DE4105887B4

DE4105887B4 - Vorsensibilisierte Platte zur Verwendung in der Herstellung lithographischer Druckplatten

Info

Publication number: DE4105887B4
Application number: DE19914105887
Authority: DE
Inventors: Akira Nagashima
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1990-03-09
Filing date: 1991-02-25
Publication date: 2004-06-09
Anticipated expiration: 2011-02-26
Also published as: DE4105887A1; JP2648976B2; JPH03261592A

Abstract

Vorsensibilisierte Platte zur Verwendung in der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß sie aufweist ein Aluminiumsubstrat mit einer aufgerauhten Oberfläche, das eine anodisierte Schicht in einer Menge von nicht weniger als 1,0 g/m² hat; eine hydrophile Schicht, die eine organische Verbindung oder ein Salz davon aufweist, die je (a) eine Aminogruppe und (b) einen Phosphonatrest, Phosphinatrest oder Phosphatrest trägt und die auf der anodisierten Schicht aufgebracht ist; und eine positiv arbeitende lichtempfindliche Schicht, die auf der hydrophilen Schicht aufgebracht ist.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine positiv arbeitende vorsensibilisierte Platte zur Verwendung in der Herstellung einer litographischen Druckplatte und insbesondere eine positiv arbeitende vorsensibilisierte Platte zur Verwendung in der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die ein Aluminiumsubstrat aufweist, auf dem eine anodisierte Schicht mit einer verbesserten hydrophilen Schicht vorgesehen ist.
Eine lithographische Druckplatte wurde hergestellt durch bildweise Belichtung einer vorsensibilisierten Platte zur Verwendung in der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die eine Aluminium Platte, aufweist, auf der eine lichtempfindliche Schicht vorgesehen ist, die auf die Platte als dünne Schicht aufgetragen ist, mit nachfolgender Entwicklung der bildweise belichteten vorsensibilisierten Platte. Die Aluminium Platte wird im allgemeinen einer Behandlung zum Aufrauhen der Oberfläche unterworfen, zum Beispiel mit mechanischen Verfahren wie Bürstenkörnungsverfahren und Kugelkörnungsverfahren; elektrochemischen Verfahren wie elektrolytischen Körnungsverfahren; oder jeder Kombination davon, um so eine rauhe Oberfläche zu bilden; geätzt mit einer wässrigen Lösung einer Säure oder Alkalis; dann anodisiert; und wahlweise einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen, um ein Substrat für eine lithographische Druckplatte zu ergeben. Weiterhin wird eine lichtempfindliche Schicht auf der Oberfläche des Substrats aufgebracht, um eine vorsensibilisierte Platte zur Verwendung in der Herstellung einer lithographischen Druckplatte zu erhalten (eine sogenannte PS-Platte; im folgenden als "PS-Platte" bezeichnet). Die PS-Platte wird im allgemeinen in dieser Reihenfolge der bildweisen Belichtung, Entwicklung, Retusche und Gummierung unterworfen; um eine lithographische Druckplatte zu bilden, und die so erhaltene lithographische Druckplatte wird auf eine Druckpresse montiert, um Druckvorgänge auszuführen.
Bei den vorhergehenden lithographischen Druckplatten, insbesondere bei solchen, die durch die bildweise Belichtung positiv arbeitender PS-Platten und darauffolgender Entwicklung der bildweise belichteten Platte erhalten wurden, sind jedoch die Nichtbildteile mit Substanzen verunreinigt, die in der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte enthalten sind, die irreversibel an den Nichtbildteilen haften. Dies führt zum Auftreten sogenannter "Restfarbflecken", die die Unterscheidung zwischen den Bildflächen und den Nichtbildflächen während der Retusche sehr schwierig machen. Außerdem verbleiben Retuscheflecken deutlich auf der Plattenoberfläche, die Plattenfläche wird ungleichmäßig, und im schlimmsten Fall führen die Retuscheflecken zu einer Hintergrundverunreinigung, und die resultierende Platte kann nicht als Druckplatte verwendet werden.

Eine Vielzahl von Maßnahmen wurde vorgeschlagen, um diese Nachteile zu beseitigen, zum Beispiel ein Verfahren, bei dem ein anodisiertes Aluminiumsubstrat in eine Alkalimetallsilikatlösung eingetaucht wird, wie in U.S. Patent Nr. 3,181,461 offenbart; ein Verfahren, bei dem eine Beschichtungsunterlage aus einer hydrophilen Cellulose, die ein wasserlösliches Metallsalz enthält, aufgebracht wird, wie in U.S. Patent Nr. 3,860,426 offenbart; ein Verfahren zur Aufbringung einer Beschichtungsunterlage aus einem Natriumarylsulfonat, wie in U. K. Patent Nr. 2,098,627 offenbart; und ein Verfahren zur Aufbringung einer Beschichtungsunterlage aus einem Polyacrylamid, wie in U.S. Patent Nr. 3,511,661 offenbart, einer Polyvinylsulfonsäure, wie in der japanischen Patentveröffentlichung für Einspruchszwecke Nr. Sho 46-35685 offenbart (im folgenden als "J. P KOKOKU" bezeichnet), eine Aminosäure oder einem Salz davon (zum Beispiel einem Alkalimetallsalz wie einem Na- oder K-Salz, einem Ammoniumsalz, einem Hydrochlorid, einem Oxalat, einem Acetat oder einem Phosphat), wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung Nr. Sho 60-149491 (im folgenden als "J. P KOKAI" bezeichnet) beschrieben, einem Amin mit einer Hydroxylgruppe oder einem Salz davon (wie einem Hydrochlorid, Oxalat oder Phosphat), wie in J. P KOKAI Nr. Sho 60-232998 offenbart, oder einer Verbindung mit Amino- und Sulfonatgruppen oder einem Salz davon, wie in J. P KOKAI Nr. Sho 63-165183 offenbart. Jedoch leiden diese Verfahren an den Problemen, daß die Verringerung der Restfarbflecken auf den Nichtbildteilen unzureichend ist, daß sie das Auftreten der vorgenannten Hintergrundverunreinigung nicht völlig ausschalten können, und daß die Haftung zwischen der lichtempfindlichen Zusammensetzung und dem Substrat unzureichend ist. Diese Probleme führen zu einer wesentlichen Verminderung der Druckdauerhaftigkeit der resultierenden lithographischen Druckplatte.

Demgemäß ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine PS-Platte zur Verfügung zu stellen, die bildweise belichtet und dann entwickelt werden kann, um eine lithographische Druckplatte zu liefern, deren Nichtbildteil geringe Restfarbflecken hat und die kaum Hintergrundverunreinigung verursacht.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, eine PS-Platte zur Verfügung zu stellen, die eine lithographische Druckplatte liefern kann, bei der die Bilder stark am Substrat haften und die ausgezeichnete Druckdauerhaftigkeit hat.

Die Erfinder haben intensive Studien durchgeführt, um die vorgenannten Aufgaben zu lösen und haben als Ergebnis die vorliegende Erfindung fertiggestellt.

Die vorliegende Erfindung betrifft eine PS-Platte, die aufweist ein Aluminiumsubstrat mit einer aufgerauhten Oberfläche, das eine anodisierte Schicht in einer Menge von nicht weniger als 1,0 g/m² hat; eine hydrophile Schicht, die eine organische Verbindung oder ein Salz davon aufweist, die je (a) eine Aminogruppe und (b) einen Phosphonatrest, Phosphinatrest oder Phosphatrest trägt und die auf der anodisierten Schicht aufgebracht ist; und eine positiv arbeitende lichtempfindliche Schicht, die auf der hydrophilen Schicht aufgetragen ist.

Die vorliegende Erfindung wird im folgenden detaillierter beschrieben.
Die "organischen Verbindungen, die je (a) eine Aminogruppe und (b) einen Phosphonatrest, Phosphinatrest oder Phosphatrest tragen", die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, umfassen zum Beispiel die im folgenden detailliert beschriebenen.
Die Aminogruppe ist geeigneterweise eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe, dargestellt durch die folgende Strukturformel (I) und vorzugsweise eine unsubstituierte Aminogruppe:
wobei R¹ und R² jeweils unabhängig ein Wasserstoffatom oder eine substituere oder unsubstituierte Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt.
Die Ausdrücke "Phosphonatrest", "Phosphinatrest" und "Phosphatrest" bezeichnen hier Gruppen, die durch die folgenden allgemeinen Formeln (II), (III) beziehungsweise (IV) dargestellt werden:
wobei R³, R⁴ und R⁵ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine substituierte öder unsubstituierte Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt.
Die Reste (b), die in der vorliegenden Endung vorzugsweise verwendet werden, sind diejenigen, die durch die vorgenannten allgemeinen Formeln (II), (III) und (IV) dargestellt werden, wobei R³, R⁴ und R⁵ jeweils ein Wasserstoffatom darstellt, d. h. diejenigen, die durch die folgenden Formeln dargestellt werden:
und noch bevorzugter ein Rest mit der folgenden Strukturformel:
Die in der Erfindung verwendete organische Verbindung, die (a) eine Aminogruppe und (b) einen Phosphonatrest, einen Phosphinatrest oder einen Phosphatrest trägt, weist vorzugsweise ein Strukturgerüst mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen und noch bevorzugter 1 bis 3 Kohlenstoffatomen auf an das die Gruppe und/oder der Rest gebunden ist. Das Strukturgerüst kann die Form eines aromatischen Rings haben (einschließlich solcher, die Heteroatome wie Stickstoff , Sauerstoff und/oder Schwefelatome enthalten), hat aber vorzugsweise eine nichtcyklische Form.
Außerdem können die in der vorliegenden Erfindung verwendeten Verbindungen in Form eines Salzes vorliegen. Bevorzugte Beispiele von Verbindungen, die mit den organischen Verbindungen Salze bilden, sind Chlorwasserstoffsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure, Sulfonsäuren (wie Methansulfonsäure), Ameisensäure, Alkalimetalle (wie Natrium und Kalium), Ammoniak, niedere Alkanolamine (wie Triethanolamin) und niedere Alkylamine (wie Triethylamin).
Wie oben beschrieben, offenbart J. P KOKAI Nr. Sho 63-165183 ein Verfahren, in dem eine Beschichtungsunterlage aus einer Verbindung, die eine Aminogruppe und Phosphonatreste oder ein Salz davon trägt, verwendet wird, aber in diesem Patent sind nur solche Verbindungen offenbart, die mindestens zwei Phosphonatreste tragen. Diese Verbindungen können die zuvor genannen Restfarbflecken nicht ausreichend verringern, und die Druckdauerhaftigkeit der resultierenden lithographischen Druckplatte ist stark vermindert.
Konkrete Beispiele organischer Verbindungen, die in der Erfindung verwendbar sind, sind Phosphonsäuren wie Aminomethylphosphonsäure, 1-Aminoethylphosphonsäure, 1-Dimethylaminoethylphosphonsäure, 2-Aminoethylphosphonsäure, 2-(N-Methylamino)ethylphosphonsäure, 3-Aminopropylphosphonsäure, 2-Aminopropylphosphonsäure, 1-Aminopropylphosphonsäure, 1-Aminopropyl-2-chlorpropylphosphonsäure, 2-Aminobutylphosphonsäure, 3-Aminobutylphosphonsäure, 1-Aminobutylphosphonsäure, 4-Aminobutylphosphonsäure, 2-Aminopentylphosphonsäure, 5-Aminopentylphosphonsäure, 2-Aminohexylphosphonsäure, 5-Aminohexylphosphonsäure, 4-Aminophenylphosphonsäure, 4-Amino-2-methylphenylphosphonsäure und 4-Amino-3-fluorphosphonsäure.
Beispiele für Phosphinsäuren umfassen die oben als Phosphonsäuren aufgelisteten, bei denen der Phosphonatrest durch den Phosphinatrest ersetzt ist wie 2-Aminoethylphosphinsäure. Beispiele für Phosphorsäuren sind die oben als Phosphonsäuren aufgelisteten Verbindungen, bei denen dann der Phosphonatrest durch einen Phosphatrest ersetzt ist wie 2-Aminoethylphosphorsäure. Diese organischen Verbindungen können in Form eines Salzes, wie der Hydrochloride, Sulfate, Nitrate, Sulfonate (wie Methansulfonat), Formate, Natriumsalze, Ammoniumsalze, Triethanolaminsalze und Triethylaminsalze, verwendet werden.
Die in der vorliegenden Erfindung verwendeten Aluminiumplatten sind plattenartige Materialien, die reines Aluminium aufweisen oder Aluminiumlegierungen, die als Hauptkomponente Aluminium und Spurenmengen anderer Elemente wie Silizium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und/oder Titan aufweisen. Der Gehalt dieser anderen Elemente in den Legierungen ist in der Größenordung von 10 Gew-% oder weniger. Bevorzugte Aluminiumplatten sind solche aus reinem Aluminium, aber es ist gegenwärtig vom Standpunkt der Veredelungstechnik her gesehen schwierig, vollständig reines Aluminium herzustellen. Deshalb werden in der vorliegenden Erfindung vorzugsweise solche verwendet, deren Gehalt an anderen Elementen so gering wie möglich ist. Die Aluminiumlegierungen mit einem Gehalt an anderen Elementen, der im oben definierten Bereich liegt, können geeigneterweise in der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Wie oben erklärt, ist die Zusammensetzung der Aluminiumplatten, die in der Erfindung verwendet werden, nicht auf eine bestimmte beschränkt und kann geeigneterweise aus der Gruppe herkömmlich bekannter oder allgemein verwendeter ausgewählt werden. Die Dicke der in der Erfindung verwendeten Aluminiumplatte liegt im Bereich von etwa 0,1 bis 0,5 mm.
Die Aluminiumplatten werden gegebenenfalls einer Entfettungsbehandlung unterworfen, die zum Beispiel Eintauchen der Platten in eine wässrige Lösung eines oberflächenaktiven Mittels oder in eine alkalische Lösung zur Entfernung des Walzöls vor der Aufrauhbehandlung der Oberflächen umfaßt.
Die PS-Platte der vorliegenden Erfindung kann eine Platte sein, bei der nur eine Seite, oder beide Seiten nach einer Reihe von Behandlungen verwendet werden. Die vorliegende Erfindung wird im folgenden zur Vereinfachung des Beispiels mit Bezugnahme auf die einseitige PS-Platte erklärt.
Es sind Behandlungen zum Aufrauhen von Oberflächen bekannt, wie Verfahren, bei denen Oberflächen mechanisch aufgerauht werden, Verfahren, bei denen die Oberfläche elektrochemisch aufgelöst wird und Verfahren, bei denen die Oberfläche selektiv mit einer Chemikalie aufgelöst wird. Beispiele für Behandlungen, mit denen die Oberfläche mechanisch aufgerauht wird, sind die sogenannten Kugelkörnungs-, Bürstenkörnungs-, Strahl- bzw Gebläse- und Schwabbelverfahren. Beispiele für Verfahren, mit denen die Oberfläche elektrochemisch aufgerauht wird, umfassen ein Verfahren, bei dem ein Wechsel- oder Gleichstrom in einem Elektrolyt aus Chlorwasserstoffsäure oder Salpetersäure angelegt wird. Zusätzlich ist es auch möglich ein Verfahren zu verwenden, das eine Kombination dieser mechanischen und elektrochemischen Behandlungen aufweist, wie in J. P KOKAI Nr. Sho 54-63902 ( DE-PS 3012135 ) offenbart.
Die Aluminiumplatte mit einer so aufgerauhten Oberfläche wird, wenn nötig, einer Alkaliätzung und Neutralisationsbehandlungen unterworfen.
Die in der Anodisierungbehandlung der Aluminiumplatten verwendeten Elektrolyte sind nicht auf bestimmte beschränkt, solange diese poröse Oxidschichten bilden können. Beispiele hierfür umfassen Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder Gemische davon, und die Konzentration dieser Elektrolyte wird geeigneterweise abhängig von der Art der Elektrolyte bestimmt.
Die Bedingungen für die Anodisierung variieren abhängig von den Arten der verwendeten Elektrolyte und können nicht konkret bestimmt werden, aber gute Ergebnisse können im allgemeinen sichergestellt werden bei einer Elektrolytkonzentration im Bereich von 1 bis 80 Gew.-%; einer Temperatur des Elektrolytbades im Bereich von 5 bis 70 °C; einer Stromdichte im Bereich von 5 bis 60 A/dm²; einer elektrischen Spannung im Bereich von 1 bis 100 V; und einer Elektrolysedauer im Bereich von 10 Sekunden bis 50 Minuten.
Die Menge der anodisierten Schicht beträgt vorzugsweise nicht weniger als 1,0 g/m² und noch bevorzugter 2,0 bis 6,0 g/m². Dies deshalb, weil bei einer anodisierten Schicht in einer Menge von weniger als 1,0 g/m² die Druckdauerhaftigkeit der resultierenden lithographischen Druckplatte unzureichend ist und der Nichtbildteil der Druckplatte zu Beschädigungen neigt und somit sogenannte "Kratzverunreinigungen" verursacht, die durch die Haftung der Tinte an den Kratzern herrühren.
Eine hydrophile Schicht, die die vorgenannten organischen Verbindungen oder ein Salz davon aufweist, wird dann auf die anodisierte Schicht der so behandelten Aluminiumplatte aufgebracht, und zwar gemäß einer Vielzahl von Verfahren, wie im folgenden detaillierter beschrieben.
Die hydrophile Schicht kann durch ein Verfahren gebildet werden, das aufweist Auflösen der organischen Verbindung oder eines Salzes davon in einem Lösungsmittel, zum Beispiel in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel wie Methanol oder Ethanol oder einem Gemisch davon, Aufbringen der resultierenden organischen Lösung auf die anodisierte Schicht und anschließendes Trocknen; oder durch ein Verfahren, das aufweist Auflösen der organischen Verbindung oder eines Salzes davon in einem Lösungsmittel, zum Beispiel in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel wie Methanol oder Ethanol oder einem Gemisch davon, Eintauchen der Aluminiumplatte, die anodisiert wurde, um eine anodisierte Schicht zu bilden, in die resultierende Lösung, um so die organische Verbindung oder das Salz davon an die Platte zu adsorbieren, und dann Waschen der Platte mit Wasser oder dergleichen, und Trocknen.
Beim ersten Verfahren können eine Vielzahl von Verfahren zum Aufbringen der Beschichtungslösung, die die organische Verbindung oder das Salz davon in einer Menge im Bereich von 0,005 bis 10 Gew-% enthält, auf die anodisierte Schicht verwendet werden. Jedes Verfahren kann verwendet werden, zum Beispiel Stabbeschichtung, Beschichtung mit einem Schleuderapparat, Sprühbeschichtung oder Gießbeschichtung. Beim zweiten Verfahren, bei dem die Aluminiumplatte in eine Lösung, die die organische Verbindung oder das Salz davon enthält, getaucht wird und dann mit Wasser oder dergleichen gewaschen wird, liegt die Konzentration der Lösung im Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 0,05 bis 5 Gew-%; die Eintauchtemperatur liegt im Bereich von 20 bis 90 °C, vorzugsweise 25 bis 50 °C; und die Eintauchdauer liegt im Bereich von 0,1 Sekunden bis 20 Minuten und vorzugsweise 2 Sekunden bis zu einer Minute.
Die Beschichtungsmenge der hydrophilen Schicht, bestimmt nach dem Trocknen, liegt im Bereich von 2 bis 200 mg/m², vorzugsweise 5 bis 100 mg/m² und noch bevorzugter 10 bis 60 mg/m².
Wenn die Beschichtungsmenge auf weniger als 2 mg/m² vermindert ist, kann keine Schutzwirkung gegen die Verunreinigung der Nichtbildteile oder dergleichen erwartet werden, während, wenn sie mehr als 200 mg/m² beträgt, die Haftung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Substrat verschlechtert ist, und demzufolge können nur lithographische Platten mit geringer Druckdauerhaftigkeit erhalten werden.
Die Beschichtungslösung zur Bildung einer hydrophilen Schicht kann einen pH Wert im Bereich von 1 bis 12 haben, und dieser pH-Wert kann reguliert werden durch Zufügen einer basischen Substanz wie Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid; oder einer sauren Substanz wie Chlorwasserstoffsäure oder Phosphorsäure. Der Beschichtungslösung kann ein gelber Farbstoff zugegeben werden, um die Tönungs- bzw. Tonwiedergabe der PS-Platte zu verbessern.
Die in der vorliegenden Erfindung verwendete hydrophile Schicht kann ferner mindestens eine bekannte hydrophile Verbindung aufweisen wie Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummi arabicum, Phosphonsäuren, Aminosäuren wie Glycin und β-Alanin, Aminhydrochloride, die eine Hydroxylgruppe tragen wie Triethanolaminhydrochlorid. Die in der Erfindung verwendete hydrophile Schicht weist vorzugsweise mindestens 30 Gew-% der vorgenannten organischen Verbindung oder des Salzes davon auf.
Die anodisierte Aluminiumplatte kann gegebenenfalls einer Behandlung mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats (zum Beispiel Natriumsilikat) unterworfen werden, wie in U.S. Patent Nr. 3,181,461 offenbart, und zwar vor oder nach dem Aufbringen einer solchen hydrophilen Schicht.
Eine lichtempfindliche Schicht, die eine bekannte positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung aufweist, wird auf das Aluminiumsubstrat aufgebracht, das mit der hydrophilen Schicht überzogen wurde, um so eine PS-Platte zu bilden.
Die lichtempfindliche Schicht kann aus jeder lichtempfindlichen Zusammensetzung gebildet werden, solange sie durch Belichtung Änderungen in den Löslichkeits- und Schwellungseigenschaften in einem Entwickler verursacht. Typische Beispiele hierfür werden im folgenden erklärt.
Lichtempfindliche Verbindungen, die in der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendet werden, sind o-Chinondiazidverbindungen, und typische Beispiele dafür umfassen o-Naphtochinondiazidverbindungen.
Bevorzugte o-Naphtochinondiazidverbindungen sind zum Beispiel Ester von 1,2-Naphtochinon(2)diazido-5-sulfonsäurechlorid mit Pyrogallol/Aceton-Harzen, wie in J. P KOKOKU Nr. Sho 43-28403 offenbart. Andere bevorzugte Beispiele für o- Chinondiazidverbindungen sind Ester von 1,2-Naphtochinon(2)diazido-5-(oder -4-)-sulfonsäurechlorid mit Phenol/Formaldehyd-Harzen, wie in U.S. Patent Nrn. 3,046,120 und 3,188,210 offenbart. Andere nützliche o-Naphtochinondiazidverbindungen umfassen zum Beispiel solche, die in verschiedenen Patenten offenbart und im Stand der Technik bekannt sind, und konkrete Beispiele dafür sind offenbart, zum Beispiel in J. P KOKAI Nrn. Sho 47-5303, Sho 48-63802, Sho 48-63803, Sho 48-96575, Sho 49-38701, Sho 48-13354, Sho 51-139402, Sho 58-150948, Sho 58-203434, Sho 59-165053, Sho 60-121445, Sho 60-134235, Sho 60-163043, Sho 61-118744, Sho 62-10645, Sho 62-10646, Sho 62-153950, Sho 62-178562 und Sho 64-76047, J. P KOKOKU Nrn. Sho 37-18015, Sho 41-11222, Sho 45-9610 und Sho 49-17481, U.S. Patent Nrn. 2,797,213; 3,454,400; 3,544,323; 3,573,917; 3,674,495; 3,785,825; 3,102,809; 3,126,281; 3,130,047; 3,148,983; 3,184,310; 3,188,210 und 4,639,406; UK. Patent Nrn. 1,227,602; 1,251,345; 1,267,005; 1,329,888 und 1,330,932; und im deutschen Patent Nr. 854,890.
Bei der Herstellung dieser o-Naphtochinondiazidverbindungen wird vorzugsweise eine Polyhydroxyverbindung mit vorzugsweise 0,2 bis 1,2 Äquivalenten und noch bevorzugter 0,3 bis 1,0 Äquivalenten pro Hydroxylgruppe der Polyhydroxyverbindung 1,2-Naphtochinon(2)diazido-5-(oder -4-)-sulfonsäurechlorid umgesetzt.
Positiv arbeitende lichtempfindliche Verbindungen, die sich von o-Naphtochinondiazidverbindungen unterscheiden, sind zum Beispiel Polymerverbindungen mit ortho-Nitrocarbinolestergruppen, wie in J. P KOKOKU Nr. Sho 56-2696 offenbart.
Außerdem kann in der vorliegenden Erfindung auch ein System verwendet werden, das eine Kombination einer Verbindung, die durch Photolyse eine Säure erzeugt, mit einer Verbindung, die eine -C-O-C- oder -C-O-Si-Gruppe hat, die sich mit Hilfe einer Säure dissozieren läßt, aufweist.
Konkrete Beispiele hierfür umfassen eine Kombination von Verbindungen, die durch Photolyse eine Säure erzeugen mit einem Acetat oder einer O,N-Acetalverbindung (siehe J. P KOKAI Nr. Sho 48-89003), oder mit einem ortho-Ester oder einer Amidoacetalverbindung (siehe J. P KOKAI Nr. Sho 51-120714), oder mit einem Polymer, das in der Hauptkette Acetal- oder Ketalgruppen trägt (siehe J. P KOKAI Nr. Sho 53-133429), oder mit einer Enoletherverbindung (siehe J. P KOKAI Nr. Sho 55-12995), oder mit einer N-Acylimino-Kohlenstoffverbindung (siehe J. P KOKAI Nr. Sho 55-126236), oder mit einem Polymer mit ortho-Estergruppen in der Hauptkette (siehe J. P KOKAI Nr. Sho 56-17345), oder mit einer Silylesterverbindung (siehe J. P KOKAI Nr. Sho 60-10247), oder mit einer Silyletherverbindung (siehe J. P KOKAI Nrn. Sho 60-37549 und Sho 60-121446).
Die Menge der vorerwähnten positiv arbeitenden lichtempfindlichen Verbindung (einschließlich der vorgenannten Kombinationen) in der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die in der Erfindung verwendet wird, liegt vorzugsweise im Bereich von 10 bis 50 Gew.-% und noch bevorzugter 15 bis 40 Gew.-%.
Die o-Chinondiazidverbindung kann selbst eine lichtempfindliche Schicht bilden, wird aber vorzugsweise in Kombination mit einem alkali-/wasserlöslichen Harz als Bindemittel verwendet. Solche alkali-/wasserlöslichen Harze umfassen zum Beispiel Novolak Harze, die solche Eigenschaften zeigen, und konkrete Beispiele dafür sind eine Vielzahl von alkalilöslichen Polymerverbindungen, zum Beispiel Phenol-Formaldehyd-Harze; Cresol-Formaldehyd-Harze wie m-Cresol-Formaldehyd-Harze, p-Cresol-Formaldehyd-Harze, m-/p-gemischte Cresol-Formaldehyd-Harze, Phenol/gemischte-Cresol-(einschließlich m-, p- oder m-/p-Mischungen)-Formaldehyd-Harze; Phenol-modifizierte Xylol-Harze; Polyhydroxystyrole; polyhalogenierte Hydroxystyrole, Acryl-Harze mit phenolischen Hydroxylgruppen, wie in J. P KOKAI Nr. Sho 51-34711 offenbart; Acryl-Harze und Polyurethan-Harze, die jeweils Sulfonamidgruppen haben, wie in J. P KOKAI Hei 2-866 (= EP-A-0330239 ) offenbart. Diese alkalilöslichen Polymerverbindungen haben vorzugsweise ein gewichtsmittleres Molekulargewicht im Bereich von 500 bis 20000 und ein zahlenmittleres Molekulargewicht im Bereich von 200 bis 60000.
Diese alkalilöslichen Polymerverbindungen werden in der lichtempfindlichen Zusammensetzung der Erfindung in einer Menge von nicht mehr als 70 Gew.-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der Zusammensetzung, verwendet.
Außerdem weist die in der Erfindung verwendete lichtempfindliche Schicht vorzugsweise ein Kondensat eines Phenols, das eine Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituent trägt, mit Formaldehyd wie t-Butylphenol/Formaldehyd-Harz oder Octylphenol/Formaldehyd-Harz auf, wie in U.S. Patent Nr. 4,123,279 offenbart, wodurch die Tintenaufnahmefähigkeit der Bildteile der resultierenden lithographischen Platte verbessert wird.
Zusätzlich zu den vorgenannten Verbindungen kann die in der vorliegenden Erfindung verwendete lichtempfindliche Zusammensetzung ein cyclisches Säureanhydrid aufweisen, um die Empfindlichkeit zu verbessern; ein Mittel oder eine Zusammensetzung, um ein sichtbares Bild sofort nach der bildweisen Belichtung zu erhalten; einen Farbstoff, um die Bilder anzufärben sowie andere Zusatzstoffe. Beispiele für das cyclische Säureanhydrid sind Phthalsäureanhydride, Tetrahydrophthalatsäureanhydrid, Hexahydrophthalatsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ⁴-Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, a-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellitsäureanhydrid. Wenn diese cyclischen Säureanhydride zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung in einer Menge im Bereich von 1 bis 15 Gew.-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der Zusammensetzung, gegeben werden, kann die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht bis auf das 3-fache dessen erhöht werden, was mit einer Zusammensetzung ohne solche cyklischen Säureanhydride erreichbar wäre.
Als repräsentatives Mittel oder Zusammensetzung zum Erhalt eines sichtbaren Bildes sofort nach der bildweisen Belichtung, kann zum Beispiel eine Kombination einer lichtempfindlichen Verbindung, durch deren Belichtung eine Säure frei wird, mit einem salzbildenden organischen Farbstoff erwähnt werden. Konkrete Beispiele dafür sind eine Kombination von o-Naphtochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid mit einem salzbildenden organischen Farbstoff, wie in J. P KOKAI Nrn. Sho 50-36209 und Sho 53-8128 offenbart; und eine Kombination einer Trihalomethylverbindung mit einem salzbildenden organischen Farbstoff wie in J. P KOKAI Nrn. Sho 53-36223, Sho 54-74728, Sho 60-3626, Sho 61-143748, Sho 61-151644 und Sho 63-58440 offenbart.
Beispiele für die Mittel zum Einfärben der Bilder sind die oben definierten salzbildenden organischen Farbstoffe und andere Farbstoffe. Bevorzugte Farbstoffe, einschließlich der salzbildenden Farbstoffe, sind öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe. Konkrete Beispiele dafür sind Oil Yellow #101, Oil Yellow #130, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T 505 (diese Farbstoffe sind alle erhältlich von Orient Chemical Industries, Ltd.); Victoria Pure Blue, Kristall-Violett (CI 42555), Methyl-Violett (CI 42535), Rhodamin B (CI 45170B), Malachit-Grün (CI 42000) und Methylen-Blau (CI 52015). Zusätzlich sind die in J. P KOKAI Nr. 62-293247 offenbarten Farbstoffe in der Erfindung besonders bevorzugt.
Die in der Erfindung verwendeten vorgenannten Komponenten für die lichtempfindliche Zusammensetzung werden in einem geeigneten Lösungsmittel, das in der Lage ist diese aufzulösen, aufgelöst und auf ein Substrat aufgebracht, um eine PS-Platte zu ergeben. Konkrete Beispiele für hier verwendete Lösungsmittel umfassen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, Toluol, Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Dimethylsulfoxid, Dimethylacetamid, Dimethylformamid, Wasser, N-Methylpyrrolidon, Tetrahydrofurfurylalkohol, Aceton, Diacetonalkohol, Methanol, Ethanol, Isopropylalkohol und Diethylenglycoldimethylether. Diese Lösungsmittel können alleine oder in Kombination verwendet werden. Die Konzentration (Feststoffgehalt) der vorgenannten Komponenten liegt im Bereich von 2 bis 50 Gew.-%. Die Beschichtungsmenge variiert in Abhängigkeit von der Anwendung der Zusammensetzung. Wenn die Zusammensetzung zum Beispiel zur Herstellung einer PS-Platte verwendet wird, liegt im allgemeinen deren Beschichtungsmenge, ausgedrückt als Feststoffgehalt, vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 3 g/m². Wie die Dicke der lichtempfindlichen Schicht verringert wird, vergrößert sich deren Empfindlichkeit, aber die physikalischen Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht werden verschlechtert.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung der Erfindung kann auch ein oberflächenwirksames Mittel, wie ein Fluoratom-haltiges oberflächenwirksames Mittel aufweisen, wie in J. P KOKAI Nr. Sho 62-170950 offenbart, um deren Beschichtungseigenschaften zu verbessern. Die Menge des oberflächenwirksamen Mittels liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 1 Gew.-% und noch bevorzugter im Bereich von 0,05 bis 0,5 Gew-%, auf der Grundlage des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
Außerdem wird, wenn ein Originalfilm in engen Kontakt mit einer PS-Platte kommt und die Bilder auf der PS-Platte gedruckt werden, das Drucken im allgemeinen in einem Druckrahmen durchgeführt, der evakuiert wurde. Ein Verfahren zur Verbesserung dieses engen Kontakts zwischen einer PS-Platte und einem Originalfilm kann in der vorliegenden Erfindung im Herstellungsverfahren der Platte angewendet werden.
Beispiele solcher Verfahren zur Verbesserung des engen Kontakts zwischen einer PS-Platte und einem Originalfilm sind ein Verfahren, bei dem die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht mechanisch uneben gemacht wird; ein Verfahren bei dem ein pulveriger Feststoff auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht gesprüht wird; ein Verfahren, bei dem eine Mattierungsschicht auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht aufgebracht wird, wie in J. P KOKAI Nrn. Sho 50-125805, Sho 51-111102, Sho 52-29302 und Sho 57-34558 offenbart; und ein Verfahren, bei dem ein pulveriger Feststoff auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht durch Hitze verschmolzen wird, wie in J. P KOKAI Nr. Sho 55-12974 offenbart.
Beispiele bevorzugter Entwickler, die zur Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte der vorliegenden Erfindung verwendet werden, sind wässrige Lösungen alkalischer Mittel wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriummetasilikat, Natriumbicarbonat und wässiges Ammoniak. Die Konzentration dieser alkalischen Mittel in der wässrigen Lösung liegt im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-% und vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 5 Gew.-%.
Die wässrige Alkalilösung kann gegebenenfalls enthalten oberflächenaktive Mittel, wie in J. P KOKAI Nrn. Sho 50-51324 und Sho 59-84241 offenbart; chelatbildende Mittel, wie in J. P KOKAI Nr. Sho 58-190952 offenbart; wasserlösliche Metallsalze, wie in J. P KOKOKU Nr. Hei 1-30139 offenbart; oder organische Lösungsmittel wie Alkohole.
Beispiele für Lichtquellen, die zur Belichtung verwendet wurden, umfassen eine Kohlenstoffbogenlampe, eine Quecksilberlampe, eine Xenonlampe, eine Wolframlampe und eine Metallhalogenidlampe.
Die PS-Platte der vorliegenden Erfindung hat, nach ihrer Entwicklung untersucht, weniger Restfarbflecken auf den Nichtbildteilen, als herkömmliche lithographische Druckplatten und zeigt daher ausgezeichnete Plattenprüfungseigenschaften. Außerdem zeigt die mit der erfindungsgemäßen PS-Platte erhaltene lithographische Druckplatte hohe Druckdauerhaftigkeit, und ihre Nichtbildteile werden während den Druckvorgängen kaum verunreinigt. Es ist beobachtet worden, daß PS-Platten, die geringe Restfarbflecken haben und eine lithographische Druckplatte ergeben, die kaum Hintergrundverunreinigung während der Druckvorgänge verursacht, nur lithographische Druckplatten mit geringer Druckdauerhaftigkeit liefern, während solche, die lithographische Druckplatten mit hoher Druckdauerhaftigkeit ergeben, für starke Restfarbflecken verantwortlich sind und Nichtbildteile liefern, die leicht verunreinigt werden. Aus diesem Grund hat man angenommen, daß es sehr schwer ist, eine PS-Platte zur erhalten, die diesen Anforderungen gleichzeitig entsprechen kann.
Dennoch hat die erfindungsgemäße PS-Platte geringe Restfarbflecken und kann eine lithographische Druckplatte liefern, die während den Druckvorgängen kaum verunreinigt wird. Darüberhinaus hat die resultierende lithographische Druckplatte eine hohe Druckdauerhaftigkeit. Diese PS-Platte mit ausgezeichneten Eigenschaften ist niemals vorgeschlagen worden.
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die folgenden nicht einschränkenden Arbeitsbeispiele noch detaillierter erklärt, und die praktischen Auswirkungen, die mit der vorliegenden Erfindung erzielt werden, werden im Vergleich mit unten aufgeführten Vergleichsbeispielen ebenso detailliert erklärt. In den folgenden Beispielen und Vergleichsbeispielen bedeutet der Ausdruck "%" "Gew.-%", wenn nicht anders angegeben.
Beispiele 1 bis 6 und Vergleichsbeispiele 1 bis 5
Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde zum Aufrauhen der Oberfläche einer Behandlung mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Lösung aus 400 mesh-Bimsstein unterzogen und dann gründlich mit Wasser gewaschen. Die Aluminiumplatte wurde in eine 10 %ige wässrige Natriumhydroxid-Lösung eingetaucht, 70 °C, 60 Sekunden, um eine Ätzung durchzuführen, unter laufendem Wasser gewaschen, dann neutralisiert und mit einer 20 %igen HNO₃ Lösung gewaschen und nochmals mit Wasser gewaschen. Die Oberfläche der Platte wurde bei einer Anodenzeitelektrizitätsmenge bzw. Anodenflächenladungsdichte von 160 Coulomb/dm² in einer 1 %igen wässrigen Salpetersäure-Lösung unter Verwendung eines sinusförmigen Wechselstroms und V_A von 12,7 V elektrolytisch aufgerauht. Die Oberflächenrauhheit der Platte wurde bestimmt und ergab 0,6 μ (ausgedrückt in Form von Ra-Einheiten). Anschließend wurde die Platte durch Eintauchen in eine 30 %ige wässrige H₂ SO₄-Lösung, 55 °C, 2 Minuten, desmutiert und dann bei einer Stromdichte von 2 A/dm² in einer 20 %igen wässrigen H₂ SO₄-Lösung anodisiert, so daß die Dicke der resultierenden anodisierten Schicht 2,7 g/m² entsprach, um ein Substrat (I) zu ergeben.
Jede Lösung (A) bis (F) mit der folgenden Zusammensetzung, wurde zur Bildung einer Beschichtungsunterlage auf die Oberfläche des so erhaltenen Substrats (I) aufgetragen und bei 80 °C 30 Sekunden getrocknet.
Die Beschichtungsmenge jeder Lösung, bestimmt nach dem Trocknen, war 30 mg/m².
Beschichtungsunterlagelösunen (A) bis (F)

Komponente Menge (g)

Komponenten (a)∼(f), 0,15 0,15

wie in Tabelle 1 aufgelistet

reines Wasser 50 50

Methanol 50 50
Die Substrate (II) bis (VII) wurden folgendermaßen hergestellt.
Carboxymethylcellulose (Molekulargewicht 25000) oder Polyvinylphosphonsäure (Molekulargewicht 1000), 1-Aminoethan-1,1-diphosphonsäure (die Verbindung, die in J. P KOKAI Nr. Sho 63-165183 offenbart ist) wurden jeweils einzeln in Wasser aufgelöst, um eine Beschichtungsunterlagelösung (G), (H) und (I) zu bilden, und jede Lösung wurde auf das Substrat (I) aufgebracht, so daß die Beschichtungsmenge darauf 30 mg/m² betrug, um Substrate (VIII) bis (X), in dieser Reihenfolge, als Vergleichssubstrate zu ergeben.
Zusätzlich wurden die gleichen Verfahren wiederholt, die zur Herstellung des Substrats (I) verwendet worden waren, mit der Ausnahme, daß die Anodisierungsbehandlung modifiziert wurde, so daß die Dicke der resultierenden anodisierten Schicht 0,5 g/m² war, um somit ein Vergleichssubstrat (XI) zu ergeben.
Die folgende lichtempfindliche Lösung (A) wurde auf die Oberfläche der so hergestellten Substrate (I) bis (XI) aufgetragen, um darauf eine lichtempfindliche Schicht in einer Menge von 2,5 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) zu bilden, um entsprechende PS-Platten (I) bis (XI) zu liefern.

Lichtempfindliche Lösung (A)

Komponente	Menge (g)
Ester von Naphtochinon-l,2-diazido-5-sulfonylchlorid 0,45 und Pyrogallol/Aceton-Harz (die Verbindung, die in Beispiel 1 von U.S. Patent Nr. 3,635,709 offenbart ist)	0,45
Cresol/Formaldehyd-Novolak-Harz	1,1
4-[p-N-(Hydroxybenzoyl)aminophenyl]-2,6-bis-(trichlormethyl)-s-triazin	0,02
öllöslicher blauer Farbstoff (C.I. Nr. 42595)	0,01
Methylethylketon	10
Propylenglycolmonomethylether	10

Jede so erhaltene PS-Platte wurde bildweise mit einer 3 kW Metallhalogenidlampe aus einer Entfernung von 1 m 50 Sekunden lang durch einen transparenten Positivfilm unter Verwendung eines Vakuum-Druckrahmens belichtet und dann mit einer 5,26 %igen wässrigen Natriumsilikat-Lösung, mit einem Molverhältnis SiO₂/NaO₂ von 1,74 und einem pH-Wert von 12,7, entwickelt.
Nach der Entwicklung wurde die Platte ausreichend mit Wasser gewaschen, gummiert, und das Drucken wurde dann in der üblichen Art und Weise ausgeführt. In diesem Stadium wurde die Verunreinigung der Nichtbildteile, die Druckdauerhaftigkeit der lithographischen Druckplatte und die Restfarbflecken auf ihren Nichtbildteilen beobachtet, und die erhaltenen Ergebnisse wurden in Tabelle 1 zusammengefaßt.
Wie man aus den in Tabelle 1 aufgelisteten Ergebnissen sehen kann, kann die PS-Platte der vorliegenden Erfindung eine lithographische Druckplatte liefern, bei der die Verunreinigung der Nichtbildteile, die Druckdauerhaftigkeit und die Restfarbflecken auf den Nichtbildteilen viel ausgezeichneter sind als bei einer lithographischen Druckplatte, die mit einer konventionellen PS-Platte erhalten wurde.
Tabelle 1
Tabelle 1 (Fortsetzung)

Claims

Vorsensibilisierte Platte zur Verwendung in der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß sie aufweist ein Aluminiumsubstrat mit einer aufgerauhten Oberfläche, das eine anodisierte Schicht in einer Menge von nicht weniger als 1,0 g/m² hat; eine hydrophile Schicht, die eine organische Verbindung oder ein Salz davon aufweist, die je (a) eine Aminogruppe und (b) einen Phosphonatrest, Phosphinatrest oder Phosphatrest trägt und die auf der anodisierten Schicht aufgebracht ist; und eine positiv arbeitende lichtempfindliche Schicht, die auf der hydrophilen Schicht aufgebracht ist.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aminogruppe der organischen Verbindung eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe ist, dargestellt durch die folgende Strukturformel (I):
wobei R¹ und R² jeweils unabhängig ein Wasserstoffatom oder eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt, und der Phosphonatrest, Phosphinatrest oder Phosphatrest eine Gruppe ist, dargestellt durch die folgenden allgemeinen Formeln (II), (III) beziehungsweise (IV):
wobei R³, R⁴ und R⁵ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Aminogruppe eine unsubstituierte Aminogruppe ist, und der Rest (b) ein Rest ist, der durch die folgenden Formeln dargestellt wird:
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Verbindung ein Strukturgerüst mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen aufweist, und das Strukturgerüst in Form eines aromatischen Rings ist, einschließlich solcher, die Heteroatome enthalten, ausgwählt aus Stickstoff-, Sauerstoff und/oder Schwefelatomen.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Verbindung ein Strukturgerüst mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen aufweist, und das Strukturgerüst in einer nichtcyklischen Form ist.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Verbindung in Form eines Salzes mit Chlorwasserstoffsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure, einer Sulfonsäure, Ameisensäure, einem Alkalimetall, Ammoniak, einem niederen Alkanolamin oder einem niederen Alkylamin vorliegt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die organische Verbindung ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Aminomethylphosphonsäure, 1-Aminoethylphosphonsäure, 1-Dimethylaminoethylphosphonsäure, 2-Aminoethylphosphonsäure, 2-(N-Methylamino)ethylphosphonsäure, 3-Aminopropylphosphonsäure, 2- Aminopropylphosphonsäure, 1-Aminopropylphosphonsäure, 1-Aminopropyl-2-chlorpropylphosphonsäure, 2-Aminobutylphosphonsäure, 3-Aminobutylphosphonsäure, 1-Aminobutylphosphonsäure, 4-Aminobutylphosphonsäure, 2-Aminopentylphosphonsäure, 5-Aminopentylphosphonsäure, 2-Aminohexylphosphonsäure, 5-Aminohexylphosphonsäure, 4-Aminophenylphosphonsäure, 4-Amino-2-methylphenylphosphonsäure, 4-Amino-3-fluorphosphonsäure; den Verbindungen, die oben als Phosphonsäuren aufgelistet sind, bei denen der Phosphonatrest durch einen Phosphinatrest substituiert ist und den vorgenannten Verbindungen, die oben als Phosphonsäuren aufgelistet sind, bei denen der Phosphonatrest durch einen Phosphatrest substituiert ist.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Schicht durch ein Verfahren gebildet wird, das aufweist Auflösen der organischen Verbindung oder eines Salzes davon in einem Lösungsmittel, ausgewählt aus Wasser, Methanol oder Ethanol oder einem Gemisch davon, Auftragen der resultierenden organischen Lösung auf die anodisierte Schicht, und anschließendes Trocknen.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungslösung die organische Lösung oder das Salz davon in einer Menge im Bereich von 0,005 bis 10 Gew.-% enthält.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Schicht durch ein Verfahren gebildet wird, das aufweist Auflösen der organischen Verbindung oder eines Salzes davon in einem Lösungsmittel, ausgewählt aus Wasser , Methanol oder Ethanol oder einem Gemisch davon, Eintauchen der Aluminiumplatte, die anodisiert worden war, um eine anodisierte Schicht zu bilden, in die resultierende Lösung, um so die organische Verbindung oder das Salz davon zu adsorbieren, dann Waschen und Trocknen der Platte.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration der Lösung im Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-%, die Tauchtemperatur im Bereich von 20 bis 90 °C und die Tauchzeit im Bereich von 0,1 Sekunden bis 20 Minuten liegt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration der Lösung im Bereich von 0,05 bis 5 Gew.-%, die Tauchtemperatur im Bereich von 25 bis 50 °C und die Tauchzeit im Bereich von 2 Sekunden bis 1 Minute liegt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsmenge der hydrophilen Schicht, nach dem Trocknen bestimmt, im Bereich von 2 bis 200 mg/m² liegt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsmenge der hydrophilen Schicht, nach dem Trocknen bestimmt, im Bereich von 5 bis 100 mg/m² liegt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Schicht mindestens 30 Gew.-% der organischen Verbindung oder eines Salzes davon aufweist.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aluminiumsubstrat mit einer wässrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats, vor oder nach dem Aufbringen der hydrophilen Schicht, behandelt wird.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aluminiumsubstrat mit aufgerauhter Oberfläche einer Alkaliätzung und Neutralisationsbehandlung unterworfen wird.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte anodisiert wird bei einer Elektrolytkonzentration im Bereich von 1 bis 80 Gew -%; bei einer Elektrolyttemperatur im Bereich von 5 bis 70 °C; bei einer Stromdichte von 5 bis 60 A/dm²; bei einer elektrischen Spannung im Bereich von 1 bis 100 V; und mit einer Elektrolysedauer im Bereich von 10 Sekunden bis 50 Minuten.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der anodisierten Schicht im Bereich von 2,0 bis 6,0 g/m² liegt.
Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte reines Aluminium aufweist oder eine Aluminiumlegierung, die als Hauptkomponente Aluminium aufweist sowie Silizium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und/oder Titan in einer Menge von nicht mehr als 10 Gew.-%.