbesserten hydrophilen Schicht für die Verwendung in der Herstellung einer lithografischen Druckplatte zur Verfügung zu stellen, die eine gute Druckdauerhaftigkeit hat und nicht zu Kontaminationen des Hintergrunds führt.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst mit einem Aluminiumschichtträger mit einer verbesserten hydrophilen Schicht und einem darauf aufgebrachten anodischen Oxidationsfilm, erhältlich durch Körnen einer Aluminiumplatte, Anodisieren der gekörnten Aluminiumplatte, Hydrophilisieren der anodisierten Platte und nachfolgende Behandlung der resultierenden Aluminiumplatte mit auf 60 bis 100°C eingestelltem Wasserdampf oder Wasser oder einer verdünnten wäßrigen alkalischen Lösung.

Bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Aluminiumschichtträgers und eine ihn enthaltende erfindungsgemäße vorsensibilisierte lithografische Druckplatte sind in den Ansprüchen 2 bis 9 dargestellt.

Für die erfindungsgemäße Aluminiumplatte kann ein plattenähliches Material aus reinem Aluminium, Aluminiumlegierungen, die Spuren anderer Elemente enthalten, oder ähnliches benutzt werden. Beispiele dieser anderen Elemente umfassen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und Titan; diese Spurenelemente können in der Legierung in einer Menge von höchstens ungefähr 10 Gew.-% des gesamten Gewichts der Legierung enthalten sein. Unter diesen ist reines Aluminium bevorzugt. Die Herstellung vollständig reinen Aluminiums ist jedoch aus der Sicht der Veredelungstechnik schwierig, daher wird die Verwendung von Aluminium, dessen Gehalt an Unreinheiten (anderer Elemente) so niedrig wie möglich ist, bevorzugt. Überdies können Aluminiumlegierungen, die Spurenelemente in Mengen von höchstens 10 Gew.-% enthalten, ohne Schwierigkeiten in der vorliegenden Erfindung verwendet werden.

Wie aus der vorstehenden Beschreibung ersichtlich, ist die Verwendung von Aluminiumplatten nicht auf Aluminiumplatten mit einer spezifischen Zusammensetzung beschränkt; es können auch Platten aus üblichen und häufig benutzten Materialien verwendet werden. Die Dicke der verwendeten Aluminiumplatte reicht im allgemeinen von ungefähr 0,1 bis 0,5 mm.

Erfindungsgemäß wird die Oberfläche der Aluminiumplatte zuerst gekörnt. Falls erforderlich, wird die Aluminiumplatte vor dem Körnen mit einer wässerigen Lösung eines Benetzungsmittels oder einer Lauge behandelt, um Walzenöl von der Oberfläche der Aluminiumplatte zu entfernen.

Es sind mehrere Verfahren zum Körnen bekannt, z. B. ein Verfahren, das die mechanische Aufrauhung der Oberfläche umfaßt; ein Verfahren umfassend elektrochemisches Auflösen der Oberfläche und ein Verfahren umfassend chemisches und selektives Auflösen der Oberfläche. Beispiele für mechanische Oberflächenaufrauhungsverfahren, die in der vorliegenden Erfindung angewendet werden können, umfassen alle bekannten wie z. B. Kugelkörnen, Bürstenkörnen, Sandstrahlkörnen und Hämmern. Ein Beispiel für ein elektrochemisches Oberflächenrauhungsverfahren umfaßt das Elektrolysieren der Oberfläche der Aluminiumplatte in einem Elektrolyten aus Salzsäure oder Salpetersäure, während ein alternierender oder direkter elektrischer Strom angelegt wird. Darüberhinaus kann eine Kombination dieser beiden Arten von Verfahren (mechanische und elektrochemische Verfahren) angewendet werden, wie offenbart in der japanischen Patentveröffentlichung 54-63 902.

Die Aluminiumplatte mit einer derart aufgrauhten Oberfläche kann weiterhin mit Lauge angeätzt werden und dann bei Bedarf neutralisiert werden.

Anschließend wird die Aluminiumplatte einer anodischen Oxidationsbehandlung unterworfen. Beispiele für in der anodisierenden Behandlung verwendete Elektrolyte sind Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure und eine Mischung davon. Die Zusammensetzung der Elektrolyte wird in Abhängigkeit von der Art der angewendeten Säure geeignet bestimmt. Obwohl die Bedingungen für die anodische Oxidation von der Art des verwendeten Elektrolyten abhängen, liegt die Konzentration des Elektrolyten im allgemeinen innerhalb eines Bereiches von 1 bis 80 Gew.-%, die Temperatur des Elektrolyten beträgt 5 bis 70°C, die Stromdichte beträgt 5 bis 60 A/dm², die angelegte Spannung beträgt 1 bis 100 V, und die Elektrolysedauer beträgt 10 Sekunden bis 15 Minuten.

Bevorzugt werden 0,1 bis 10 g/m² anodischen Oxidationsfilms gebildet, besonders bevorzugt 1 bis 6 g/m².

Erfindungsgemäß wird die so anodisierte Aluminiumplatte dann einer hydrophilisierenden Behandlung mit einem Metallsilicat unterworfen. Diese Behandlung kann durch Eintauchen der Platte in eine Lösung eines Alkalimetallsilicats wie Natriumsilicat durchgeführt werden, um eine Silcatschicht aufzubringen, wie offenbart in den US-PSen 27 14 066 und 31 81 461, oder es kann eine Behandlung mit einer Erdalkalimetallsilicatlösung sein, wie offenbart in der japanischen Patentveröffentlichung 60-1 94 095.

Die Aluminiumplatte wird anschließend mit auf 60 bis 100°C eingestelltem Wasserdampf oder Wasser oder einer verdünnten wässerigen alkalischen Lösung behandelt (Substratbehandlung). Dies ist ein bedeutender Aspekt der vorliegenden Erfindung. Sogar nach der erfindungsgemäßen Substratbehandlung bleiben der dadurch erhaltenen Aluminiumplatte, die der oberflächenhydrophilisierenden Behandlung mit einem Metallsilicat ausgesetzt war, die Charakteristika einer hydrophilen Oberfläche erhalten; auch ihre Haftstärke an eine lichtempfindliche nachfolgend aufgebrachte Schicht ist verstärkt.

Wenn die Substratbehandlung mit Wasserdampf durchgeführt wird, beträgt dessen Temperatur bevorzugt nicht mehr als 120°C. Wenn eine verdünnte wässerige alkalische Lösung benutzt wird, beträgt deren pH bevorzugt 7,5 bis 13 und jedes alkalische Agenz kann verwendet werden, um den pH der alkalischen Lösung einzustellen. Typische Beispiele dafür umfassen Hydroxide, Carbonate, Acetate, Borate und Phosphate der allgemeinen Formeln M(OH)n, M(CO₃)n, M(CH₃COO)n, Mn(BO₃)n und Mm(PO₄)n, in denen M Ammonium, ein Alkalimetall oder ein Erdalkalimetall bedeutet, n und m sind ganze Zahlen zwischen 1 und 3. Darüberhinaus ist die Verwendung von Salzen alkalischer organischer Säuren möglich, wie Natriumgluconat, Natriumtartrat und Kaliumtartrat und Aminoverbindungen der allgemeinen Formel NR₃ wie Monoethanolamin. Erfindungsgemäß sollten alkalische Lösungen mit einem pH von nicht mehr als 13 verwendet werden, um das Auflösen des gebildeten anodischen Oxidationsfilms zu vermeiden.

Die Substratbehandlung kann ebenso mit Wasser oder einer verdünnten wässerigen alkalischen Lösung durchgeführt werden. In diesem Fall, wenn die Temperatur der Behandlungsflüssigkeit weniger als 60°C beträgt, wird kein ausreichender Effekt erzielt, selbst wenn die Behandlung über lange Zeit fortgesetzt wird. Derartige Aluminiumträger führen nur zu Druckplatten mit niedriger Druckdauerhaftigkeit. Die Temperatur der Behandlung sollte daher auf 60 bis 100°C eingestellt werden und für den Fall, daß eine verdünnte wässerige alkalische Lösung verwendet wird, ist die Anwendung einer relativ niedrigen Temperatur von 60 bis 80°C bevorzugt.

Andererseits ist eine Behandlungsdauer im Bereich von 1 bis 120 s in jedem der Fälle geeignet, wo Wasserdampf, Wasser oder eine verdünnte wässerige alkalische Lösung als Behandlungsflüssigkeiten verwendet werden. Besonders bevorzugt daraus ist der Bereich zwischen 5 und 30 s.

Die so behandelte Aluminiumplatte kann effektiv für die Produktion einer PS-Platte verwendet werden, die durch Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht, enthaltend eine o-Chinondiazidverbindung, auf die Oberfläche der Aluminiumplatte erhalten wird. Eine solche o-Chinondiazidverbindung ist eine Verbindung mit mindestens einer o-Chinondiazidgruppe und deren Löslichkeit ist durch Bestrahlung mit actinischem Licht verändert. Besonders bevorzugt sind Sulfonate und Sulfonamide von o-Chinondiazid, erhältlich durch deren Reaktion mit verschiedenen Arten von aromatischen Polyhydroxylverbindungen oder Aminen.

Besonders bevorzugte Beispiele dafür sind Ester von Benzochinon- 1,2-diazidsulfonsäurechlorid und Polyhydroxyphenyl oder Ester von Naphthochinon-1,2-diazidsulfonsäurechlorid und Pyrogallolacetonharz, wie offenbart in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 43-28 403. Andere bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen umfassen z. B. Ester von Benzochinon-1,2- diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-1,2-diazidsulfonsäurechlorid und Phenolformaldehydharz wie offenbart in den US-PSen Nr. 30 46 120 und 31 88 210.

Diese o-Chinondiazidverbindungen können allein eine lichtempfindliche Schicht bilden, jedoch kann ein in alkalischem Wasser lösliches Harz als Bindemittel eingeschlossen werden. Beispiele für solche in alkalischem Wasser lösliche Harze umfassen Novolakharze mit Wasserlöslichkeit wie z. B. Phenolformaldehyharz, Kresolformaldehyharz, p-Tertbutylphenolformaldehydharz, mit Phenol modifiziertes Xylolharz und mit Phenol modifizierte Xylolmesitylenharze.

Weitere nützliche Beispiele für solche Harze umfassen einer Polymere, aus wiederholten Einheiten von Orthocarboxylsäureestern zusammengesetzte Verbindung, die durch Säure zersetzt werden kann, wie in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 56-17 345 offenbart ist, Verbindungen mit Silylestergruppen, durch Säure zersetzbar, wie in den japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 60-10 247, 60-37 549 und 60-1 21 446 beschrieben und Verbindungen mit o-Nitrocarbinolestergruppen, durch Säure zersetzbar wie in der US-Patentschrift Nr. 38 49 137 beschrieben.

Weitere nützliche Beispiele für in einer wässerigen alkalischen Lösung lösliche Harze umfassen Copolymere von Polyhydroxystyrol und einer polyhalogenierten Hydroxystyrol- (meth)acrylsäure mit einer davon verschiedenen Vinylverbindung.

Die Menge der o-Chinondiazidverbindung in der lichtempfindlichen Zusammensetzung, enthaltend eine o-Chinondiazidverbindung und ein in einer wässerigen alkalischen Lösung lösliches Harz, liegt in dem Bereich zwischen 10 und 50 Gew.-% der Zusammensetzung und bevorzugt in dem Bereich zwischen 20 und 40 Gew.-%.

Weiterhin kann die lichtempfindliche Zusammensetzung, die die o-Chinondiazidverbindung enthält, eine cyclische wasserfreie Säure mit der Aufgabe, die Empfindlichkeit der Zusammensetzung zu verbessern, Farbstoffe für Farbbilder, andere erwünschte erweiternde Agentien (Füllmittel) oder ähnliches bei Bedarf enthalten.

Überzugsflüssigkeiten für das Erzielen lichtempfindlicher Schichten können durch Auflösen der vorstehenden Bestandteile in einem organischen Lösungsmittel hergestellt werden. Beispiele für dabei verwendete Lösungsmittel sind 2-Methoxymethanol, 2-Ethoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, 2-Ethoxyethylacetat, Dimethylformamid, Methanol, Ethanol, n-Propanol, Isopropanol, Methylenchlorid, Ethylendioxid, Trichlorethan, Monochlorbenzol, Toluol, Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon, Ester, Methylacetat, Ethylacetat, n-Propylacetat, Isopropylacetat, n-Butylacetat und Methylamylacetat sowie Mischungen davon. Die Menge der Zusammensetzung (Feststoffanteil) in der Überzugsflüssigkeit liegt in dem Bereich von ungefähr 0,1 bis ungefähr 25 Gew.-%, bevorzugt zwischen 1 und 15 Gew.-% des Gesamtgewichts der Überzugsflüssigkeit.

Die so hergestellte Überzugsflüssigkeit kann auf jede übliche Art und Weise, z. B. Auftragsbeschichtung, Walzenbeschichtung, Gravurüberzug, Wulstüberziehen oder Überziehen durch Eintauchen auf die Oberfläche der wie vorstehend beschrieben behandelten Aluminiumplatte aufgetragen werden.

Das Trocknen der erhaltenen Schicht der Überzugsflüssigkeit kann ebenso nach üblichen Verfahren durchgeführt werden, z. B. kann die Schicht bei einer Atmosphäre bei einer Temperatur zwischen Raumtemperatur und einer erhöhten Temperatur, d. h. zwischen 20 und 150°C, getrocknet werden. Die Menge der aufgetragenen lichtempfindlichen Schicht liegt nach dem Trocknen in einer Größenordnung von ungefähr 0,1 bis 7 g/m², bevorzugt 0,5 bis 4 g/m².

Die so hergestellte PS-Platte wird bildweise Licht von Lichtquellen ausgesetzt, die acetinisches Licht für o- Chinondiazidverbindungen, so wie Kohlenstoffbogenlampen, Xenonlampen, Quecksilberlampen, Wolframlampen und Metallhalogenidlampen umfassen. Sie wird dann mit einer wässerigen alkalischen Lösung wie z. B. einer Lösung von Kaliumsilicat entwickelt, um eine lithografische Druckplatte zu bilden.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann demzufolge außergewöhnlich gute Aluminiumträger für die Verwendung in der Herstellung lithografischer Druckplatten mit hoher Druckdauerhaftigkeit, die im Vergleich zu konventionellen kaum Kontaminationen auf bildfreien Flächen verursachen, zur Verfügung stellen. Dahingehend ist es üblicherweise bekannt, daß lithografische Druckplatten mit einer hohen Druckdauerhaftigkeit dazu neigen, Kontaminationen auf bildfreien Flächen zu verursachen, im Gegensatz dazu aber lithografische Druckplatten, deren bildfreie Flächen kaum Kontaminationen verursachen, bezüglich der Druckdauerhaftigkeit unterlegen sind. Man hat mit anderen Worten geglaubt, es sei äußerst schwierig, gleichzeitig diese beiden Eigenschaften zu verbessern.

Wie jedoch aus der vorstehenden Beschreibung ersichtlich ist, hat die lithografische Druckplatte, in der die erfindungsgemäß behandelte Aluminiumplatte verwendet wird, die vorgenannten äußerst guten Eigenschaften, die niemals zuvor in diesem Bereich erreicht worden sind.

Das Verfahren für die Herstellung von erfindungsgemäßen Trägern für lithografische Druckplatten wird im folgenden durch Beispiele detailliert beschrieben und die praktisch erzielten Effekte werden im Vergleich mit Vergleichsbeispielen diskutiert. In den folgenden Beispielen bedeutet "%" "Gew.-%", wenn nicht anders angegeben.

Beispiel 1

Die Oberfläche einer Aluminiumplatte, JIS 1050, wurde mit einem Schleifmittel (wässerige Bimssteinsuspension) und einer rotierenden Nylonbürste gekörnt. In diesem Stadium betrug die Oberflächenrauheit (durchschnittliche Oberflächenrauheit der Mittellinie) der so gekörnten Aluminiumplatte 0,5 µm. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte in einer auf 70°C erwärmten 10%-igen ätzenden Sodalösung eingetaucht, um sie zu ätzen, bis die Menge der darin gelösten Aluminiumplatte 6 g/m² erreichte.

Nach dem Waschen wurde die Aluminiumplatte 1 Minute in eine 30%-ige wässerige Salpetersäurelösung eingetaucht, anschließend wurde die Oberfläche in einer 0,8%-igen wässerigen Salpetersäurelösung 20 s elektrolytisch unter Verwendung einer rechtwinklig alternierenden Welle mit einer Anodenzeitspannung von 13 V und einer Kathodenzeitspannung von 6 V (Wellenform wie beschrieben in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 52-77 702) aufgerauht, durch Eintauchen in eine 30%-ige wässerige Salpetersäurelösung von 50°C und weiter mit Wasser gewaschen.

Anschließend wurde die Aluminiumplatte in 20%-iger wässeriger Schwefelsäurelösung durch Anlegen eines direkten Stromes anodisiert, so daß die Menge des anodischen Oxidationsfilms 3 g/m² erreichte, mit Wasser gewaschen und getrocknet, um das Substrat (A) herzustellen.

Substrat (A) wurde behandelt, indem es 30 s bei 70°C in eine 2,5%-ige JIS Nr. 3 Natriumsilicatlösung (molares Verhältnis SiO₂/Na₂O = 3,1-3,3) getaucht wurde, um eine Silicatschicht darauf zu bilden; so wurde ein Substrat (B) hergestellt.

Eine Natriumhydroxydlösung (Behandlungsflüssigkeit) wurde hergestellt, so daß der pH der Behandlungsflüssigkeit im Bereich von pH 8,5 bis 13,5 lag, und die wie oben hergestellten Substrate (A) oder (B) wurden unter den in der folgenden Tabelle 1 aufgeführten Bedingungen in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht, um so die Substrate (C), (D), (E), (F), (G) und (H) herzustellen. Nach Waschen und Trocknen wurde die folgende Zusammensetzung auf die Oberfläche des Substrates aufgetragen, so daß die Überzugsmenge der Zusammensetzung nach dem Trocknen 2,5 g/m² betrug und so auf jedem der Substrate (A), (B), (C), (D), (E), (F), (G) und (H) eine lichtempfindliche Schicht gebildet wurde.

(Zusammensetzung der Überzugsflüssigkeit)
Verbindung
Menge (g)
Esterverbindung von Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonylchorid und Pyrogallolacetonharz (die Verbindung ist im US-Patent Nr. 36 35 709 offenbart; siehe Beispiel 1)
0,75
Kresolnovolakharz	2
Öllöslicher Farbstoff (C. I. 42 595)	0,04
Ethylendichlorid	16
2-Methoxyethylacetat	12

Die so erhaltenen PS-Platten wurden bildweise durch ein positives Durchscheinbild in einem Vakuumdruckrahmen im Licht exponiert, indem sie mit Licht einer 3 KW Metallhalogenidlampe 50 s bei einer Entfernung von 1 m bestrahlt wurden und dann mit 5,26%-iger wässeriger Natriumsilicatlösung (molares Verhältnis SiO₂/Na₂O = 1,74; pH = 12,7) entwickelt wurden.

Nach der Entwicklung wurden die Platten ausreichend mit Wasser gewaschen und dann gummiert. Anschließend wurde der Druck in üblicher Weise unter Verwendung der erhaltenen lithografischen Druckplatten durchgeführt. In diesem Stadium wurde das Ausmaß der Kontamination der bildfreien Flächen und die Druckdauerhaftigkeit der Druckplatte beobachtet und die erhaltenen Ergebnisse in Tabelle 1 aufgeführt. Die Substrate (C), (D), (E) und (F) waren erfindungsgemäß behandelt worden und die Substrate (A), (B), (G) und (H) waren Vergleichsproben.

Tabelle 1

Aus den Ergebnissen in Tabelle 1 ist ersichtlich, daß die erfindungs­ gemäß erhaltenen Beispiele kaum Kontaminationen der bildfreien Flächen verursachen und außerdem im Vergleich mit den Vergleichsbeispielen eine ausgezeichnete Druckdauerhaftigkeit haben.

Beispiel 2

Substrat (B), hergestellt wie in Beispiel 1, wurde mit Wasser­ dampf von 120°C oder Wasser von 100°C 30 s lang behandelt, dann mit Wasser gewaschen und getrocknet, um Substrat (I) oder (J) zu bilden.

Die Substrate (I) und (J) und die Substrate (A) und (B), hergestellt im Beispiel 1, wurden in er gleichen Weise wie in Beispiel 1 weiterbehandelt, um lithografische Druckplatten zu erhalten; Dauerhaftigkeit und Ausmaß der Kontamination bildfreier Flächen wurde ebenfalls bestimmt. Die erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 2 gezeigt.

Tabelle 2

Betreffend die Ergebnisse in Tabelle 2 wird festgestellt, daß sowohl die Behandlung mit Wasserdampf als auch mit kochendem Wasser zu ausgezeichneten Ergebnissen führt.

Claims (10)

1. Aluminiumschichtträger für die Verwendung zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte mit einer hydrophilen Schicht und einem darauf aufgebrachten anodischen Oxidationsfilm, erhältlich durch Körnen einer Aluminiumplatte, Anodisieren der gekörnten Aluminiumplatte und Hydrophilisieren der anodisierten Platte, dadurch gekennzeichnet, daß die resultierende Aluminiumplatte mit Wasserdampf oder mit auf 60 bis 100°C eingestelltem Wasser oder einer verdünnten wäßrigen alkalischen Lösung behandelt wird.

2. Aluminiumschichtträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung mit Wasserdampf, Wasser oder einer verdünnten wäßrigen alkalischen Lösung 1 bis 120 s lang durchgeführt wird.

3. Aluminiumschichtträger nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung 5 bis 30 s lang durchgeführt wird.

4. Aluminiumschichtträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung mit Wasserdampf bei einer Temperatur von nicht mehr als 120°C durchgeführt wird.

5. Aluminiumschichtträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung mit einer verdünnten wäßrigen alkalischen Lösung mit einem pH von 7,5 bis 13,0 durchgeführt wird.

6. Aluminiumschichtträger nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung mit der verdünnten wäßrigen alkalischen Lösung bei einer Temperatur von 60 bis 80°C durchgeführt wird.

7. Aluminiumschichtträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophilisierende Behandlung durch Eintauchen der Platte in eine Lösung eines Alkalimetall- oder Erdalkalimetallsilicats durchgeführt wird.

8. Aluminiumschichtträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Hydrophilisieren der anodisierten Platte mit einer wäßrigen Silicatlösung erfolgt.

9. Vorsensibilisierte lithografische Druckplatte mit einem Aluminiumschichtträger und einer auf der Oberfläche aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß ein Schichtträger nach einem der vorhergehenden Ansprüche eingesetzt wird.

10. Druckplatte nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht eine o-Chinondiazidverbindung enthält.