DE3841048C2

DE3841048C2 - Schichtträger für lichtempfindliche Druckplatten

Info

Publication number: DE3841048C2
Application number: DE3841048A
Authority: DE
Inventors: Takeshi Kimura; Hirokazu Sakaki
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1987-12-07
Filing date: 1988-12-06
Publication date: 1995-06-14
Anticipated expiration: 2008-12-07
Also published as: JPH07119151B2; GB2213166A; DE3841048A1; JPH01150583A; GB8828397D0; US4970116A; GB2213166B

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Schichtträger für lichtempfindliche Druckplatten aus einer Aluminiumplatte und einem darauf aufgebrachten porösen, anodisch behandelten Film mit mindestens 0,8 g/m².

Als lichtempfindliche Platte für die Verwendung zum Herstellen lichtempfindlicher (lithographischer) Druckplatten sind sogenannte PS-Platten (vorsensibilisierte Platten) bekannt, die aus einer Aluminiumplatte und einem dünnen Film einer darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Zusammensetzung bestehen. Die Aluminiumplatte wird im allgemeinen einer Oberflächenbehandlung unterworfen, beispielsweise einem mechanischen Verfahren, wie Bürstenkörnen oder Kugelkörnen, einem elektrochemischen Verfahren, wie elektrolytischem Körnen oder einer Kombination davon, um die Oberfläche der Platte aufzurauhen; sie wird dann mit einer wäßrigen Lösung einer Säure oder einer Lauge geätzt, anodisch behandelt und anschließend gegebenenfalls einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen, um einen Schichtträger für eine PS-Platte zu erhalten. Eine solche PS-Platte kann hergestellt werden, indem eine lichtempfindliche Schicht darauf aufgebracht wird. Die entstehende PS-Platte wird gewöhnlich bildweise dem Licht ausgesetzt, entwickelt, retuschiert und gummiert, um lichtempfindliche Druckplatten zu erhalten, die dann in eine Druckmaschine eingesetzt werden, um Druckoperationen durchzuführen.

Die Nicht-Bildbereiche einer lichtempfindlichen Druckplatte die durch bildweises Belichten einer PS-Platte, die aus einem gebräuchlichen Substrat mit einer darauf aufgebrachten positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schicht zusammengesetzt ist, und anschließendes Entwickeln dieser Platte hergestellt wird, adsorbieren jedoch die in der lichtempfindlichen Schicht anwesenden Substanzen irreversibel und verursachen so Fleckenbildung, so daß die Unterscheidung zwischen Bildbereichen und Nicht-Bildbereichen während des Retuschierverfahrens erschwert wird; das führt zur Bildung einer ungleichmäßigen Plattenoberfläche, weil die deutlichen Spuren des Retuschierens darauf erhalten bleiben. Im schlimmsten Fall führen solche Spuren zur Fleckenbildung und die Platte ist dann nicht mehr als lichtempfindliche Druckplatte verwendbar.

Um diese Probleme zu umgehen, ist beispielsweise in der ungeprüften japanischen Patentanmeldung (ungeprüfte japanische Patentanmeldungen werden im folgenden als "JP-OS" bezeichnet) Nr. 57-195697 vorgeschlagen worden, eine anodisch behandelte Aluminiumplatte zusätzlich mit einem kondensierten Natriumarylsulfonat zu behandeln. Die Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereichen kann nach diesem Verfahren sicher verhindert werden; es entsteht aber auf der anderen Seite ein neues Problem, daß nämlich die Druckdauerhaftigkeit der Druckplatte im Vergleich mit einer Platte, die der erwähnten Behandlung nicht unterworfen worden ist, um 30-80% verringert ist.

Auf der anderen Seite wird in der für Einspruchszwecke publizierten japanischen Patentanmeldung (im folgenden werden solche Patentanmeldungen als "JP-AS" bezeichnet) Nr. 46-35685 vorgeschlagen, die anodisch behandelte Aluminiumplatte mit Polyvinylphosphonsäure zu behandeln. Die oben erwähnte Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereichen kann jedoch nur ungenügend verhindert werden, wenn ein solches Substrat verwendet wird.

Bei Verwendung einer gebräuchlichen lichtempfindichen Druckplatte wird eine Fleckenbildung auf dem Hintergrund gedruckter Sachen hervorgerufen, da die Tinte bzw. der Farbstoff, der mit den Nicht-Bildbereichen verbunden ist, nicht schnell entfernt wird. Außerdem kann die Dicke des anodisch behandelten Filmes erhöht werden, um die Kratzbeständigkeit der Nicht-Bildbereiche zu erhöhen. In einem solchen Fall wird jedoch die Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereichen immer stärker; sie kann durch das vorstehend erwähnte Verfahren zum Verhindern der Fleckenbildung nicht ausgeschlossen werden.

Als ein Verfahren zum Verhindern der Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereichen durch eine elektrochemische Behandlung ist ein Verfahren bekannt, das die Behandlung einer Aluminiumplatte mit einer Sperrtypanodisierung, die Bildung eines porösen, anodisch behandelten Filmes und dann eine Sperrtypanodisierung umfaßt (siehe JP-OS 53-2103). Weiterhin offenbart die DE-OS 34,18,111 einen anodisierten Aluminiumträger, der mit einer wäßrigen Hexametaphosphat-Anionen enthaltenden Lösung behandelt wird, um die Farbadsorption auf der Oberfläche und damit die Fleckenbildung zu verringern.

Weiterhin wird in der JP-OS 58-153699 ein Verfahren offenbart, das die Bildung eines porösen, anodisch behandelten Filmes auf der Oberfläche einer Aluminiumplatte und das erneute anodische Behandeln bei einer Spannung von nicht mehr als 100 V in einem Oxo-Anionen enthaltendem Elektrolyten, beispielsweise Borsäurelösung, umfaßt.

In diesem Verfahren werden jedoch die Sperrtypanodisierung und Re-Anodisierungsbehandlungen bei einer Spannung von nicht mehr als 100 V durchgeführt; diese Verfahren verwenden daher keine ausreichend hohe Spannung, um die Poren des porösen, anodisch behandelten Filmes zu verschließen. Daher ist der Effekt, die Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereiche zu verhindern, nicht ausreichend. Außerdem kann, wenn die Dicke des porösen, anodisch behandelten Filmes relativ gering ist, das Verschließen der Poren erreicht werden, aber der entstehende Film ist bezüglich seiner mechanischen Stärke minderwertig und die Nicht-Bildbereiche sind nicht kratzbeständig.

Ein Verschließen der Poren wird auch mit dem Verfahren gemäß DE-OS 2,308,196 erzielt, worin die anodisch oxidierte Aluminiumplatte mit kochendem, entionisiertem (PO₄-freiem) Wasser behandelt wird.

Weiterhin wurde festgestellt, daß, wenn die gekörnte Oberfläche einer Sperrtypanodisierung unterworfen wird, die Druckdauerhaftigkeit der entstehenden lichtempfindlichen Druckplatte niedrig wird.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher, einen Schichtträger für lichtempfindiche Druckplatten bereitzustellen, mit dem eine nur mäßige Fleckenbildung auf Nichtbild-Anteilen der lichtempfindlichen Druckplatten, eine hohe Kratzbeständigkeit, hohe Verschleißbeständigkeit und leichte Wiedergewinnbarkeit von Tinte-Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereichen und ein Gleichgewicht zwischen Wasser und Tinte bzw. Farbstoff sowie eine hohe Druckdauerhaftigkeit der lichtempfindlichen Druckplatten erzielt wird.

Gemäß der vorliegenden Erfindung wird diese Aufgabe mit einem Schichtträger der eingangs genannten Art gelöst, der dadurch gekennzeichnet ist, daß der anodisch behandelte Film einen Versiegelungsgrad von mindestens 25% aufweist.

In der vorliegenden Erfindung ist der Grad der Versiegelung wird folgt definiert:

Mit anderen Worten bedeutet der Grad der Versiegelung hier das Verhältnis der Dicke der Versiegelung (die Tiefe der Pore, die durch die Versiegelungsbehandlung mit Substanzen gefüllt wird) zu der Gesamtdicke des anodisch behandelten Filmes (der Dicke des anodisch behandelten Filmes), das mit 100 multipliziert wird. Die Dicke der Versiegelung und die Gesamtdicke des anodisch behandelten Filmes können durch elektronenmikroskopische Beobachtung bestimmt werden und der Grad der Versiegelung kann damit zweifelsfrei erhalten werden. Erfindungsgemäß beträgt der Grad der Versiegelung 25% oder mehr. Wenn er weniger als 25% beträgt, tritt leicht eine Fleckenbildung auf dem Hintergrund auf.

Fig. 1 ist eine elektronenmikroskopische Aufnahme eines Querschnittes, die die metallographische Struktur des erfindungsgemäßen Schichtträgers zeigt.

Fig. 2 ist ein schematisches Diagramm, das die metallographische Struktur des erfindungsgemäßen Schichtträgers, der in Fig. 1 gezeigt ist, darstellt.

Der erfindungsgemäße Schichtträger wird im folgenden detailliert erläutert.

Aluminiumplatte

Die erfindungsgemäß verwendeten Aluminiumplatten sind Platten aus reinem Aluminium oder Aluminiumlegierungen mit einem Gehalt von Spuren verschiedener Elemente. Beispiele solcher verschiedenen Elemente sind Silizium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und Titan. Der Gehalt dieser verschiedenen Elemente beträgt im allgemeinen nicht mehr als 10 Gew.-% der Legierung. Mit anderen Worten heißt das, daß die Zusammensetzung der Aluminiumplatte nicht kritisch ist und jedes gebräuchliche Material entsprechend erfindungsgemäß verwendet werden kann. Von den Aluminiumsubstraten ist eine Platte aus reinem Aluminium bevorzugt. Da es jedoch schwierig ist, eine vollständig reine Aluminiumplatte im Sinne der Veredelungstechnik zu erhalten, enthält die bevorzugt verwendete Aluminiumplatte möglichst geringe Mengen verschiedener Elemente, mit anderen Worten, die Aluminiumplatte ist im wesentlichen frei von anderen Elementen. Es ist wünschenswert, eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,1-0,5 mm zu verwenden.

Oberflächenaufrauhungsbehandlung

Vor der anodischen Behandlung der Aluminiumplatte wird diese gegebenenfalls mit einer wäßrigen Lösung eines oberflächenaktiven Mittels oder einer Lauge entfettet, um Walzöl zu entfernen, und dann gekörnt.

Beispiele für Aufrauhungsverfahren umfassen mechanische Verfahren zum Aufrauhen der Oberfläche, Verfahren zum elektrochemischen Auflösen der Oberfläche und solche zum chemischen und gezielten Auflösen der Oberfläche. Die mechanische Oberflächenaufrauhung kann mit jedem bekannten Verfahren durchgeführt werden, beispielsweise jenen, die als Kugelkörnen, Bürstenkörnen, Sandstrahlkörnen und Polierkörnen bezeichnet werden. Das elektrochemische Körnen kann in einem Elektrolyten, beispielsweise Salzsäure- oder Salpetersäurelösung, durchgeführt werden, während ein elektrischer Strom (Gleichstrom oder Wechselstrom) angelegt wird. Außerdem können diese Körnungsverfahren miteinander kombiniert werden, wie es in der JP-OS 54-63902 beschrieben worden ist.

Die Aluminiumplatte mit der so aufgerauhten Oberfläche kann gegebenenfalls mit einer Lauge geätzt und dann gewaschen werden, um die Lauge zu neutralisieren.

Bildung eines porösen, anodisch behandelten Filmes

Für die Bildung des anodisch behandelten Filmes auf der Aluminiumplatte mit der aufgerauhten Oberfläche kann jeder Elektrolyt verwendet werden, vorausgesetzt, daß er die Bildung des porösen, anodisierten Filmes sicherstellt. Im allgemeinen werden als solche Elektrolyte Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder eine Mischung dieser Säuren, Natriumhydroxidlösung, Kaliumhydroxidlösung oder eine Mischung davon, oder ein Bad, dem Ammoniumfluorid zugesetzt ist, verwendet. Die Zusammensetzung eines solchen Elektrolyten kann entsprechend im Einklang mit den hier offenbarten Elektrolyten bestimmt werden. Die Bedingungen für die Bildung eines porösen, anodisch behandelten Filmes können in Abhängigkeit von der Art des verwendeten Elektrolyten variieren, aber im allgemeinen sind eine Konzentration des Elektrolyten im Bereich von 1-80 Gew.-%, eine Temperatur von 5-80°C, eine Stromdichte von 5-80 A/dm², eine angelegte Spannung von 1-100 V und eine Elektrolysezeit von 5 Sekunden bis 10 Minuten wünschenswert.

Die bevorzugte Menge des porösen, anodisch behandelten Filmes liegt im Bereich von 0,8-10 g/m², besonders bevorzugt 1-6 g/m².

Versiegelungsbehandlung

Mit Versiegelungsbehandlung wird hierin eine Behandlung zum Versiegeln der Poren des porösen, anodisch behandelten Filmes mit einem Metall, einem Metalloxid oder einem Metallhydroxid durch elektrolytische Behandlung einer Aluminiumplatte mit einem darauf aufgebrachten porösen, anodisch behandelten Film in einem Elektrolyten oder deren einfaches Eintauchen darin verstanden. Die bei dieser Behandlung verwendeten Elektrolyte können eine Vielzahl von Oxosäuren oder deren Salzen oder feine Teilchen anorganischer Substanzen enthalten. Beispiele solcher Zusätze sind die Oxosäuren von Bor, Phosphor, Vanadium, Molybdän, Wolfram, Schwefel, Kohlenstoff und/oder Silizium und/oder Salze davon. Unter diesen sind bevorzugte und nützliche Beispiele Borsäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure, Vanadinsäure, Molybdänsäure, Wolframsäure, Kohlensäure, Carbonsäure, Kieselsäure, Phosphormolybdänsäure, Phosphorwolframsäure und/oder deren Natrium-, Kalium-, Kupfer-, Nickel-, Kobalt-, Cadmium-, Zink-, Zinn-, Ammonium-, Kalzium-, Lithium-, Magnesium- und/oder Bariumsalze.

Zusätzlich können als feine Teilchen anorganischer Substanzen, die in die Poren des porösen, anodisch behandelten Filmes gefüllt werden können, Sole solcher Oxide, beispielsweise Siliziumoxid, Aluminiumoxid und Titanoxid erwähnt werden; außerdem Nitride, beispielsweise Titannitrid und Aluminiumnitrid, Silizide, wie Kohlenstoffsilizid. Diese Teilchen können innerhalb der Gasphase gebildet werden, um die Poren durch Verfahren wie Sputtern, Dampfniederschlagung oder Ionenimplantationsverfahren zu füllen. Andere als die vorstehend genannten Verbindungen können ebenso verwendet werden, wenn sie in der Lage sind, die Poren des porösen, anodisch behandelten Filmes zu versiegeln. Überraschenderweise führt das Versiegeln der Poren des anodisierten Filmes zu einem Anstieg der Oberflächenhärte des Filmes und verleiht daher den schließlich erhaltenen lichtempfindichen Druckplatten verschiedene ausgezeichnete Eigenschaften.

Von allen Verfahren ist das elektrolytische Versiegelungsverfahren besonders bevorzugt. Das elektrolytische Versiegelungsverfahren kann mit einer Elektrolyse entweder bei konstantem Strom oder konstanter Spannung durchgeführt werden und es kann mit Gleichstrom, Wechselstrom oder Gleichstrom/Wechselstrom- Elektrolyse durchgeführt werden. Bei der Elektrolyse mit konstantem Strom nimmt die Dicke der Versiegelung mit der Zeit zu und die Spannung steigt dementsprechend. Daher ist kurz vor Vollendung der Elektrolyse die Dicke der Versiegelung proportional zur Spannung.

Bei der Elektrolyse bei konstanter Spannung wird anfangs ein starker Stromfluß proportional zur angelegten Spannung beobachtet und der Strom nimmt mit der Zeit allmählich ab. Wenn die Elektrolyse durchgeführt wird, bis der Strom beinahe Null wird, ist die Dicke der Versiegelung proportional zu der Elektrolysespannung. Daher kann bei der elektrolytischen Versiegelungsbehandlung die Dicke der Versiegelung durch Einstellen der Stärke der angelegten Spannung gesteuert werden.

Fig. 1 ist eine elektronenmikroskopische Aufnahme eines Querschnittes eines Schichtträgers dessen poröser, anodisch behandelter Film einer elektrolytischen Versiegelungsbehandlung unterworfen worden ist, und zeigt die metallographische Ansicht des anodisch behandelten Filmes.

Fig. 2 ist ein schematisches Diagramm der Metallographic des in Fig. 1 gezeigten anodisch behandelten Filmes. In den Fig. 1 und 2 bezeichnet die Bezugsziffer 1: einen porösen, anodisch behandelten Film; 2: einen porösen, anodisch behandelten Film, der einer elektrolytischen Versiegelungsbehandlung unterworfen worden ist; und 3: ein Aluminiumsubstrat. Jede der Fig. 1 und 2 zeigt, daß Poren des porösen, anodisch behandelten Filmes 1 mit dem elektrolytisch versiegelten, anodisch behandelten Film 2 gefüllt sind.

Hydrophile Schicht

Die Oberfläche der so versiegelten Aluminiumplatte kann der folgenden hydrophilen Behandlung unterworfen werden. Das bedeutet, daß der erfindungsgemäße Schichtträger mit einer hydrophilen Schicht versehen werden kann, wie sie in den JP-OS 60-149491, 60-232998 und 62-19494 offenbart werden.

Der erfindungsgemäße Schichtträger kann mit einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats, beispielsweise Natriumsilikat, wie in der US-PS 3,181,461 offenbart, vor oder nach dem Aufbringen einer solchen hydrophilen Schicht behandelt werden.

Lichtempfindliche Schicht

Auf der Oberfläche des so erhaltenen Schichtträgers kann eine üblicherweise bekannte lichtempfindliche Schicht zur Bildung einer PS-Platte aufgetragen werden. Die lichtempfindiche Druckplatte, die erhalten wird, wenn man sie einer Plattenherstellungsbehandlung unterwirft, hat ausgezeichnete Eigenschaften.

Die Zusammensetzung für die Herstellung einer solchen lichtempfindlichen Schicht ist so lange nicht auf spezielle Zusammensetzungen beschränkt, als sie eine Veränderung in ihrer Löslichkeit oder ihren Veränderungen in ihrer Löslichkeit oder ihren Quelleigenschaften vor und nach dem Belichten der Schicht verursachen. Typische Beispiele dafür werden im folgenden erläutert.

i) Lichtempfindliche Zusammensetzungen, die o-Chinondiazidverbindungen umfassen

Bevorzugte Beispiele positiv arbeitender lichtempfindlicher Diazoverbindungen sind Ester von Benzochinon-1,2-diazidosulfonsäurechlorid und Polyhydroxyphenyl und Ester von Naphthochinon-1,2-diazidosulfonsäurechlorid und Pyrogallolacetonharz, die in der JP-AS 43-28403 offenbart sind. Andere verhältnismäßig bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind beispielsweise Ester von Benzochinon-1,2-diazidosulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-1,2-diazidosulfonsäurechlorid und Phenolformaldehydharz, die in den US-PS 30 46 120 und 31 88 210 offenbart sind.

Diese o-Chinondiazidverbindungen können unabhängig eine lichtempfindliche Schicht darstellen, aber sie können mit einem basischen wasserlöslichen Harz als Bindemittel kombiniert sein. Beispiele für solche basischen wasserlöslichen Harze umfassen Novolakharze, wie Phenolformaldehydharze, Kresolformaldehydharze, p-t-Butylphenol/Formaldehydharze, Phenol-modifizierte Xylolharze und Phenol-modifizierte Xylol/Mesitylenharze. Weitere Beispiele nützlicher alkalischer wasserlöslicher Harze sind Polyhydroxystyrol und Copolymere polyhalogenierter Hydroxystyrol-modifizierter Methacrylsäure mit einem oder mehreren anderen vinylischen Monomeren.

Die aus o-Chinodiazidverbindungen zusammengesetzte lichtempfindliche Schicht und Entwickler dafür sind in der US-PS 42 59 434 detailliert beschrieben.

(ii) Aus Diazoharzen und Bindemitteln zusammengesetzte lichtempfindliche Zusammensetzungen

Bevorzugte Beispiele negativ arbeitender lichtempfindlicher Diazoverbindungen, die für die vorliegende Erfindung nützlich sind, sind beispielsweise ein Reaktionsprodukt eines Diazoniumsalzes mit einem organischen Kondensationsmittel mit reaktiven Carbonylgruppen, beispielsweise Aldol oder Acetal als ein Kondensationsprodukt eines Diphenylamin-p-diazoniumsalzes und Formaldehyd (sogenannte lichtempfindliche Diazoharze), die in den US-PS 20 63 631 und 26 67 415 offenbart sind. Beispiele anderer nützlicher kondensierter Diazoverbindungen sind beispielsweise in der US-PS 36 79 419 und den GB-PS 13 12 925 und 13 12 926 offenbart. Die lichtempfindlichen Diazoverbindungen dieses Typs sind allgemein in Form wasserlöslicher anorganischer Salze verfügbar und können daher als wäßrige Lösung angewendet werden. Alternativ ist es ebenso möglich, im wesentlichen wasserunlösliche lichtempfindliche Diazoharze zu verwenden, die durch Umsetzen dieser wasserlöslichen Diazoverbindungen mit aromatischen oder aliphatischen Verbindungen erhalten werden, die mindestens entweder eine phenolische Hydroxylgruppe oder eine Sulfonsäuregruppe der Art, die in der GB-PS 12 80 885 offenbart ist, enthalten.

Zusätzlich können sie als Reaktionsprodukte mit Hexafluorphosphaten oder Tetrafluorboraten, die in der JP-OS 56-121031 offenbart sind, verwendet werden. Abgesehen davon sind die Diazoharze, wie sie in der GB-PS 13 12 925 offenbart sind, im Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung ebenfalls bevorzugt.

Ein solches Diazoharz wird in Verbindung mit einem Bindemittel verwendet. Bevorzugte Bindemittel sind organische Polymere mit einem Säurewert von 10-200, wobei spezielle Beispiele Copolymere sind, die als einen essentiellen Bestandteil Acrylsäure, Methacrylsäure, Krotonsäure oder Maleinsäure enthalten, beispielsweise Terpolymere oder quaternäre Polymere von 2-Hydroxyethylmethacrylat, Methacrylnitril, Methacrylsäure und einem wählbaren anderen copolymerisierbaren Monomer, wie es in der US-PS 41 23 276 offenbart ist; Copolymere von Methacrylsäure, die eine endständige Hydroxylgruppe hat und mit einer Gruppe, die Dicarbonsäureesterreste trägt, Methacrylsäure und einem wählbaren weiteren copolymierisierbaren Monomer verestert ist, wie in der JP-OS 53-120903 offenbart ist; Copolymere eines Monomeres mit einer endständigen aromatischen Hydroxylgruppe, beispielsweise N-(4-Hydroxyphenyl)-methacrylamid, Methacrylsäure und mindestens einem weiteren wählbaren copolymerisierbaren Monomer, wie es in der JP-OS 54-98614 offenbart ist; und einer ungesättigten Carbonsäure, wie es in der JP-OS 56-4144 offenbart ist. Weiterhin sind saure Polyvinylalkoholderivate und saure Cellulosederivate ebenfalls für die Erfindung nützlich.

Weitere bevorzugte Beispiele umfassen Polyvinylbutyraldehydharze mit Carbonsäuregruppen, offenbart in den JP-OS 60-182437 und 61-281236; und Polyurethanharze mit Carboxylgruppen, offenbart in GB-OS 21 85 120.

(iii) Zusammensetzungen aus polymeren Verbindungen mit -CHE=CH-CO--Gruppen in den Haupt- oder Seitenketten

Beispiele solcher Zusammensetzungen umfassen solche, die hauptsächlich aus Polyestern, Polyamiden und Polycarbonaten zusammengesetzt sind, die als lichtempfindliche Gruppen -CH=CH-CO- in der Hauptkette oder den Seitenketten enthalten, wie es in den US-PS 30 30 208, 37 07 373 und 34 53 237 offenbart ist; solche, die hauptsächlich aus lichtempfindlichen Polyestern zusammengesetzt sind, die von (2-Propenyliden)-malonsäure abgeleitet sind (beispielsweise Cinnamylidenmalonsäure) und bifunktionelle Glycole, wie die lichtempfindlichen Polymere, die in den US-PS 29 56 878 und 31 73 787 offenbart sind; und Cinnamate von Hydroxylgruppen-haltigen Polymeren, beispielsweise Polyvinylalkoholen, Stärken und Homologen davon, beispielsweise lichtempfindliche Polymere, wie sie in den US-PS 26 90 966, 27 52 372 und 27 32 301 offenbart sind. Diese Zusammensetzungen können weiterhin andere Zusätze enthalten, beispielsweise Sensibilisierungsmittel, Stabilisierungsmittel, Weichmacher, Pigmente und/oder Farbstoffe.

(iv) Soganannte copolymerisierbare Zusammensetzungen, die durch Bestrahlung mit aktinischen Strahlen copolymerisierbar sind

Beispiele dafür sind aus additionspolymerisierbaren ungesättigten Verbindungen mit mindestens zwei terminalen Ethylengruppen und einem Photopolymerisationsinitiator zusammengesetzte Verbindungen, wie es in den US-PS 27 60 863 und 30 60 023 offenbart ist.

Die sogenannten copolymerisierbaren Zusammensetzungen, die durch Bestrahlung mit aktinischen Strahlen dimerisiert oder polymerisiert werden können, können weiterhin andere Zusätze, beispielsweise Harze als Bindemittel, sensibilisierende Mittel, Wärmepolymerisationsinhibitoren, Farbstoffe und/oder Weichmacher enthalten.

Die oben erwähnten lichtempfindlichen Zusammensetzungen werden normalerweise auf die Oberfläche des erfindungsgemäßen Schichtträgers in Form einer wäßrigen Lösung, einer Lösung in organischen Lösungsmitteln oder einer Mischung davon aufgetragen und dann getrocknet, um eine PS-Platte zu bilden.

Die Menge der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die auf den Schichtträger aufgetragen wird, liegt im allgemeinen im Bereich von ungefähr 0,1 bis ungefähr 5,0 g/m² und bevorzugt im Bereich von ungefähr 0,5 bis ungefähr 3,0 g/m² nach dem Trocknen.

Die so hergestellte PS-Platte wird bildweise dem Licht, einschließlich aktinischer Strahlen, ausgesetzt, das von einer Lichtquelle, beispielsweise einer Kohlebogenlampe, einer Xenonlampe, einer Quecksilberlampe, einer Wolframlampe oder einer Halogenmetallampe stammt, und wird dann entwickelt, um eine lichtempfindliche Druckplatte zu erhalten.

Eine durch bildweises Belichten einer PS-Platte erhaltene lichtempfindliche Druckplatte, die unter Verwendung des erfindungsgemäßen Schichtträgers und durch anschließendes Entwickeln hergestellt worden ist, hat ausgezeichnete Eigenschaften, unabhängig davon, ob es eine Platte vom positiv arbeitenden oder negativ arbeitenden Typ ist; beispielsweise zeigt sie nie Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereichen, die Differenzierung zwischen Nicht-Bild- und Bildbereichen während des Retuschierungsprozesses ist sehr leicht und sie verursacht keine Retuschierspuren. Daher wird keine Hintergrundverunreinigung gedruckter Sachen infolge der Retuschierspuren verursacht, die Nicht-Bildbereiche sind nicht leicht verkratzbar und die lichtempfindliche Druckplatte als Endprodukt weist ausgezeichnete Verschleißbeständigkeit und Druckdauerhaftigkeit auf. Darüberhinaus hat sie eine hohe Wiedergewinnung von der Tinten- bzw. Farbstofffleckenbildung. Zusätzlich bleibt die lichtempfindliche Schicht nach der Entwicklung nicht auf der Platte zurück und daher kann ein Gleichgewicht zwischen Wasser und Tinte leicht erreicht werden.

Die folgenden Beispiele und Vergleichsversuche erläutern die Erfindung. Der Ausdruck "%" bedeutet dabei "Gew.-%", wenn es nicht anders angegeben wird.

Beispiele 1-16 und Vergleichsbeispiele 1-23

Ein Aluminiumblatt JIS 1050 wurde mit einer rotierenden Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension von Bimsstein als mahlendes Material gekörnt. In diesem Zustand betrug die Oberflächenrauhigkeit (Mittelliniendurchschnittshöhe) 0,5 µm. Nach dem Waschen mit Wasser wurde das Blatt in eine 10%ige ätzende Sodalösung, die auf 70°C erwärmt worden war, eingetaucht, um sie zu verätzen, so daß die Menge des herausgelösten Aluminiums 6 g/m² erreichte. Das Blatt wurde mit Wasser gewaschen, durch Eintauchen in 30%ige wäßrige Salpetersäurelösung neutralisiert und dann ausreichend mit Wasser gewaschen. Anschließend wurde es 20 Sekunden einer elektrolytischen Oberflächenaufrauhungsbehandlung in 0,7%iger wäßriger Salpetersäurelösung unter Verwendung einer Rechteckwechselstromwelle von 13 V Anodenspannung und 6 V Kathodenspannung unterworfen (die Wellenform der Spannungsquelle ist im Beispiel der JP-PS 52-77 702 offenbart), in 20%ige Schwefelsäurelösung von 50°C eingetaucht, um die Oberfläche zu waschen, und dann mit Wasser gewaschen.

Zusätzlich wurde ein poröser, anodisch behandelter Film auf dem Blatt durch Anlegen eines Gleichstroms durch eine 20%ige wäßrige Schwefelsäurelösung, in die das Blatt eingetaucht war, gebildet. Durch Veränderung der Elektrolysezeit wurden verschiedene Substrate, die sich im Gewicht des anodisch behandelten Filmes unterschieden, hergestellt.

Anschließend wurde das Blatt elektrolytisch versiegelt, indem ein elektrischer Strom von 0,1 A/dm² in 4% Ammoniumborat bei 30°C durchgeleitet wurde, um Substrate zu erhalten. Die Dicke der Versiegelung wurde durch Einstellen der Verfahrenszeit gesteuert.

Der Grad der Versiegelung des so hergestellten Substrates wurde bestimmt, und dann wurde eine lichtempfindliche Lösung der folgenden Zusammensetzung auf die Oberfläche des Substrates aufgetragen, so daß die Menge des Überzugs nach dem Trocknen 2,5 g/m² betrug, um so eine lichtempfindliche Schicht darauf zu bilden.

Bestandteil
Menge (g)
Ester von Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonylchlorid und Pyrogallolacetonharz (siehe Beispiel 1 der US-PS 36 35 709)
0,75
Kresol/Novolakharz	2,00
Oil Blue #603 (im Handel erhältlich)	0,04
Ethylendichlorid	16
2-Methoxyethylacetat	12

Die so erhaltene PS-Platte wurde 50 Sekunden lang dem Licht einer Halogenmetallampe von 3 kW in einer Entfernung von 1 m durch einen transparenten Positivfilm in einem Vakuumdruckverfahren ausgesetzt und dann mit 5,26%iger wäßriger Natriumsilikatlösung (pH 12,7), deren molares Verhältnis SiO₂/Na₂O 1,74 betrug, entwickelt. Die Platte wurde dann ausreichend mit Wasser gewaschen, und die Fleckenbildung auf den Nicht-Bildbereichen und die Verschleißbeständigkeit der Bildbereiche wurden bestimmt. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle I aufgeführt.

Beispiel 9′ und Vergleichsbeispiel 18′

Die Substrate aus Beispiel 9 und Vergleichsbeispiel 18 wurden gewaschen, indem sie 30 Sekunden bei 10°C in eine 2,5%ige Lösung des Nr. 3 Natriumsilikates eingetaucht und getrocknet wurden und dann die lichtempfindliche Lösung mit der folgenden Zusammensetzung darauf aufgetragen und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet wurde. Die Überzugsmenge der lichtempfindlichen Schicht betrug 2,0 g/m² (gewogen nach dem Trocknen).

Bestandteil
Menge (g)
N-(4-Hydroxyphenyl)-methacrylamid/2-Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Methacrylsäure (molares Verhältnis = 15 : 10 : 30 : 38 : 7)-Copolymer (durchschnittliches Molekulargewicht = 60 000)
5,0
Hexafluorphosphat des Kondensationsproduktes von 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd	0,5
Phosphorsäure	0,05
Victoria Pure Blue BOH C.I.Nr 42595	0,1
2-Methoxyethanol	100

Die so erhaltene PS-Platte wurde 50 Sekunden dem Licht einer Halogenmetallampe von 3 kW in einer Entfernung von 1 m durch einen transparenten Negativ-Film in einem Vakuumdruckrahmen ausgesetzt, wurde dann mit einem Entwickler der folgenden Zusammensetzung entwickelt und mit einer wäßrigen Lösung von Gummiarabikum gummiert, um eine lithographische Druckplatte zu erhalten.

Entwickler
Bestandteil
Menge (g)
Natriumsulfit
5
Benzylalkohol	30
Natriumcarbonat	5
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat	12
Reines Wasser	1000

Die Fleckenbildung und Verschleißbeständigkeit der Nicht-Bildbereiche wurden genau wie in den Beispielen Nr. 1-39 bestimmt; die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle II aufgeführt.

Vergleichsbeispiel 24

Das Substrat des Vergleichsbeispiels 18 wurde 2 Minuten in reines Wasser von 100°C getaucht, um die Poren des anodisch behandelten Filmes zu versiegeln, gefolgt vom Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht, deren Belichtung und Entwicklung, und schließlich wurden die Fleckenbildung und Verschleißbeständigkeit der nicht gummierten Bereiche bestimmt und eine Druckoperation durchgeführt. Die beobachteten Ergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt. Bei der Beobachtung der Poren des anodisch behandelten Filmes mit einem Elektronenmikroskop erwiesen sich nur die oberen Anteile der Poren als versiegelt, während die Mitte und die unteren Anteile nicht versiegelt waren.

Beispiel 12′

Die PS-Platte aus Beispiel 12 wurde belichtet und entwickelt und die Fleckenbildung und Verschleißbeständigkeit der Nicht-Bildbereiche der entstehenden Platte wurden untersucht. Anschließend wurde die Platte gummiert und eine Druckoperation durchgeführt, wie in den Beispielen Nr. 1-39. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt.

Wie aus den in den folgenden Tabellen enthaltenen Ergebnissen offensichtlich ist, zeigt die lichtempfindliche Druckplatte, die erhalten werden kann, indem die unter Verwendung des erfindungsgemäßen Schichtträger hergestellte PS-Platte belichtet und entwickelt wird, unabhängig davon, ob es eine positiv- oder negativ-arbeitende Platte ist, keine Fleckenbildung auf den Nicht-Bildbereichen, und weist eine hohe Verschleißbeständigkeit und hohe Beständigkeit gegen Fleckenbildung auf Nicht-Bildbereichen im Vergleich mit lithographischen Druckplatten auf, bei denen Schichtträger verwendet wurden, die mit den gebräuchlichen Versiegelungsverfahren hergestellt worden sind, in denen komprimierter Dampf oder kochendes Wasser verwendet worden sind.

Anmerkung 1

Die Verschleißbeständigkeit wurde nach Beurteilung der Nicht-Bildbereiche, nachdem ein Aluminiumoxidschleifpapier auf dem Nicht-Bildbereich unter Verwendung eines Abschleif-Testgerätes vom Typ NUS-ISO-1 350 Male hin und her bewegt worden war, auf der Grundlage der folgenden Kriterien bewertet:

A: Die Oberfläche des Nicht-Bildbereiches ist fast nicht verschlissen;
B: Sie ist zu einem gewissen Grad verschlissen;
C: Sie ist im großen und ganzen verschlissen.

Anmerkung 2

Die Fleckenbildung auf den Nicht-Bildbereichen (Fleckenbildg. auf Nicht-Bildber.) wurde auf der Grundlage des Unterschiedes der optischen Reflektionsdichte f (D) zwischen den Nicht-Bildbereichen und der Oberfläche des Schichtträgers unmittelbar vor dem Auftragen der lichtempfindlichen Schicht auf der Grundlage der folgenden Kriterien bestimmt:

A: nicht mehr als 0,02
B: mehr als 0,02 und nicht mehr als 0,05
C: mehr als 0,05.

Claims

1. Schichtträger für lichtempfindliche Druckplatten aus einer Aluminiumplatte und einem darauf aufgebrachten porösen, anodisch behandelten Film mit mindestens 0,8 g/m², dadurch gekennzeichnet, daß der anodisch behandelte Film einen Versiegelungsgrad vom mindestens 25% aufweist.

2. Schichtträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte eine reine Aluminiumplatte oder eine Platte aus einer Aluminiumlegierung mit einem Gehalt verschiedener Elemente in Spurenmengen ist.

3. Schichtträger nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der verschiedenen Elemente in der Aluminiumlegierung nicht mehr als 10 Gew.-%, bezogen auf die Legierung, beträgt.

4. Schichtträger nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die verschiedenen Elemente aus der Silizium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel und Titan ausgewählt werden.

5. Schichtträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte im wesentlichen reines Aluminium umfaßt.

6. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Aluminiumplatte 0,1-0,5 mm beträgt.

7. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des porösen, anodisch behandelten Filmes 0,8-10 g/m² beträgt.

8. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des porösen, anodisch behandelten Filmes 1-6 g/m² beträgt.

9. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Poren des anodisch behandelten Filmes durch elektrolytisches Versiegeln, Sputtern, Dampfniederschlagungs- oder Ionenimplantationstechniken verschlossen werden.

10. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Poren des anodisch behandelten Filmes durch elektrolytische Versiegelungsverfahren verschlossen werden.

11. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Ausmaß des Versiegelns des anodisch behandelten Filmes durch Einstellen der während des elektrolytischen Versiegelns angelegten Spannung gesteuert wird.

12. Schichtträger nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrolytische Versiegeln in einem Elektrolyten aus Oxosäuren, Salzen dieser Säuren oder einer Mischung dieser Säuren und/oder Salzen und feiner Teilchen anorganischer Substanzen durchgeführt wird.

13. Schichtträger nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrolyt aus der Borsäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure, Vanadinsäure, Molybdänsäure, Wolframsäure, Kohlensäure, Carbonsäure, Kieselsäure, Phosphomolybdänsäure, Phosphorwolframsäure und deren Natrium-, Kalium-, Kupfer-, Nickel-, Kobalt-, Cadmium-, Zink-, Zinn-, Ammonium-, Kalzium-, Lithium-, Magnesium- und Bariumsalze ausgewählt wird.

14. Schichtträger nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die feinen Teilchen anorganischer Substanzen aus der Siliziumoxid, Aluminiumoxid, Titandioxid, Titannitrid, Aluminiumnitrid und Kohlenstoffsilizid ausgewählt werden.

15. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß der poröse, anodisch behandelte Film durch eine 5 Sekunden bis 10 Minuten dauernde elektrolytische Behandlung der Aluminiumplatte in einem Elektrolyten mit einer Konzentration von 1 bis 80 Gew.-% bei einer Temperatur von 5 bis 80°C, einer Stromdichte von 5 bis 80 A/dm² und einer Spannung von 1 bis 100 V gebildet wird.

16. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der Aluminiumplatte vor der anodischen Behandlung gekörnt worden ist.

17. Schichtträger nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte, deren poröser, anodisch behandelter Film versiegelt ist, einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen wird.

18. Substrat nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Aluminiumplatte mit einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikates vor oder nach der Hydrophilisierungsbehandlung behandelt wird.