DE3237665A1

DE3237665A1 - Korrekturmittel fuer druckformen

Info

Publication number: DE3237665A1
Application number: DE19823237665
Authority: DE
Inventors: John E. 08801 Annandale N.J. Walls
Original assignee: American Hoechst Corp; Hoechst Celanese Corp
Current assignee: CNA Holdings LLC
Priority date: 1981-10-19
Filing date: 1982-10-11
Publication date: 1983-05-11
Also published as: US4351895A

Description

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

. 3·

81/K089 8. Oktober 198 2

WLK-Dr.I.-wf

Korrekturmittel für Druckformen

Die Erfindung betrifft ein Korrekturmittel für Druckformen, die insbesondere photomechanisch aus Druckplatten mit positiv-arbeitenden lichtempfindlichen Schichten hergestellt werden können.

Positiv-arbeitende Flachdruckplatten werden gewöhnlich hergestellt durch Aufbringen eines lichtempfindlichen Gemisches auf einen Träger, z.. B. eine mechanisch, chemisch und/oder elektrochemisch aufgerauhte und anodisch oxidierte Aluminiumplatte. Solch ein Gemisch enthält in der Regel ein o-Naphthochinondiazid als lichtempfindliche Substanz und ein alkalilösliches Harz (z.B. einen Novolak).

Die Belichtung des Gemisches mit aktinischer Strahlung durch eine Photomaske oder Positivvorlage führt zu einer unterschiedlichen Löslichkeit der belichteten und der unbelichteten Stellen, so daß die von der Stahlung getroffenen Stellen (die späteren Nichtbildsteilen) durch Behandlung mit einem geeigneten Entwickler entfernt werden können, während die Bildstellen auf dem Träger erhalten bleiben. Zu den bisher verwendeten typischen Entwicklerlösungen für solche Druckplatten zählen beispielsweise wäßrig-alkalische Lösungen mit einem Gehalt an Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumsilikat und/oder Natriumphosphat.

AMERICAN HOECHST CORPORATION Soraerville, New Jersey 08876/USA

Hin und wieder werden nach dem Entwickeln fehlerhafte Stellen auf der Platte bemerkt, d. h. es sind beispielsweise Stellen, die eigentlich belichtet und durch den Entwickler entfernt werden sollten, erhalten geblieben, oder aber man möchte irgendeine unbelichtete Stelle infolge einer Änderung der Bildzusammensetzung entfernen. Es ist naturgemäß nicht möglich, die Platte teilweise neuzubelichten, um diese Stellen entwicklerlöslich zu machen, da dabei unweigerlich auch als spätere Bildstellen erwünschte Stellen entfernt werden würden. In solchen Fällen wird der Einsatz eines Korrekturmittels nötig, das zum Weglösen unerwünschter Stellen örtlich aufgetragen werden kann.

in der Vergangenheit wurden bereits zahlreiche Gemische als Korrekturmittel ausprobiert, doch weisen sie häufig mehr oder weniger schwerwiegende Nachteile auf. Einige greifen den Träger an, und durch andere werden die freigelegten Stellen der Platten nicht oder nicht ausreichend gummiert, so daß sie beim Drucken Farbe annehmen ("tonen").

Die folgenden Bedingungen werden im allgemeinen an ein gutes Korrekturmittel gestellt:
25

a) Alle Bestandteile der' Beschichtung müssen sich schnell und leicht entfernen lassen.

b) Der darunterliegende Schichtträger, insbesondere die Oxidschicht, darf praktisch nicht angegriffen werden,

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

. 5·

ein möglichst neutraler pH-Wert wird deshalb bevorzugt.

c) Auch nach der Korrektur müssen die Nichtbildstellen hydrophil sein, damit fehlferfreie Drucke erhalten werden, außerdem müssen sie für ein eventuelles "Einkopieren" über ausreichende Hafteigenschaften verfügen.

d) Das Mittel muß so viskos sein, daß es nicht in benachbarte Bildstellen läuft; ferner muß es thixotrop sein, damit es beim Auftragen gut fließt.

e) Die in dem Mittel verwendeten organischen Lösemittel müssen ungiftig sein, einen hohen Siedepunkt haben, mit Wasser mischbar sein, alle Bestandteile der Beschichtung lösen können und möglichst geruchsarm sein,

f) Das Korrekturmittel und die losgelösten Schichtteile müssen leicht von der behandelten Stelle abgespült werden können.

Im Stand der Technik sind bereits verschiedenste Korrekturmittel beschrieben worden.
25

In der DE-AS 12 37 898 wird ein Korrekturmittel für Druckformen beschrieben, das in wasserfreier Lösung a) Alkalimetallhydroxid, b) ein organisches Lösemittel wie einen Ethylenglykolmonoether, Tetrahydrofuran, Dioxan und/oder Xylol und c) ein Hydrokolloid wie Polyvinyl-

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

■ 6-

pyrrolidon, Casein, SiO2f Polyvinylmethylether oder einen Celluloseether enthält.

Aus der DE-PS 18 17 416 ist ein Korrekturmittel bekannt, das a) ein Glykol oder einen Glykolether, b) ein organisches Lösemittel wie Methylethylketon, c) Wasser, d) eine Säure oder ein sauer-reagierendes Salz wie H3PO4 oder ein Hexafluorosilikat und e) ein Hydrokolloid wie S1O2 enthält.
10

Das Korrekturmittel gemäß der DE-PS 22 63 957 enthält a) einen Ethylenglykolmonoether, b) ein Keton wie Methylisobutylketon, c) Dimethylsulfoxid, d) Benzylalkohol, e) Phosphorsäure und e) Wasser; daneben können noch Glycerin und S1O2 vorhanden sein.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Korrekturmittel vorzuschlagen, das die eingangs erwähnten Nachteile nicht aufweist, d. h. insbesondere nicht den Träger der Druckform angreift und die Nichtbildstellen ausreichend hydrophiliert bzw. hydrophil läßt.

Die Erfindung geht aus von einem Korrekturmittel für auf photomechanischem Weg hergestellte Druckformen mit einem Gehalt an Wasser, mindestens einem Hydrokolloid und mindestens einem organischen Lösemittel. Das erfindungsgemäße Korrekturmittel ist dann dadurch gekennzeichnet, daß es

a) 0/25 bis 8 Gew.-% eines Hydrokolloids, das in aa) Was-

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

ser und ab) aliphatischen Alkoholen, Essigsäureestern und/oder Ethern löslich ist,

b) 20 bis 80 Gew.-% Cyclohexanon oder einen Ethylengly-

kolmonoether, Ethylenglykoldiether, Ethylenglykolmonoetherrnonoester oder einen Ethylenglykoldiester der allgemeinen Formel I

R¹C-CH₂-CH₂-O)_n-R² I

in der η = 1 bis 10, R¹ = CH₃-O, CH₃-CO-O, CH₃-(CH₂)_m-0, mit m = 1 bis 3 und R² = rI oder 0-H bedeuten,

c) 1 bis 12 Gew.-% eines Thixotropiermittels, das eine schwache Wasserstoffbrückenbindung zwischen sich selbst und den Hydroxylgruppen des Hydrokolloids erzeugt, und

d) 0,5 bis 6 Gew.-% Morpholin, Anilin, Chlor-anilin, Brom-anilin, Methyl-anilin oder ein Amin der allgemeinen Formel II *

R⁵ N II

^^ r4

in der R³ = H,CH₂-CH₂-OH oder CH₂-CH₃, R⁴ = R³ und R⁵ = R³ _r (CH₂-)pNH₂ mit ρ = 1 bis 6 bedeuten

enthält.

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

·?■

Die Hydrokolloidkomponente besteht vorzugsweise aus einem wasserlöslichen Celluloseether oder einem wasserlöslichen vollsynthetischen Polymeren, wobei diese außerdem noch in aliphatischen Alkoholen, Essigsäureestern und Ethern löslich sind. Die bevorzugte Verbindung ist Carboxymethyl-hydroxyethylcellulose (NaCMHEC). Weitere geeignete Hydrokolloide sind Hydroxyethyl-isopropylcellulose, Carboxymethylcellulose, Methylcellulose, Copolymere aus Vinylmethylether und Maleinsäureanhydrid, Polyvinylpyrrolidon, Polivinylalkohol und Copolymere aus Vinylalkohol und Vinylacetat. Das Hydrokolloid ist in einer Menge von 0,25 bis 8 Gew.-% in dem Korrekturmittel enthalten, vorzugsweise beträgt sein Anteil 0,5 bis 5 Gew.-% und insbesondere 0,5 bis 3 Gew.-%. Das Hydrokolloid dient als Eindickungs- und Hydrophilierungsmittel und verhindert Tonen und Schleierbildung.

Ein weiterer Bestandteil des Korrekturmittels ist ein mit Wasser mischbares organisches Lösemittel, das vorzugsweise hochsiedend ist. Das bevorzugte organische Lösemittel ist Triethylenglykol-dimethylether, in dem sämtliche Bestandteile der üblichen Beschichtungen sehr gut löslich sind und das einen geringen Dampfdruck und hohen Siedepunkt aufweist, wodurch es über längere Zeit auf einer Druckform bleiben kann, ohne zu verdampfen. Da es außerdem wasserlöslich ist, erhält man eine absolut stabile Lösung. Weitere brauchbare organische Lösemittel sind: Tetraethylenglykol-mono- oder -dimethylether, Diethylenglykol-mono- und -dimethylether, Ethy-

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New jersey 08876/USA

-Tf-

lenglykol-mono- und -dimethylether, die Etheracetate oder die Diacetate der vorstehend genannten Diole oder die Ethyl-, Propyl- und Butyl-mono- oder -diether dieser Diole. Außerdem ist auch Cyclohexanon als organisches Lösemittel geeignet. Wesentliche Aufgabe des organischen Lösemittels ist es, die unerwünschten Teile der lichtempfindlichen Beschichtungsmasse wegzulösen. Es ist in einer Menge von 20 bis 80 Gew.-% in dem Korrekturmittel enthalten, vorzugsweise in einem Anteil von 40 bis 70 Gew.-%, insbesondere von 55 bis 65 Gew.-%.

Das Korrekturmittel enthält ferner ein Thixotropiermittel wie SiO2, das eine schwache Wasserstoffbrückenbindung zwischen sich selbst und den Hydroxylgruppen des Hydrokolloids herstellt und dadurch die Viskosität des Korrekturmittels auf das gewünschte Maß erhöht. Dieses Merkmal ist von Vorteil für die Steuerung der Auftragsmenge und -genauigkeit beim Aufbringen des Korrekturmittels auf eine Druckform. Das Thixotropiermittel verleiht der Flüssigkeit eine bestimmte Konsistenz, Gleitfähigkeit und Viskosität, so daß sie sich leichter handhaben läßt. Das bevorzugte Thixotropiermittel ist aus der Dampfphase abgeschiedene Kieselsäure. Im Korrekturmittel ist das Thixotropiermittel in einem Anteil von 1 bis 12 Gew.-% enthalten, dieser Anteil beträgt vorzugsweise 3 bis 8 Gew.-% und insbesondere 4 bis 6 Gew.-%.

Eine vollständige Desensibilisierung des lichtempfindlichen Gemisches wird schließlich noch durch die Komponente d) sichergestellt. Zu geeigneten Verbindungen zäh-

AMERICAN HOECHST CORPORATION

AMERICAN HUKCHbT

Somerville, New Jersey 08876/USA

■ JlO

len Morpholin, Anilin, Chlor-anilin, Brom-anilin, Methyl-anilin und die weiter oben angegebenen Verbindungen der allgemeinen Formel II. Diethanolamin ist die bevorzugte Verbindung. Die in dem Korrekturmittel vorhandene Menge an Desensibilisierungsmittel beträgt 0,5 bis 6 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 4 Gew.-% und insbesondere 0,7 bis 2 Gew.-¹ %. Als restliche Komponente enthält das Korrekturmittel Wasser.

In der praktischen Durchführung wird ein positiv-arbeitendes, ein o-Naphthochinondiazid und ein Novolakharz enthaltendes lichtempfindliches Gemisch auf eine anodisch oxidierte Aluminiumplatte aufgebracht. Die so vorbereitete Platte wird belichtet und anschließend mit einer wäßrig-alkalischen Lösung entwickelt und gut abgespült. Die Druckplatte wird dann zur Neutralisierung der Oberfläche mit einer handelsüblichen Schlußbehandlungslösung für positiv-arbeitende Druckplatten, z. B. einer solchen auf Gummiarabicum- oder Dextrin-Basis, behandelt.

Bevor die Platte nun abgelagert werden kann, werden unerwünschte Bildstellen mit dem Korrekturmittel entfernt. Zu diesem Zweck wird im allgemeinen ein mit dem Korrekturmittel getränkter Wattestab verwendet. Jede zu entfernende Stelle der Beschichtung soll sich von dem Korrekturmittel möglichst schnell, d. h. vorzugsweise in weniger als 5 see, ablösen lassen. Korrekturmittel und losgelöste Beschichtung werden dann mit Wasser von der Platte abgespült. Abschließend wird oftmals eine thermische Schutzschicht auf die Platte aufgetragen und die Druckform zum Vernetzen des Harzbindemittels eingebrannt. Eine

BAD ORIGINAL

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

Behandlung für die Dauer von 5 min bei etwa 230 ⁰C reicht aus, um ein äußerst widerstandsfähiges Bild zu erzielen. Nach dem Vernetzen kann in der Regel keine Korrektur der Bildstellen mehr vorgenommen werden. 5

Die in der Praxis sehr häufig anzutreffenden Aluminiumträgermaterialien für Druckplatten mit einem Gehalt von mehr als 98,5 Gew.-% Al und Anteilen an Si, Fe, Ti, Cu und Zn werden im allgemeinen vor Aufbringen der strahlungsempfindlichen Schicht noch mechanisch (z„ B. durch Bürsten und/oder mit Schleifmittel-Behandlungen), chemisch (z. B. durch Ätzmittel) oder elektrochemisch (z. B. durch Wechselstrombehandlung in wäßrigen HCl- oder HNO3~Lösungen) aufgerauht. Die mittlere Rauhtiefe R_z der aufgerauhten Oberfläche liegt dabei im Bereich von etwa 1 bis 15 pm. Die Rauhtiefe wird nach DIN 4768 in der Fassung vom Oktober 1970 ermittelt, die Rauhtiefe R„ ist dann das arithmetische Mittel aus den Einzelrauhtiefen fünf aneinandergrenzender Einzelmeßstrecken.

Nach dem bevorzugt angewendeten elektrochemischen Aufrauhverfahren schließt sich dann im allgemeinen in einer weiteren Verfahrensstufe eine anodische Oxidation des Aluminiums an, um beispielsweise die Abriebs-und Haftungseigenschaften der Oberfläche des Trägermaterials zu verbessern. Zur anodischen Oxidation können die üblichen Elektrolyte wie H₂SO₄, H₃PO₄, H₃C₂O₄, Amidosulf onsäure, Sulfobernsteinsäure, Sulfosalicylsäüre oder deren Mischungen eingesetzt werden. Es wird beispielswei-_Se auf folgende Standardmethoden für den Einsatz von

AMERICAN HOECHST CORPORATION Soraerville, New Jersey 08876/USA

- y-■ /12-

H2SO4 enthaltenden wäßrigen Elektrolyten für die anodische Oxidation von Aluminium hingewiesen (s. dazu z. B. M. Schenk, Werkstoff Aluminium und seine anodische Oxydation, Francke Verlag - Bern, 1948, Seite 760; Praktische Galvanotechnik, Eugen G. Leuze Verlag - Saulgau, 1970, Seiten 395 ff und Seiten 518/519; W. Hübner und C. T. Speiser, Die Praxis der anodischen Oxidation des Aluminiums, Aluminium Verlag - Düsseldorf, 1977, 3. Auflage, Seiten 137 ff):

- Das Gleichstrom-Schwefelsäure-Verfahren, bei dem in einem wäßrigen Elektrolyten aus üblicherweise ca.

230 g H₉SO₄ pro 1 1 Lösung bei 10° bis 22⁰C und

^Δ * 2

einer Stromdichte von 0,5 bis 2,5 A/dm während 10 bis 60 min anodisch oxidiert wird. Die Schwefelsäurekonzentration in der wäßrigen Elektrolytlösung kann dabei auch bis auf 8 bis 10 Gew.-% H2SO4 (ca. 100 g H₂SO₄/1) verringert oder auch auf 30 Gew.-% (365 g H2SO4/I) und mehr erhöht werden.

- Die "Hartanodisierung" wird mit einem wäßrigen, H2SO4 enthaltenden Elektrolyten einer Konzentration von 166 g H₂SO₄A (oder ca. 230 g H₂SO₄/1) bei einer Betriebstemperatur von 0° bis 5°C, bei einer Stromdichte von 2 bis 3 A/dm , einer steigenden Spannung von etwa 25 bis 30 V zu Beginn und etwa 40 bis 100 V gegen Ende der Behandlung und während 30 bis 200 min durchgeführt.

BAD ORIGINAL

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

-H-

•73·

Neben den im vorhergehenden Absatz bereits genannten Verfahren zur anodischen Oxidation von Druckplatten-Trägermaterialien können beispielsweise noch die folgenden Verfahren zum Einsatz kommen: die anodische Oxidation von Aluminium in einem wäßrigen H₃SO₄ enthaltenden Elektrolyten, dessen Al^⁺-Ionengehalt auf Werte von mehr als 12 g/l eingestellt wird (nach der DE-OS 28 11 396 = US-PS 4 211 619), in einem wäßrigen,. H₃SO₄ und H₃PO₄ enthaltenden Elektrolyten (nach der DE-OS 27 07 810 = US-PS 4 049 504) oder in einem wäßrigen, H₃SO₄, H₃PO₄ und

-54.
Al ^J -Ionen enthaltenden Elektrolyten (nach der DE-OS 28 36 803 = US-PS 4 229 226). Zur anodischen Oxidation wird bevorzugt Gleichstrom verwendet, es kann jedoch auch Wechselstrom oder eine Kombination dieser Stromarten (z. B. Gleichstrom mit überlagertem Wechselstrom) eingesetzt werden. Die Schichtgewichte an Aluminiumoxid bewegen sich im allgemeinen im Bereich von 1 bis 10 g/m^, entsprechend einer Schichtdicke von etwa 0,3 bis 3,0 ym.

^Der Stufe einer anodischen Oxidation des Druckplatten-Trägermaterials aus Aluminium können auch eine oder mehrere Nachbehandlungsstufen nachgestellt werden. Dabei wird unter Nachbehandeln insbesondere eine hydrophilierende chemische oder elektrochemische Behandlung der Aluminiumoxidschicht verstanden, beispielsweise eine Tauchbehandlung des Materials in einer wäßrigen PoIyvinylphosphonsäure-Lösung nach der DE-PS 16 21 478 (= GB-PS 1 230 447), eine Tauchbehandlung in einer wäßrigen Alkalisilikat-LÖsung nach der DE-AS 14 71 707 (= US-PS 3 181 461) oder eine elektrochemische Behandlung

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

. A-

(Anodisierung) in einer wäßrigen Alkalisilikat-Lösung nach der DE-OS 25 32 769 (= US-PS 3 902 976). Diese Nachbehandlungsstufen dienen insbesondere dazu, die bereits für viele Anwendungsgebiete ausreichende Hydrophilie der Aluminiumoxidschicht noch zusätzlich zu steigern, wobei die übrigen bekannten Eigenschaften dieser Schicht mindestens erhalten bleiben.

Das erfindungsgemäße Korrekturmittel ist bevorzugt für alle positiv-arbeitenden Reproduktionsschichten geeignet, insbesondere jedoch für ©-Chinondiazide, insbesondere o-Naphthochinondiazide wie Naphthochinone 1,2)-diazid-(2)-sulfonsäureester oder -amide, die nieder- oder höhermolekular sein können, als strahlungsempfindliche Verbindung enthaltende Schichten. Diese Reproduktionsschichten enthalten neben mindestens einem dieser o-Chinondiazide alkalilösliche Harze, beispielsweise Phenolharze, Acryl- oder Methacrylsäuremischpolymerisate, Maleinsäuremischpolymerisate und andere zur Salzbildung befähigte Gruppen enthaltende Polymerisate; bevorzugt werden Phenolharze, insbesondere Novolake. Weitere mögliche Schichtbestandteile sind u. a. kleine Mengen alkalilöslicher Harze, Farbstoffe, Weichmacher, Haftverbesserungsmittel oder Tenside, solche Reproduktionsschichten werden beispielsweise in den DE-PSen 854 890, 865 109, 879 203, 894 959, 938 233, 1 109 521, 1 144 705, 1 118 606, 1 120 273, 1 124 817 und 2 331 377, und den EP-OSen 0 021 428 und 0 055 814 beschrieben.

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

-yi -". /S-

Vergleichsbeispiel Vl

Eine Aluminiumplatte wird mit einer herkömmlichen wäßrig-alkalischen Entfettungslösüng behandelt und anschließend durch Bürsten in Anwesenheit von Schleifmitteln aufgerauht. Die aufgerauhte Platte wird dann in einer wäßrigen H2SO4-Lösung unter Verwendung von Gleichstrom anodisch oxidiert, so daß sich eine Oxidschicht mit einem Gewicht von etwa 3,0 g/m^ ergibt. Der aufgerauhte und anodisch oxidierte Träger wird als nächstes mit einer wäßrigen Polyvinylphosphonsäure-Lösung hydrophiliert. Auf den so vorbereiteten Träger wird eine handelsübliche positiv-arbeitende lichtempfindliche Beschichtungslösung mit einem Gehalt an dem Veresterungsprodukt aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon und 3 Mol Naphthochinone 1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid, dem Veresterungsprodukt aus 1 Mol 2,2'-Dihydroxy-dinaphthyl-(1,1')-methan und 2 Mol des SuIfonsäurechlorids, einem Kresol-Formaldehyd-Novolak und Ethylenglykolmonomethylether aufgetragen. Die Druckplatte wird mit einer üblichen Quecksilberdampf-UV-Belichtungseinheit so belichtet, daß sich nach dem Entwickeln auf dem 21-stufigen Halbtonstufenkeil eine freie Stufe 2 ergibt. Entwickelt wird mit einem handelsüblichen wäßrig-alkalischen Entwickler. Nach dem Entwickeln wird die Platte gut abgespült und mit einer schwachsauren Lösung nachbehandelt.

In einem Bereich der Druckform befindet sich ein aus mehreren Linien bestehender Abschnitt, der entfernt werden soll. Zunächst wird versucht, mit einem handelsüblichen Mittel zu korrigieren, und zwar mit einem Korrekturmittel

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

■Ah-

auf der Basis von Wasser, Ethylenglykoldiethylether und SiOp. Nach der Korrektur wird die Platte erneut mit einem wäßrig-alkalischen Entwickler behandelt und gründlich abgespült. Die gesamte Platte wird dann mit einer handelsüblichen thermischen Schutzlösung vorbehandelt und anschließend zur Fixierung der Harze im Bildbereich für die Dauer von 10 min bei etwa 230 ⁰C thermisch behandelt. Von der eingebrannten Platte wird dann die als thermischer Schutz aufgetragene Beschichtung abgespült. Schließlich wird die Platte noch mit einer Schlußbehandlungslösung auf der Basis von Wasser, Dextrin, einem nichtionogenen Tensid, Tetraethylenglykol, NaH2P0^_f Na-iPO* und einem Konservierungsmittel behandelt, um die Hydrophilie der Nichtbildsteilen sicherzustellen. Die auf diese Weise hergestelle Platte wird zum Drucken auf einer normalen Offsetdruckmaschine eingesetzt. Dabei tritt in dem mit dem Korrekturmittel behandelten Bereich während der ersten 500 Drucke ein "Tonen" auf. Dieses Ergebnis wäre in der Praxis unannehmbar.

Beispiel 1

Eine Platte wird nach den Angaben des Vergleichsbeispiels vorbereitet, belichtet, entwickelt und anschließend der zu korrigierende Abschnitt mit einem Gemisch der folgenden Zusammensetzung behandelt:

53,0 Gew.-Teile Cyclohexanon,

2,0 Gew.-Teile Monoethanolamin

7,0 Gew.-Teile Polyvinylpyrrolidon,

4,5 Gew.-Teile aus der Dampfphase abgeschiedenes SiO₉ und

33,5 Gew.-Teile Wasser.

BAD ORIGINAL

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

- yg -

Das Gemisch ist eine dickflüssige klare Lösung mit einer Viskosität von etwa 80 000 mPa-s. Der zu korrigierende Bereich wird mit einem in diesen Gemisch getränkten Wattestab behandelt und die Platte dann wie im Vergleichsbeispiel beschrieben weiterbearbeitet, eingebrannt und in eine Offsetdruckmaschine eingespannt. Der korrigierte Bereich bleibt nach der gleichen Anzahl von Drucken wie die übrigen Nichtbildstellen, d. h. nach 12 Drucken bereits frei von Druckfarbe. Dieses Ergebnis gilt als für die Praxis annehmbar.

Vergleichsbeispiel V2

Eine Platte wird nach den Angaben des Beispiels 1 verarbeitet und korrigiert, aber mit einem Mittel, in dem Monoethanolamin fehlt. Obwohl das Bild optisch vollständig entfernt ist, ist eine ungenügende Desensibilisierung zu beobachten, die sich als leichtes Tonen an den Stellen zeigt, an denen eigentlich die sauberen Nichtbildstellen erscheinen sollten. Dies gilt als für die Praxis nicht geeignet.

Beispiel 2

Für eine Platte, die vor und nach der Korrektur entsprechend dem Vergleichsbeispiel Vl behandelt wird, verwendet man eine Korrekturlösung mit folgender Zusammensetzung:

29,9 Gew.-Teile Wasser,

0,7 Gew.-Teile Carboxymethyl-hydroxyethylcellulose, 62,6 Gew.-Teile Triethylenglykoldimethylether, 1,6 Gew.-Teile Diethanolamin utd

AMERICAN HOECHST CORPORATION

AMttKlUAN ti (J E C ti ü T

Soitierville, New Jersey 08876/üSA

5,2 Gew.-Teile aus der Dampfphase abgeschiedene Kieselsäure (S1O2)·

Die Lösung hat eine Viskosität von etwa 3 20 000 mPa*s. 5 Bei der mit dieser Lösung korrigierten Platte ist das Bild vollständig entfernt, und der Hintergrund bleibt sofort nach dem Einfärben sauber.

IAD

Claims

AMERICAN HOECHST CORPORATION

A l»l £· K J. U A IN a U & <~ Ά O L

Somerville, New Jersey 08876/USA

81/K089 8. Oktober 1982

WLK-Dr.I.-wf

Patentansprüche

1 Korrekturmittel für auf photomechanischem Weg hergestellte Druckformen mit einem Gehalt an Wasser, mindestens einem Hydrokolloid und mindestens einem organischen Lösemittel

dadurch gekennzeichnet, daß es

a) 0,25 bis 8 Gew.-% eines Hydrokolloids, das in aa) Wasser und ab) aliphatischen Alkoholen, Essigsäureestern und/oder Ethern löslich ist,

b) 20 bis 80 Gew.-% Cyclohexanon oder einen Ethylenglykolmonoether, Ethylenglykoldiether, Ethylenglykolmonoethermonoester oder Ethylenglykoldiester der allgemeinen Formel I

R¹C-CH₂-CH₂-O)_n-R² I

in der η = 1 bis 10, R¹ = CH₃-O, CH₃-CO-O, CH₃-(CH₂)H₁-O, mit m = 1 bis 3 und R² = R¹ oder 0-H bedeuten,

c) 1 bis 12 Gew.-% eines Thixotropiermittels, das eine schwache Wasserstoffbrückenbindung zwischen sich selbst und den Hydroxylgruppen des Hydrokolloids erzeugt, und

AMERICAN HOECHST CORPORATION Somerville, New Jersey 08876/USA

d) 0,5 bis 6 Gew.-% Morpholin, Anilin, Chlor-anilin, Brom-anilin, Methyl-anilin oder ein Amin der allgemeinen Formel II

R⁵ - N ' II

in der R³ = H,CH₂-CH₂-OH oder CH₂-CH₃, R⁴ = R³ und R⁵ = R³, (CH₂-) NH₂ mit ρ = 1 bis 6 bedeuten

enthält.

Korrekturmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als Komponente a) Carboxymethyl-hydroxyethylcellulose, Hydroxyethy1-isopropylcellulose, Carboxymethylcellulose, Methylcellulose, Vinylmethylether/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylalkohol oder Vinylalkohol/Vinylacetat-Copolymere enthält.

Korrekturmittel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es a) 0,5 bis 5 Gew.-% Carboxymethylhydroxyethylcellulose, b) 40 bis 70 Gew.-% Triethylenglykol-dimethylether, c) 3 bis 8 Gew.-% Siliciumdioxid und d) 0,5 bis 4 Gew.-% Diethanolamin enthält.

BAD ORIGINAL