JPS6399992A - 平版印刷版用支持体の製造方法 - Google Patents
平版印刷版用支持体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6399992A JPS6399992A JP12067586A JP12067586A JPS6399992A JP S6399992 A JPS6399992 A JP S6399992A JP 12067586 A JP12067586 A JP 12067586A JP 12067586 A JP12067586 A JP 12067586A JP S6399992 A JPS6399992 A JP S6399992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- plate
- treatment
- water
- aluminum plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 32
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 9
- 229910052914 metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 5
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 abstract 2
- 239000002585 base Substances 0.000 abstract 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- -1 for example Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical group N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Polymers OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RCQOZDBNJBCHOW-UHFFFAOYSA-L C(C)(=O)[O-].C[Al+2].C(C)(=O)[O-] Chemical compound C(C)(=O)[O-].C[Al+2].C(C)(=O)[O-] RCQOZDBNJBCHOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Chemical group 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- AVTYONGGKAJVTE-OLXYHTOASA-L potassium L-tartrate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O AVTYONGGKAJVTE-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229940111695 potassium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000001476 sodium potassium tartrate Substances 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は平版印刷版用支持体に関するものであり、特に
改良された親木層を有する、陽極酸化されたアルミニウ
ム板よりなる平版印刷版用支持体に関するものである。
改良された親木層を有する、陽極酸化されたアルミニウ
ム板よりなる平版印刷版用支持体に関するものである。
従来、平版印刷版には、アルミニウム板上に感光性組成
物を薄層状に塗設した所謂28版があるが、上記のアル
ミニウム板は通常ブラシグレイン法やボールダレイン法
のごとき機械的な方法や電解ダレイン法のごとき電気化
学的方法あるいは両者を組合わせた方法などの粗面化処
理に付され、その表面が梨地状にされたのち、酸または
アルカリ等の水溶液によりエツチングされ、さらに陽極
酸化処理を経たのち所望により親水化処理が施されて平
版印刷版用支持体とされ、この支持体上に感光層が設け
られてPS版(感光性平版印刷版)とされる。このPS
版は、通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施し
て平版印刷版とされ、これを印刷機に取は付けて印刷す
る。
物を薄層状に塗設した所謂28版があるが、上記のアル
ミニウム板は通常ブラシグレイン法やボールダレイン法
のごとき機械的な方法や電解ダレイン法のごとき電気化
学的方法あるいは両者を組合わせた方法などの粗面化処
理に付され、その表面が梨地状にされたのち、酸または
アルカリ等の水溶液によりエツチングされ、さらに陽極
酸化処理を経たのち所望により親水化処理が施されて平
版印刷版用支持体とされ、この支持体上に感光層が設け
られてPS版(感光性平版印刷版)とされる。このPS
版は、通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施し
て平版印刷版とされ、これを印刷機に取は付けて印刷す
る。
しかしながら上記の平版印刷版において、ポジ作用の2
8版を像露光、現像して得られた平版印刷版の非画像部
には感光層中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画
像部を汚染するため、修正工程で画像部と非画像部の識
別が困難であったり、修正跡が明瞭に残り不均一な版面
となり、その程度がひどくなると汚れとなるため印刷版
として使用できなくなるという問題があった。
8版を像露光、現像して得られた平版印刷版の非画像部
には感光層中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画
像部を汚染するため、修正工程で画像部と非画像部の識
別が困難であったり、修正跡が明瞭に残り不均一な版面
となり、その程度がひどくなると汚れとなるため印刷版
として使用できなくなるという問題があった。
これを改善するため、陽極酸化処理したアルミニウム支
持体表面を米国特許第3.181.461号明細書に記
載されているようなアルカリ金属けい酸塩中に浸漬する
方法、米国特許第3.860.426号明細書に記載さ
れているような、水溶性金属塩を含む親水性セルロース
の下塗り法、又は英国特許第2、098.627号公報
に記載されているようなアリールスルホン酸す) IJ
ウムの下塗り法等の方法が提案されている。このような
処理を施すことによって、上述した非画像部の汚染を防
止して印刷物に“汚れ”が生じないようにするたとがで
きるが、その反面印刷物の耐刷性が、上記処理を施さな
い場合の50〜80%に減少するという新たな問題が伴
う欠点があった。
持体表面を米国特許第3.181.461号明細書に記
載されているようなアルカリ金属けい酸塩中に浸漬する
方法、米国特許第3.860.426号明細書に記載さ
れているような、水溶性金属塩を含む親水性セルロース
の下塗り法、又は英国特許第2、098.627号公報
に記載されているようなアリールスルホン酸す) IJ
ウムの下塗り法等の方法が提案されている。このような
処理を施すことによって、上述した非画像部の汚染を防
止して印刷物に“汚れ”が生じないようにするたとがで
きるが、その反面印刷物の耐刷性が、上記処理を施さな
い場合の50〜80%に減少するという新たな問題が伴
う欠点があった。
また陽極酸化皮膜が存在するために生じる上記の欠点を
改善するために、特開昭54−128453号公報及び
特開昭55−28400号公報には、陽極酸化皮膜を形
成する電解液中のアルミニウムイオン濃度を10〜25
g/lと著しく高くするか又は、硫酸とリン酸の混合電
解液中で陽極酸化する方法が開示されている。しかしな
がらこの方法では、スケールが生じ易くなり、廃液処理
する場合のスラッジ(A1(0)1)、)も多くなり、
また硫酸とリン酸両者の酸濃度の管理に非常に労力がか
かり、製造適性に劣るという欠点があった。
改善するために、特開昭54−128453号公報及び
特開昭55−28400号公報には、陽極酸化皮膜を形
成する電解液中のアルミニウムイオン濃度を10〜25
g/lと著しく高くするか又は、硫酸とリン酸の混合電
解液中で陽極酸化する方法が開示されている。しかしな
がらこの方法では、スケールが生じ易くなり、廃液処理
する場合のスラッジ(A1(0)1)、)も多くなり、
また硫酸とリン酸両者の酸濃度の管理に非常に労力がか
かり、製造適性に劣るという欠点があった。
さらに高電流密度で陽極酸化すると、皮膜が著しく成長
する、いわゆる“やけ”と称される不均一な陽極酸化皮
膜が形成されることもあった。
する、いわゆる“やけ”と称される不均一な陽極酸化皮
膜が形成されることもあった。
さらに、電解液中の酸濃度が低いため、形成した陽極酸
化皮膜の多孔性が著しく減少し、そのため感光層と接着
が十分でなく耐刷性が80〜90%に低下するという欠
点があった。
化皮膜の多孔性が著しく減少し、そのため感光層と接着
が十分でなく耐刷性が80〜90%に低下するという欠
点があった。
本発明の目的は、耐刷性を低下させないで、非画像部の
汚染を生じない平版印刷版用支持体を提供することであ
る。
汚染を生じない平版印刷版用支持体を提供することであ
る。
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討した結
果、本発明をなすに至ったものであって、すなわち本発
明は、アルミニウム板に砂目室処理、陽極酸化処理を施
し、次いで金属珪酸塩による親水化処理を施し、水蒸気
、もしくは60〜100℃の水又は60〜100℃の希
薄アルカリ溶液で処理することを特徴とする平版印刷版
用支持体の製造方法である。
果、本発明をなすに至ったものであって、すなわち本発
明は、アルミニウム板に砂目室処理、陽極酸化処理を施
し、次いで金属珪酸塩による親水化処理を施し、水蒸気
、もしくは60〜100℃の水又は60〜100℃の希
薄アルカリ溶液で処理することを特徴とする平版印刷版
用支持体の製造方法である。
以下、本発明について、順を追って詳しく説明する。
本発明において用いられるアルミニウム板は、アルミニ
ウムを主成分とする純アルミニウムや微量の異原子を含
むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子は、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛
、ビスマス、ニッケル、チタンなどであり、合金組成と
しては、高々10重量%以下の含有率aものである。本
発明に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、
完全に純粋なアルミニウムは、製錬技術上製造が困難で
あるので、できるだけ異原子を含まないものがよい。又
、上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば、
本発明に適用しろる素材ということができる。
ウムを主成分とする純アルミニウムや微量の異原子を含
むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子は、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛
、ビスマス、ニッケル、チタンなどであり、合金組成と
しては、高々10重量%以下の含有率aものである。本
発明に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、
完全に純粋なアルミニウムは、製錬技術上製造が困難で
あるので、できるだけ異原子を含まないものがよい。又
、上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば、
本発明に適用しろる素材ということができる。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではな(従来公知、公用の素材の
ものを適宜利用することができる。
組成が特定されるものではな(従来公知、公用の素材の
ものを適宜利用することができる。
本発明に用いられるアルミニウム板の厚さは、ふよそ0
.1叩〜0.5 mff1程度である。砂目室て処理に
先立ってアルミニウム板表面の圧延油を除去するため、
所望により界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂
処理が施される。その後上記のアルミニウム板には、砂
目室処理が行われる。
.1叩〜0.5 mff1程度である。砂目室て処理に
先立ってアルミニウム板表面の圧延油を除去するため、
所望により界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂
処理が施される。その後上記のアルミニウム板には、砂
目室処理が行われる。
砂目室て処理方法には、機械的に表面を粗面化する方法
、電気化学的に表面を溶解する方法及び化学的に表面を
選択溶解させる方法がある。機械的に表面を粗面化する
方法としては、ボール研暦法、ブラシ研M法、ブラスト
研磨法、パフ研磨法等と称せられる公知の方法を用いる
ことができる。
、電気化学的に表面を溶解する方法及び化学的に表面を
選択溶解させる方法がある。機械的に表面を粗面化する
方法としては、ボール研暦法、ブラシ研M法、ブラスト
研磨法、パフ研磨法等と称せられる公知の方法を用いる
ことができる。
また電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液
中で交流又は直流により、行う方法がある。
中で交流又は直流により、行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組合わせた方法も利用することができる。
ように両者を組合わせた方法も利用することができる。
このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエツチング処理及び中和処理される。
てアルカリエツチング処理及び中和処理される。
次にこのアルミニウム板は陽極酸化処理に付される。陽
極酸化処理に用いられる電解質としては硫酸、りん酸、
しゆう酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、
それらの電解質やその濃度は電解質の種類によって適宜
法められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の温度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電
流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100■電解時間
10秒〜50分の範囲にあれば適当である。
極酸化処理に用いられる電解質としては硫酸、りん酸、
しゆう酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、
それらの電解質やその濃度は電解質の種類によって適宜
法められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の温度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電
流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100■電解時間
10秒〜50分の範囲にあれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は0.1〜10g/m’が好適である
がより好ましくは1〜6 g / m’の範囲である。
がより好ましくは1〜6 g / m’の範囲である。
この様に、陽極酸化を経たアルミニウム板に対しては、
米国特許第2.714.066号公報及び同第3、18
1.461号公報の各明細書に記されている様にアルカ
リ金属シリケート例えば珪酸ナトリウムによる浸漬方法
でのシリケート層生成を行うか、または、特開昭60−
194095号に示されるアルカリ土類金属シリケート
処理を行う。
米国特許第2.714.066号公報及び同第3、18
1.461号公報の各明細書に記されている様にアルカ
リ金属シリケート例えば珪酸ナトリウムによる浸漬方法
でのシリケート層生成を行うか、または、特開昭60−
194095号に示されるアルカリ土類金属シリケート
処理を行う。
この後本発明の特徴である水蒸気もしくは60〜100
℃の水又は60〜100℃の希薄アルカリ溶液による下
地処理を行う。金属珪酸塩による親水化処理が施された
アルミニウム板は、この下地処理によって、その親水性
表面の特徴を残し、且つ密着力も強化される。
℃の水又は60〜100℃の希薄アルカリ溶液による下
地処理を行う。金属珪酸塩による親水化処理が施された
アルミニウム板は、この下地処理によって、その親水性
表面の特徴を残し、且つ密着力も強化される。
水蒸気による処理を行なう場合、その温度は120℃以
下が好ましい。また希薄アルカリ溶液はpHが7.5〜
13.0までの範囲が好ましく、このpH範囲であれば
、どのようなアルカリ剤を用いてもよい。代表的なアル
カリ剤としては、M(OH)、、M(CD、)、 、1
叶3COOL、 、M(803)h 、 Mm(POa
) の一般式で示される水酸化物、炭酸塩、酢酸塩等が
用いられる(ここでMはアンモニア、アルカリ金属及び
アルカリ土類金属を示す。またn及びmは1〜3の整数
である)。またグルコン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸カリウムなどのアルカリ性有機酸塩も使用で
き、NR3の一般式で示されるアミノ化合物(例えば、
モノエタノールアミンなど)を用いることもできる。p
Hが13.0より高いアルカリ溶液で処理すると陽極酸
化皮膜が溶解する。
下が好ましい。また希薄アルカリ溶液はpHが7.5〜
13.0までの範囲が好ましく、このpH範囲であれば
、どのようなアルカリ剤を用いてもよい。代表的なアル
カリ剤としては、M(OH)、、M(CD、)、 、1
叶3COOL、 、M(803)h 、 Mm(POa
) の一般式で示される水酸化物、炭酸塩、酢酸塩等が
用いられる(ここでMはアンモニア、アルカリ金属及び
アルカリ土類金属を示す。またn及びmは1〜3の整数
である)。またグルコン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸カリウムなどのアルカリ性有機酸塩も使用で
き、NR3の一般式で示されるアミノ化合物(例えば、
モノエタノールアミンなど)を用いることもできる。p
Hが13.0より高いアルカリ溶液で処理すると陽極酸
化皮膜が溶解する。
水又は希薄なアルカリ溶液による処理の場合、処理液温
度が60℃より低いと長時間処理しても十分な効果が得
られず、耐剛力の低い印刷版しか得られない。従って、
処理温度は60〜100℃とされ、希薄なアルカリ水溶
液を使用する場合には多少低めの温度、即ち60〜80
℃が好ましい。
度が60℃より低いと長時間処理しても十分な効果が得
られず、耐剛力の低い印刷版しか得られない。従って、
処理温度は60〜100℃とされ、希薄なアルカリ水溶
液を使用する場合には多少低めの温度、即ち60〜80
℃が好ましい。
一方、処理時間は水蒸気による処理詣よび60〜100
℃の水又は60〜100℃の希薄なアルカリ水溶液によ
る処理のいずれの場合においても1〜120秒が適当で
あり、5〜30秒の範囲が特に好ましい。
℃の水又は60〜100℃の希薄なアルカリ水溶液によ
る処理のいずれの場合においても1〜120秒が適当で
あり、5〜30秒の範囲が特に好ましい。
このようにして得られた本発明のアルミニウム板支持体
には、O−キノンジアジド化合物を含む感光層が塗設さ
れ使用に供される。O−キノンジアジド化合物は少なく
とも1つのO−キノンジアジド基を有する化合物で活性
光線の照射により溶解性が変化するものである。特に種
々の芳香族ポリヒドロキシル化合物あるいはアミン類と
反応させた○−キノンジアジドのスルホン酸エステル又
はスルホンアミドが好適である。
には、O−キノンジアジド化合物を含む感光層が塗設さ
れ使用に供される。O−キノンジアジド化合物は少なく
とも1つのO−キノンジアジド基を有する化合物で活性
光線の照射により溶解性が変化するものである。特に種
々の芳香族ポリヒドロキシル化合物あるいはアミン類と
反応させた○−キノンジアジドのスルホン酸エステル又
はスルホンアミドが好適である。
そして特公昭43−28403号公報に記載されている
ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸クロリドと
ポリヒドロキシフェニルとのエステル又はナフトキノン
−1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとピロガロール
−アセトン樹脂とのエステルが最も好ましいものである
。その他の比較的好適なO−キノンジアジド化合物とし
ては、米国特許第3.046.120号及び同第3.1
88.210号の各明細書中に記載されているベンゾキ
ノン−1,2−ジアジドスルホン酸クロリド又はナフト
キノンり1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸クロリドと
ポリヒドロキシフェニルとのエステル又はナフトキノン
−1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとピロガロール
−アセトン樹脂とのエステルが最も好ましいものである
。その他の比較的好適なO−キノンジアジド化合物とし
ては、米国特許第3.046.120号及び同第3.1
88.210号の各明細書中に記載されているベンゾキ
ノン−1,2−ジアジドスルホン酸クロリド又はナフト
キノンり1,2−ジアジドスルホン酸クロリドとフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
O−キノンジアジド化合物は単独で感光層を構成するが
、アルカリ水に可溶な樹脂がバインダーとして共に使用
されうる。このアルカリ水に可溶性の樹脂としては、こ
の性質を有するノボラック樹脂があり、たとえばフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、P−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド
樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性キ
シレン・メシチレン樹脂などである。
、アルカリ水に可溶な樹脂がバインダーとして共に使用
されうる。このアルカリ水に可溶性の樹脂としては、こ
の性質を有するノボラック樹脂があり、たとえばフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、P−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド
樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性キ
シレン・メシチレン樹脂などである。
また、特開昭56−17345号公報で記載されている
ような酸により分解するオルトカルボン酸エステルくり
返し単位を有するポリマー化合物、特開昭60−102
47号公報で記載されているような酸により分解するシ
リルエステル基を含有する化合物、特開昭60−375
49.60〜121446号公報で記載されているよう
な酸により分解するシリルエステル基を含有する化合物
、米国特許第3.849.137号明細書に記載されて
いる0−ニトロカルビノールエステル基を含有する化合
物が有用である。
ような酸により分解するオルトカルボン酸エステルくり
返し単位を有するポリマー化合物、特開昭60−102
47号公報で記載されているような酸により分解するシ
リルエステル基を含有する化合物、特開昭60−375
49.60〜121446号公報で記載されているよう
な酸により分解するシリルエステル基を含有する化合物
、米国特許第3.849.137号明細書に記載されて
いる0−ニトロカルビノールエステル基を含有する化合
物が有用である。
その他の有用なアルカリ水可溶性樹脂としてポリヒドロ
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン化(
メタ)アクリル酸と他のビニル化合物とのコポリマーを
挙げることができる。このようなO−キノンジアジド化
合物とアルカリ水に可溶性の樹脂からなる組成物中のO
−キノンジアジド化合物の憤は、10〜50重量%の範
囲内にあり、通常20〜40重量%程度の量比とされる
。
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン化(
メタ)アクリル酸と他のビニル化合物とのコポリマーを
挙げることができる。このようなO−キノンジアジド化
合物とアルカリ水に可溶性の樹脂からなる組成物中のO
−キノンジアジド化合物の憤は、10〜50重量%の範
囲内にあり、通常20〜40重量%程度の量比とされる
。
又0−キノンジアジド化合物からなる組成物中には、感
度を高めるために環状酸無水物、画像着色剤としての染
料や他の所望の増量剤(ブイラー)などを適宜加えるこ
とができる。
度を高めるために環状酸無水物、画像着色剤としての染
料や他の所望の増量剤(ブイラー)などを適宜加えるこ
とができる。
感光層を形成させるための塗布液は、上記の諸成分を、
たとえば2−メトキシェタノーノペ2−エトキシエタノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエ
チルアセテート、ジメチルホルムアミド、メタノール、
エタノール、n−プロパツール、l−プロパツール、塩
化メチレン、二酸化エチレン、トリクロルエタン、モノ
クロルベンゼン、トルエン、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブ
チル、メチルアルミアセテートなどのエステル、などの
有機溶剤あるいはそれらの混合溶媒に溶解せしめて調製
される。塗布液中の固形成分の量比は、約0.1〜約2
5重量%、より好ましくは1〜15重量%程度がよい。
たとえば2−メトキシェタノーノペ2−エトキシエタノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエ
チルアセテート、ジメチルホルムアミド、メタノール、
エタノール、n−プロパツール、l−プロパツール、塩
化メチレン、二酸化エチレン、トリクロルエタン、モノ
クロルベンゼン、トルエン、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブ
チル、メチルアルミアセテートなどのエステル、などの
有機溶剤あるいはそれらの混合溶媒に溶解せしめて調製
される。塗布液中の固形成分の量比は、約0.1〜約2
5重量%、より好ましくは1〜15重量%程度がよい。
調製した塗布液は、たとえばドクターコート、ローラー
コート、グラビアコート、ビードコート、ディップコー
トなどの種々の塗布手段によって前記のごと(処理した
アルミニウム板上に塗布される。塗布液層の乾燥も従来
技術を適用することでよく、室温乃至高温、たとえば2
0℃〜150tといった範囲の温度の雰囲気内で乾燥さ
せる。乾燥後の感光層は、約0.1〜7 g / m’
程度であり、0.5〜4 g / m’がより好ましい
量である。
コート、グラビアコート、ビードコート、ディップコー
トなどの種々の塗布手段によって前記のごと(処理した
アルミニウム板上に塗布される。塗布液層の乾燥も従来
技術を適用することでよく、室温乃至高温、たとえば2
0℃〜150tといった範囲の温度の雰囲気内で乾燥さ
せる。乾燥後の感光層は、約0.1〜7 g / m’
程度であり、0.5〜4 g / m’がより好ましい
量である。
かくして得られた感光性平版印刷版は、カーボンアーク
灯、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メタルハラ
イドランプなどのどとき0−キノンジアジド化合物に対
する活性光線を含む光源により画像状に露光され、珪酸
カリウムのようなアルカリの水溶液で現像されると平版
印刷版となる。
灯、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メタルハラ
イドランプなどのどとき0−キノンジアジド化合物に対
する活性光線を含む光源により画像状に露光され、珪酸
カリウムのようなアルカリの水溶液で現像されると平版
印刷版となる。
本発明により得られるアルミニウム支持体を用いた平版
印刷版は、従来のものに比べて高い耐刷力を与えると同
時に非画像部が汚れにくいという顕著の効果が得られる
。従来より、高耐刷力を有する平版印刷版は非画像部が
汚れ易く、逆に非画像部の汚れ難い平版印刷版は耐刷力
が低いという性質をもっており、これら両者の性能を同
時に改善させることは極めて困難であるとされていた。
印刷版は、従来のものに比べて高い耐刷力を与えると同
時に非画像部が汚れにくいという顕著の効果が得られる
。従来より、高耐刷力を有する平版印刷版は非画像部が
汚れ易く、逆に非画像部の汚れ難い平版印刷版は耐刷力
が低いという性質をもっており、これら両者の性能を同
時に改善させることは極めて困難であるとされていた。
しかし乍ら、本発明によるアルミニウム支持体を用いた
平版印刷版は、高い耐刷力を有すると同時に非画像部が
汚れ難いという従来得られなかった優れた性質を有して
いる。
平版印刷版は、高い耐刷力を有すると同時に非画像部が
汚れ難いという従来得られなかった優れた性質を有して
いる。
以下、本発明を実施例を用いて、より具体的に説明する
。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない限り「重
量%」を示すものとする。
。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない限り「重
量%」を示すものとする。
実施例I
JIS1050アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研暦剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。このときの表面粗さく中心線平均粗さ)は0.5
μであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃
に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウム表面の溶解量
が6g/ゴになるようにエツチングした。
を研暦剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。このときの表面粗さく中心線平均粗さ)は0.5
μであった。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃
に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウム表面の溶解量
が6g/ゴになるようにエツチングした。
水洗後30%硝酸水溶液中に1分間浸漬し、0.7%硝
酸水溶液中で、陽極時電圧13ボルト陰極時電圧6ボル
トの矩形波交番波形(特開昭52−77702号公報実
施例に記載されている電源波形)を用いて20秒間電電
解面化を行い30%硝酸の50℃溶液中に浸漬して表面
を洗浄した後、水洗した。
酸水溶液中で、陽極時電圧13ボルト陰極時電圧6ボル
トの矩形波交番波形(特開昭52−77702号公報実
施例に記載されている電源波形)を用いて20秒間電電
解面化を行い30%硝酸の50℃溶液中に浸漬して表面
を洗浄した後、水洗した。
さらに20%硝酸水溶液中で、陽極酸化処理重1が3.
0 g / rrlとなる様に直流を用いて陽極酸化処
理を施して水洗、乾燥後基板[A)を用意した。
0 g / rrlとなる様に直流を用いて陽極酸化処
理を施して水洗、乾燥後基板[A)を用意した。
基板(A”lを3号珪酸ソーダ溶液2.5%、70℃、
30秒間に浸漬する事によりシリケート層皮膜を形成し
た基板(B)を用意した。
30秒間に浸漬する事によりシリケート層皮膜を形成し
た基板(B)を用意した。
また処理液のpalが8〜13.5となる様に水酸化す
) Uラムの溶液を用意し、基板(A)又は(B)を表
1に示す条件にて浸漬した。水洗、乾燥後、下記組成物
を乾燥後の塗布重量が2.5 g / m’となるよう
に塗布し、それぞれの基板(A)CB)(C”l (
D)(亡)CF3 CG)(H’lに感光層を設けた。
) Uラムの溶液を用意し、基板(A)又は(B)を表
1に示す条件にて浸漬した。水洗、乾燥後、下記組成物
を乾燥後の塗布重量が2.5 g / m’となるよう
に塗布し、それぞれの基板(A)CB)(C”l (
D)(亡)CF3 CG)(H’lに感光層を設けた。
組 成
(米国特許第3.635.709号明細書実施例1記載
のもの) タレゾールノボラック樹脂 2.00 gオ
イルブルー1603 (オリエント 学製) 0.04 g
エチレンジクロライド 16g2−メトキ
シエチルアセテート 12gこのようにして作られ
た感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明ポジティブ
フィルムを通して1mの距離から3KWのメタルハライ
ドランプにより、50秒間露光を行ったのち、Sin、
/Na2Oのモル比が1.74の珪酸す) IJウム
の5,26%水溶液(pH= 12.7 )で現像した
。
のもの) タレゾールノボラック樹脂 2.00 gオ
イルブルー1603 (オリエント 学製) 0.04 g
エチレンジクロライド 16g2−メトキ
シエチルアセテート 12gこのようにして作られ
た感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明ポジティブ
フィルムを通して1mの距離から3KWのメタルハライ
ドランプにより、50秒間露光を行ったのち、Sin、
/Na2Oのモル比が1.74の珪酸す) IJウム
の5,26%水溶液(pH= 12.7 )で現像した
。
このように現像した後、十分水洗し、ガム引きしたのち
、常法の手順で印刷した。このときの非画像部の汚染と
耐剛力を調べた結果を第1表に示した。基板〔C〕、〔
D〕、(E)、〔F〕は本発明の実施例で、基板CA)
、(B)、CG〕、(H)は比較例である。
、常法の手順で印刷した。このときの非画像部の汚染と
耐剛力を調べた結果を第1表に示した。基板〔C〕、〔
D〕、(E)、〔F〕は本発明の実施例で、基板CA)
、(B)、CG〕、(H)は比較例である。
表1の結果のように、本発明の製造方法により作成され
たサンプルは比較例に比べて非画像部の汚れ難さに優れ
、耐剛力にも優れた性能を得る事が出来た。
たサンプルは比較例に比べて非画像部の汚れ難さに優れ
、耐剛力にも優れた性能を得る事が出来た。
* 非画像部の汚れ難・・・1. OO0枚以上印刷し
た時の印刷物あるいはブランケット上の非画像部への転
写汚れが少ないこと。
た時の印刷物あるいはブランケット上の非画像部への転
写汚れが少ないこと。
実施例2
実施例1で作成された基板CB〕を120℃の水蒸気ま
たは100℃の水で、いずれも30秒間処理したのち、
水洗乾燥して、それぞれ基板[1)および〔J〕を得た
。
たは100℃の水で、いずれも30秒間処理したのち、
水洗乾燥して、それぞれ基板[1)および〔J〕を得た
。
これらの基板(1)および(J)と実施例1で作成され
た基板(A)と〔B〕を用いて、実施例1の場合と同様
にして平版印刷版を作成し、耐剛性と非画像部の汚れ難
さを調べた 結果を表2に示す。
た基板(A)と〔B〕を用いて、実施例1の場合と同様
にして平版印刷版を作成し、耐剛性と非画像部の汚れ難
さを調べた 結果を表2に示す。
表2の結果から、水蒸気処理および沸騰水処理のいずれ
においても、すぐれた結果を示すことが判る。
においても、すぐれた結果を示すことが判る。
手続補正書
1、事件の表示 昭和61年特許願第120675
号4、代理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
7、補正の内容 明細書中、下記個所の誤記を各々訂正する。
号4、代理人 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
7、補正の内容 明細書中、下記個所の誤記を各々訂正する。
Claims (2)
- (1)アルミニウム板に砂目立処理、陽極酸化処理を施
し、次いで金属珪酸塩による親水化処理を施し、水蒸気
、もしくは60〜100℃の水又は60〜100℃の希
薄アルカリ溶液で処理することを特徴とする平版印刷版
用支持体の製造方法。 - (2)希薄アルカリ溶液が、pH7.5〜13.0であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の平
版印刷版用支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873717757 DE3717757A1 (de) | 1986-05-26 | 1987-05-26 | Verfahren zur herstellung eines traegers fuer die verwendung in der herstellung einer lithografischen druckplatte |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-104439 | 1986-05-07 | ||
JP10443986 | 1986-05-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6399992A true JPS6399992A (ja) | 1988-05-02 |
Family
ID=14380695
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12067586A Pending JPS6399992A (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-26 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6399992A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02107490A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
EP0428071A2 (en) * | 1989-11-13 | 1991-05-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing substrate for PS plate |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59164190A (ja) * | 1983-03-10 | 1984-09-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
JPS60234895A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-21 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 印刷板支持体として使用するためのアルミニウムまたはアルミニウム合金の電気化学的粗面化法 |
-
1986
- 1986-05-26 JP JP12067586A patent/JPS6399992A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59164190A (ja) * | 1983-03-10 | 1984-09-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造方法 |
JPS60234895A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-21 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 印刷板支持体として使用するためのアルミニウムまたはアルミニウム合金の電気化学的粗面化法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02107490A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
EP0428071A2 (en) * | 1989-11-13 | 1991-05-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing substrate for PS plate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0694234B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPS606799B2 (ja) | 印刷版用アルミニウムベ−スシ−トの製造法 | |
JPS5959897A (ja) | シ−ト、箔又はストリツプの形の材料の製造法及びオフセツト印刷板用支持体 | |
JPH07119151B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JPS6219494A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JP2648976B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
EP1002644A2 (en) | Production of support for lithographic printing plate. | |
JPS63165183A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JPS6362795A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
JPS6399992A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
JPH0513078B2 (ja) | ||
JPS63202497A (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 | |
JPS59214651A (ja) | 感光性平版印刷版を用いた製版方法 | |
JPS63145092A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JPS6356498A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JPS63130391A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JPS6297892A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JPH03215095A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPH0450846A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPS59164190A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
JPS59174393A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
JPH0214188A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
JPH01127389A (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 | |
JPH0566275B2 (ja) | ||
JPH0798434B2 (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 |